TWI592463B - 用於發光裝置之雙極性主發光體 - Google Patents
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Description
此申請案主張於2012年12月10日提出之美國臨時專利申請案號第61/735,478號之優先權，其全部內容係併入於此做為參考。
本發明是涉及一種用於有機發光二極體的化合物，例如用於主發光體(host)材料。
白光有機發光裝置(white organic light emitting devices,WOLEDs)是由於其作為背光源、全彩顯示器(full color display)、以及一般照明的潛力應用，因而引起許多的注意與廣泛的研究。用以產生白光的各種裝置配置中，使用磷光(phosphorescent)材料而與正確的主發光體(host)材料組合的單一發射層裝置(single-emissive-layer device)是令人感到滿意的。這樣裝置之部分的優點可包含降低總成本、增加量子效率(quantum efficiency)、以及輕易製作。由於磷光發射體(phosphorescent emitters)可獲得單重態(singlet)與三重態(triplet)激子(exciton)兩者，因此在白光有機發光裝置中之磷光發射體的使用可能有促使達成100%內部量子效率的潛力。添加的主發光體材料亦可降低發射材料的濃度猝滅，而進一步增加效率。此外，添加的主發光體材料可降低所需昂貴之發射材料的數量，且單層裝置是較多層裝置來的更輕易製作與更節省成本。其結果是，具有磷光與主發光體材料的單一發射層裝置可以降低製作白光有機發光裝置的總成本。
部分實施例包含由化學式1所表示的化合物：
HT-Ph1-Ph2-ET (化學式1)其中，Ph1與Ph2為獨立地選擇性經取代之鄰伸苯基(o-phenylene)；HT是選擇性經取代之苯基咔唑(phenylcarbazolyl)、選擇性經取代之(苯基咔唑)苯基((phenylcarbazolyl)phenyl)、選擇性經取代之4(苯基萘基胺)苯基(4-(phenylnaphthylamino)phenyl)、或選擇性經取代之4-(二苯基胺基)苯基(4-(diphenylamino)phenyl)；以及ET是選擇性經取代之苯並咪唑-2 基、選擇性經取代之笨並咪唑-2 基苯基(benzimidazol-2-yl phenyl)、選擇性經取代之二(苯並咪唑-2-基)苯基(di(benzimidazol-2-yl)phenyl)、選擇性經取代之苯並噻唑-2-基苯基(benzothiazol-2-ylphenyl)、選擇性經取代之苯並噁唑-2-基苯基(benzoxazol-2-ylphenyl)、選擇性經取代之二(苯並噁唑-2-基)苯基(di(benzoxazol-2-yl)phenyl)、選擇性經取代之3,3’-聯吡啶-5-基(3,3’-bipyridin-5-yl)、選擇性經取代之喹啉-8 基(quinolin-8-yl)、選擇性經取代之喹啉-5 基(quinolin-5-yl)、或選擇性經取代之喹喔啉-5 基(quinoxalin-5-yl)。
部分實施例提供由化學式2所表示的化合物：
部分實施例亦包含選擇性經取代之N-苯基-N-(4'''-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1'：2',1'''-四聯苯]-4-基)萘-1-胺(N-phenyl-N-(4'''-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"：2",1'''-quaterphenyl]-4-yl)naphthalen-1-amine)；選擇性經取代之9-苯基-3-(4"-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-2-基)-9H-咔唑(9-phenyl-3-(4"-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-2-yl)-9H-carbazole)；選擇性經取代之3-(3",5"-二(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-2-基)-9-苯基-9H-咔唑(3-(3",5"-bis(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-2-yl)-9-phenyl-9H-carbazole)；選擇性經取代之2,2'-(2"-(9-苯基-9H-咔唑-3-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-3,5-二基)雙(苯並[d]噁唑)(2,2'-(2"-(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-3,5-diyl)bis(benzo[d]oxazole)；選擇性經取代之3-(4"-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-2-基)-9-(對甲苯基)-9H-咔唑(3-(4"-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-2-yl)-9-(p-tolyl)-9H-carbazole)；或選擇性經取代之9-苯基-3-(4'''-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1'：2',1'''-四聯苯]-4-基)-9H-咔唑(9-phenyl-3-(4'''-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"：2",1'''-quaterphenyl]-4-yl)-9H-carbazole)。
這些化合物可使用在發光裝置中，例如主發光體化合物。
其他實施例提供一種有機發光二極體裝置，包含陰極；陽極；設置在陰極與陽極之間且電性連接之發光層；設置在陽極與發光層之間之電洞傳輸層；以及設置在陰極與發光層之間之電子傳輸層，其中發光層、電洞傳輸層、以及電子傳輸層之至少其一包含文中所描述的主發光體化合物。
其他實施例提供一種有機發光二極體裝置，包含陰極；陽極；以及設置在陰極與陽極之間且電性連接之發光層，其中發光層包含文中所描述的主發光體化合物。
這些與其它實施例將於下文中更詳細地描述。
實際上，主發光體(host)材料的使用可有助於製作有效率的白光有機發光裝置(white organic light emitting devices,WOLEDs)。假使當主發光體傳輸電洞與電子兩者的速度相同時，則主發光體可能被改善。而假使當三重態能量(triplet energy)是高到足以有效地限制三重態(triplet)激子(exciton)在客體分子(guest molecule)上時，則主發光體亦可能被改善。部分的主發光體材料是由電洞傳輸材料與電子傳輸材料混合，而這可能會引起潛在的問題，例如均勻性(uniformity)中的相位分離(phase separation)、聚集(aggregation)、以及缺陷(lack)、以及不相等材料的衰變率(degradation rates)。因此，用於主發光體材料之雙極性單分子(ambipolar single molecule)(即，分子能夠有效地傳輸電洞與電子)的發展將是有用的。
部分雙極性單分子主發光體已被使用在單一色彩有機發光二極體裝置或者是白色有機發光二極體裝置的應用中。然而，這些分子具有不相等的電洞傳輸與電子傳輸特性，或者由這些分子所製作的裝置僅具有一般的效率。
因此，當雙極性主發光體用作為用於磷光發射材料時，這裡需要的是是可以輕易合成、具有高熱與電化學穩定性(stability)、以及具有平衡之電洞傳輸與電子傳輸之可動性之新型態的雙極性主發光體。這樣的主發光體可能用以實現具有高量子效率(quantum efficiency)與低開啟電壓(turn-on voltage)的簡易裝置結構。
除非另有說明，否則當化合物或化學結構的特徵，例如芳基(aryl)，是被稱為「選擇性經取代(optionally substituted)」，其包含具有未經取代(即，未取代(unsubstituted))的特徵、或表示具有一或多個取代基(substituent)之特徵之「經取代(substituted)」的特徵。術語「經取代(substituted)」具有所技術領域具有通常知識者所知悉的廣泛意義，且包含替代在原化合物或結構特徵中一或多個氫原子的部分。用於文中之術語「替代(replaces)」僅是為了方便，而不會要求化合物是藉由以另一原子替代一原子而形成。於部分實施例中，取代基可為可具有15 g/mol至50 g/mol、15 g/mol至100 g/mol、15 g/mol至150 g/mol、15 g/mol至200 g/mol、15 g/mol至300 g/mol、或15 g/mol至500 g/mol之分子量(例如，取代基之原子的總原子量)之所屬技術領域所知悉的普通有機部分。於部分實施例中，取代基包含：0-30、0-20、0-10、或0-5個碳原子；及0-30、0-20、0-10、或0-5個雜原子，其中各雜原子可獨立地為：氮(N)、氧(O)、硫(S)、矽(Si)、氟(F)、氯(Cl)、溴(Br)、或碘(I)；所提供之取代基包含一個碳(C)、氮、氧、硫、矽、氟、氯、溴、或碘原子。
取代基的範例包含，但不限於，烴基(hydrocarbyl)，例如烷基(alkyl)、烯基(alkenyl)、炔基(alkynyl)；雜烷基(heteroalkyl)，為其中包含由一或多個雜原子替代一或多個碳原子、以及部分伴隨氫原子(hydrogen atoms)的任一烷基(例如，氮替代CH、氧替代CH2、或氯替代CH3等)，例如烷氧基(alkoxy)、烷硫基(alkylthio)、鹵烷基(haloalkyl)、鹵代烷氧基(haloalkoxy)、以及氨基(amino)等；雜烯基(heteroalkenyl)，為其中包含由一或多個雜原子替代一或多個碳原子、以及部分伴隨氫原子的任一烯基，例如醯基(acyl)、醯氧基(acyloxy)、硫羰基(thiocarbonyl)、烷基羧酸酯(alkylcarboxylate)、O-胺甲醯基(O-carbamyl)、N-胺甲醯基(N-carbamyl)、O-胺硫甲醯基(O-thiocarbamyl)、N-胺硫甲醯基(N-thiocarbamyl)、C-醯胺基(C-amido)、N-醯胺基(N-amido)、亞磺醯基(sulfinyl)、異氰酸基(isocyanato)、以及異硫氰基(isothiocyanato)等；雜炔基(heteroalkynyl)，為其中包含由一或多個雜原子替代一或多個碳原子、以及部分伴隨氫原子的任一炔基，例如氰基(cyano)、氰硫基(thiocyanato)、氰氧基(cyanato)；芳基；雜芳基(heteroaryl)；羥基(hydroxyl)；芳氧基(aryloxy)；氫硫基(thiol)；鹵基(halo)；S-磺醯胺基(S-sulfonamido)；N-磺醯胺基(N-sulfonamido)；硝基(nitro)、矽基(silyl)；磺醯基(sulfonyl)；三鹵代甲烷磺醯(trihalomethanesulfonyl)；以及三鹵代甲烷(trihalomethanesulfonamido)等。於部分實施例中，取代基可為選擇性經取代的烷基、-O-烷基(-O-alkyl)(例如，-OCH3、-OC2H5、-OC3H7、或-OC4H9等)、-S-烷基(-S-alkyl)(例如，-SCH3、-SC2H5、-SC3H7、或-SC4H9等)、-NR'R"、-OH、-SH、-CN、-NO2、或鹵素(halogen)，其中R'與R"為獨立地氫或為選擇性經取代的烷基。
為了方便起見，術語「分子量(molecular weight)」是用於相對於分子之一半或部分，用以表示在分子之一半或部分中之原子的總原子量，即便其可能不是完整的分子。
術語苯並咪唑-2 基(benzimidazol-2-yl)提及的環系統(ring system)是：
術語「苯並咪唑-2-基-苯基(benzimidazol-2-ylphenyl)」提及的環系統是：
術語「二(苯並咪唑-2-基)苯基(di(benzimidazol-2-yl)phenyl)」提及的環系統是：
在某些部分，苯並咪唑-2 基可能具有如下所顯示的取代基團(substituent group)R7：
術語苯並噁唑-2 基(benzoxazol-2-yl)提及的環系統是：
術語「苯並噁唑-2-基苯基(benzoxazol-2-ylphenyl)」提及的環系統是：
術語「二(苯並噁唑-2-基)苯基(di(benzoxazol-2-yl)phenyl)」提及的環系統是：
術語苯並噻唑-2 基(benzothiazol-2-yl)提及的環系統是：
術語「苯並噻唑-2-基苯基(benzothiazol-2-ylphenyl)」提及的環系統是：
術語「喹啉-8 基(quinolin-8-yl)」提及的環系統是：
術語「喹啉-5 基(quinolin-5-yl)」提及的環系統是：
術語「喹喔啉-5 基(quinoxalin-5-yl)」提及的環系統是：
術語「咔唑基(carbazolyl)」提及的環系統是：
術語「苯基咔唑(phenylcarbazolyl)」提及的環系統是：
術語「苯基咔唑基苯基(phenylcarbazolylphenyl)」提及的環系統是：
術語「4-(苯基咔唑)苯基(4-(phenylcarbazolyl)phenyl)」提及的環系統是：
術語「二苯胺(diphenylamine)」提及的環系統是：
術語「苯基萘胺(phenylnaphthylamine)」提及的環系統是：
術語「4(苯基萘基胺)苯基(4-(phenylnaphthylamino)phenyl)」提及的環系統是：
術語「4-(二苯基胺基)苯基(4-(diphenylamino)phenyl)」提及的環系統是：
術語「鄰伸苯基(o-phenylene)」表示為：
術語「1,3-間伸苯基(1,3 interphenylene)」提及的環系統是：
術語「1,4-間伸苯基(1,4 interphenylene)」提及的環系統是：
