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TWI649199B - 透明積層體 - Google Patents

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TWI649199B
TWI649199B TW104122787A TW104122787A TWI649199B TW I649199 B TWI649199 B TW I649199B TW 104122787 A TW104122787 A TW 104122787A TW 104122787 A TW104122787 A TW 104122787A TW I649199 B TWI649199 B TW I649199B
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TW104122787A
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柿沼正康
竹之內正樹
太田榮治
川村智
小川真紀
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日商迪睿合股份有限公司
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Abstract

本發明之目的在於提供一種透明積層體，其特徵為：至少具有透明性基板與結構體層；該結構體層，其表面至少具有凸部及凹部中任一種，且鄰接之該凸部的平均距離或鄰接之該凹部的平均距離為可見光的波長以下；該結構體層係由活性能量射線硬化性樹脂組成物的聚合物所構成；該活性能量射線硬化性樹脂組成物包含(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物；該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物包含以下(A)及(B)中至少一種、(C)及(D)：(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯；(B)氧化乙烯改質雙酚A的酯二(甲基)丙烯酸酯；(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；及(D)主鏈係由直鏈烷基鏈所構成之二元醇的酯二(甲基)丙烯酸酯；該結構體層表面的水接觸角為26°以上74°以下，且該結構體層於180℃下的儲藏彈性係數小於0.5GPa。

Description

透明積層體
本發明係關於一種透明積層體。
以往，在外科手術等中，為了保護面部不被飛散物傷害，而使用可確保視線並保護面部的面罩。
例如，作為面罩，有人提出一種將透明的塑膠薄膜作為眼罩安裝於面部遮罩的結構(例如，參照專利文獻1)。
在進行外科手術的手術室中，使用非常高強度的外科照明系統，這種照明系統中，要求面罩係具有較高抗反射特性的透明體。又，亦要求抗刮性等的機械性強度。
作為具有抗反射特性的透明結構體，由活性能量射線硬化性組成物之硬化物所構成之具有細微之凹凸結構的透明結構體已為人所知(例如，參照專利文獻2及3)。
專利文獻2中揭示了一種透明結構體，其係藉由使凹凸層表面的水接觸角為25°以下、且凹凸層表面的彈性係數為200MPa以上，而具有防汙性及耐擦傷性。
又，專利文獻3中揭示了一種透明結構體，其係使含有24.8%以上的3官能以上之丙烯酸酯化合物及37.2%以上之聚乙二醇二丙烯酸酯的聚合性組成物進行聚合而形成結構體，並使其於180℃以上的儲藏彈性係數為0.5GPa以上， 藉此具有防汙性及耐擦傷性。
然而，若考量將其實用於面罩等的醫療用面部防護遮罩等，則上述揭示的技術並不充分。
為了形成適合製造、使用醫療用面部防護遮罩的透明結構體，該透明結構體除了具有防汙性及耐擦傷性以外，還必須具有以下特性。其必須具有：(1)防霧性；(2)在製造、加工成該醫療用面部防護遮罩時使用表面保護膜，但該表面保護膜的使用選擇性提高，且(3)防止該表面保護膜所造成的不良影響；及(4)在沖壓加工成遮罩形狀時不產生裂縫的抗裂性。
尚未有人提供滿足除了防汙性及耐擦傷性以外，亦包含上述(1)~(4)之特性的所有特性的透明結構體，因而期望提供可在醫療用面部防護遮罩等實用化的透明結構體。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平7-178117號公報
[專利文獻2]日本專利第4796659號公報
[專利文獻3]日本專利第5042386號公報
本發明以解決以往的該等問題並達成以下目的為課題。亦即，本發明之目的在於提供一種透明結構體，其防汙性、防霧性、耐擦傷性優異，更進一步，提高在製造、加工醫療用面部防護遮罩等時使用之表面保護膜的選擇性及 防止該表面保護膜所造成的不良影響，且沖壓加工成遮罩形狀時的抗裂性優異。
作為該解決課題之手段，如下所述。亦即，
<1>一種透明積層體，其特徵為：至少具有透明性基板與結構體層；該結構體層，其表面至少具有凸部及凹部中任一種，鄰接之該凸部的平均距離或鄰接之該凹部的平均距離為可見光的波長以下；該結構體層係由活性能量射線硬化性樹脂組成物的聚合物所構成；該活性能量射線硬化性樹脂組成物包含(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物；該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物包含以下(A)及(B)中至少一種、(C)及(D)：(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯；(B)氧化乙烯改質雙酚A的酯二(甲基)丙烯酸酯；(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；及(D)主鏈係由直鏈烷基鏈所構成之二元醇的酯二(甲基)丙烯酸酯；該結構體層表面的水接觸角為26°以上74°以下，且該結構體層於180℃下的儲藏彈性係數小於0.5GPa。
<2>如該<1>之透明積層體，其中，該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物包含該(A)、(B)、(C)及(D)。
<3>如該<1>之透明積層體，其中，該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物包含該(A)及(B)中任一種、(C) 及(D)，且該水接觸角為26°以上60°以下。
<4>如該<1>至<3>項中任一項之透明積層體，其中，該(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯。
<5>如該<4>之透明積層體，其中，該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物中的該三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的含量小於24.8質量%。
<6>如該<1>至<5>項中任一項之透明積層體，其中，該(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯含有氧化乙烯(EO)鏈之重複單元大於8的聚乙二醇二丙烯酸酯。
<7>如該<1>至<6>項中任一項之透明積層體，其中，該結構體層的拉伸斷裂伸度為0.65%以上。
<8>如該<1>至<7>項中任一項之透明積層體，其中，將其用作面部防護用光學元件。
根據本發明，可提供一種透明結構體，其可解決以往的該等問題，並達成上述目的，其防汙性、防霧性、耐擦傷性優異，更進一步，提高在製造、加工醫療用面部防護遮罩等時使用之表面保護膜的選擇性及防止該表面保護膜所造成的不良影響，且沖壓加工成遮罩形狀時的抗裂性優異。
1‧‧‧透明積層體
2‧‧‧黏著層
6‧‧‧保護層
11‧‧‧透明性基板
12‧‧‧結構體層
12a‧‧‧結構體
14‧‧‧突出部
15‧‧‧曲面部
31‧‧‧滾筒原模
32‧‧‧結構體
33‧‧‧光阻層
34‧‧‧雷射光
35‧‧‧潛影
36‧‧‧未硬化樹脂層
37‧‧‧活性能量射線
41‧‧‧雷射光源
42‧‧‧電光調制器
43‧‧‧反光鏡
44‧‧‧光電二極管
45‧‧‧調變光學系統
46‧‧‧聚光鏡
47‧‧‧聲光調變器
48‧‧‧透鏡
49‧‧‧格式器
50‧‧‧驅動機
51‧‧‧反光鏡
52‧‧‧移動光學平台
53‧‧‧擴束器
54‧‧‧接物鏡
55‧‧‧轉軸馬達
56‧‧‧轉動台
57‧‧‧控制機構
70‧‧‧面部防護具
71‧‧‧面部遮罩
72‧‧‧繩
73‧‧‧眼罩
74a、74b‧‧‧接合區域
75‧‧‧凹部
500‧‧‧透明積層體
501‧‧‧第1模具
502‧‧‧第2模具
504‧‧‧吸氣孔
505‧‧‧澆口
506‧‧‧成形材料
507‧‧‧物品
508‧‧‧頂出銷
〔圖1A〕係顯示本發明之透明積層體之構成之一例的剖面圖。
〔圖1B〕係顯示本發明之透明積層體之構成之另一例的剖面圖。
〔圖2A〕係顯示本發明之透明積層體之表面形狀之一例的立體圖。
〔圖2B〕係顯示形成於本發明之透明積層體表面的複數凸部之配置之一例的俯視圖。
〔圖3A〕係顯示轉印原模，即滾筒原模之構成之一例的立體圖。
〔圖3B〕係放大顯示圖3A所示之滾筒原模之一部分的俯視圖。
