TWI468179B

TWI468179B - 口腔保健療程

Info

Publication number: TWI468179B
Application number: TW96116351A
Authority: TW
Inventors: Michael Prencipe; Rycke Isabelle Van; Richard Lovell
Original assignee: Colgate Palmolive Co
Priority date: 2006-05-09
Filing date: 2007-05-08
Publication date: 2015-01-11
Also published as: EP2020985B1; TW200815035A; AU2007249542B2; ZA200809067B; US8501161B2; WO2007134003A2; CA2649955C; CN101437485A; WO2007134003A3; CN103860390A; JP2009536663A; EP2020985A2; MY145370A; BRPI0711271A2; US20070286820A1; MX2008013618A; AR060999A1; CA2649955A1; AU2007249542A1; RU2008148329A

Description

口腔保健療程

相關申請案之交互參照

本申請案主張2006年5月9日申請之美國暫時專利申請案第60/798,940號之優先權，其之內容併入本文作為參考。

發明背景

在藉由牙科醫生或保健專家所進行之專業牙齒清潔之後，消費者報告有類似在溫泉浴或美容處理後所經驗之心曠神怡、滿足、潔淨及全身幸福之感覺。因此，在此技藝中需要一種允許消費者重新創造"格外清潔"口感及在專業牙齒清潔後所經驗之連帶幸福感之家用口腔保健療程。

發明之概述

本發明包括清潔口腔表面、維持口腔健康及/或增進口腔健康之方法。此等方法包含以一種主要口腔保健組成物接觸口腔表面每日至少一次，及在約42天之期間內以定期口腔保健組成物接觸口腔表面至少一次。適合用於本發明之定期口腔保健組成物包含一第一研磨劑，具有艾氏(Einlehner)硬度每100,000轉數大於約5毫克損失；及一第二研磨劑，具有艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失。於定期口腔保健組成物中，第一研磨劑對第二研磨劑之比例為約1：1.6至約1.6：1。定期口腔保健組成物之特徵在於薄膜清潔比例大於約100及輻射活性牙本質磨耗低於約200。此外，諸方法包括那些其中第二研磨劑含有矽石且具有油吸值大於約90立方公分/100克，及/或艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失者。第一研磨劑對第二研磨劑之比例為約1：1.6至約1.6：1。第一和第二研磨劑存在於口腔組成物中之總量，以組成物之重量計大於約25%，及/或口腔組成物具有薄膜清潔比例大於約100及輻射活性牙本質磨耗低於約200。

發明之詳細說明

本發明提供一清潔口腔表面以去除例如細菌、食物粒子、生物薄膜、牙菌斑、及/或其他可導致或促成各種口腔症狀(諸如氣味不佳、口腔健康不良、牙齦炎、齒齦發炎或牙周病)之藥劑的療程方法。本發明之療程方法亦提供使用者對牙齒表面有光滑、磨光感覺及外觀，其被認知可比擬在專業清潔後所經驗之"清潔感"。亦提供維持口腔健康及/或增進口腔健康之方法。

本發明為一種口腔保健療程，其包括在不同時間增額下使口腔表面與至少兩種口腔保健組成物接觸。待處理之口腔表面包括口腔內之任意處。例示之表面包括硬組織(例如牙齒)及軟組織(例如牙齦及舌)。

用於本發明之療程方法中之口腔保健組成物之一為一種主要口腔保健組成物。主要口腔保健組成物可為已知或於此技藝中待發展者且可為任何形式。例如，主要口腔保健組成物可為沖洗劑、糊膏、凝膠、流體、懸浮液、薄膜、貼布、膠質、錠劑、糖果或半固體條狀物或棒狀物。主要口腔保健組成物可為傳統牙膏，諸如那些以高露潔(COLGATE^®)商標名(高露潔-棕欖(Colgate-Palmolive)公司，紐約市，紐約州)或以CREST^®商標名(寶鹼(Procter & Gamble)股份有限公司，辛辛那提，俄亥俄州)所販售者。另外，主要口腔保健組成物可為那些被描述於例如美國專利案第4,721,614；4,894,220；4,986,981；5,037,635；5,156,835；5,288,480；5,344,641；5,538,715；5,776,435，及美國專利申請公開案2004/0126332、2004/0136924、2005/0019273、2005/0271601及2005/0271602，彼等各自之內容併入本文作為參考。