術語「過氟化烷基(perfluoroalkyl)」表示具有用於線性或分鏈結構(branched structure)之化學式CnF2n+1的氟烷基(fluoroalkyl)，其中n是任意的整數，例如1、2、3、4、5、6、7、8、9、或10，例如CF3、C2F5、C3F7、C4F9、C5F11、或C6F13等、或為CnF2n的環狀結構(cyclic structure)，例如環狀C3F6、環狀C4F8、環狀C5F10、或環狀C6F12等。另一方面，在烷基中的每個氫原子是由氟替代。舉例來說，表示為CF3、C2F5、以及C3F7同分異構物之C1-3過氟化烷基，然而意不在侷限於此形式。術語「過氟化烷基(perfluoroalkyl)」表示具有用於線性或分鏈結構之化學式CnF2n+1的氟烷基，例如CF3、C2F5、C3F7、C4F9、C5F11、或C6F13等、或為CnF2n的環狀結構，例如環狀C3F6、環狀C4F8、環狀C5F10、或環狀C6F12等。另一方面，在烷基中的每個氫原子是由氟替代。舉例來說，表示為CF3、C2F5、以及C3F7同分異構物之C1-3過氟化烷基，然而意不在侷限於此形式。
然而就化學式1而言，Ph1是選擇性經取代的鄰伸苯基。假使鄰伸苯基是被取代的，則其可能具有1、2、3、或4個取代基。在鄰伸苯基可包含任何取代基。於部分實施例中，在鄰伸苯基上的部分或全部取代基可能具有：0到15個碳原子與0至10個雜原子，而雜原子係獨立地選自：氧、氮、硫、氟、氯、溴、以及碘；以及/或15 g/mol至500 g/mol的分子量。舉例來說，取代基可能是C1-10烷基，例如CF3、C2F5、C3F7、環狀C3F5、C4F9、環狀C4F7、C5F11、環狀C5F9、C6F13、或環狀C6F11等；C1-10烷氧基；鹵基，例如氟、氯、溴、以及碘；氫氧基(OH)；氰基(CN)；二氧化氮(NO2)；C1-6氟烷基，例如CF3、CF2H、以及C2F5等；C1-10酯基(ester)，例如-O2CCH3、-CO2CH3、-O2CC2H5、-CO2C2H5、-O2C-苯基、以及-CO2-苯基等；C1-10酮(ketone)，例如-COCH3、-COC2H5、-COC3H7、以及-CO-苯基等；或C1-10胺基(amine)，例如NH2、NH(CH3)、N(CH3)2、以及N(CH3)C2H5等。於部分實施例中，鄰伸苯基的任何取代基是C1-3烷基或C1-3過氟化烷基。
然而就化學式1而言，在部分實施例中的Ph1是：
然而就化學式1而言，Ph2是選擇性經取代的鄰伸苯基。假使鄰伸苯基是被取代的，則其可能具有1、2、3、或4個取代基。鄰伸苯基可包含任何取代基。於部分實施例中，在鄰伸苯基上的部分或全部取代基可能具有：0到15個碳原子與0至10個雜原子，而雜原子係獨立地選自：氧、氮、硫、氟、氯、溴、以及碘；以及/或15 g/mol至500 g/mol的分子量。舉例來說，取代基可為C1-10烷基，例如CF3、C2F5、C3F7、環狀C3F5、C4F9、環狀C4F7、C5F11、環狀C5F9、C6F13、或環狀C6F11等；C1-10烷氧基；鹵基，例如氟、氯、溴、以及碘；氫氧基；氰基；二氧化氮；C1-6氟烷基，例如CF3、CF2H、以及C2F5等；C1-10酯基，例如-O2CCH3、-CO2CH3、-O2CC2H5、-CO2C2H5、-O2C-苯基、以及-CO2-苯基等；C1-10酮，例如-COCH3、-COC2H5、-COC3H7、以及-CO-苯基等；或C1-10胺基，例如NH2、NH(CH3)、N(CH3)2、以及N(CH3)C2H5等。於部分實施例中，鄰伸苯基的任何取代基是C1-3烷基或C1-3過氟化烷基。
然而就化學式1而言，在部分實施例中的Ph2是：
部分實施例是包含由化學式2或化學式3所表示的化合物：
然而就化學式1、2、或3而言，HT是選擇性經取代之苯基咔唑、選擇性經取代之(苯基咔唑)苯基((phenylcarbazolyl)phenyl)、選擇性經取代之4(苯基萘基胺)苯基、或選擇性經取代之4-(二苯基氨基)苯基。假使HT是選擇性經取代的苯基咔唑時，其可具有0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、或12個取代基。假使HT是選擇性經取代的(苯基咔唑)苯基時，其可具有0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、或16個取代基。於部分實施例中，HT是選擇性經取代的4-(苯基咔唑)苯基。假使HT是選擇性經取代的4-(苯基苯基萘胺)苯基時，其可具有0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、或16個取代基。假使HT是選擇性經取代的4-(二苯基胺基)苯基時，其可具有0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、或14個取代基。在HT可包含任何取代基。於部分實施例中，在HT上的部分或全部取代基可能具有：0到15個碳原子與0至10個雜原子獨立地選自：氧、氮、硫、氟、氯、溴、以及碘；以及/或15 g/mol至500 g/mol的分子量。舉例來說，取代基可為C1-10烷基，例如CF3、C2F5、C3F7、環狀C3F5、C4F9、環狀C4F7、C5F11、環狀C5F9、C6F13、或環狀C6F11等；C1-10烷氧基；鹵基，例如氟、氯、溴、以及碘；氫氧基；氰基；二氧化氮；C1-6氟烷基，例如CF3、CF2H、以及C2F5等；C1-10酯基，例如-O2CCH3、-CO2CH3、-O2CC2H5、-CO2C2H5、-O2C-苯基、以及-CO2-苯基等；C1-10酮，例如-COCH3、-COC2H5、-COC3H7、以及-CO-苯基等；或C1-10胺基，例如NH2、NH(CH3)、N(CH3)2、以及N(CH3)C2H5等。於部分實施例中，HT具有拉電子取代基(electron withdrawing substituent)，包含可由原環系統(parent ring system)拉回電子密度之任何群組(group)，例如二氧化氮、氰基、C1-6醯基、C1-6烷基羧酸酯、C1-6氟烷基、氟、以及氯等。於部分實施例中，HT的任何取代基是C1-3烷基或C1-3過氟化烷基。
就化學式1、2、或3而言，在部分實施例中的HT是：
就化學式1、2、或3而言，在部分實施例中的HT是：
就化學式1、2、或3而言，在部分實施例中的HT是：
於另一實施例中，HT可為：
就化學式1、或2而言，ET是選擇性經取代之苯並咪唑-2 基、選擇性經取代之苯並咪唑-2 基苯基(benzimidazol-2-yl phenyl)、選擇性經取代之二(苯並咪唑-2-基)苯基、選擇性經取代之苯並噻唑-2-基苯基、選擇性經取代之苯並噁唑-2-基苯基、選擇性經取代之二(苯並噁唑-2-基)苯基、選擇性經取代之3,3'-聯吡啶-5-基(3,3'-bipyridin-5-yl)、選擇性經取代喹啉-8 基、選擇性經取代之喹啉-5 基、或選擇性經取代之喹喔啉-5 基。
就化學式1、或2而言，在ET可包含任何取代基。於部分實施例中，在ET上的部分或全部取代基可能具有：0到15個碳原子與0至10個雜原子，獨立地選自：氧、氮、硫、氟、氯、溴、以及碘；以及/或15 g/mol至500 g/mol的分子量。舉例來說，取代基可能是C1-10烷基，例如CF3、C2F5、C3F7、環狀C3F5、C4F9、環狀C4F7、C5F11、環狀C5F9、C6F13、或環狀C6F11等；C1-10烷氧基；鹵基，例如氟、氯、溴、以及碘；氫氧基；氰基；二氧化氮；C1-6氟烷基，例如CF3、CF2H、以及C2F5等；C1-10酯基，例如-O2CCH3、-CO2CH3、-O2CC2H5、-CO2C2H5、-O2C-苯基、以及-CO2-苯基等；C1-10酮，例如-COCH3、-COC2H5、-COC3H7、以及-CO-苯基等；或C1-10胺基，例如NH2、NH(CH3)、N(CH3)2、以及N(CH3)C2H5等。於部分實施例中，ET具有供電子取代基(electron donating substituents)，包含可供獻電子密度(donate electron density)至原環系統之任何群組，例如C1-6烷基、C1-6烷氧基、以及C1-6胺基等。於部分實施例中，ET的任何取代基是C1-3烷基或C1-3過氟化烷基。
就化學式1或2而言，在部分實施例中的ET是：
就化學式1或2而言，在部分實施例中的ET是：
就化學式1或2而言，在部分實施例中的ET是：
就任何相關結構表示而言，例如官能基A、官能基B、或C，Ph3是伸苯基(phenylene)；Het1是選擇性經取代的1-苯基苯並咪唑-2-基或選擇性經取代的苯並噁唑-2 基；Het2是氫、或是選擇性經取代的1-苯基苯並咪唑-2-基或選擇性經取代的苯並噁唑-2基。
假使Het1是選擇性經取代的1-苯基苯並咪唑-2-基時，其可具有0、1、2、3、4、5、6、7、8、或9個取代基。假使Het1是選擇性經取代的苯並噁唑-2基時，其可具有0、1、2、3、或4個取代基。
在部分實施例中的Het1是：
在部分實施例中的Het1是：
在部分實施例中的Het1是：
假使Het2是選擇性經取代的1-苯基苯並咪唑-2-基時，其可具有0、1、2、3、4、5、6、7、8、或9個取代基。假使Het2是選擇性經取代的苯並噁唑-2基時，其可具有0、1、2、3、或4個取代基。
在部分實施例中的Het2是氫。
在部分實施例中的Het2是：
在部分實施例中的Het2是：
在部分實施例中的Het2是：
就化學式1或2而言，在部分實施例中的ET是：
就化學式1或2而言，在部分實施例中的ET是：
就化學式1或2而言，在部分實施例中的ET是：
就化學式1或2而言，在部分實施例中的ET是：
就化學式1或2而言，在部分實施例中的ET是：
於另一實施例中的ET可為：
就化學式3而言，ET2是選擇性經取代的苯並咪唑-2 基。
就任何相關結構表示而言，例如化學式1、2、3、4、5、6、7、8、或9，R1-60可為氫、或任何取代基，例如具有0到6個碳原子與0至5個雜原子的取代基，其中各雜原子為獨立地：氧、氮、硫、氟、氯、溴、以及碘、以及/或具有15 g/mol至300 g/mol的分子量。任何R1-R60可包含：a)選擇性經取代的或選擇性地連接之一或多個烷基官能基、b)一或多個官能基(functional group)，例如C=C、C≡C、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、CON、NCO2、氫氧基、硫醇(SH)、氧、硫、氮、N=C、氟、氯、溴、碘、氰基、二氧化氮、CO2H、以及NH2等；或可為不具有烷基部分的取代基，例如氟、氯、溴、碘、二氧化氮、氰基、NH2、氫氧基、COH、以及CO2H等。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，部分R1-60的非限制性範例可能各自包含RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、CONRARB等。在部分實施例中，R1-60可能為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基，例如甲基(methyl)、乙基(ethyl)、丙基異構物(propyl isomers)(例如，正丙基(n-propyl)與異丙基(isopropyl))、環丙基(cyclopropyl)、丁基異構物(butyl isomers)、環丁基異構物(cyclobutyl isomers)(例如，環丁基(cyclobutyl)與甲基環丙基(methylcyclopropyl))、戊基異構物(pentyl isomers)、環戊基異構物(cyclopentyl isomers)、已基異構物(hexyl isomers)、以及環己基異構物(cyclohexyl isomers)等；C1-6氨基，例如-NHCH3、-NH(CH3)2、以及-NHCH2CH3等；C1-6烷氧基，例如-鄰-甲基、-鄰-乙基(-O-ethyl)、-鄰-丙基(-O-propyl)的異構物、-鄰-環丙基(-O-cyclopropyl)、-鄰-丁基(-O-butyl)的異構物、-鄰-環丁基(-O-cyclobutyl)的異構物、-鄰-戊基(-O-pentyl)的異構物、-鄰-環戊基(-O-cyclopentyl)的異構物、-鄰-已基(-O-hexyl)的異構物、-鄰-環己基(-O-cyclohexyl)的異構物等；CHO；C2-6-CO-烷基，例如-COCH3、-COC2H5、-COC3H7、COC4H9、-COC5H11等；或CO2H；C2-6-CO2-烷基，例如-CO2CH3、-CO2C2H5、-CO2C3H7、CO2C4H9、以及-COC5H11等。在部分實施例中，R1-60各自可能為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R1-60可為氫。
各RA可為獨立地氫；或包含具有化學式CaHa+1之線性或分鏈烷基、或具有化學式CaHa-1之環烷(cycloalkyl)的C1-12烷基，其中a為0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、或12，例如線性或分鏈烷基的化學式：CH3、C2H5、C3H7、C4H9、C5H11、C6H13、C7H15、C8H17、C9H19、以及C10H21等、或環烷的化學式：C3H5、C4H7、C5H9、C6H11、C7H13、C8H15、C9H17、以及C10H19等。在部分實施例中，RA可能為氫或C1-6烷基。在部分實施例中，RA可能為氫或C1-3烷基。在部分實施例中，RA可能為氫或CH3。在部分實施例中，RA可能為氫。