〔圖3C〕係圖3B之軌道T的剖面圖。
〔圖4〕係顯示用以製作滾筒原模的滾筒原模曝光裝置之構成之一例的概略圖。
〔圖5A〕係用以說明製作滾筒原模的步驟之一例的步驟圖。
〔圖5B〕係用以說明製作滾筒原模的步驟之一例的步驟圖。
〔圖5C〕係用以說明製作滾筒原模的步驟之一例的步驟圖。
〔圖5D〕係用以說明製作滾筒原模的步驟之一例的步驟圖。
〔圖5E〕係用以說明製作滾筒原模的步驟之一例的步驟圖。
〔圖6A〕係用以說明藉由滾筒原模轉印細微之凸部或凹部的步驟之一例的步驟圖。
〔圖6B〕係用以說明藉由滾筒原模轉印細微之凸部或凹部的步驟之一例的步驟圖。
〔圖6C〕係用以說明藉由滾筒原模轉印細微之凸部或凹部的步驟之一例的步驟圖。
〔圖7A〕係用以說明藉由滾筒原模轉印細微之凸部或凹部的步驟之其他例的步驟圖。
〔圖7B〕係用以說明藉由滾筒原模轉印細微之凸部或凹部的步驟之其他例的步驟圖。
〔圖7C〕係用以說明藉由滾筒原模轉印細微之凸部或凹部的步驟之其他例的步驟圖。
〔圖8A〕係本發明之一實施形態之面部防護遮罩的俯視圖。
〔圖8B〕係穿戴於面部的，本發明之一實施形態之面部防護遮罩的立體圖。
〔圖9A〕係用以說明藉由模內成形製造本發明之物品之一例的步驟圖。
〔圖9B〕係用以說明藉由模內成形製造本發明之物品之一例的步驟圖。
〔圖9C〕係用以說明藉由模內成形製造本發明之物品之一例的步驟圖。
〔圖9D〕係用以說明藉由模內成形製造本發明之物品之一例的步驟圖。
〔圖9E〕係用以說明藉由模內成形製造本發明之物品之一例的步驟圖。
〔圖9F〕係用以說明藉由模內成形製造本發明之物品之一例的步驟圖。
〔圖10A〕係顯示本發明之透明積層體之第1變化例之一例的俯視圖。
〔圖10B〕係圖10A的剖面圖。
〔圖10C〕係圖10A的剖面圖。
〔圖11〕係顯示本發明之透明積層體之第2變化例之一例的俯視圖。
〔圖12A〕係顯示本發明之透明積層體之第3變化例之一例的外觀圖。
〔圖12B〕係顯示沿著圖12A之A-A線的剖面圖(B)。
(透明積層體)
本發明之透明積層體，至少具有透明性基板與結構體層，更因應需求而具有其他構件。
該結構體層，其表面至少具有凸部及凹部中任一種，鄰接之該凸部的平均距離或鄰接之該凹部的平均距離為可見光的波長以下。
該結構體層係由活性能量射線硬化性樹脂組成物的聚合物所構成。
該活性能量射線硬化性樹脂組成物包含(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物。
該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物包含以下(A)及(B)中至少一種、(C)及(D)。
(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯；(B)氧化乙烯改質雙酚A之酯二(甲基)丙烯酸酯；(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；及(D)主鏈係由直鏈烷基鏈所構成之二元醇的酯二(甲基)丙烯酸酯；該結構體層表面的水接觸角為26°以上74°以下，且該結構體層於180℃下的儲藏彈性係數小於0.5GPa。
本案發明人等，研究於透明基材上具有細微且緻密之凹凸(蛾眼；moth-eye)結構的透明積層體，作為可應用於醫療用面部防護遮罩的面部防護用光學元件，認識到該透明積層體當然須防汙性、耐擦傷性優異，除此之外，從使用方面或製造、加工方面的觀點來看，解決以下所記載之課題，對謀求實用化十分重要。
課題1：在用作醫療用面部防護遮罩(以下亦稱為「遮罩」)時，防止呼吸所引起的遮罩表面的霧氣(提高防霧性)。
課題2：在製造、加工成遮罩時，為了保護透明積層體表面而使用表面保護膜，但該表面保護膜的選擇性提高，並防止該表面保護膜所造成的不良影響。
課題3：在製造遮罩時，進行符合遮罩形狀之透明積層體的沖壓加工，避免在進行該加工時透明積層體產生裂縫(提高抗裂性)。
上述課題1及課題2與透明積層體表面的表面能量相關，可以水接觸角表示其尺度。課題3與透明積層體的彈性係數(≒硬度的指標)相關。
依據構成透明積層體之材料，使用使水接觸角較低(使其具有親水性)的材料，藉此使呼吸中水分暈開而具有防霧作用，進而解決課題1。然而另一方面，若使材料具有親水性，則產生下述課題2：表面保護膜與透明積層體表面過度密合，表面保護膜的黏著劑殘留於透明積層體表面的凹凸內部，或者因在剝離表面保護膜時剝離力提高，而破壞透明積層體表面的細微凹凸。由此，對光學特性、防汙性、防霧性等造成不良影響。
課題3與下述情況相關：在製造遮罩時，將結構體層貼附於具有可撓性的樹脂基材上，並將每個樹脂基材沖壓加工成遮罩的形狀，但在進行該加工時，若結構體層的彈性係數太高，則透明積層體出現裂縫，而產生不良品。
亦即，若考量將其實用於遮罩，則不是僅使水接觸角變低(使其具有親水性)即可，除了防汙性及防霧性以外，亦需要考量與表面保護膜的密合性等觀點，又，不是僅使彈性係數變高即可，除了抗刮性以外，亦需要考量抗裂性的觀點。再者，除了水接觸角及彈性係數等物性值以外，上述各特性亦因構成透明積層體的成分而受影響，故必須綜合判斷該等因素。
本案發明人等，對構成透明積層體之材料的組成及該透明積層體所顯示的特性進行深入研究，結果發現，包含由特定成分所構成之活性能量射線硬化性樹脂組成物、且水接觸角及彈性係數顯示既定值的透明積層體，在上述課題所列舉的，防汙性、防霧性、耐擦傷性、表面保護膜的選擇性提高及防止該 表面保護膜所造成的不良影響、抗裂性的所有項目中良好平衡，顯示良好的結果。
本發明所規定之水接觸角及彈性係數的值，與上述專利文獻1及2所揭示之範圍不同，本案發明人等發現，顯示與揭示之技術範圍不同範圍的特性的透明積層體，在考量將其實用於醫療用面部防護遮罩等時，成為最佳態樣。
本發明之透明積層體之構成的剖面圖之一例顯示於圖1A及B。如該圖所示，該透明積層體1，其表面具有數十奈米至數百奈米之可視波長區域以下的細微凹凸結構(以下亦稱為「蛾眼結構」)。
透明積層體1具有透明性基板11及結構體層12，該結構體層12表面以可見光之波長(360nm~830nm)以下的間隔具有複數由凸部或凹部所構成的結構體12a。
結構體層12的表面上形成凸狀或凹狀的結構體12a，該複數結構體12a配置成複數列的態樣。圖2A顯示本發明之透明積層體之立體圖的一例，其表面具有凸狀的結構體層12。又，圖2B顯示形成於表面之複數凸部之配置之俯視圖的一例。
本發明之透明積層體，可於透明性基板11的表面與背面雙面具有形成細微之凹凸結構體12a的結構體層12(圖1B)。
雙面分別具有細微且緻密之凹凸的透明積層體，可有效地抑制該透明積層體與空氣之界面的反射。該透明積層體因穿透特性及反射特性等的可視性而成為優異的材質，故可說係較佳態樣。
該透明積層體1，例如，對可見光具有透明性，作為其折射率n，宜為1.40以上2.00以下，較佳為1.43以上2.00以下。又，對波長550nm之光線的穿透率宜為98.5%以上。
結構體層12的折射率，宜與透明性基板11的折射率相同或幾乎相同。這是因為可抑制內部反射而提高對比。
<透明性基板>
作為該透明性基板的材質，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如具有透明性的塑膠材料、以玻璃等為主要成分的材質。
作為該玻璃，可列舉例如：鈉鈣玻璃、鉛玻璃、硬質玻璃、石英玻璃、液晶化玻璃等(參照「化學便覽」基礎編，P.I-537，日本化學會編)。
作為該塑膠材料，從透明性、折射率及分散等光學特性的觀點，更進一步，從耐衝擊性、耐熱性及耐久性等各特性的觀點來看，可列舉例如：聚甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯與其他烷基(甲基)丙烯酸酯、與苯乙烯等乙烯基單體之共聚物等的(甲基)丙烯酸系樹脂；聚碳酸酯、二乙二醇雙烯丙基碳酸酯(CR-39)等的聚碳酸酯系樹脂；(溴化)雙酚A型的二(甲基)丙烯酸酯之均聚物或共聚物、(溴化)雙酚A單(甲基)丙烯酸酯的胺基甲酸酯改質單體之聚合物及共聚物等的熱硬化性(甲基)丙烯酸系樹脂；聚酯(特別是聚對苯二甲酸乙二酯)、聚萘二甲酸乙二酯及不飽和聚酯、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚氯乙烯、聚胺基甲酸酯、環氧樹脂、聚芳酯、聚醚碸、聚醚酮、環烯烴聚合物(商品名：ARTON、ZEONOR)、環烯烴共聚物等。又，亦可使用已考量耐熱性的醯胺系樹脂。此處，(甲基)丙烯酸酯，係指丙烯酸酯或丙烯酸甲酯。又，(甲基)丙烯酸系樹脂，係指丙烯酸系樹脂或甲基丙烯酸系樹脂。
作為該透明性基板，宜用具有可撓性之樹脂基板。使用可撓性透明性基板的透明積層體，特別適宜作為面部防護用光學元件而應用於醫療用的 面部防護遮罩。
在分別形成結構體層12與透明性基板11、並使用塑膠材料作為透明性基板11的情況下，為了進一步改善塑膠表面的表面能量、塗佈性、平面性等，亦可設置底塗層作為表面處理。作為該底塗層，可列舉例如：有機烷氧基金屬化合物、聚酯、丙烯基改質聚酯、聚胺基甲酸酯等。又，為了得到與設置底塗層相同的效果，亦可對透明性基板11的表面進行電暈放電處理、UV照射處理等。
在分別形成結構體層12與透明性基板11、且透明性基板11為塑膠薄膜的情況下，透明性基板11可以例如使上述樹脂延伸或稀釋於溶劑後成膜成薄膜狀並進行乾燥等的方法而得。