主要口腔保健組成物可包含一或多種藥劑，諸如濕潤劑、溶劑、增稠劑、表面活性劑、研磨劑、香味劑、著色劑、黏度及/或觸變性修飾劑、膠質、聚合物、甜味劑等。可存在於主要口腔保健組成物中之藥劑的實例包括抗菌劑、牙菌斑分散劑、抗黏附劑、抗齲齒劑、去敏感劑、香味劑、著色劑、錫離子劑、三氯生、三氯生單磷酸鹽、氯己丁(chlorhexidine)、亞勒西丁(alexidine)、己替丁(hexeti-dine)、血根鹼(sanguinarine)、苯扎氯銨(benzalkonium)、水楊基苯胺、溴化多明芬(domiphen)、氯化鯨蠟基吡錠、氯化十四基吡錠、氯化N-十四基-4-乙基吡錠、辛尼丁(octenidine)、戴摩匹諾(delmopinol)、辛匹諾(octapinol)、尼新(nisin)、鋅離子劑、銅離子劑、精油、呋喃酮、細菌素、乙基月桂醯基精胺酸鹽、木蘭萃取物、金屬離子源、精胺酸碳酸氫鹽、和厚朴酚、厚朴酚、熊果酸(ursolic acid)、烏西酸(ursic acid)、莫林(morin)、沙棘之萃取物、過氧化物、酵素、山茶花萃取物、類黃酮、黃烷、鹵化二苯醚、肌胺酸及/或蜂膠。

於實施本發明方法時，主要口腔保健組成物可被應用或接觸至口腔表面每日至少一次。於一些具體例中，主要口腔保健組成物之應用每日可進行2、3、4、5、6、7次，或至多達每日15次。

可利用任何已知或此技藝中未來所發展之方法將口腔表面與主要口腔保健組成物接觸；此等方法可視主要口腔保健組成物之形式而有所不同。使主要口腔保健組成物與口腔表面接觸之例示方法包含利用一種工具(諸如刷子、牙刷、牙棒、海綿、棉拭)之塗抹、灌洗、咀嚼、鄰近置入及糖果之溶解。

用於本發明方法中之另一口腔保健組成物為一種定期口腔保健組成物。定期口腔保健組成物具有薄膜清潔比例("PCR")大於100，同時具有輻射活性牙本質磨耗("RDA")低於200。於某些具體例中，RDA小於或等於約175，而仍具有PCR超過約100。於一些具體例中，RDA小於165。實施PCR及RDA之方法被描述於例如美國專利案5,393,051及6,290,933中，兩者之內容全部併入本文作為參考。

定期口腔保健組成物包括一第一研磨劑和一第二研磨劑；此等研磨劑被描述於例如2005年12月21日申請之美國專利申請案序號60/752,340中，其之內容全部併入本文作為參考。

於某些具體例中，定期口腔保健組成物包含具有艾氏硬度每100,000轉數大於約5毫克損失之第一研磨劑及具有艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失之第二研磨劑。具有艾氏硬度每100,000轉數大於約5毫克損失之第一顆粒當其與口腔表面接觸時具有磨光功能。具有艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失之第二顆粒具有主要清潔功能，因其為一種較軟之顆粒。於某些具體例中，第二顆粒具有硬度每100,000轉數大於約10毫克損失，且於其他具體例中，每100,000轉數大於約15毫克損失。

定期口腔保健組成物之第一研磨劑可為一種清潔研磨劑，其具有硬度小於或等於待處理之口腔表面，而第二研磨劑為一種磨光研磨劑，其具有硬度大於或等於待處理之口腔表面。

定期口腔保健組成物之第一研磨劑和第二研磨劑分別具有顆粒尺寸。於某些具體例中，第一顆粒尺寸小於第二顆粒尺寸。平均顆粒尺寸可利用一種Malvern顆粒尺寸分析儀(型號Mastersizer S，Malvern儀器公司)(Southborough，麻州，美國)予以測量。

於某些具體例中，第一研磨劑具有小於約11微米，較佳小於約10微米之平均顆粒尺寸。例如，適當研磨劑之實例具有約7微米至11微米之平均顆粒尺寸。一些研磨劑具有小於約5微米之顆粒尺寸。於其他具體例中，第二研磨劑具有大於約8微米，較佳大於約10微米之平均顆粒尺寸。於一些具體例中，第二研磨劑具有約8微米至約14微米之平均顆粒尺寸。

任何滿足上述要求之口部或美容上可接受之研磨劑可被選擇用於定期口腔保健組成物中。適當之研磨劑包括但不限於矽石、矽酸鹽、矽酮、鋁礬土(包括燒結氧化鋁)、矽酸鋁(諸如皂土、沸石、高嶺土及雲母)、含矽土或矽藻土、浮石、碳酸鈣、墨魚骨、不可溶磷酸鹽、複合樹脂(諸如三聚氰胺樹脂、酚性樹脂及脲-甲醛樹脂)、聚碳酸酯、碳化矽、碳化硼、微晶蠟、微晶纖維素(包括膠體微晶纖維素與羧甲基纖維素之組合物，商業上可得自FMC生物聚合物之商品AVICEL^®(費城，賓州，美國))及所有上述之組合物及衍生物。所謂“雲母”意指具有板狀形態及完美基底(雲母狀的)解理之含水矽酸鋁礦物群之任一種。雲母可為例如雲母板、雲母碎或雲母片，舉例如白雲母、黑雲母或金雲母型雲母。不可溶磷酸鹽中可用作研磨劑者為正磷酸鹽、聚偏磷酸鹽及焦磷酸鹽。例示性之實例為二水合正磷酸二鈣、二水合磷酸二鈣、磷酸氫鈣、焦磷酸鈣、β-焦磷酸鈣、磷酸三鈣、偏磷酸鈣、偏磷酸鉀及偏磷酸鈉。

