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TWI490362B - Window having self-cleaning of the vapor deposition apparatus - Google Patents

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TWI490362B
TWI490362B TW102104271A TW102104271A TWI490362B TW I490362 B TWI490362 B TW I490362B TW 102104271 A TW102104271 A TW 102104271A TW 102104271 A TW102104271 A TW 102104271A TW I490362 B TWI490362 B TW I490362B
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TW
Taiwan
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window
cavity
self
vapor deposition
cleaning
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TW102104271A
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Inventor
Shiezen Huang
Original Assignee
Adpv Technology Ltd Intetrust
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Description

具有自潔式視窗之蒸鍍設備
本發明與蒸鍍設備有關，特別是指一種具有自潔式視窗之蒸鍍設備。
簡單來說，所謂的真空鍍膜是將一待鍍物(例如基板)放到一真空腔體內，接著將一蒸鍍源(例如硒)加熱至汽化昇華的狀態，使蒸鍍源之氣體附著至待鍍物之表面而形成一層薄膜。
然而在整個製程中，操作人員通常需要等到製程結束將待鍍物從真空腔體內取出之後，才能夠進一步確認待鍍物的蒸鍍品質，對操作人員來說實在相當的耗費時間，為了方便操作人員在製程中進行觀察，有些真空腔體之表面會設置一透明視窗，但是某些蒸鍍源所產生的氣體會因為本身之氣體特性而沉積在透明視窗之內表面，以至於操作人員無法經由透明視窗觀察待鍍物的蒸鍍情形，如此同樣難以掌控待鍍物的蒸鍍品質。
本發明之主要目的在於提供一種具有自潔式視窗之蒸鍍設備，其能方便操作人員隨時觀察待鍍物的鍍膜情形，以確實掌控待鍍物的鍍膜品質。
為了達成上述目的，本發明之蒸鍍設備包含有一腔 體、一支撐座、一透明視窗板，以及一加熱器。該腔體具有一內部腔室及一視窗口，該內部腔室用以容置一待鍍物，該視窗口貫穿該腔體之內、外壁面，使該內部腔室經由該視窗口與外界相通；該支撐座固定於該腔體之外壁面且具有一安裝槽，該安裝槽連通該腔體之視窗口；該透明視窗板固定於該支撐座之安裝槽且正對該腔體之視窗口，用以使光線能夠自外界穿透至該內部腔室；該加熱器設於透明視窗板，用以對該透明視窗板進行加熱，使加熱後之蒸鍍源所產生的氣體不會沉積在該透明視窗板之內表面，如此便能方便操作人員經由該透明視窗板觀察該待鍍物的蒸鍍情形。
較佳地，本發明之蒸鍍設備更具有一壓板及一隔熱材，該壓板位於該加熱器的上方，該隔熱材設於該壓板與該加熱器之間，如此即可提高加熱效果。
較佳地，本發明之蒸鍍設備更具有一密封圈，該密封圈設於該腔體與該支撐座之間，用以確保該內部腔室處於密閉的狀態。
為了詳細說明本發明之結構、特徵及功效所在，茲列舉一較佳實施例並配合下列圖式說明如後。
請參閱第一及二圖，為本發明一較佳實施例所提供之蒸鍍設備10，包含有一腔體20、一支撐座30、一透明視窗板40，以及一加熱器50。
腔體20具有一內部腔室21，用以供一待鍍物(圖中未示)進行真空鍍膜製程。腔體20具有一視窗口22，視窗口22貫穿腔體20之內、外壁面，使內部腔室21能夠經由視窗口22與外界相通。
支撐座30之外周緣藉由一對固定片34固定於腔體20之外壁面，且支撐座30之中央具有一安裝槽32，安裝槽32連通腔體20之視窗口22。
透明視窗板40設置於支撐座30之安裝槽32內，並以焊接方式與支撐座30固定在一起，使透明視窗板40正對於腔體20之視窗口22。
加熱器50貼設於透明視窗板40之外表面，用以對透明視窗板40進行加熱。
在此需要補充說明的是，腔體20與支撐座30之間可以設置由耐高溫材料所製成之一密封圈60，用以確保腔體20之內部腔室21處於真空密閉的狀態。此外，支撐座30的頂面可以設置一壓板52，壓板52及加熱器50之間再設置一隔熱材54，如此便能藉由壓板52的壓力及隔熱材54之隔熱功能而提高加熱器50對透明視窗板40的加熱效果，然而為了能夠承受加熱器50所產生的高溫，支撐座30需要選用耐高溫材料，其中以金屬為最佳材質。
綜上所陳，當開始對待鍍物進行真空鍍膜製程時，加熱後之蒸鍍源(例如硒)所產生之氣體會逐漸附著於待鍍物之表面，此時的加熱器50會將透明視窗板40之溫度加熱至高於蒸鍍源之熔點，以阻止蒸鍍源之氣體沉積在透明 視窗板40之內表面，使得光線能夠順利經由透明視窗板40穿透至腔體20之內部腔室21，換言之，操作人員可以藉由透明視窗板40隨時觀察待鍍物於內部腔室21的蒸鍍情形，甚至可以配合使用各種適合在蒸鍍環境下操作之光學偵測器，例如紅外線測溫儀或光學定位器，以便掌控待鍍物的鍍膜品質而達到本發明之目的。
最後，本發明於前揭實施例中所揭露的構成元件，僅為舉例說明，並非用來限制本案之範圍，其他等效元件的替代或變化，亦應為本案之申請專利範圍所涵蓋。
10‧‧‧蒸鍍設備
20‧‧‧腔體
21‧‧‧內部腔室
22‧‧‧視窗口
30‧‧‧支撐座
32‧‧‧安裝槽
34‧‧‧固定片
40‧‧‧透明視窗板
50‧‧‧加熱器
52‧‧‧壓板
54‧‧‧隔熱材
60‧‧‧密封圈
第一圖為本發明一較佳實施例之剖面示意圖。
第二圖為本發明一較佳實施例之俯視示意圖。
10‧‧‧蒸鍍設備
20‧‧‧腔體
21‧‧‧內部腔室
22‧‧‧視窗口
30‧‧‧支撐座
32‧‧‧安裝槽
34‧‧‧固定片
40‧‧‧透明視窗板
50‧‧‧加熱器
52‧‧‧壓板
54‧‧‧隔熱材
60‧‧‧密封圈