透明性基板11的平均厚度，可因應透明積層體1的用途而適當選擇，例如宜為10μm以上500μm以下，較佳為50μm以上500μm以下，更佳為50μm以上300μm以下。因為例如在用作面部防護用光學元件的情況下，若為10μm以上，則對於飛散物的保護性能提高。另一方面，可輕量化至500μm以下，又可藉由具有可撓性而變形成曲面形狀，故作為保護構件的裝設感提高。
作為該透明性基板的形狀，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如：薄膜狀、板狀。此處，薄膜包含片狀。
<結構體層>
該結構體層，其表面具有凸部及凹部中至少任一種，鄰接之該凸部的平均距離或鄰接之該凹部的平均距離為可見光的波長以下。
該結構體層含有活性能量射線硬化性樹脂組成物的聚合物。
作為該結構體層的平均厚度L(μm)，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，但宜為0.8μm~10μm，較佳為1μm~4μm。
該平均厚度L，可使用厚度計(Mitutoyo股份有限公司、LITEMATIC VL-50S-B)測定透明積層體的總厚度與透明性基板的厚度各10次以求其平均厚度，再由透明積層體的平均厚度減去透明性基板的平均厚度而算出。
<<凸部及凹部>>
如圖2B所示，複數結構體12a，在形成於透明性基板11上之結構體層12的表面形成二維配置的態樣。結構體12a，宜以「以減少反射或提高穿透為目的」之光線的波長帶區域以下的較短間隔(平均配置間距)，周期性地進行二維配置。
本發明中的間隔(間距)，係指鄰接之凸部的距離或鄰接之凹部的距離。
複數結構體12a具有分別在結構體層12的表面形成複數列軌道T1、T2、T3、．．．(以下亦總稱為「軌道T」)的配置形態。在本發明中，軌道，係指複數結構體12a連成列的部分。作為軌道T的形狀，可使用直線狀、圓弧狀等，亦可使該等形狀的軌道T彎曲(S形)。藉由這樣使軌道T彎曲，可抑制產生外觀上的不均勻。
在使軌道T彎曲的情況下，宜使各軌道T的彎曲同步。亦即，彎曲宜為同步彎曲。藉由這樣使彎曲同步，可保持六方晶格或準六方晶格的單位晶格形狀，而保持高填充率。作為彎曲之軌道T的波形，可列舉例如：正弦波、三角波等。彎曲之軌道T的波形，並不限定於周期性的波形，亦可為非周期性的波形。彎曲之軌道T的彎曲振幅，可選擇例如10nm~1μm左右。
結構體12a配置於例如，在鄰接之兩個軌道T之間，偏離半個 間距的位置。具體而言，在鄰接的兩個軌道T之間，在配置於一側之軌道(例如T1)的結構體12a的中間位置(偏離半個間距的位置)，配置另一側之軌道(例如T2)的結構體12a。結果，如圖2B所示，結構體12a配置成形成六方晶格圖案或準六方晶格圖案的態樣，其中，結構體12a的中心位於鄰接之3列軌道(T1~T3)之間a1~a7的各點。
此處，六方晶格，係指正六角形的晶格。準六方晶格，與正六角形的晶格不同，係指歪曲的正六方形晶格。例如，在將結構體12a配置於直線上的情況下，準六方晶格，係指使正六角形的晶格在直線狀的配置方向(軌道方向)上延伸而歪曲的六方晶格。在將結構體12a配置成圓弧狀的情況下，準六方晶格，係指使正六角形的晶格歪曲成圓弧狀的六方晶格，或者使正六角形的晶格在配置方向(軌道方向)上延伸而歪曲、且歪曲成圓弧狀的六方晶格。在彎曲配置結構體12a的情況下，準六方晶格，係指使正六角形的晶格因結構體12a的彎曲配置而歪曲的六方晶格，或是使正六角形的晶格在配置方向(軌道方向)上延伸而歪曲、且因結構體12a的彎曲配置而歪曲的六方晶格。
在將結構體12a配置成形成準六方晶格圖案之態樣的情況下，如圖2B所示，同一軌道(例如T1)內之結構體12a的配置間距P1(例如a1~a2間的距離)，宜比鄰接之兩個軌道(例如T1及T2)間之結構體12a的配置間距更長、亦即相對軌道之延伸方向為±θ方向之結構體12a的配置間距P2(例如a1~a7、a2~a7間的距離)。藉由這樣配置結構體12a，謀求進一步提高結構體12a的填充密度。
作為結構體12a的具體形狀，可列舉例如：錐體狀、柱狀、針狀、半球體狀、半橢圓體狀、多角形等，但並不限定於該等形狀，亦可採用其他形狀。作為 錐體狀，可列舉例如：頂部尖狀的錐體形、頂部平坦的錐體形、頂部具有凸狀或凹狀曲面的錐體形，但並不限定於該等形狀。作為頂部具有凸狀曲面的錐體形，可列舉例如拋物曲面形狀等的二維曲面形狀。又，亦可使錐體狀的錐面彎曲成凹狀或凸狀。在使用下述滾筒原模曝光裝置(參照圖4)製作滾筒原模的情況下，宜採用頂部具有凸狀曲面的橢圓錐形或頂部平坦的橢圓錐台形，作為結構體12a的形狀，並使形成該等底面之橢圓形的長軸方向與軌道T的延伸方向一致。此處，橢圓、球體、橢圓體等的形狀中，不僅為數學上所定義的標準的橢圓、球體、橢圓體等形狀，亦包含稍微歪斜的橢圓、球體、橢圓體等的形狀。作為平面形狀，並不限於類似橢圓形者，亦可為圓形。
若從提高光學調整功能的觀點來看，宜為頂部的斜率平緩、從中央部到底部斜率逐漸陡峭的錐體形。又，從提高光學調整功能的觀點來看，宜為中央部的斜率比底部及頂部更加陡峭的錐形形狀，或頂部平坦的錐體形狀。結構體12a具有橢圓錐形或橢圓錐台形的情況，其底面的長軸方向，宜與軌道的延伸方向平行。
結構體12a，其底部的邊緣部，宜具有曲面部15，其高度從頂部往底部之方向平緩地降低。這是因為，在透明積層體1的製造步驟中，能夠輕易將透明積層體1從原模等剝離。此外，曲面部15，亦可僅設於結構體12a的一部分邊緣部，但從提高上述剝離特性的觀點來看，宜設於結構體12a的整個邊緣部。
宜將突出部14設於結構體12a的一部分或整個周圍。因為如此設置，即使在結構體12a的填充率較低的情況下，亦可將反射率抑制至較低。從成形之簡易度的觀點來看，突出部14宜設於相鄰的結構體12a之間。又，亦可使結構體12a的一部分或整個周圍的表面粗糙化，而形成細微的凹凸。具體而言，例如， 可使相鄰結構體12a之間的表面粗糙化，而形成細微的凹凸。又，亦可在結構體12a的表面，例如頂部形成微小的孔。
此外，圖1A、圖1B、圖2A及圖2B中，各結構體12a分別具有相同的大小、形狀及高度，但結構體12a的構成並不限定於此，亦可於基體表面形成具有兩種以上之大小、形狀及高度的結構體12a。
軌道之延伸方向(X方向)上的結構體12a的高度H1，宜小於軌道之配置方向(Y方向)上的結構體12a的高度H2。亦即，結構體12a的高度H1、H2宜為滿足H1<H2的關係。因為若將結構體12a配置成滿足H1≧H2之關係的態樣，則必須使軌道之延伸方向的配置間距P1變大，則軌道之延伸方向上的結構體12a的填充率降低。若填充率因此而降低，則會導致光學調整功能的降低。
此外，結構體12a的高度H1、H2並不限於全部相同的情況，亦可構成各結構體12a具有一定高度分布的態樣。藉由設置具有高度分布的結構體12a，可降低光學調整功能的波長相依性。因此，可實現具有優異光學調整功能的透明積層體1。
此處，高度分布，係指於結構體層的表面形成具有兩種以上高度的結構體12a。例如，可形成「具有基準高度的結構體12a」與「具有與該結構體12a不同高度的結構體12a」。此情況下，周期性或非周期性(隨機)地將「具有高度與基準不同的結構體12a」設於例如結構體層12的表面。作為該周期性的方向，可列舉例如：軌道的延伸方向、配置方向等。
作為設於結構體層12表面之結構體12a，其凸部的平均深寬比(該凸部的平均高度/鄰接之該凸部的平均距離)或凹部的平均深寬比(該凹部的平均深度/鄰接之該凹部的平均距離)並無特別限制，可因應目的而適當選擇，宜為 0.66~1.96，較佳為0.76~1.96。若平均深寬比為0.66以上，則可提高低反射特性。另一方面，若平均深寬比為1.96以下，則可提高脫模性等。
結構體12a的平均配置間距P(係指鄰接之凸部的平均距離或鄰接之凹部的平均距離)，宜為以光學調整功能為目的之光線的波長帶區域以下。本發明所說的以光學調整功能為目的之光線的波長帶區域，係指例如可見光的波長帶區域(360nm~830nm的波長帶區域)以下。
作為結構體12a之凸部的平均高度H或凹部的平均深度H，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，宜為100nm~300nm，較佳為190nm~300mm，更佳為180nm~230nm。若結構體12a的凸部的平均高度H或凹部的平均深度H為100nm以上，則可提高低反射特性。另一方面，若結構體12a的凸部的平均高度H或凹部的平均深度H為300nm以下，則可提高脫模性等。
此處，凸部或凹部的平均配置間距(平均距離(Pm))及凸部的平均高度或凹部的平均深度(Hm)，可以下述方式進行測定。
[Pm(nm)、Hm(nm)的測定]
首先，藉由原子力顯微鏡(AFM；atomic force microscope)觀察具有凸部或凹部之該結構體層的表面S，從AFM的剖面輪廓求出凸部或凹部的間距及凸部的高度或凹部的深度。在從該結構體層的表面隨機選出的10處，重複進行此操作，求出間距P(1)、P(2)、．．．、P(10)與高度或深度H(1)、H(2)、．．．、H(10)。
此處，該凸部的間距，係該凸部之頂點間的距離。該凹部的間距，係該凹部之最深部間的距離。該凸部的高度，係以該凸部間之谷部的最低點為基準的該凸部之高度。該凹部的深度，係以該凹部間之山部的最高點為基準的該凹部之深 度。
接著，分別單純地將該等間距P(1)、P(2)、．．．、P(10)及高度或深度H(1)、H(2)、．．．、H(10)平均(算術平均)，以作為凸部或凹部的平均距離(Pm)及凸部的平均高度或凹部的平均深度(Hm)。