各RB可獨立地為氫；或包含具有化學式CaHa+1之線性或分鏈烷基、或具有化學式CaHa之環烷的C1-12烷基，其中a為0、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、或12，例如線性或分鏈烷基的化學式：CH3、C2H5、C3H7、C4H9、C5H11、C6H13、C7H15、C8H17、C9H19、以及C10H21等、或環烷的化學式：C3H5、C4H7、C5H9、C6H11、C7H13、C8H15、C9H17、以及C10H19等。在部分實施例中，RA可能為氫或C1-6烷基。在部分實施例中，RB可能為氫或C1-3烷基。在部分實施例中，RB可能為氫或CH3。在部分實施例中，RB可能為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R1是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R1是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可能獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可能各自為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可能為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R2是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R2是氫。此外，詳述在此章節之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R3是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R3是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R4是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R4是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R5是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R5是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R6是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R6是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R7是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R7是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R8是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R8是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、以及R8是氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式2、3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R9是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R9是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式3、4、5、6、或7，在部分實施例中，R10是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R10是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式3、4、5、6、或7，在部分實施例中，R11是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R11是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R12是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R12是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式3、4、5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、以及R12是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、以及R12是氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、或6，在部分實施例中，R13是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R13是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、或6，在部分實施例中，R14是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R14是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、或6，在部分實施例中，R15是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R15是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、或6，在部分實施例中，R16是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R16是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R17是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R17是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R18是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R18是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R19是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R19是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、8、或9，在部分實施例中，R21是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R21是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、8、或9，在部分實施例中，R22是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R22是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、8、或9，在部分實施例中，R23是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R23是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、8、或9，在部分實施例中，R24是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R24是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、或9，在部分實施例中，R25是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R25是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、或9，在部分實施例中，R26是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R26是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、或9，在部分實施例中，R27是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R27是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、或9，在部分實施例中，R28是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R28是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4、6、7、或9，在部分實施例中，R29是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R29是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R30是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R30是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R31是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R31是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R32是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R32是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R33是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R33是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R34是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R34是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R35是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R35是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R36是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R36是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R37是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R37是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R38是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R38是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R39是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R39是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R40是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R40是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式4，在部分實施例中，R41是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R41是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R42是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R42是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R43是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R43是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R44是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R44是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R45是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R45是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R46是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R46是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R47是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R47是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R48是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R48是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R49是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R49是氫。在部分實施例中，R49是甲基(methy)。