Claims (4)

  1. 一種具有自潔式視窗之蒸鍍設備，包含有：一腔體，具有一內部腔室及一視窗口，該視窗口貫穿該腔體之內、外壁面，使該內部腔室經由該視窗口與外界相通；一支撐座，固定於該腔體之外壁面且具有一安裝槽，該安裝槽連通該腔體之視窗口；一透明視窗板，固定於該支撐座之安裝槽內且正對該腔體之視窗口；以及一加熱器，設於透明視窗板，用以對該透明視窗板進行加熱。
  2. 如請求項1所述之具有自潔式視窗之蒸鍍設備，更包含有一壓板及一隔熱材，該壓板貼抵於該支撐座之表面，該隔熱材設於該壓板及該加熱器之間。
  3. 如請求項1或2所述之具有自潔式視窗之蒸鍍設備，其中該腔體與該支撐座之間設有一密封圈。
  4. 如請求項1所述之具有自潔式視窗之蒸鍍設備，其中該支撐座由金屬材質所製成。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109269534A (zh) * 2018-10-30 2019-01-25 中山瑞科新能源有限公司 一种光电传感器装置及真空镀膜设备

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0252667B1 (en) * 1986-06-30 1996-03-27 Nihon Sinku Gijutsu Kabushiki Kaisha Chemical vapour deposition methods
US5556472A (en) * 1991-12-09 1996-09-17 Sumitomo Electric Industries, Ltd Film deposition apparatus
WO2003087431A2 (en) * 2002-04-11 2003-10-23 Micron Technology, Inc. Deposition methods utilizing phased array microwave excitation, and deposition apparatuses
US20040163600A1 (en) * 2002-11-30 2004-08-26 Uwe Hoffmann Vapor deposition device
TWI280986B (en) * 2004-04-30 2007-05-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Vacuum vapor deposition apparatus
US20080254230A1 (en) * 2006-08-23 2008-10-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Particle deposition apparatus and particle deposition method
TWM347406U (en) * 2008-08-08 2008-12-21 Lai ying fang Film deposition equipment of ferrite thermal evaporation
TW200904998A (en) * 2007-02-28 2009-02-01 Ulvac Inc Deposition source, deposition apparatus, and forming method of organic film
TW201016868A (en) * 2008-10-17 2010-05-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Film coating device

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0252667B1 (en) * 1986-06-30 1996-03-27 Nihon Sinku Gijutsu Kabushiki Kaisha Chemical vapour deposition methods
US5556472A (en) * 1991-12-09 1996-09-17 Sumitomo Electric Industries, Ltd Film deposition apparatus
WO2003087431A2 (en) * 2002-04-11 2003-10-23 Micron Technology, Inc. Deposition methods utilizing phased array microwave excitation, and deposition apparatuses
US20040163600A1 (en) * 2002-11-30 2004-08-26 Uwe Hoffmann Vapor deposition device
TWI297735B (en) * 2002-11-30 2008-06-11 Applied Materials Gmbh & Co Kg Vapor-deposition device
TWI280986B (en) * 2004-04-30 2007-05-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Vacuum vapor deposition apparatus
US20080254230A1 (en) * 2006-08-23 2008-10-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Particle deposition apparatus and particle deposition method
TW200904998A (en) * 2007-02-28 2009-02-01 Ulvac Inc Deposition source, deposition apparatus, and forming method of organic film
TWM347406U (en) * 2008-08-08 2008-12-21 Lai ying fang Film deposition equipment of ferrite thermal evaporation
TW201016868A (en) * 2008-10-17 2010-05-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Film coating device

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