此外，在該AFM觀察中，為了使剖面輪廓之凸部的頂點或凹部的底邊與立體形狀之凸部的頂點或凹部的最深部一致，以使剖面成為通過測定對象的立體形狀之凸部的頂點或立體形狀之凹部的最深部的方式，切出剖面輪廓。
在結構體12a具有異向性之形狀(例如橢圓錐形或橢圓錐台形等)的情況下，亦可分別以下述方式求出各間距P(1)、P(2)、．．．、P(10)。
對於圖2B所表示之各間距P1、P2，亦可以下式(1)求出間距P(1)，並以相同的方法，求出P(2)、．．．、P(10)，再由隨機選出之10處的間距P(1)、P(2)、．．．、P(10)取得其平均，藉此求出平均配置間距(Pm)。
間距P=(P1+P2+P2)/3．．．(1)
其中，P1：軌道之延伸方向的配置間距(軌道延伸方向周期)、P2：鄰接之軌道間的結構體的配置間距。另外，軌道間之結構體的配置方向相對於軌道的延伸方向θ，以θ=60°-δ表示，δ宜為0°<δ≦11°，較佳為3°≦δ≦6°。
又，結構體12a的高度，係軌道間方向(Y方向)的高度。一般情況下，結構體12a之軌道延伸方向(X方向)的高度H1小於軌道間方向(Y方向)的高度，又，結構體12a之軌道延伸方向以外的部分的高度，幾乎與軌道間方向的高度相同，故本發明中，若無特別說明，以軌道間方向的高度代表結構體12a的高度。另外，結構體12a為凹部的情況，將結構體12a的高度(Hm)作為結構體12a的深度(Hm)。
在結構體12a的配置形成六方晶格圖案或準六方晶格圖案的情況下，將軌道之延伸方向的結構體12a的配置間距作為P1、鄰接之軌道間的結構體12a的配置間距作為P2時(參照圖2B)，比例P1/P2，宜滿足1.00≦P1/P2≦1.1的關係。藉由使其為此數值範圍，可提高具有橢圓錐或橢圓錐台形之結構體12a的填充率，故可提高光學調整功能。
以100%為上限，結構體層12表面上的結構體12a的填充率為40%以上，宜為65%以上，較佳為73%以上，更佳為86%以上。藉由使填充率為此範圍，可提高抗反射特性。為了提高填充率，宜將鄰接之結構體12a的底部彼此接合，或者調整結構體12a之底面的橢圓率等以使結構體12a歪斜。
此處，結構體12a的填充率(平均填充率)，係以下述方式所求出的值。
首先，使用掃描式電子顯微鏡(SEM；scanning electron microscope)，以俯視方式(top view)拍攝透明積層體1的表面。接著，從拍攝之SEM影像隨機選出單位晶格Uc，並測定該單位晶格Uc的配置間距P1及軌道間距Tp(參照圖2B)。又，藉由影像處理測定位於該單位晶格Uc中央之結構體12a的底面面積S。接著，使用測定之配置間距P1、軌道間距Tp及底面的面積S，以下式(2)求出填充率。
填充率=(S(hex.)/S(unit))×100．．．(2)
其中，結構體12a的配置為六方晶格圖案或準六方晶格圖案的情況下的單位晶格面積：S(unit)=P1×2Tp
存在於單位晶格內之結構體12a的底面面積：S(hex.)=2S
對從拍攝之SEM影像隨機選出的10處單位晶格進行上述填充率計算的處理。接著，單純地將測定值平均(算術平均)，以求出填充率的平均率，並將其作 為透明積層體表面之結構體12a的填充率。
結構體12a重疊時及結構體12a之間具有突出部14等的副結構體時的填充率，可以「將對應相對於結構體12a的高度為5%高度的部分作為閾值來判定面積比」的方法，求出填充率。
結構體12a，其底部宜彼此連接成重疊的態樣。具體而言，鄰接關係的結構體12a宜為一部分或整個底部彼此重疊，並宜在軌道方向、θ方向或該兩個方向上重疊。藉由這樣使結構體12a的底部彼此重疊，可提高結構體12a的填充率。結構體12a彼此之間，宜在使用環境下之光線的波長其最大值的1/4以下的部分進行重疊。因為藉此可得到優異的光學調整功能。
結構體底面的徑長2r相對於配置間距P1的比例((2r/P1)×100)，宜為85%以上，較佳為90%以上，更佳為95%以上。因為藉由使其為此範圍，可提高結構體12a的填充率，進而提高光學調整功能。若比例((2r/P1)×100)變大，結構體12a的重疊太多，則具有光學調整功能降低的傾向。因此，宜設定比例((2r/P1)×100)的上限值，以考量折射率之光徑長度、在使用環境下的光線之波長帶區域的最大值的1/4以下的部分，使結構體12a彼此接合。此處，配置間距P1係結構體12a之軌道延伸方向(X方向)的配置間距，徑長2r係結構體12a底面在軌道延伸方向(X方向)上的徑長。此外，結構體12a的底面為圓形的情況，徑長2r為直徑，結構體12a的底面為橢圓形的情況下，徑長2r為長徑。
在結構體12a形成準六方晶格圖案的情況下，結構體12a底面的橢圓率e，宜為100%<e<150%以下。因為藉由使其為此範圍，可提高結構體12a的填充率，而得到優異的光學調整功能。
透明性基板11的平均厚度，宜因應透明積層體1的用途而適當 選擇，並具有因應用途之可撓性或剛性，例如，可在上述範圍內形成。
又，結構體層12，可因應用途，形成於透明性基板的單面及雙面中任一種，藉此形成適當的平均膜厚，例如，可在上述範圍內形成。又，形成於雙面的情況，兩側之結構體層的平均膜厚並非必須相同。
在將結構體層12形成於透明性基板之雙面的情況下，將設於透明性基板11單面之結構體層12的結構體12a的高度作為Ha、將透明性基板11的平均厚度作為T、將設於透明性基板11另一面(與設有高度Ha之結構體層的面相反側的面)之結構體層12的結構體12a的高度作為Hb的情況下，從固定防護罩以得到無歪斜之穩定視線的觀點來看，宜為Ha：T：Hb=18~30：800~300000：18~30，較佳為Ha：T：Hb=18~30：1000~50000：18~30。
<<活性能量射線硬化性樹脂組成物>>
作為該活性能量射線硬化性樹脂組成物，至少具有下述所示的(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物，更可因應需求，包含光聚合起始劑、其他成分、以及填充劑或各種功能性添加劑等的成分。
作為該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物，包含以下的(A)及(B)中至少任一種、(C)及(D)。
(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯；(B)氧化乙烯改質雙酚A的酯二(甲基)丙烯酸酯；(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；及(D)主鏈係由直鏈烷基鏈所構成之二元醇的酯二(甲基)丙烯酸酯。
此處所說的酯(甲基)丙烯酸酯，係指分子中具有酸基(包含酸酐 及酸氯化物)與氫氧基的反應所得之酯鏈的(甲基)丙烯酸酯，且不具有胺基甲酸酯鍵及矽氧烷鍵者。
至少包含上述(A)及(B)中任一種，係指包含下述任一種態樣：包含(A)、包含(B)、以及包含(A)與(B)。
作為該(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯，可列舉：「甘油、三羥甲乙烷、三羥甲基丙烷等的、具有由烷基鏈所構成的主鏈與側鏈且具有氫氧基的三元醇」與「(甲基)丙烯酸」的反應生成物，其中宜為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯等。
作為該(B)氧化乙烯改質雙酚A的酯二(甲基)丙烯酸酯，可列舉在結構中所具有之氧化乙烯(EO)鏈的重複單元其總數為n時n=4、10、17者等，其中，宜為結構中所具有之氧化乙烯鏈的重複單元其總數n=4者。
作為該(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，可列舉：聚乙二醇二丙烯酸酯、聚丙乙二醇雙丙烯酸酯、伸丁二醇二丙烯酸酯等，其中宜為聚乙二醇二丙烯酸酯等。
該(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，較佳為含有氧化乙烯(EO)鏈之重複單元大於8的聚乙二醇二丙烯酸酯。
作為該(D)主鏈係由直鏈烷基鏈所構成之二元醇的酯二(甲基)丙烯酸酯，可列舉：1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯等，其中，宜為1,6-己二醇二丙烯酸酯等。
該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物中的該三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的含量，較佳為小於24.8質量%。
又，該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物中的該聚乙二醇二丙烯酸酯的含量，較佳為小於37.2質量%。
-光聚合起始劑-
作為該光聚合起始劑，可列舉例如：光自由基聚合起始劑、光酸產生劑、雙疊氮基(bisazido)化合物、六甲氧基甲基三聚氰胺、四甲氧基乙醇酸酯等。
作為該光自由基聚合起始劑，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如：(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-二苯基-膦氧化物、乙氧基苯基(2,4,6-三甲基苯甲醯基)膦氧化物、雙(2,6-二甲基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、雙(2,6-二氯苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、1-苯基2-羥基-2甲基丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、1,2-二苯基乙烷二酮、甲苯基乙醛酸酯等。