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式5、6、7、8、或9，在部分實施例中，R50是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R50是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式8、或9，在部分實施例中，R51是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R51是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式8、或9，在部分實施例中，R52是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R52是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式8、或9，在部分實施例中，R53是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R53是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式8、或9，在部分實施例中，R54是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R54是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式8、或9，在部分實施例中，R55是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R55是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式9，在部分實施例中，R56是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R56是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式9，在部分實施例中，R57是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R57是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式9，在部分實施例中，R58是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R58是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式9，在部分實施例中，R59是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R59是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
就任何相關結構表示而言，例如化學式9，在部分實施例中，R60是氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基。在部分實施例中，R60是氫。此外，詳述在此段落之任何實施例中之R1-60之所有剩餘的相關群組可獨立地為RA、氟、氯、氰基、ORA、CF3、二氧化氮、NRARB、CORA、CO2RA、OCORA、NRACORB、或CONRARB；可獨立地為氫；氟；氯；氰基；CF3；氫氧基；NH2；C1-6烷基；C1-6氨基；C1-6烷氧基；CHO；C2-6-CO-烷基；CO2H；或C2-6-CO2-烷基；可獨立地為氫、C1-C3烷基、或C1-3過氟化烷基；或可為氫。
在一實施例中，是描述用於有機發光裝置之發射構件的主發光體化合物，此化合物是由化學式10所表示：
HT-2可以是選擇性經取代的咔唑、選擇性經取代的苯基咔唑、選擇性經取代的(苯基咔唑)苯基、或選擇性經取代的苯基萘胺；以及ET-3可以是選擇性經取代的苯並咪唑-2 基、選擇性經取代的雙(苯並[d]噁唑-2-基)苯並-1-基(bis(benzo[d]oxazol-2-yl)benz-1-yl)、或選擇性經取代的3,5-雙(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)苯並-1-基(3,5-bis(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)benz-1-yl)。
在另一實施例中，HT-2可以是：
在另一實施例中，ET-3可以是：
在一實施例中，是描述用於有機發光裝置之發射構件的主發光體化合物，此化合物是由化學式11所表示：
在另一實施例中，HT-3可以是選擇性經取代的咔唑基(carbazolyl)、選擇性經取代的苯基咔唑、或選擇性經取代的苯基萘基胺基苯(phenylnaphthylaminophenyl)。
在一實施例中，是描述用於有機發光裝置之發射構件的主發光體化合物，此化合物是由化學式12所表示：
在部分實施例中，X可以是：
在其他實施例中，化合物可以是下列主發光體之其中之一：
N-苯基-N-(4'''-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1'：2',1'''-四聯苯]-4-基)萘-1-胺
(N-phenyl-N-(4'''-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"：2",1'''-quaterphenyl]-4-yl)naphthalen-1-amine)(主發光體1)
9-苯基-3-(4"-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-2-基)-9H-咔唑
(9-phenyl-3-(4"-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-2-yl)-9H-carbazole)(主發光體2)
(3-(3",5"-二(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-2-基)-9-苯基-9H-咔唑)
(3-(3",5"-bis(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-2-yl)-9-phenyl-9H-carbazole)(主發光體3)
2,2'-(2"(9-苯基-9H-咔唑-3-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-3,5-二基)二雙(苯並[d]噁唑(2,2'-(2'-
2,2'-(2"-(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-3,5-diyl)bis(benzo[d]oxazole)(主發光體4)
3-(4"-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-2-基)-9-(對甲苯基)-9H-咔唑
(3-(4"-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-2-yl)-9-(p-tolyl)-9H-carbazole)(主發光體5)
9-苯基-3-(4'''-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1'：2',1'''-四聯苯]-4-基)-9H-咔唑
(9-phenyl-3-(4'''-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"：2",1'''-quaterphenyl]-4-yl)-9H-carbazole)(主發光體6)
在另一實施例中，所描述的發射構件是包含上述化合物中的任何一個。
在另一實施例中，所描述的裝置是包含上述化合物中的任何一個。
如第1圖與第2圖所示，其顯示崁入本申請案之化合物之有機發光裝置的實施例。此實施例亦提供有機發光二極體裝置10，有機發光二極體裝置10是包含陰極20、陽極30、設置在陰極與陽極之間且電性連接的有機發光層40、設置在陽極與有機發光層40之間的電洞傳輸層50、以及設置在陰極30與有機發光層40之間的電子傳輸層60，其中發光層、電洞傳輸層、以及電子傳輸層之其中至少一個包含文中所描述的主發光體化合物。在部分實施例中，電洞注入層70可以位在陰極20與電洞傳輸層50之間。
陽極層可包含常見的材料，例如金屬、混合型金屬(mixed metal)、合金、金屬氧化物(metal oxide)、或金屬氧化混合物(mixed-metal oxide)、或導電性聚合物(conductive polymer)。合適的金屬實例包含第1族金屬、第4、5及6族金屬與第8-10族金屬之過度金屬(transition metals)中的金屬。假使陽極層是為光穿透(light-transmitting)時，則可使用第12、13、及14族金屬、或其合金，例如金(Au)、鉑(Pt)、以及氧化銦錫(indium-tin-oxide,ITO)，的金屬氧化混合物。陽極層可能包含有機材料，例如聚苯胺(polyaniline)，其以於「由可溶性導電聚合物製成之可撓性發光二極體(Flexible light-emitting diodes made from soluble conducting polymer)」自然(Nature)，第357卷，第477~479頁(1992年6月11日)中所敘述者為例。合適的高功函數金屬實例包括但不限制於金、鉑、氧化銦錫、或是其合金。在一些實施例中，陽極層可以具有厚度於約1 nm到約1000 nm之範圍內。
陰極層可包含具有相對於陽極層而言較低的功函數的材料。合適用於陰極層的材料實例包括第1族的鹼金屬(alkali metals)、第2族的金屬、包含稀土元素(rare earth element)的第12族、鑭系元素(lanthanides)與錒系元素(actinides)、例如鋁、銦、鈣、鋇、釤(samarium)、以及鎂的材料、以及其組合。含鋰有機金屬化合物、氟化鋰(LiF)、以及一氧化二鋰(Li2O)亦可能沉積在有機層與陰極層之間，用以降低工作電壓(operating voltage)。合適的低功函數金屬包含但不限制於鋁、銀、鎂、鈣、銅、鎂/銀、氟化鋰/鋁、氟化銫、氟化銫/鋁、或它們的合金。在部分實施例中，陰極層可以具有厚度於約1 nm到約1000 nm之範圍內。
在部分實施例中，發光層可能進一步包含發射成分(emissive component)或化合物。發射成分可能是螢光與/或磷光化合物。在部分實施例中，發射成分包含磷光材料。在部分實施例中，發射成分可能包含摻雜物(dopant)。在部分實施例中，摻雜物是佔主發光體高達約10%(w/w)、或主發光體的約0.1%(w/w)到約5%(w/w)之範圍內。
發光層的厚度可改變。在部分實施例中，發光層具有厚度於約20 nm到約200 nm之範圍內。在部分實施例中，發光層具有厚度於約20 nm到約150 nm之範圍內。
在部分實施例中，發光層可進一步包含添加的主發光體材料。而示範性的主發光體材料是為所屬技術領域中具有通常知識者所知悉。舉例來說，包含在發光層的主發光體材料可以是選擇性經取代化合物，選自：經芳香族取代的胺(aromatic-substituted amine)、經芳香族取代的膦(aromatic-substituted phosphine)、噻吩(thiophene)、噁唑(oxadiazole)、2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-惡二唑(2-(4-biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole,PBD)、1,3-二(N,N-叔丁基-苯基)-1,3,4-惡二唑(1,3-bis(N,N-t-butyl-phenyl)-1,3,,4-oxadiazole,OXD-7)、三唑基(triazole)、3-苯基-4-(1’-萘基)-5-苯基-1,2,4-三唑(3-phenyl-4-(1'-naphthyl)-5-phenyl-1,2,4-triazole,TAZ)、3,4,5-三苯基-1,2,3-三唑(3,4,5-triphenyl-1,2,3-triazole)、3,5-雙(4-叔丁基-苯基)-4-苯基[1,2,4]三唑(3,5-bis(4-tert-butyl-phenyl)-4-phenyl[1,2,4]triazole)、芳香鄰二氮菲(aromatic phenanthroline)、2,9-二甲基-4,7-二苯基-菲咯啉(2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-phenanthroline,(浴銅靈(bathocuproine)或BCP)、2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉(2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline)、苯并噁唑(benzoxazole)、苯並噻唑(benzothiazole)、奎林(quinoline)、三(8-羥基喹啉)鋁(aluminum quinolate,Alq3)、砒啶(pyridine)、二氰基咪唑(dicyanoimidazole)、經氰基的芳香族(cyano-substituted aromatic)、1,3,5-三(2-N-苯基苯並咪唑基)苯(1,3,5-tris(2-N-phenylbenzimidazolyl)benzene,TPBI)、4,4'-雙[N-(萘基)-N-苯基胺基]聯苯(4,4'-bis[N-(naphthyl)-N-phenyl-amino]biphenyl,α-NPD)、N,N'-雙(3-甲基苯基)N,N'-二苯基-[1,1'-聯苯]-4,4'-二胺(N,N'-bis(3-methylphenyl)N,N'-diphenyl-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diamine,TPD)、4,4'-雙[N,N'-(3-甲苯基)胺基]-3,3'-二甲基聯苯(4,4'-bis[N,N'-(3-tolyl)amino]-3,3'-dimethylbiphenyl,M14)、4,4'-雙(N,N'-(3-甲苯醯)胺基)-3,3'-二甲基聯苯(4,4'-bis[N,N'-(3-tolyl)amino]-3,3'-dimethylbiphenyl,HMTPD)、1,1-雙(4-雙(4-甲基苯基)氨基苯基)環己烷(1,1-bis(4-bis(4-methylphenyl)aminophenyl)cyclohexane)、咔唑(carbazole)、4,4'-N,N'-二咔唑-聯苯(4,4'-N,N'-dicarbazole-biphenyl,CBP)、聚(9-乙烯基咔唑)(poly(9-vinylcarbazole),PVK)、N,N',N"-1,3,5-三唑苯環(N,N'N"-1,3,5-tricarbazoloylbenzene,tCP)、聚塞吩、聯苯胺(benzidine)、N,N'-雙(4-丁基苯基)-N,N'-雙(苯基)聯苯胺(N,N'-bis(4-butylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine)、三苯胺(triphenylamine)、4,4',4"-三(N-(伸萘基-2-基)-N-苯基氨基)三苯基胺(4,4',4"-tris(N-(naphthylen-2-yl)-N-phenylamino)triphenylamine)、4,4',4"-三(3-甲基苯基苯基胺)三苯胺(4,4',4"-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine,MTDATA)、苯二胺(phenylenediamine)、聚乙炔(polyacetylene)、以及酞青金屬錯合物(phthalocyanine metal complex)。
在部分實施例中，發光裝置可進一步包含在陽極與發光層之間的電洞傳輸層、以及在陰極與發光層之間的電子傳輸層。在部分實施例中，發光層、電洞傳輸層、以及電子傳輸層皆包含文中所描述的主發光體化合物。
在部分實施例中，電洞傳輸層可包含至少一個電洞傳輸材料。合適的電洞傳輸材料是為所屬技術領域中具有通常知識者所知悉。電洞傳輸材料實例包含：1,1-雙(4-雙(4-甲基苯基)氨基苯基)環己烷；2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉；3,5-雙(4-叔丁基-苯基)-4-苯基[1,2,4]三唑；3,4,5-三苯基-1,2,3-三唑；4,4',4"-三(N-(伸萘基-2-基)-N-苯基氨基)三苯基胺；4,4',4"-三(3-甲基苯基苯基胺)三苯胺(4,4',4'-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine,MTDATA)；4,4'-雙[N-(萘基)-N-苯基胺基]聯苯；4,4'-雙(N,N'-(3-甲苯醯)胺基)-3,3'-二甲基聯苯；4,4'-雙[N,N'-(3-甲苯基)胺基]-3,3'-二甲基聯苯；4,4’-N,N’-二咔唑-聯苯；1,3-N,N-二咔唑-苯(1,3-N,N-dicarbazole-benzene,mCP)；聚(9-乙烯基咔唑)；聯苯胺；咔唑；苯二胺；酞青金屬錯合物；聚乙炔；聚塞吩(polythiophene)；三苯胺；噁唑；銅酞菁(copper phthalocyanine)；N,N'-雙(3-甲基苯基)N,N'-二苯基-[1,1'-聯苯]-4,4'-二胺；N,N',N"-1,3,5-三唑苯環；N,N'-雙(4-丁基苯基)-N,N'-雙(苯基)聯苯胺；4,4'-雙[N-(1-萘基)-N-苯基氨基]聯苯(4,4'-bis[N-(1-napthyl)-N-phenylamino]biphenyl,NPB)；以及4,4'4"-三(N-咔唑基)三苯胺(4,4’4”-tri(N-carbazolyl)triphenylamine,TcTa)等。
在部分實施例中，電子傳輸層可能包含至少一個電子傳輸材料。合適的電子傳輸材料是為所屬技術領域中具有通常知識者所知悉。包含在電子傳輸層中之電子傳輸材料實例是選擇性經取代的化合物，選自：三(8-羥基喹啉)鋁、2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-惡二唑、1,3-二(N,N-叔丁基-苯基)-1,3,4-惡二唑、1,3-雙[2-(2,2'-聯吡啶-6-基)-1,3,4-惡二唑-5-基]苯(1,3-bis[2-(2,2'-bipyridine-6-yl)-1,3,4-oxadiazo-5-yl]benzene,BPY-OXD)、3-苯基-4-(1'-萘基)-5-苯基-1,2,4-三唑、2,9-二甲基-4,7-二苯基-菲咯啉、以及1,3,5-三[2-N-苯基吡啶-2-基]苯。在部分實施例中，電子傳輸層是三(8-羥基喹啉)鋁、2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-惡二唑、鄰二氮菲(phenanthroline)、奎喏林(quinoxaline)、1,3,5-三[N-苯基-Z-基]苯(1,3,5-tris[N-phenylbenzimidazol-z-yl]benzene,TPBI)、或其衍生物或組合。
必要時，發光裝置中可能包含所添加的層。而可能被包含之添加的層包含電子注入層(electron injection layer,EIL)、電洞阻擋層(hole blocking layer,HBL)、激子阻擋層(exciton blocking layer,EBL)、與/或電洞注入層(hole injection layer,HIL)。除了分隔的層外，他們部份的材料可能組合在單一的層中。
在部分實施例中，發光裝置可包含在陰極層與發光層之間的電子注入層。在部分實施例中，可以包含在電子注入層之材料的最低未佔用分子軌域(lowest un-occupied molecular orbital，LUMO)能階是足夠高以避免接收來自發光層的電子。在其他實施例中，可包括在電子注入層中的材料的最低未佔用分子軌域與陰極層的功函數之間的能差(energy difference)是足夠小以允許自陰極注入有效的電子。多種合適之電子注入材料是所屬領域中具有通常知識者所知悉。可以包括在電子注入層中之合適的材料包含但不限制於選自以下選擇性經取代之化合物：三(8-羥基喹啉)鋁、2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-惡二唑、鄰二氮菲、奎喏林、1,3,5-三[N-苯基-Z-基]苯、三嗪(triazine)、8-羥基喹啉(8-hydroxyquinoline)的金屬螯物(metal chelate)，例如三(8-羥基喹啉)鋁(tris(8-hydroxyquinoliate)aluminum)、以及金屬類硫咢辛化合物(metal thioxinoid compound)，例如雙(8-喹啉硫醇基)鋅(bis(8-quinolinethiolato)zinc)。在一實施例中，電子注入層是三(8-羥基喹啉)鋁、2-(4-聯苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-惡二唑、鄰二氮菲、奎喏林、1,3,5-三[N-苯基-Z-基]苯、或其衍生物或組合。
在部分實施例中，裝置可包含電洞阻擋層，例如在陰極與發光層之間。多種可包含在電洞阻擋層中之合適的電洞阻擋材料是所屬領域中具有通常知識者所知悉。合適的電洞阻擋材料包含但不限於選自以下選擇性經取代之化合物：浴銅靈(bathocuproine,BCP)、3,4,5-三苯基-1,2,4-三唑(3,4,5-triphenyl-1,2,4-triazole)、3,5-雙(4-叔丁基-苯基)-4-苯基-[1,2,4]三唑(3,5-bis(4-tert-butyl-phenyl)-4-phenyl-[1,2,4]triazole)、2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉、以及1,1-雙(4-雙(4-甲基苯基)胺基苯基)-環己烷(1,1-bis(4-bis(4-methylphenyl)aminophenyl)-cyclohexane)。
在部分實施例中，發光裝置可包含激子阻擋層，例如在發光層與陽極之間。在一實施例中，包含激子阻擋層之材料的能隙足夠大，以實質上防止激子擴散。多種可包含在激子阻擋層中之合適的激子阻擋材料是所屬領域中具有通常知識者所知悉。可構成激子阻擋層之材料的實例包含選自以下選擇性經取代之化合物：三(8-羥基喹啉)鋁、4,4'-雙[N-(萘基)-N-苯基氨基]聯苯、4,4'-N,N'-二咔唑-聯苯、浴銅靈、以及任何具有足夠大之能帶的其他材料，用以實質上防止激子擴散。
在部分實施例中，發光裝置可包含電洞注入層，例如在發光層與陽極之間。多種可包含在電洞注入層中之合適的電洞注入材料是所屬領域中具有通常知識者所知悉。例示性之電洞注入材料包含選自以下選擇性經取代之化合物：聚塞吩衍生物(polythiophene derivative)，例如聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩(poly(3,4-ethylenedioxythiophene，PEDOT)/聚苯乙烯磺酸(polystyrene sulphonic acid，PSS)、聯苯胺衍生物(benzidine derivative)，例如N,N,N',N'-四苯基,聚(N,N'-雙(4-丁基苯基)-N,N'-雙(苯基)聯苯胺)(N,N,N',N'-tetraphenylbenzidine,poly(N,N'-bis(4-butylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine)、三苯胺或苯二胺衍生物(phenylenediamine derivative)，例如N,N'-雙(4-甲基苯基)-N,N'-雙(苯基)-1,4-苯二胺(N,N'-bis(4-methylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)-1,4-phenylenediamine)、4,4’,4”-三(N-(伸萘基-2-基)-N-苯基氨基)三苯基胺、噁唑衍生物(oxadiazole derivative)，例如1,3-雙(5-(4-二苯基氨基)苯基-1,3,4-惡二唑-2-基)苯(1,3-bis(5-(4-diphenylamino)phenyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl)benzene)、聚乙炔衍生物(polyacetylene derivative)，例如聚(1,2-雙-芐硫基乙炔)(poly(1,2-bis-benzylthio-acetylene))、以及酞菁金屬錯合物衍生物(phthalocyanine metal complex derivative)，例如酞菁銅(phthalocyanine copper)。電洞注入材料儘管亦能夠傳輸電洞，但具有的電洞遷移率(hole mobility)可能小於習知電洞傳輸材料之電洞遷移率。
所屬領域中具有通常知識者將認識到，上述各種材料視裝置之配置而定，而可併入若干不同層中。在一實施例中，各層中所使用的材料是經選擇，而導致引起發光層中電洞與電子的再結合(recombination)。
文中所揭露之包含化合物的發光裝置可使用所屬領域中具有通常知識者所知悉的技術而製造，如藉由本文所提供之指導而知悉。舉例來說，可以用可作為陽極之高功函數金屬，例如氧化銦錫，塗佈玻璃基板。圖案化陽極層後，可將包含至少一種本文所揭露之化合物的發光層沉積於陽極上。隨後，可將包括低功函數金屬(例如鎂：銀)之陰極層氣相蒸發於發光層上。必要時，如藉由本文所提供之指導而知悉，裝置亦可包含電子傳輸/注入層、電洞阻擋層、電洞注入層、激子阻擋層、及/或第二發光層，其中第二發光層可使用此項技術中已知之技術添加至裝置。
實例
2-(4-溴苯基)-1-苯基-1H-苯並咪唑(2-(4-bromophenyl)-1-phenyl-1H-benzo[d]imidazole)(化合物1)。「葛Z.；早川T.；安藤S.；上田M.；阿奇耶T.；宮本H.；肯吉塔T.；垣本M.等人。材料化學(Chem.Mater.)期刊，2008年，第20卷(第7期)，第2532~2537頁」所述之化合物1的製備如下：冷卻(約0℃)、攪拌在分批添加4-溴苯甲醯氯(4-bromobenzoyl chloride)(25.00 g，113.9mmol)之無水二氯甲烷(anhydrous dichloromethane,CH2Cl2)(575毫升)中的N-苯基-鄰亞苯基-1,2-二胺(N-phenyl-o-phenylene-1,2-diamine)(21.41 g，116.2 mmol)、隨後藉由滴入式方式(dropwise)添加三乙基胺(triethylamine,Et3N)(31.8mL)。此反應允許加熱至室溫，並持續攪拌直到薄層層析法(thin layer chromatography,TLC)(二氧化矽，4：1己烷-乙酸乙酯(hexanes-ethyl acetate))表示起始材料(starting material)耗盡。反應完成後以水與鹽水洗滌、以硫酸鎂(MgSO4)乾燥、過濾、以及在真空中濃縮。隨後在無水1,4-二惡烷(anhydrous 1,4-Dioxane)(500mL)中加熱至約80℃，以分解所得的粗提物(crude)。完完全全分解後，氧氯化磷(phosphorus oxychloride)(31.2mL,335 mmol)經由注射器(syringe)緩慢地添加至溶液中，然後反應維持在約115℃。完成後(約1小時)，將溶液冷卻至室溫(room temperature,RT))，並加入無水二氯甲烷(約3L)，且以鹽水洗滌。隨後有機物(organics)以硫酸鎂(MgSO4)乾燥、過濾、以及在真空中濃縮。粗提產物的純化是藉由於無水二氯甲烷與己烷(hexane)的再結晶而提供如灰白色固體的化合物1(37.5g,94%)：由液相層析質譜(Liquid Chromatograph Mass Spectrometer,LCMS)(大氣壓力化學游離法(atmospheric pressure chemical ionization,APCI))確認：計算出C19H13BrN2(M+)：349；而得：349。