作為該活性能量射線硬化性樹脂組成物中的該光聚合起始劑的含量，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，但宜為0.1質量%~10質量%，較佳為0.5質量%~8質量%。
-填充劑-
作為該填充劑，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，亦可使用例如無機微粒子及有機微粒子中任一種。作為無機微粒子，可列舉例如：SiO2、TiO2、ZrO2、SnO2、Al2O3等的金屬氧化物微粒子。
-功能性添加劑-
作為該功能性添加劑，可列舉例如：均染劑、表面調整劑、消泡劑等。
該活性能量射線硬化性樹脂組成物，可藉由照射活性能量射線使其硬化。作為該活性能量射線，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如：電子束、紫外線、紅外線、雷射光線、可見光線、游離輻射線(X射線、α射線、β射線、γ射線等)、微波、高頻等。
<<結構體層的特性>>
該結構體層表面的水接觸角為26°以上74°以下；且該結構體層於180℃下的儲藏彈性係數小於0.5GPa。
特別是在該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物含有該(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯、及該(B)氧化乙烯改質雙酚A的酯二(甲基)丙烯酸酯兩種成分的情況下，該水接觸角為26°以上74°以下的範圍，可充分發揮本發明之效果。
在該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物含有該(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯、或該(B)氧化乙烯改質雙酚A的酯二(甲基)丙烯酸酯中任一種成分的情況下，該水接觸角較佳為26°以上60°以下的範圍。
該水接觸角、該儲藏彈性係數及該表面彈性係數，可以下述方式進行測定。
[水接觸角(°)]
使用協和界面科學公司製CA-V型進行測定。將1μL水滴下至樣本表面後，測定11秒後的接觸角。測定係改變三次在樣本滴下水的位置，而求其平均值。
[儲藏彈性係數(GPa、180℃)]
於經進行脫模處理的厚度50μm之PET薄膜上配置該活性能量射線硬化性樹脂組成物，再以經進行脫模處理的厚度50μm之PET薄膜將其夾住，使施力器從PET薄膜上滑動以使其均勻，並以累積光量為1000mJ/cm2的方式照射UV光以使其硬化。硬化後，將經進行脫模處理之PET薄膜從雙面剝離，並以測微計測定該活性能量射線硬化性樹脂組成物之硬化物的厚度。對於該活性能量射線硬化性樹脂組成物，調整施力器的空隙以使厚度變成100μm左右，分別測定最終硬化物的厚度，將其用於儲藏彈性係數測定。係使用TA instruments製RSA-3作為動態黏彈性測定裝置(DMA)，以進行測定。
<其他構件>
作為該其他構件，可列舉：中間層、保護層、黏著層、接著層等。
<<中間層>>
亦可因應各種目的，於該透明性基板與該結構體層之間設置中間層。
例如，藉由設置該中間層，可提高該透明性基板與該結構體層的接著性。
為了防止干涉不均，該中間層的折射率，宜接近該結構體層的折射率。或者，該中間層的折射率，宜在該結構體層的折射率與該透明性基板的折射率之間。
該中間層，例如，可藉由塗佈活性能量射線硬化性樹脂組成物而形成。作為該活性能量射線硬化性樹脂組成物，其與該結構體層的構成成分可為相同亦可為不同。作為該塗佈方法，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可 列舉例如：線棒塗佈、刮刀塗佈、旋轉塗佈、反向滾筒塗佈、模具塗佈、噴塗、滾筒塗佈、凹版塗佈、微凹版塗佈(micro-gravure)、擠壓式塗佈(lip coatting)、氣刀塗佈、簾幕式塗佈、刮刀式缺角輪塗佈法、浸漬法等。
作為該中間層的平均厚度，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，宜為0.01μm~10μm，較佳為0.1μm~5μm。
<<保護層>>
作為該保護層，只要在製造或成形加工形成有該結構體層的該透明積層體時，防止該結構體層受損的層即可，並無特別限制，可因應目的而適當選擇。可在使用該透明積層體時，剝離該保護層。
<<黏著層、接著層>>
作為該黏著層及該接著層，只要係形成於該透明性基板上，以使該透明積層體接著於被加工物、被附著體等的層即可，並無特別限制，可因應目的而適當選擇。
該透明積層體，特別適用於模內成形用薄膜、嵌入成形用薄膜、覆蓋成形用薄膜。
作為該透明積層體的製造方法，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如以下所記載之製造方法等。
<透明積層體的製造方法>
作為該透明積層體的製造方法，可列舉例如：包含未硬化樹脂層形成步驟 及結構體層形成步驟的製造方法，更可因應需求包含其他步驟。
<<未硬化樹脂層形成步驟>>
作為該未硬化樹脂層形成步驟，只要係將活性能量射線硬化性樹脂組成物塗佈於透明性基板上以形成未硬化樹脂層的步驟即可，並無特別限制，可因應目的而適當選擇。
作為該透明性基板，如該透明積層體的說明所記載。
作為該活性能量射線硬化性樹脂組成物，如該透明積層體之該結構體層的說明所記載。
該未硬化樹脂層，可藉由將該活性能量射線硬化性樹脂組成物塗佈於該透明性基板上，並因應需求進行乾燥而形成。該未硬化樹脂層，可為固體的膜，亦可為因該活性能量射線硬化性樹脂組成物所含有之低分子量的硬化性成分而具有流動性的膜。
作為該塗佈方法，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如：線棒塗佈、刮刀塗佈、旋轉塗佈、反向滾筒塗佈、模具塗佈、噴塗、滾筒塗佈、凹版塗佈、微凹版塗佈(micro-gravure)、擠壓式塗佈(lip coatting)、氣刀塗佈、簾幕式塗佈、刮刀式缺角輪塗佈法、浸漬法等。
因未對該未硬化樹脂層照射活性能量射線，故其未硬化。
在該未硬化樹脂層形成步驟中，亦可於形成有該中間層之該透明性基板的該中間層上塗佈該活性能量射線硬化性樹脂組成物，以形成該未硬化樹脂層。
作為該中間層，如該透明積層體的說明所記載。
<<結構體層形成步驟>>
作為該結構體層形成步驟，只要係「使該未硬化樹脂層與具有細微之凸部及凹部中任一種的轉印原模密合，並對與該轉印原模密合的該未硬化樹脂層照射活性能量射線，使該未硬化樹脂層硬化，以轉印該細微之凸部及凹部中任一種，藉此形成結構體層」的步驟即可，並無特別限制，可因應目的而適當選擇。
-轉印原模-
該轉印原模，具有細微的凸部及凹部中任一種。
作為該轉印原模的材質、大小、結構，並無特別限制，可因應目的而適當選擇。
作為該轉印原模的細微之凸部及凹部中任一種的形成方法，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，但宜藉由以具有既定圖案形狀的光阻作為保護膜蝕刻該轉印原模的表面而形成。
-活性能量射線-
作為該活性能量射線，只要係使該未硬化樹脂層硬化的活性能量射線即可，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，例如，如該透明積層體的說明所記載。
此處，使用圖式說明該結構體層形成步驟的具體例。
使用轉印原模形成結構體層；該轉印原模上，係以具有既定圖案形狀之光阻作為保護膜，而蝕刻轉印原模表面，藉此形成細微之凸部及凹部中的任一種。
[轉印原模的構成]
圖3A係顯示轉印原模，即滾筒原模之構成之一例的立體圖。圖3B係放大顯示圖3A所示之滾筒原模之一部分的俯視圖。圖3C係圖3B之軌道T1、T3．．的剖面圖。滾筒原模31，係用以製作具有上述構成之透明積層體的轉印原模，更具體而言，係用以在該結構體層表面形成複數凸部或凹部的原模。滾筒原模31，例如，具有圓柱狀或圓筒狀的形狀，將該圓柱面或圓筒面作為用以在結構體層的表面形成複數凸部或凹部的成形面。該成形面上，例如，二維配置有複數結構體32。在圖3C中，結構體32，相對於成形面具有凹狀。作為滾筒原模31的材料，例如，可使用玻璃，但並不特別限於此材料。
配置於滾筒原模31之成形面的複數結構體32，與配置於該結構體層表面的複數凸部或凹部，係反向的凹凸關係。亦即，滾筒原模31之結構體32的配置、大小、形狀、配置間距、高度或深度及深寬比等，與該結構體層的凸部或凹部相同。
[滾筒原模曝光裝置]
圖4係顯示用以製作滾筒原模之滾筒原模曝光裝置的構成之一例的概略圖。該滾筒原模曝光裝置，係以光碟儲存裝置為基礎所構成。
雷射光源41，係用以對「覆膜於作為紀錄媒介之滾筒原模31表面的光阻」進行曝光的光源，其係例如，使波長λ=266nm的紀錄用雷射光34振盪的光源。從雷射光源41射出的雷射光34，直接以平行光束發出，並射入電光調制器(EOM；electro optical modulator)42。穿透電光調制器42的雷射光34，被 反光鏡43反射，而導入調變光學系統45。