1-苯基-2-(4-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊環-2-基)苯基)-1H-苯並[d]咪唑(1-phenyl-2-(4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)phenyl)-1H-benzo[d]imidazole)(化合物2)。如下是由「葛Z.；早川T.；安藤S.；上田M.；阿奇耶T.；宮本H.；肯吉塔T.；垣本M.等人。材料化學(Chem.Mater.)期刊，2008年，第20卷(第7期)，第2532~2537頁)」所修改的步驟是：化合物1(36.00 g,103.1 mmol)、雙(頻哪醇)二硼(bis(pinacolato)diboron)(28.80 g,113.4 mmol)、[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯化鈀(II)([1,1’-bis(diphenylphosphino)-ferrocene]dichloropalladium(II))(3.771 g,5.154 mmol)、醋酸鉀(potassium acetate)(30.35 g,309.3 mmol)、以及1,4-二惡烷(1,4-dioxane)(480 mL)的混合物是在以氬氣(argon)除氣的同時於約40℃下攪拌1小時。隨後反應混合物(reaction mixture)在氬氣下維持約80℃，並同時予以攪拌。一旦藉由薄層層析法(二氧化矽，9：1己烷-乙酸乙酯)確認起始材料(starting material)消耗量後，將反應冷卻到室溫，並且加入乙酸乙酯(ethyl acetate,EtOAc)(約1.6L)。隨後藉由短矽膠塞(約1/2 inch)過濾混合物，並以乙酸乙酯(約200 mL)徹底地洗滌過濾物。接著結合的有機物以飽和碳酸氫鈉(sat.NaHCO3)、水、以及鹽水洗滌，以硫酸鎂(MgSO4)乾燥，過濾，並在真空中濃縮。粗提產物是經由快速管柱層析法(flash chromatography)(二氧化矽，4：1至1：1-己烷：乙酸乙酯)的純化而提供如灰白色固體的化合物2(36.8g,90%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C25H26BN2O2(M+H+)：397；而得：397。
2-(2-溴-[1,1'：2',1"-三聯苯]-4-基)-1-苯基-1H-苯並[d]咪唑(2-(2"-bromo-[1,1'：2',1"-terphenyl]-4-yl)-1-phenyl-1H-benzo[d]imidazole)(化合物3)。化合物2(3.00 g,7.57 mmol)、2,2'-二溴-1,1'-聯苯(2,2'-dibromo-1,1'-biphenyl)(4.72 g,15.1 mmol)、四(五氟苯基)(三苯膦)合鈀(0)(tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0))(0.350 g,0.303 mmol)、碳酸鈉(Na2CO3)(3.18 g,30.0 mmol)、水(H2O)(30 mL)、以及四氫夫喃(tetrahydrofuran,THF)(50 mL)的混合物是在以氬氣除氣的同時攪拌44分鐘。隨後反應混合物在氬氣下維持約80℃，並同時予以攪拌。一旦藉由薄層層析法(二氧化矽，19：1-二氯甲烷：丙酮(acetone))確認起始材料(starting material)的消耗量後，將反應冷卻到室溫，並且加入無水二氯甲烷(約250mL)加入反應中。接著有機物以水與鹽水洗滌，以硫酸鎂(MgSO4)乾燥，過濾，並在真空中濃縮。粗提產物是經由快速管柱層析法(二氧化矽，100%二氯甲烷至39：1二氯甲烷：丙酮)的純化而產生如灰白色固體的化合物3(2.34g,62%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C31H21BrN2(M+)：501；而得：501。
N-(4-溴苯基)-N-苯基萘-1-胺(N-(4-bromophenyl)-N-phenylnaphthalen-1-amine)(化合物4)。「旭H.；殷K.；黃W.等人。歐洲化學期刊(Chem.Eur.J.)2007年，第13卷(第36期)，第10281至10293頁」所述之化合物4的製備如下：N-苯基萘-1-胺(N-phenylnaphthalen-1-amine)(2.767 g,12.62 mmol)、1-溴-4-碘苯(1-bromo-4-iodobenzene)(7.140 g,25.24 mmol)、三(二亞芐基丙酮)二鈀(0)(tris(dibenzylideneacetone)dipalladium(0))(0.578 g,0.631 mmol)、三-叔丁基膦(tri-tert-butylphosphine)(在己烷(hexanes)中10 wt.%)(5.83 mL,1.89 mmol)、叔丁醇鈉(sodium tert-butoxide,NaOtBu)(3.032 g,31.55 mmol)、以及無水甲苯(anhydrous toluene)(80 mL)的混合物是在以氬氣除氣的同時攪拌40分鐘。隨後反應混合物在氬氣下維持約85℃，並同時予以攪拌。一旦藉由薄層層析法(二氧化矽，100%己烷)確認起始材料的消耗量後，將反應冷卻到室溫，並且加入乙酸乙酯(約300mL)。接著有機物以飽和碳酸氫鈉、水(2X)、以及鹽水洗滌，以硫酸鎂乾燥，過濾，並在真空中濃縮。粗提產物是經由快速管柱層析法(二氧化矽，8：1-己烷：二氯甲烷)的純化而提供如灰白色固體的化合物4(2.93g,62%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C22H16BrN(M+)：374；而得：374。
N-苯基-N-(4-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊環-2-基)苯基)萘-1-基胺(N-phenyl-N-(4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)phenyl)naphthalen-1-amine)(化合物5)。「申D.；皮克W.；喬伊B.；昆O.；金M.、珊Y.；韓E.；宋J.等人。美國專利公告(U.S.Pat.Appl.Publ.)，公告號：20070276160，日期：2007年11月29日」所述之化合物5的製備如下：化合物4(2.54 g,6.79 mmol)、雙(頻哪醇)二硼(3.62 g,14.3 mmol)、[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯化鈀(II)(0.298 g,0.407 mmol)、醋酸鉀(2.00 g,20.4 mmol)、以及無水甲苯(50 mL)的混合物是在以氬氣除氣的同時攪拌28分鐘。隨後反應混合物在氬氣下維持約100℃，並同時予以攪拌。一旦藉由薄層層析法(二氧化矽，4：1己烷-二氯甲烷)確認起始材料的消耗量後，將反應冷卻到室溫，並且加入乙酸乙酯(約200mL)。接著有機物以飽和碳酸氫鈉、水、以及鹽水洗滌，以硫酸鎂乾燥，過濾，並在真空中濃縮。粗提產物是經由快速管柱層析法(二氧化矽，2：1至3：2-己烷：二氯甲烷至100%二氯甲烷)的純化而產生如灰白色固體的化合物5(2.78g,97%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C28H29BNO2(M+H+)：422；而得：422。
N-苯基-N-(4'''-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1"：2,1'''-四聯苯]-4-基)萘-1-胺(N-phenyl-N-(4'''-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"：2",1'''-quaterphenyl]-4-yl)naphthalen-1-amine)(主發光體1)。化合物5(0.588 g,1.40 mmol)、化合物3(0.700 g,1.40 mmol)、四(五氟苯基)(三苯基膦)鈀(0)(tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0))(64.5 mg,55.8 μmol)、碳酸鈉(0.530 g,5.00 mmol)、水(5 mL)、以及1,4-二惡烷(25 mL)的混合物是在以氬氣除氣的同時攪拌18分鐘。隨後反應混合物在氬氣下維持約110℃，並同時予以攪拌。一旦藉由薄層層析法(二氧化矽，4：1己烷-二氯甲烷)確認起始材料的消耗量後，將反應冷卻到室溫，並且加入二氯甲烷(約300mL)。接著有機物以水與鹽水洗滌，以硫酸鎂乾燥，過濾，並在真空中濃縮。粗提產物是經由快速管柱層析法(二氧化矽，17：3-己烷：丙酮)的純化，並由甲醇(CH3OH)再結晶(recrystallization)而提供如灰白色固體的主發光體1(0.97g,85%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C53H37N3(M+)：716；而得：716。
9-苯基-3-(4”-(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1’：2’,1”-三聯苯]-2-基)-9H-咔唑(9-phenyl-3-(4”-(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1’：2’,1”-terphenyl]-2-yl)-9H-carbazole)(主發光體2)。(9-苯基-9H-咔唑-3-基)硼酸((9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)boronic acid)(0.458 g,1.60 mmol)、化合物3(0.800 g,1.60 mmol)、四(三苯基膦)鈀(0)(73.7 mg,63.8 μmol)、碳酸鈉(0.530 g,5.00 mmol)、水(5 mL)、以及1,4-二惡烷(25 mL)是採用主發光體1的步驟，經由快速管柱層析法(二氧化矽，17：3-己烷：丙酮)與由甲醇的再結晶後而提供如灰白色固體的主發光體2(0.78 g,74%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C49H33N3(M+)：664；而得：664。
5-溴-N1,N3-二(2-(苯基氨基)苯基)間苯二甲醯胺(5-Bromo-N1,N3-bis(2-(phenylamino)phenyl)isophthalamide)(化合物6)。在具有0.2 mL二甲基甲醯胺(dimethylformamide,DMF)之亞硫醯氯(thionyl chloride)(60 mL)中5-溴-1,3-酸(5-bromoisophthalic acid)(15.0 g,61.2 mmol)的混合物是整夜在氬氣下加熱以致迴流(reflux)。於減壓下移除過量的亞硫醯氯後，剩餘的液體是溶解在無水二氯甲烷(200 mL)中。向此溶液添加N-苯基鄰苯二胺(N-phenyl-o-phenyldiamine)(22.5 g,122 mmol)，隨後緩慢添加三乙基胺(22.2 mL,159 mmol)，並以冰浴冷卻(ice-bath cooling)。此混合物允許整夜加熱至室溫。而後，所得的懸浮物(suspension)是以二氯甲烷(200 mL)稀釋、過濾、並以二氯甲烷洗滌過濾物(filtrant)而提供如灰白色固體的化合物6(30.3 g,86%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C32H25BrN4O2(M+)：577；而得：577。
2,2'-(5-溴-1,3-亞苯基)雙(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑)(2,2'-(5-bromo-1,3-phenylene)bis(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazole))(化合物7)：加至無水1,4-二惡烷(300 mL)中之化合物6(30 g,52 mmol)的懸浮物，POCl3(30.6 g,18.6 mL,200 mmol)是以水浴冷卻(water bath cooling)而緩慢添加。而後，所得的混合物是維持在100℃。在冷卻至室溫後，混合物是注入冰(約300g)中，並以碳酸鈉中和(neutralized with)，隨後以二氯甲烷(2 x 300 mL)萃取出(extraction)。接著有機相(organic phase)是以鹽水洗滌、以硫酸鈉(Na2SO4)乾燥、並在真空中濃縮。向此混合物添加乙腈(300 mL)並攪拌，而後過濾。固體是在二氯甲烷/己烷中收集與再結晶，用以提供白色固體(18.9 g)。過濾物是經由快速管柱層析法(二氧化矽，100%己烷：二氯甲烷/乙酸乙酯為9：1至4：1)純化。收集與集中白色固體(5.17 g)之主要的部份，用以給予添加的產物。總量為24.1 g(86%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C32H21BrN4(M+)：541；而得：541。
2,2'-(5-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊環-2-基)-1,3-亞苯基)雙(1-苯基-1H-苯並[d]咪唑)(2,2'-(5-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-1,3-phenylene)bis(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazole))(化合物8)。在無水1,4-二惡烷中之化合物7(10.0 g,18.5 mmol)、雙(頻哪醇)二硼(5.0 g,20 mmol)、PdCl2(dppf)(0.50 g,0.68 mmol)、以及醋酸鉀(10.0 g,102 mmol)的混合物是在以氬氣除氣的同時於約80℃下攪拌30小時。接著，混合物加入乙酸乙酯中(300 mL)，而有機物是以鹽水洗滌，以硫酸鈉乾燥，以及在真空中濃縮。粗提產物是經由快速管柱層析法(二氧化矽，7：3-己烷：二氯甲烷)的純化而提供如淺黃色固體的化合物8(6.58 g,60%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C38H34BN4O2(M+H+)：589；而得：589。