反光鏡43，係由偏光分光器所構成，其具有將一偏光成分反射並使另一偏光成分穿透的功能。穿透反光鏡43的偏光成分，係由光電二極管44所接收，根據該光接收信號控制電光調制器42，以進行雷射光34的相位調變。
在調變光學系統45中，藉由聚光鏡46，將雷射光34聚光於由玻璃(SiO2)等所構成的聲光調變器(AOM；acousto-optic modulator)47。藉由聲光調變器47將雷射光34進行強度調變以使其發散後，藉由透鏡48使其平行光束化。藉由反光鏡51反射從調變光學系統45射出的雷射光34，以水平且平行地將其導向移動光學平台52上。
移動光學平台52具備擴束器53及接物鏡54。藉由擴束器53，將導入移動光學平台52的雷射光34整形成預期的光束形狀後，其透過接物鏡54，照射至滾筒原模31上的光阻層。滾筒原模31，載置於與轉軸馬達55連接的轉動台56上。接著，一邊使滾筒原模31旋轉並使雷射光34在滾筒原模31的高度方向上移動，一邊間歇性地對形成於滾筒原模31外周表面的光阻層照射雷射光34，藉此進行光阻層的曝光步驟。形成之潛影，成為在圓周方向上具有長軸的略橢圓形。藉由使移動光學平台52往箭頭R方向的移動，進行雷射光34的移動。
曝光裝置具備控制機構57，用以在光阻層上形成對應如圖2B及圖3B所示之六方晶格或準六方晶格的二維圖案的潛影。控制機構57具備格式器(formatter)49與驅動機50。格式器49具備極性反轉部，該極性反轉部控制對光阻層照射雷射光34的時機。驅動機50接收極性反轉部的輸出，以控制聲光調變器47。
該滾筒原模曝光裝置中，為了使二維圖案空間性地連結，而針對每一個軌道，以使極性反轉格式器信號與旋轉控制器同步的方式發出信號，並藉由聲光調變器47進行強度調變。在等角速度(CAV；constant angular velocity)之下，以適當的旋轉數、適當的調變頻率及適當的孔距進行圖案化，藉此可紀錄六方晶格或準六方晶格圖案。
[光阻成膜步驟]
首先，如圖5A的剖面圖所示，準備圓柱狀或圓筒狀的滾筒原模31。該滾筒原模31，例如為玻璃原模。接著，如圖5B的剖面圖所示，於滾筒原模31的表面形成光阻層(例如光阻)33。作為光阻層33的材料，可列舉例如：有機系光阻、無機系光阻等。作為該有機系光阻，可列舉例如：酚醛清漆系光阻、化學增幅型光阻等。作為該無機系光阻，可列舉例如金屬化合物等。
[曝光步驟]
接著，如圖5C的剖面圖所示，對形成於滾筒原模31表面的光阻層33照射雷射光(曝光光束)34。具體而言，將滾筒原模31載置於如圖4所示之滾筒原模曝光裝置的轉動台56上，使滾筒原模31旋轉，同時對光阻層33照射雷射光(曝光光束)34。此時，一邊使雷射光34在滾筒原模31的高度方向(與圓柱狀或圓筒狀的滾筒原模31之中心軸平行的方向)上移動，一邊間歇性地照射雷射光34，藉此對整個光阻層33進行曝光。藉此，以例如與可見光波長相同程度的間距，在整個光阻層33上，形成對應雷射光34之軌跡的潛影35。
將潛影35配置成例如在滾筒原模表面上形成複數列軌道T的態 樣，並形成六方晶格圖案或準六方晶格圖案。潛影35係例如在軌道的延伸方向上具有長軸方向的橢圓形。
[顯影步驟]
接著，例如，一邊使滾筒原模31旋轉，一邊在光阻層33上滴下顯影液，以對光阻層33進行顯影處理。藉此，如圖5D的剖面圖所示，在光阻層33上形成複數開口部。在藉由正型光阻形成光阻層33的情況下，相較於非曝光部，經雷射光34曝光的曝光部對顯影液的溶解速度加快，故如圖5D的剖面圖所示，於光阻層33上形成對應潛影(曝光部)35的圖案。開口部的圖案，係例如六方晶格圖案或準六方晶格圖案等既定的晶格圖案。
[蝕刻步驟]
接著，將形成於滾筒原模31上之光阻層33的圖案(光阻圖案)作為遮罩，對滾筒原模31的表面進行蝕刻處理。藉此，如圖5E的剖面圖所示，可得到具有錐體形的結構體(凹部)32。錐體形，宜為例如，在軌道T的延伸方向上具有長軸方向的橢圓錐形或橢圓錐台形。作為該蝕刻，可使用例如乾蝕刻、濕蝕刻。此時，藉由交叉進行蝕刻處理與灰化處理，可形成例如錐體狀的結構體32的圖案。藉由以上方法，可得到目標之滾筒原模31。
[轉印處理]
準備形成有如圖6A的剖面圖所示之未硬化樹脂層36的透明性基板11。
接著，如圖6B的剖面圖所示，使滾筒原模31與形成於透明性基板11上 的未硬化樹脂層36密合，並對未硬化樹脂層36照射活性能量射線37，使未硬化樹脂層36硬化，以轉印細微的凸部及凹部中任一種。將與「形成有細微之凸部及凹部中任一種12a的結構體層12」一體化的透明性基板11剝離，藉此得到本發明之透明積層體1(圖6C)。
又，如圖1B所示，在該透明積層體係透明性基板的兩側具有結構體層的結構的情況下，可進一步經由以下步驟而得。
使用以上述方式所得的一側形成有結構體層之透明積層體1(圖7A)，更如圖7B所示，使「滾筒原模31」與「塗佈於單面形成有結構體層之透明性基板11的相反側表面上的未硬化樹脂層36」密合後，從能量射線源37對未硬化樹脂層36照射紫外線等的能量射線，以使未硬化樹脂層36硬化，再將與硬化之結構體層12一體化的透明性基板11剝離。藉此，如圖7C所示，得到於透明性基板11的雙面具有結構體層12的透明積層體1，該結構體層12具有複數結構體12a。
<<透明積層體之其他製造方法>>
該透明積層體，亦可使用以上述方式所得之滾筒原模，藉由以下方法進行製造。
於上述所製作之滾筒原模上，滴下既定量的該活性能量射線硬化性樹脂組成物，覆蓋透明性基板，以滾軸擴散至整個滾筒原模，之後，從透明性基板側照射紫外線等的能量射線，以進行轉印材料，即該活性能量射線硬化性樹脂組成物的硬化後，將與轉印材料硬化之結構體層一體化的透明性基板從滾筒原模脫模。藉此，可得到本發明之透明積層體。
<透明積層體的變化例>
<<第1變化例>>
如圖10A所示，可使設於透明積層體1表面的複數結構體12a，在鄰接之軌道T之間形成正方形晶格圖案或準正方形晶格圖案。又，相同地，亦可使設於透明積層體1背面的複數結構體12a，在鄰接的3列軌道T之間形成正方形晶格圖案或準正方形晶格圖案。
此處，正方形晶格，係指正四方形的晶格。準正方形晶格，與正四方形的晶格不同，係指歪曲的正四方形的晶格。例如，在將結構體12a配置於直線上的情況下，準正方形晶格，係指使正四方形的晶格歪曲成圓弧狀的正方形晶格，或者使正四方形的晶格之配置方向(軌道方向)上延伸而歪曲、且歪曲成圓弧狀的正方形晶格。在彎曲配置結構體12a的情況下，準正方形晶格，係指使正四方形的晶格因結構體12的彎曲配置而歪曲的正方形晶格，或者使正四方形的晶格在配置方向(軌道方向)上延伸而歪曲、且因結構體12的彎曲配置而歪曲的正方形晶格。
以正方形晶格圖案或準正方形晶格圖案配置結構體12a的情況，同一軌道內之結構體12a的配置間距P1，宜比鄰接之兩個軌道間之結構體12a的配置間距P2更長。又，在將同一軌道內之結構體12a的配置間距作為P1、鄰接之兩個軌道間之結構體12a的配置間距作為P2時，P1/P2宜滿足1.4<P1/P2≦1.5的關係。藉由使其為此數值範圍，可提高具有橢圓錐或橢圓錐台形之結構體12a的填充率，故可提高光學調整功能。又，相對軌道為45度方向或約45度方向上的結構體12a的高度或深度，宜小於軌道之延伸方向上的結構體12a的高度或深度。
相對軌道之延伸方向為歪曲的結構體12a，其配置方向(θ方向)的高度H3，宜小於軌道之延伸方向上的結構體12a的高度H1。亦即，結構體12a的高度H1、H3宜滿足H1>H3的關係。
<<第2變化例>>
如圖11所示，亦可將複數結構體12a隨機(不規則)地二維配置於透明積層體1的表面上。亦可使結構體12a的形狀、大小及高度中至少一項隨機變化。
作為用以製作具有上述結構體12a之透明積層體1的原模的製作方法，例如，可使用使鋁基材等的金屬基材表面陽極氧化的方法，但並不特別限於該方法。
第2變化例中係隨機地二維配置複數結構體12a，故可抑制發生外觀上的不均勻。
<<第3變化例>>
如圖12A所示，透明積層體1亦可具有整體為帶狀的形狀。藉由使其為此形狀，可輕易地藉由捲對捲(roll to roll)步驟製作透明積層體1。又，將透明積層體1捲繞成滾筒狀等以使其成為捲材(original fabric)，藉此容易進行處理。
又，採用上述構成作為透明積層體1的情況，如圖12B所示，更可隔著黏著層2，在透明積層體1的最表面設置保護結構體12a的保護層6。這是因為，即使在將透明積層體1捲繞成捲材的情況下，亦可抑制結構體12a的破損，進而抑制光學調整功能的降低。此外，可在使用透明積層體1時，將保護層6或黏著層2去除。
<本發明之透明積層體的適用例>
本發明之該透明積層體，在抗反射特性、穿透性、防汙性、防霧性、保護特性等所有特性上平衡良好，並顯示良好的結果，故可活用該等優點，將其應用於下述裝置：使用於面部防護遮罩、顯示器薄膜、配電盤及分電盤等的顯示部的顯示面薄膜(特別是其防霧性優異，故可適用於內側使用的薄膜)、使用於自行車顯示設備之顯示面的顯示面薄膜(特別是其防霧性優異，故可適用於內側使用的薄膜)、用於賽馬等的運動用護目鏡。
其中，宜將該透明積層體用作醫療用的面部防護用光學元件。
<<面部防護用光學元件>>
本發明之透明積層體較佳可用以作為醫療用的面部防護用光學元件，其可活用本發明之該透明積層體的抗反射特性、穿透性、防汙性、防霧性、保護特性等的優點，以保護面部不受飛散物傷害並確保必要的視線。
使用本發明之面部防護用光學元件的醫療用面部防護遮罩，其防汙性、耐擦傷性優異，更可使呼吸所包含之水分瞬間平滑化而防止霧氣，從此點來看，其係可有效防止霧氣的產生，且穿透性優異的遮罩。
(物品)
使用本發明之該透明積層體，更因應需求使用其他構件，而可形成物品。
作為該物品，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如：上述面部防護遮罩、顯示器薄膜、配電盤及分電盤等的顯示部、自行車顯示設備的顯示部、運動用護目鏡等。
其中，如上所述，較佳可將本發明之透明積層體用作面部防護用光學元件，應用於外科手術時或牙科治療時等所使用的醫療用面部防護遮罩等的物品。藉由可裝卸地將本發明之面部防護用光學元件安裝於護目鏡型、面部遮罩型等的光學元件的安裝工具，或固定於面部遮罩，可得到面部防護具。
圖8A係將本發明之面部防護用光學元件1作為眼罩73固定於面部遮罩71的面部防護具70之一實施形態的俯視圖，圖8B係穿戴至面部之面部防護具70的立體圖。
面部遮罩71，包覆穿戴者的鼻、口及下巴的一部分，並以繩72等保持於面部。作為面部遮罩71，可使用任意的醫療用面部遮罩，例如，可使用具有透氣性、且為了防止細菌侵入而形成多層結構的遮罩。
另一方面，面部防護用光學元件1，可作為眼罩73，以接合區域74a、74b固定於面部遮罩71，其可不遮住穿戴者的視線，而防止穿戴者的眼睛被飛散的液體或飛散物傷害。
相對於面部遮罩71的寬度，眼罩73具有充分大的寬度，並具有廣泛包覆穿戴者眼睛周圍的大小。又，眼罩73，其底邊中央具有凹部75。在將面部防護具70穿戴於面部的情況下，藉由具有該凹部75，眼罩73在穿戴者的鼻子周圍彎曲，而形成眼罩73沿著面部的曲面。
將接合區域74a、74b設於面部遮罩71的左右兩個端部，且穿戴時成為鼻子側面的部分。作為接合區域74a、74b中眼罩73與面部遮罩71的固定方法，可列舉：超音波熔合、熱接著、釘子等的機械性接合等。接合區域74a、74b的大小，只要可固定眼罩73即可，例如，可使其寬度為3~15mm、長度為5~30mm。藉此，無需以繩72將眼罩73壓附於面部，而可簡便地穿脫面部防護具70。
此外，在本發明中，用作眼罩73的本發明之面部防護用光學元件1，亦可以自由裝卸的方式安裝於面部遮罩71。
藉由上述製造方法，得到上述用作眼罩的面部防護用光學元件1作為透明積層體，之後，為了安裝於面部防護具而裁切成既定尺寸，藉此進行使用。另外，在製造、加工面部防護具等的物品(包含該裁切步驟)時，為了保護透明積層體表面，亦可將表面保護膜配置於透明積層體表面。
具有本發明之透明積層體的物品，可藉由模內成形、嵌入成形、覆蓋成形而形成。
該透明積層體，可形成於該物品的一部分，亦可形成於物品整體。
作為該物品的製造方法，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，但宜列舉以下的模內成形之製造方法。
<<具有本發明之透明積層體之物品的製造方法>>
作為該物品的製造方法，可列舉包含例如加熱步驟、透明積層體成形步驟、及射出成形步驟的製造方法，更可因應需求包含其他步驟。
<<加熱步驟>>
作為該加熱步驟，只要係加熱透明積層體的步驟即可，並無特別限制，可因應目的而適當選擇。
該透明積層體係本發明之該透明積層體。
作為該加熱，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，宜為紅外線加熱。
作為該加熱的溫度，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，但在該透明性基板為樹脂製基材的情況下，宜為接近該樹脂製基材的玻璃轉換溫度或玻璃轉換溫度以上。
作為該加熱的時間，並無特別限制，可因應目的而適當選擇。
<<透明積層體成形步驟>>
作為該透明積層體成形步驟，只要係將經加熱之該透明積層體成形成預期之形狀的步驟即可，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如使其與既定的模具密合，並藉由氣壓成形成預期之形狀的步驟等。
<<射出成形步驟>>
作為該射出成形步驟，只要係將成形材料射出至經成形成預期形狀之該透明積層體的透明性基板側，以形成該成形材料的步驟即可，並無特別限制，可因應目的而適當選擇。
作為該成形材料，可列舉例如樹脂等。作為該樹脂，可列舉例如：烯烴系樹脂、苯乙烯系樹脂、ABS樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)、AS樹脂(丙烯腈-苯乙烯共聚物)、丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、不飽和聚酯樹脂、環氧樹脂、聚苯醚．聚苯乙烯系樹脂、聚碳酸酯、聚碳酸酯改質聚苯醚、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碸、聚苯硫醚、聚苯醚(Polyphenylene oxide)、聚醚醯亞胺、聚醯亞胺、液晶聚酯、聚烯丙基系耐熱樹脂、各種複合樹脂、各種改質樹脂等。
作為該射出方法，並無特別限制，可因應目的而適當選擇，可列舉例如於密合至既定模具之該透明積層體的透明性基板側，流入熔融之該成形 材料的方法等。
該物品的製造方法，宜使用模內成形裝置、嵌入成形裝置、覆蓋成形裝置而進行。
此處，使用圖式說明具有本發明之透明積層體之物品的製造方法之一例。該製造方法係使用模內成形裝置之製造方法。
首先，加熱透明積層體500。加熱宜為紅外線加熱。
接著，如圖9A所示，將加熱之透明積層體500配置於第1模具501與第2模具502之間的既定位置。此時，以透明積層體500的透明性基板朝向第1模具501，結構體層朝向第2模具502的方式進行配置。在圖9A中，第1模具501為固定模，第2模具502為可動模。
在將透明積層體500配置於第1模具501與第2模具502之間後，關閉第1模具501與第2模具502。接著，以在第2模具502之腔面上開口的吸氣孔504吸住透明積層體500，以將透明積層體500裝設於第2模具502的腔面。藉由此方式，腔面對透明積層體500進行賦形。又，此時，可以圖中未顯示的壓膜機構固定透明積層體500的外圍以進行定位。之後，修剪透明積層體500不要的部位(圖9B)。
此外，在第2模具502不具備吸氣孔504，而第1模具501具有壓縮空氣孔(圖中未顯示)的情況下，從第1模具501的壓縮空氣孔對透明積層體500輸送壓縮空氣，藉此將透明積層體500裝設於第2模具502的腔面。
接著，從第1模具501之澆口(gate)505，朝向透明積層體500的透明性基板射出熔融之成形材料506，以將其注入第1模具501與第2模具502合模後所形成的腔室內(圖9C)。藉此，將熔融之成形材料506填充至腔室內(圖 9D)。更進一步，完成填充熔融之成形材料506後，使熔融之成形材料506冷卻至既定溫度以使其固化。
之後，移動第2模具502，以開啟第1模具501與第2模具502(圖9E)。藉由此方式，於成形材料506的表面形成透明積層體500，並可得到模內成形成預期形狀的物品507。
最後，從第1模具501將頂出銷508推出，取出所得之物品507。
又，在形狀更加複雜的情況下，亦可預先以與上述相同的步驟，不添加該成形材料之追加樹脂而進行預成型，之後提供至正式成形，藉此製造物品。
【實施例】
以下，列舉實施例及比較例進一步具體說明本發明，但本發明並不限定於此。
在以下的實施例中，各測定及評價係以下述方式進行。
<水接觸角(°)>
使用協和界面科學社製CA-V型進行測定。將1μL水滴下至樣本表面後，測定11秒後的接觸角。測定係改變三次在樣本滴下水的位置，求其平均值。
<儲藏彈性係數(GPa、180℃)>
於經進行厚度50μm之脫模處理的PET薄膜上配置該活性能量射線硬化性樹脂組成物，更進一步以經進行厚度50μm之脫模處理的PET薄膜將其夾住，使施力器從PET薄膜上滑動以使其均勻，並以累積光量為1000mJ/cm2的方式照射UV光以使其硬化。硬化後，將經進行脫模處理之PET薄膜從雙面剝離，以 測微計測定該活性能量射線硬化性樹脂組成物之硬化物的厚度。對於該活性能量射線硬化性樹脂組成物，調整施力器的空隙以使厚度成為100μm左右，分別測定最終硬化物的厚度，將其用於儲藏彈性係數測定。作為動態黏彈性測定裝置(DMA)，係使用TA instruments製RSA-3進行測定。
<表面彈性係數(GPa、室溫)>
使用Fisher instruments製PICODENTOR HM500測定透明積層體表面的彈性係數。
<心軸試驗(mm)>
依據JIS K5600-5-1，使用TESTER SANGYO股份有限公司製、PI-801塗膜彎曲試驗機，依序變更心軸直徑，測定裂縫進入透明積層體上之結構體層的心軸直徑。心軸直徑越小表示彎曲性越優異。又，最小心軸直徑為2mm，故2mm>的記載表示未產生裂縫。
<拉伸斷裂伸度(%)>
於經進行脫模處理的厚度50μm之PET薄膜上配置該活性能量射線硬化性樹脂組成物，更進一步以經進行脫模處理的厚度50μm之PET薄膜將其夾住，再以施力器從PET薄膜上滑動以使其均勻(該施力器中，已將空隙調整，以使硬化物層的厚度為約100μm)，並以累積光量為1000mJ/cm2的方式照射UV光以使其硬化。硬化後，將經進行脫模處理之PET薄膜從雙面剝離，以測微計測定該活性能量射線硬化性樹脂組成物之硬化物的厚度。
將該硬化物層沖壓成寬度10mm×長度80mm的細長狀以作為樣本。
使用拉伸試驗機(島津製作所股份有限公司製Autograph AG-X 5kN)，固定樣本的兩端，以拉伸速度300mm/min進行拉伸，測定樣本在斷裂時相較於初期的拉伸率。