3-(2'-溴-[1,1'-聯苯]-2-基)-9-苯基-9H-咔唑(3-(2'-bromo-[1,1'-biphenyl]-2-yl)-9-phenyl-9H-carbazole)(化合物9)。9-苯基-9H-咔唑-3-基)硼酸(1.84 g,6.41 mmol)、2,2'-二溴-1,1'-聯苯(4.00 g,12.8 mmol)、四(三苯基膦)鈀(0)(0.296 g,0.257 mmol)、碳酸鈉(2.54 g,24.0 mmol)、水(24 mL)、以及四氫夫喃(40 mL)是採用化合物3的步驟，經由快速管柱層析法(二氧化矽，19：1-己烷：二氯甲烷)後，產生如無色固體的化合物9(1.69 g,56%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C30H20NBr(M+)：474；而得：474。
3-(3",5"-二(1-笨基-1H-苯並[d]咪唑-2-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-2-基)-9-苯基-9H-咔唑(3-(3",5"-bis(1-phenyl-1H-benzo[d]imidazol-2-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-2-yl)-9-phenyl-9H-carbazole)(主發光體3)。化合物8(0.992 g,1.69 mmol)、化合物9(0.800 g,1.69 mmol)、四(五氟苯基)(三苯基膦)鈀(0)(77.9 mg,67.5 μmol)、碳酸鈉(0.530 g,5.00 mmol)、水(5 mL)、以及1,4-二惡烷(25 mL)是採用主發光體1的步驟，經由快速管柱層析法(二氧化矽，100%二氯甲烷至19：1-二氯甲烷：丙酮)後，產生如灰白色固體的主發光體3(1.15 g,79%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C62H41N5(M+)：856；而得：856。
5-溴-N1,N3-雙(2-溴苯基)間苯二甲醯胺(5-bromo-N1,N3-bis(2-bromophenyl)isophthalamide)(化合物9)。在亞硫醯氯(40 mL,551 mmol)中之5-溴間苯二甲酸(10.0 g,40.8 mmol)與cat.DMF(5滴)的混合物是整夜在氬氣下加熱以致迴流。於真空下移除過量的亞硫醯氯後，中間粗提物(crude intermediate)是溶解在無水二氯甲烷(200 mL)中。向此冷凍的溶液添加2-溴苯胺(2-bromoaniline)(14.0 g,81.6 mmol)，隨後藉由滴加(dropwise)方式添加三乙基胺(15 mL)。接著將所得的混合物攪拌一整夜，並允許加熱至室溫。而後，過濾所得的懸浮物，且以二氯甲烷洗滌過濾物，是以提供如灰白色固體的粗提物化合物10(20.3 g,90%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C20H13Br3N2O2(M+)：553；而得：553。
2,2'-(5-溴-1,3-亞苯基)雙(苯並[d]噁唑)(2,2'-(5-bromo-1,3-phenylene)bis(benzo[d]oxazole))(化合物11)。化合物10(20.3 g,36.7 mmol)、碘化銅(CuI)(0.700 g,3.67 mmol)、碳酸銫(Cs2CO3)(23.9 g,73.5 mmol)、1,10-菲羅啉(1,10-phenanthroline)(1.32 g,7.35 mmol)、以及1,4-二惡烷(300 mL)的混合物是以氬氣除氣，而後整夜維持約120℃。一旦藉由薄層層析法(二氧化矽，4：1己烷-乙酸乙酯)確認起始材料消耗量後，將反應冷卻至室溫，並以乙酸乙酯(約300 mL)與水(約400 mL)稀釋。而後，過濾所得的懸浮物，並以水與甲醇徹底地洗滌過濾物而提供如灰白色固體的化合物11(12.7 g,88%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C20H11BrN2O2(M+)：391；而得：391。
2,2'-(5-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊環-2-基)-1,3-亞苯基)雙(苯並[d]噁唑)(2,2'-(5-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-1,3-phenylene)bis(benzo[d]oxazole))(化合物12)。化合物11(10.0 g,25.6 mmol)、雙(頻哪醇)二硼(7.14 g,28.1 mmol)、[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯化鈀(II)(0.935 g,1.28 mmol)、醋酸鉀(7.53 g,76.7 mmol)、以及1,4-二惡烷(125 mL)的混合物是以氬氣除氣，隨後在氬氣下維持約80℃，並同時予以攪拌。一旦藉由薄層層析法(二氧化矽，4：1己烷-乙酸乙酯)確認起始材料消耗量後，將反應冷卻至室溫，並加入乙酸乙酯與鹽水。而後，過濾所得的懸浮物，並以水徹底地洗滌過濾物而提供如灰色固體的化合物12(10.2 g,91%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C26H24BN2O4(M+H+)：439；而得：439。
(2,2'-(2"-(9-苯基-9H-咔唑-3-基)-[1,1'：2',1"-三聯苯]-3,5-二基)二雙(苯並[d]噁唑)(2,2’-(2’-2,2'-(2"-(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)-[1,1'：2',1"-terphenyl]-3,5-diyl)bis(benzo[d]oxazole)(主發光體4)。化合物9(0.800 g,1.69 mmol)、化合物12(0.739 g,1.69 mmol)、四(五氟苯基)(三苯基膦)鈀(0)(77.9 mg,67.5 μmol)、碳酸鈉(0.530 g,5.00 mmol)、水(5 mL)、以及1,4-二惡烷(25 mL)是採用主發光體1的步驟，經由快速管柱層析法(二氧化矽，1：1至3：1至9：1-二氯甲烷：己烷)後而提供如灰白色固體的主發光體4(0.89 g,75%)：由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C50H32N3O2(M+H+)：707；而得：707。
3-溴-9-(對甲苯基)-9氫-咔唑(3-bromo-9-(p-tolyl)-9H-carbazole)(化合物13)：在二氯甲烷(dichloromethane,DCM)(30 mL)中之9-對甲苯基-9H-咔唑(9-p-tolyl-9H-carbazole)溶液是在約0℃下添加N-溴代丁二醯亞胺(N-bromosuccinimide,NBS)。而整體溶液是於0℃至室溫的溫度範圍下攪拌一整夜。所得的溶液是經由快速管柱層析法(矽膠，8：1-己烷至己烷/二氯甲烷)純化。在溶劑移除後，即獲得白色固體(化合物13)(1.0 g，93%的產率)。
3-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊環-2-基)-9-(對甲苯基)-9H-咔唑(3-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-9-(p-tolyl)-9H-carbazole)(化合物14)：在二惡烷(dioxane)(20 mL)中之3-溴-9-(對甲苯基)-9氫-咔唑(化合物13)(1.0 g,3 mmol)、雙(頻哪醇)二硼(0.838 g,3.3 mmol)、醋酸鉀(0.588 g,6 mmol)、以及鈀(1,1’-雙(二苯膦基)二茂鐵)氯(Pd(dppf)Cl2)(0.11 g,0.15 mmol)的混合物是除氣，並加熱至95℃約5小時。所得的混合物是加入乙酸乙酯(200 mL)中，以鹽水洗滌，以硫酸鈉乾燥，填裝至矽膠上，以及經由快速管柱層析法(矽膠，己烷/二氯甲烷9：1至4：1至3：1)純化。在溶劑移除後，收集所需之部分，即獲得白色固體(化合物14)(0.60 g，52%的產率)。
主發光體5：在二惡烷/水(50 mL/10 mL)中之3-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊環-2-基)-9-(對甲苯基)-9H-咔唑)(化合物14)(0.60 g,1.57 mmol)、2-溴-[1,1'：2',1"-三聯苯]-4-基)-1-苯基-1H-笨並[d]咪唑(化合物3)(0.78 g,1.57 mmol)、Pd(PPh3)4(0.092 g,0.08 mmol)、以及碳酸銫(0.977 g,3 mmol)的混合物是整夜除氣及加熱至約100℃。反應混合物加至乙酸乙酯(200 mL)中，以鹽水洗滌，以硫酸鈉乾燥，填裝至矽膠上，以及經由快速管柱層析法(己烷/二氯甲烷4：1至二氯甲烷至二氯甲烷/乙酸乙酯50：1)純化。收集在二氯甲烷/甲醇中濃縮與再結晶之所需的部分，是以得到白色固體(主發光體5)(0.85 g，80%的產率)。由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C50H36N3(M+H)：678；而得：678。
3-(4-溴苯基)-9-苯基-9H-咔唑(3-(4-bromophenyl)-9-phenyl-9H-carbazole)(化合物15)：在二惡烷/水(80 mL/15 mL)中之9-苯基-3-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊環-2-基)-9H-咔唑(9-phenyl-3-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-9H-carb azole)(化合物14)(5.0 g,13.5 mmol)、4-溴碘苯(4-bromoiodobenzene)(10.76 g,38 mmol)、Pd(PPh3)4(0.5 g,0.43 mmol)、以及碳酸鉀(potassium carbonate,K2CO3)(5.52 g,40 mmol)的混合物是整夜除氣及加熱至約100℃，隨後與乙酸乙酯(enthyl acetate)/鹽水作用。收集有機相，以硫酸鈉乾燥，以及經由快速管柱層析法(己烷至己烷/乙酸乙酯90：1)純化。收集及濃縮主要的部分，並過濾沉澱物，以得到白色固體(化合物15)(2.35 g，44%的產率)。由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C24H17BrN(M+H)：398；而得：398。
9-苯基-3-(4-(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼戊環-2-基)苯基)-9H-咔唑(9-phenyl-3-(4-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)phenyl)-9H-carbazole)(化合物16)：在二惡烷(100 mL)中之化合物19(2.33 g,5.85 mmol)、雙(頻哪醇)二硼烷(bis(pinacolate)diborane)(1.524 g,6 mmol)、鈀(1,1’-雙(二苯膦基)二茂鐵)氯(0.22 g,0.3 mmol)、以及碳酸鉀(3.0 g,30 mmol)的混合物是整夜除氣及加熱至約80°C。隨後混合物是與乙酸乙酯/鹽水作用，而後收集有機相，以硫酸鈉乾燥，以及經由快速管柱層析法(己烷至己烷/乙酸乙酯90：1至40：1至30：1)純化。在溶劑移除後，收集主要的部分，即獲得白色固體(化合物20)(2.35 g，44%的產率)。由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C30H29BNO2(M+H)：446；而得：446。
主發光體6：在二惡烷/水(50 mL/10 mL)中之化合物20(0.70 g,1.57 mmol)、2-(2"-溴-[1,1'：2',1"-三聯苯]-4-基)-1-苯基-1H-苯並[d]咪唑(化合物3)(0.787 g,1.57 mmol)、Pd(PPh3)4(0.115 g,0.1 mmmol)、以及碳酸銫(0.977 g,3 mmol)的混合物是整夜除氣及加熱至約100℃。隨後混合物是以乙酸乙酯稀釋，以鹽水洗滌，以硫酸鈉乾燥、填裝至矽膠上、以及經由快速管柱層析法(己烷/二氯甲烷4：1至二氯甲烷至二氯甲烷/乙酸乙酯100：1)純化。在溶劑移除後，於二氯甲烷/甲醇中再結晶，以提供白色固體(主發光體6)(0.72 g，62%的產率)。由液相層析質譜(大氣壓力化學游離法)確認：計算出C55H38N3(M+H)：740；而得：740。
有機薄膜的載子遷移率是基於莫特氏穩態(Mott’s steady state)空間電荷限制電流(space charge limited current,SCLC)模型在電流-電壓(IV)量測中之空間電荷限制電流得到：
為評估有機層之電子及電洞遷移率，而製造單載子裝置(single-carrier devices)(單電子(electron-only)及單電洞(hole-only)裝置)。單電子裝置可具有以鋁作為陽極及氟化鋰/鋁作為陰極的鋁/有機層/氟化鋰/鋁結構。氟化鋰/鋁電極具有可促進電子注入有機層之較低位置(lying)之最低未佔分子軌道(LUMO)中之低功函數(約2.6電子伏特)。相反的是，鋁之功函數(4.28 eV)相對低於所研究有機層之最高佔據分子軌道(HOMO)(5 eV至6 eV)，從而防止電洞自陽極注入。因此，僅電子注入有機層中，且電子遷移率可量測為有機層中之唯一電荷載子。