<沖壓試驗(裁切時有無產生裂縫)>
使用MATEX-SEIKO股份有限公司製手動肘接壓機(hand toggle press)，藉由厚度0.7mm、刀刃42°的湯姆森刀片型(thomson blade type)，對本發明之透明積層體的樣本實施沖壓試驗，以光學顯微鏡觀察沖壓後的剖面，確認有無產生裂縫。依據以下判定方法，評價有無產生裂縫及裂縫的大小。
判定方法：測定從透明積層體剖面之邊緣部至90度方向之裂縫端部的距離L1。在產生裂縫的10處進行此測定。求出10處該L1的平均值。將其作為裂縫長度，並藉由以下判斷基準進行評價。
-判斷基準-
大裂縫：裂縫長度為100μm以上
中裂縫：裂縫長度為50μm以上、小於100μm
小裂縫：裂縫長度為5μm以上、小於50μm
無裂縫：裂縫長度小於5μm
<保護膜剝離力(N/25mm)>
依據JIS Z-0237，以90度剝離試驗進行測定。將具有切成寬度25mm之市 售丙烯酸黏著層的保護膜貼附於透明積層體上的結構體層，並靜置24h。之後，使用今田製作所股份有限公司製、拉伸壓縮試驗機SV-55C-2H，以拉伸速度300mm/min將保護膜從樣本上剝離，測定剝離時的剝離力。從操作上的觀點來看，剝離力宜為0.1N/25mm~0.8N/25mm。
<耐指紋性(指紋去除性)>
在樣本(透明積層體上之結構體層)上附上指紋後，以濕布進行擦拭，目視確認指紋去除的情況。確認濕布擦拭1次與擦拭5次的結果。
擦拭布，係使用無塵室用擦拭布的Savina MX(KB SEIREN股份有限公司製)。
<防霧性>
將本發明之透明積層體的樣本放置於離口部約2.5cm的距離，藉由對樣本吹氣來評價防霧性。吹氣時間約為3秒鐘。連續3次實施評價。結果，將未產生霧氣的情況評價為○，產生霧氣的情況評價為×。
(實施例1)
<具有細微之凹部的轉印原模(玻璃滾筒原模)的製作>
首先，準備外徑126mm的玻璃滾筒原模，以下述方式，於該玻璃滾筒原模的表面上形成光阻層。亦即，以稀釋劑將光阻稀釋成質量比1/10，並藉由浸漬法，在玻璃滾筒原模的圓柱面上將該稀釋光阻塗佈成70nm左右的平均厚度，藉此形成光阻層。接著，將玻璃滾筒原模搬送至如圖4所示的滾筒原模曝光裝置， 以對光阻層進行曝光，藉此對光阻層進行圖案化，而形成「連接成一個螺旋狀且在鄰接的3列軌道之間成為六方晶格圖案的潛影」。具體而言，係針對應形成六方晶格狀之曝光圖案的區域，將0.50mJ/m的雷射光照射於圖像上，而形成六方晶格狀的曝光圖案。
接著，對玻璃滾筒原模上的光阻層實施顯影處理，使曝光部分的光阻層溶解以進行顯影。具體而言，將未顯影之玻璃滾筒原模載置於圖中未顯示的顯影機之轉動台上，使每個轉動台旋轉並在玻璃滾筒原模的表面上滴下顯影液，以使其表面的光阻層顯影。藉此，得到光阻層開口成六方晶格圖案的具光阻層之玻璃原模。
接著，使用滾筒蝕刻裝置，在CHF3氣體氛圍氣中進行電漿蝕刻。藉此，在玻璃滾筒原模的表面上，僅對從光阻層露出的六方晶格圖案的部分進行蝕刻，其他區域因光阻層成為遮罩而未被蝕刻，而在玻璃滾筒原模上形成橢圓錐形的凹部。此時，藉由蝕刻時間調整蝕刻量(深度)。最後，藉由O2灰化將光阻層完全去除，藉此得到具有凹狀之六方晶格圖案的玻璃滾筒原模。
<透明積層體的製作>
接著，使用以上述方式所得之滾筒原模，藉由UV壓印製作透明積層體。具體而言，係以下述方式進行製作。
首先，於具有蛾眼形狀的上述所製作之原模上，滴下幾滴由下述組成所構成的UV硬化樹脂組成物(成分表顯示於下列表1-1)，蓋上聚碳酸酯製薄膜(C000，住友化學股份有限公司製)作為透明的基體，以滾軸將其擴散至整個滾筒原模。
之後，以1000mJ/cm2從聚碳酸酯製薄膜側照射紫外線，進行樹脂的硬化 後，從原模脫模，得到透明積層體。
-結構體層用紫外線硬化性樹脂組成物-
．三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(miramer M300(Miwon製)) 24.27質量%
．聚乙二醇二丙烯酸酯(NK Ester A-600(新中村化學工業股份有限公司)) 23.00質量%
．1,6-己二醇二丙烯酸酯(miramer M200(Miwon製)) 45.73質量%
．2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物(聚合起始劑：Lucilin TPO(BASF S.E製)) 7.00質量%
另外，上述Miwon係指Miwon specialty chemical Co.,Ltd。
所得之透明積層體之結構體層的平均厚度為3μm、凸部的平均距離(Pm)為178nm、凸部的平均高度(Hm)為245nm、平均深寬比(Hm/Pm)為1.38。
為了評價所得之透明積層體的特性，依照上述方法，對水接觸角(°)、儲藏彈性係數(GPa、180℃)、表面彈性係數(GPa、室溫)、心軸試驗(mm)、拉伸斷裂伸度(%)、沖壓試驗、保護膜剝離力(N/25mm)、耐指紋性、防霧性的各項目進行測定及評價。結果顯示於表2-1。
(實施例2~6)
除了將實施例1中的結構體層用紫外線硬化性樹脂組成物變更成下列表1-1所示之組成以外，與實施例1相同地，得到透明積層體。
為了評價所得之透明積層體的特性，進行與實施例1相同的測定及評價。 結果顯示於表2-1。
(比較例1~7)
除了將實施例1中的結構體層用紫外線硬化性樹脂組成物變更成下列表1-2所示之組成以外，與實施例1相同地，得到透明積層體。
為了評價所得之透明積層體的特性，進行與實施例1相同的測定及評價。結果顯示於表2-2。另外，比較例4的防霧性結果不佳，無法得到本發明所要求的防霧性能。因此，在剩下的評價項目中，亦有部分項目未進行測定，此情況下，其要旨顯示於表中。
由上述實驗結果可確認，本發明之透明積層體，係確保與表面保護膜的適度接合性，可有效防止「與表面保護膜的接合性太強而產生細微之凹凸形狀的破壞」的弊病，且防汙性、防霧性等優異的透明積層體，更進一步，其結 構體層具有適當的硬度與柔軟性，故為抗裂性優異的透明積層體。
[產業上的可利用性]
本發明之透明積層體，可用作抗反射膜或保護片等。可應用於下述裝置：使用於顯示器薄膜、配電盤或分電盤等的顯示部的顯示面薄膜、使用於自行車之顯示設備的顯示面的顯示面薄膜、運動用護目鏡等，又，特別適用於在外科手術時或牙科治療時所使用的醫療用的面部防護遮罩。

Claims (8)

  1. 一種透明積層體，其係包含：至少具有透明性基板與結構體層；該結構體層，其表面至少具有凸部及凹部中任一種，且鄰接之該凸部的平均距離或鄰接之該凹部的平均距離為可見光的波長以下；該結構體層係由活性能量射線硬化性樹脂組成物的聚合物所構成；該活性能量射線硬化性樹脂組成物包含(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物；該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物包含以下(A)及(B)中至少一種、(C)及(D)：(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯；(B)氧化乙烯改質雙酚A的酯二(甲基)丙烯酸酯；(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；及(D)主鏈係由直鏈烷基鏈所構成之二元醇的酯二(甲基)丙烯酸酯；該結構體層表面的水接觸角為26°以上74°以下，且該結構體層於180℃下的儲藏彈性係數小於0.5GPa。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之透明積層體，其中，該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物包含該(A)、(B)、(C)及(D)。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之透明積層體，其中，該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物包含該(A)及(B)中任一種、(C)及(D)，且該水接觸角為26°以上60°以下。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之透明積層體，其中，該(A)主鏈與側鏈係由烷基鏈所構成之三元醇的酯(甲基)丙烯酸酯為三羥甲基丙烷三丙烯酸酯。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之透明積層體，其中，該(甲基)丙烯酸酯系聚合性化合物之組成物中的該三羥甲基丙烷三丙烯酸酯的含量小於24.8質量%。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之透明積層體，其中，該(C)聚烷二醇二(甲基)丙烯酸酯含有氧化乙烯(EO)鏈之重複單元大於8的聚乙二醇二丙烯酸酯。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之透明積層體，其中，該結構體層的拉伸斷裂伸度為0.65%以上。
  8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項所述之透明積層體，其中，將其用作面部防護用光學元件。
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