單電洞裝置可具有以氧化銦錫作為陽極及鋁作為陰極的氧化銦錫/聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩)/有機層/鋁。聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩)的高功函數(5.2 eV至5.4 eV)促使電洞自陽極注入至有機層中。相反的是，鋁的功函數(4.28 eV)高於有機層的最低未佔分子軌道(2電子伏特至4電子伏特)，因而防止電子自陰極注入。因此，僅電洞注入有機層中，且所測得的電洞遷移率可作為有機層中之唯一電荷載子。
單電子裝置的製造：首先將鋁層以0.3 nm/s的沉積速率沉積於玻璃基板(110 nm)上，其中基板具有以丙酮及2-丙醇(2-propanol)連續地在超音波處理下清潔，隨後在110℃下烘烤約3小時，接續以氧氣電漿處理約30分鐘。而後在手套箱(glove-box)下10-7托之壓力的真空沉積系統(vacuum deposition system)操作，主發光體2以0.1 nm/s的沉積速率沉積在鋁層的頂部上，而得到約100nm的厚度。接著，氟化鋰(1nm)與鋁(100nm)是分別以0.015 nm/s與0.3 nm/s的沉積速率沉積。
單電洞裝置的製造：氧化銦錫塗佈的玻璃基板(110nm)是以丙酮及2-丙醇連續地在超音波處理下清潔，隨後在110℃下烘烤約3小時，接續以氧氣電漿處理約30分鐘。聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩)：聚苯乙烯磺酸(由H.C.斯塔克購買的HIL 1.1)層是以4000 rpm旋轉塗佈在已預先清潔與氧氣電漿處理的氧化銦錫基板上，並於約80℃下退火(annealed)約10分鐘，而得到約30nm的厚度。而後在手套箱下10-7托之壓力的真空沉積系統操作，首先主發光體2以0.1 nm/s的沉積速率沉積在聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩)：聚苯乙烯磺酸層的頂部上，而得到約100nm的厚度。接著，鋁是以0.3 nm/s的沉積速率沉積。各別的裝置各具有約0.08 cm2的區域。
光致發光(Photoluminescence,PL)光譜是記錄在最大螢光第3型(FluoroMax-3)螢光光譜儀(fluorescence spectrophotometer)(堀場舊賓伊凡(Horiba Jobin Yvon)公司，愛迪生，新澤西州，美國)上。先準備2-甲基四氫呋喃(2-Methyltetrahydrofuran,2-MeTHF)(奧爾德里奇公司，光譜等級)，準備2M(2-甲基四氫呋喃2 mg的樣品/1 mL)並在測量前先轉移至石英管(quartz tube)中。接著，樣品是以77K的液態氮冷凍。記錄磷光發射光譜(phosphorescent emission spectrum)，且確認最大能量的震動帶(vibronic band)，用以計算三重(T1)態能階。
使用μ自動實驗室恆電位計(μ Auto-labII potentiostat)(生態化學[萬通歐特萊B.V.(Metrohm Autolab B.V.)公司，烏得勒支，荷蘭])執行伏安循環法(Cyclic voltammetry,CV)實驗。所有的量測是以常用的三電極結構(three-electrode configuration)於室溫下執行，例如玻璃石墨(glassy carbon)工作電極、白金輔助電極(platinum auxiliary electrode)、以及非水性銀/氯化銀(nonaqueous Ag/AgCl)參考電極。由0.1M四丁基六氟磷酸銨(tetrabutylammonium hexafluorophosphate)的15 mL 10-4 M HT-1中，nBu4PF6 DMF樣品溶液在量測前是於室溫下所準備，並在氬氣下淨化此溶液5分鐘。接著，陽極的電位上升至1.6V(足以維持HT-1之氧化電位(oxidation potential)的電位)。1.5V的電位是施加至此測試樣品，而引起測試樣品的氧化電位(參考附圖)。掃描速率(Scan rate)是使用100 mV/s。隨後，約1.0 mg的二茂鐵(ferrocene)/鐵茂鎓(ferrocenium)是在各量測的最後添加至測試樣品中，用以校準(calibration)與再次量測氧化電位。由這些氧化電位光譜確認E1/2值為(Ep a+Ep c)，其中Ep a與Ep c各是陽極與陰極峰值的電位(peak potentials)。最高佔據分子軌道(Highest occupied molecular orbital,HOMO)能量的計算是藉由添加用為參照之二茂鐵(4.8 eV)而測定偏移的E1/2值。
10mL 10-6 M的分析物，例如主發光體1、三氯甲烷(chloroform,CHCl3)溶液，是由凱瑞50分光光度計(瓦里安公司[安捷倫科技，聖克拉拉，CA，美國])所分析。分析作為波長圖(wavelength plot)之函數的吸收率(absorption)，而提供所觀察到的光學開端(eV)，提供所估計的光學能隙Eg(Opt)。最低未佔用分子軌域能量的值是由Eg(Opt)=HOMO-LUMO的關係所測定。
隨後，上述實施例中之主發光體2、主發光體3、以及主發光體4的值是以相似的方式測定。於下表1中報告結果。
如第1圖所述之裝置的製作如下。具有約14 ohm/sq之片電阻的氧化銦錫基板是以超音波及依序地以去汙劑(detergent)、水、丙酮、以及IPA清潔；而後在大氣環境中(ambient environment)以約80℃下乾燥約30分鐘。隨後基板在大氣環境中以約200℃下烘烤約1小時，接著以紫外光臭氧(UV-ozone)處理約30分鐘。而後，聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩)：聚苯乙烯磺酸(電洞注入材料)以約4000 rpm於約30分鐘旋轉塗佈在退火的基板上。接著，塗佈層在大氣環境中以約100℃下烘烤約30分鐘，隨後在手套箱中以約200℃下烘烤約30分鐘(氮氣環境)。而後，基板轉而進入真空腔內，且N,N'-二(萘-1-基)-N,N'-雙(苯基)-2,2'-二甲基聯苯胺(N,N'-bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)-2,2'-dimethylbenzidine,a-NPD(電洞傳輸材料))在約2x10-7托之基本壓力下(base pressur)以約0.1 nm/s的速率真空沉澱在基板上。YE-01(10 wt%)與主發光體材料1是分別以約0.01 nm/s與約0.10 nm/s共同沉積(co-deposited)，以作為發光層，用以製作合適的厚度比例(約30 nm)。隨後，1,3,5-三(1-苯基-1H-苯並咪唑)-2-基)苯(1,3,5-tris(1-phenyl-1H-benzimidazol-)2-yl)benzene,TPBI)是以約0.1 nm/s的速率沉積在發射層上，而得到約30 nm的層厚。氟化鋰(電子注入材料)層是以約0.002 nm/s的速率沉積，隨後為鋁的陰極是以約0.3 nm/s的速率沉積。代表性的裝置結構是：氧化銦錫(約150nm厚)/聚(3,4-伸乙基二氧基噻吩)：聚苯乙烯磺酸(約30nm厚)/4,4'-雙[N-(1-萘基)-N-苯基氨基]聯苯(NPB，約30 nm厚)/主發光體1：YE-01(約30 nm厚)/TPBI(約30 nm厚)/氟化鋰(約1.0nm厚)/鋁(約100 nm厚)。接著，以吸氣劑(getter)附著的玻璃蓋密封裝置，是以覆蓋有機發光二極體(OLED)的發射區域，以便免於水分、氧化、或機械的損害。
裝置B(第2圖)是與裝置A的構造相似，其中除了沉積4,4'4"-三(N-咔唑基)三苯胺(TcTA)取代4,4'-雙[N-(1-萘基)-N-苯基氨基]聯苯(NPB)與三(1-苯基吡啶)(乙醯丙酮根)合銥(III)(tris(1-phenylpyridine)(acetylacetonate)iridium(III),「Ir(ppy)3」)是與主發光體材料2分別以約0.01 nm/s與約0.10 nm/s之共同沉積，以作為發光層，以製作合適的厚度比例(約30nm)。
各別的裝置各具有約0.16 cm2的面積。
裝置B的裝置性能是藉由量測作為驅動電壓之函數的電流密度與亮度而評估，如第3圖所顯示。裝置的開啟電壓分別在約1,000 cd/m2與約10,000 cd/m2時是約4.17V與5.34V。在10,000 cd/m2時之裝置的發光效率(44 lm/W)與功率效率(60 cd/A)是作為發光的函數(第4圖)而被測定。17%的裝置效率是高於預期的，並證實主發光體2可在發光裝置中作為有益的主發光體材料。
除非另有指明，使用於說明書與申請專利範圍所表示原料之數量、例如分子量之特性、反應條件等等之所有數字於所有實例中被理解為以詞彙「約」修飾。因此，除非有相反的表示，試圖透過本發明獲得之設定於說明書與附隨申請專利範圍之參數數值為可隨所需之特性變化之近似值。至少，且非作為限制申請專利範圍範疇的等效物之教示的應用，各參數數值應至少被建構為有效數位且應用普通之四捨五之數值為最廣義解釋。
除非於此另外表示或與內文明顯矛盾，用以描述本發明之內文(特別是於附隨申請專利範圍之內文)中之詞彙“一(a)”、“一(an)”、“該(the)”及其相似參照物被解釋以涵蓋單數及複數。除非於此處另外指出或是與內文明確矛盾，此處描述之所有方法可以任何適合之順序執行。提供於此處之任何及所有實例之使用，或示範用語(例如「例如(such as)」)僅意圖為更好的解釋發明而非對發明或申請專利範圍設限。說明書無用語應被解釋為指出任何未於申請專利範圍中之元件為執行發明所必須。
揭露於文中之發明的實施例或替代元件群組不以限制解釋。各群組構件可被稱為並個別或與此處發現之其他元件或構件群組以任何結合而主張。為便利或可專利性之理由，預計群組之一或多個構件可包含於群組中或自群組中刪去。當產生任何此些包含或刪去時，說明書被視為包含群組作為修飾從而滿足所寫之用於附隨申請專利範圍之所有馬庫西式(Markush)群組之描述。
本發明之一些實施例描述於此，包含發明者所知悉之實現發明之最佳模式。當然，所述之實施例之各種變化，經由閱讀前述之描述，對相關領域之習之技藝者變的顯而易見。發明者預期本領域之通常知識者會適當地實行這些變化，且除了明確描述於此處外，發明者意圖讓此發明被實行。據此，發明包含所有修正或列於此處所附之專利法允許之申請專利範圍之專利標的之等效物。更甚者，除非另外指出或與內文明顯矛盾，於所有可能形式之上述元件任何結合皆為本發明所包含。
最後，應理解的是揭露於此之發明之實施例為本發明原則之說明。可能執行之其他修改係於本發明之範疇內。從而，透過舉例之方式，而非限制，本發明之替代配置可根據此處之教示而被利用。從而，本發明不受明確顯示與描述之實施例所限制。
10．．．有機發光二極體裝置
20．．．陰極
30．．．陽極/陰極
40．．．有機發光層
50．．．電洞傳輸層
60．．．電子傳輸層
70．．．電洞注入層
第1圖是崁入文中所描述之化合物之實施例之裝置的示意圖。
第2圖是崁入文中所描述之化合物之實施例之裝置的示意圖。
第3圖是崁入文中所描述之化合物之實施例之發光裝置之實施例之電流密度相對電壓的圖式。
第4圖是崁入文中所描述之化合物之實施例之發光裝置之實施例之電流密度相對電壓的圖式。
10．．．有機發光二極體裝置
20．．．陰極
30．．．陽極/陰極
40．．．有機發光層
50．．．電洞傳輸層
60．．．電子傳輸層
70．．．電洞注入層
Claims (3)
- 一種用於有機發光裝置之發射構件之主發光體化合物，該化合物由以下化學式表示：HT-Ph1-Ph2-ET其中，Ph1與Ph2為獨立地選擇性經取代之鄰伸苯基(o-phenylene)；HT是選擇性經取代之4-(苯基咔唑)苯基(4-(phenylcarbazolyl)phenyl)；以及ET是選擇性經取代之苯並咪唑-2基(benzimidazol-2-yl)、選擇性經取代之苯並咪唑-2基苯基(benzimidazol-2-yl phenyl)、選擇性經取代之二(苯並咪唑-2-基)苯基(di(benzimidazol-2-yl)phenyl)、選擇性經取代之苯並噻唑-2-基苯基(benzothiazol-2-ylphenyl)、選擇性經取代之苯並噁唑-2-基苯基(benzoxazol-2-ylphenyl)、選擇性經取代之二(苯並噁唑-2-基)苯基(di(benzoxazol-2-yl)phenyl)、選擇性經取代之3,3’-聯吡啶-5-基(3,3’-bipyridin-5-yl)、選擇性經取代之喹啉-8基(quinolin-8-yl)、選擇性經取代之喹啉-5基(quinolin-5-yl)、或選擇性經取代之喹喔啉-5基(quinoxalin-5-yl)。
- 一種用於有機發光裝置之發射構件之主發光體化合物，該化合物由以下化學式表示：HT-Ph1-Ph2-ET 其中，Ph1與Ph2為獨立地選擇性經取代之鄰伸苯基(o-phenylene)；HT是選擇性經取代之苯基咔唑(phenylcarbazolyl)、選擇性經取代之(苯基咔唑)苯基((phenylcarbazolyl)phenyl)、選擇性經取代之4(苯基萘基胺)苯基(4-(phenylnaphthylamino)phenyl)、或選擇性經取代之4-(二苯基胺基)苯基(4-(diphenylamino)phenyl)；以及ET是選擇性經取代之二(苯並咪唑-2-基)苯基(di(benzimidazol-2-yl)phenyl)。
- 一種用於有機發光裝置之發射構件之主發光體化合物，該化合物由以下化學式表示：HT-Ph1-Ph2-ET其中，Ph1與Ph2為獨立地選擇性經取代之鄰伸苯基(o-phenylene)；HT是選擇性經取代之苯基咔唑(phenylcarbazolyl)、選擇性經取代之(苯基咔唑)苯基((phenylcarbazolyl)phenyl)、選擇性經取代之4(苯基萘基胺)苯基(4-(phenylnaphthylamino)phenyl)、或選擇性經取代之4-(二苯基胺基)苯基(4-(diphenylamino)phenyl)；以及ET是選擇性經取代之二(苯並噁唑-2-基)苯基(di(benzoxazol-2-yl)phenyl)。
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