合成矽石包括矽膠及例如藉矽酸鹽水溶液與強礦酸之中和所製備之沉澱矽石。於矽膠之製備中，通常形成矽石水凝膠，其隨後通常被洗至低鹽含量。洗過之水凝膠可被研磨至期望尺寸或者另外予以乾燥，最後至其結構因收縮而不再變化之程度。當製備此等合成矽石時，目的為獲得可提供最大清潔力(亦即污漬薄膜之去除)，但對牙琺瑯質及其他口部組織有最低傷害之研磨劑。

可供製備定期口腔組成物之有用的研磨物質包括高清潔性、低結構性矽石研磨劑，諸如那些由W.R.Grace & Co.(巴爾狄摩，馬里蘭，美國)之Davison化學部以商品代號SYLODENT^® XWA或SYLODENT^® 783所販售者。SYLO-DENT^® XWA 650為由膠體矽石之顆粒所構成之矽石水凝膠。例示之矽石水凝膠包含具有平均粒徑約3微米至約12微米，尤佳介於約5微米至約10微米之間，pH範圍由4至10，較佳6至9(當以5重量%料漿予以測定時)之矽石的膠體顆粒。XWA 650之顆粒包含以重量計約10%至約35%之水、具有平均顆粒尺寸為約5微米至約12微米、艾氏硬度大於或等於每100,000轉數約5至約20毫克損失、油吸收度小於90立方公分/100克，例如介於約40立方公分/100克至約90立方公分/100克之間。研磨劑具有布厄特(Brunauer、Emmett及Tellern)(BET)表面積由100至約700平方公尺/克。XWA 650具有96.8泰克達因(technidyne)之光澤度。此等研磨劑被論述於例如美國專利案第6,290,933號中，其之內容全部併入本文作為參考。

另一種可被包括於定期組成物中之高清潔矽石研磨劑為以SYLODENT^® XWA 300所販售，且為包含以重量計約10%至約25%水之矽石水凝膠，其中平均顆粒尺寸為約 2微米至約4微米。顆粒具有BET表面積在150至400平方公尺/克矽石之範圍。XWA 300研磨劑具有油吸收度小於90立方公分/100克矽石；及等於或大於8.5之pH(於煮沸(無CO₂)之去礦物質水中之5%w/w懸浮液中)。此等研磨劑被論述於美國專利案第5,939,051號中，其之內容全部併入本文作為參考。

另一種可被包括於定期組成物中之適當的高清潔矽石包含一種矽石產物，其中顆粒為以重量計約5%至約35%之水、具有平均顆粒尺寸約7微米至約11微米、艾氏硬度12至19、油吸收值約50立方公分/100克至約65立方公分/100克。BET表面積為約100至約700平方公尺/克矽石。光澤度通常據報告為大於約95泰克達因。此種矽石產物於商業上可獲自J.M.Huber(Harve de Grace，馬里蘭，美國)之ZEODENT^® 105。

其他可使用之研磨劑包括典型之清潔矽石研磨劑，諸如具有平均顆粒尺寸至多達約20微米，通常約8微米至約14微米，具有油吸收結構大於約90至約110立方公分/100克之沉澱矽石，諸如J.M Huber公司所販售之ZEODENT^® 115，其在5%顆粒下具有約6.5-7.5之pH及艾氏硬度每100,000轉數約2至約4毫克損失。此一矽石顆粒之光澤度大於約95。於某些具體例中，此等清潔研磨劑構成口腔組成物之第二研磨劑。

於潔齒劑為清透或透明凝膠之具體例中，膠體矽石之研磨劑，諸如那些以商標名SYLOID^®(如SYLOID^® 72及 SYLOID^® 74)或以商標名SANTOCEL^® 100鹼金屬矽酸鋁複合物所販售者，為特別有用的，因為彼等研磨劑具有折射係數接近一般用於潔齒劑中之凝膠劑-液體(包括水及/或濕潤劑)系統的折射係數。

根據本發明之許多具體例，第一及第二研磨劑被組合於定期組成物中以提供清潔力、溫和性(相當低磨蝕性)及美學上可接受之定期護理組成物。於許多具體例中，第一研磨劑對第二研磨劑之用量可以第一研磨劑對第二研磨劑之比例表示，範圍為約1：1.6至約1.6：1。例如，第一研磨劑對第二研磨劑之比例為約1：1。存在於口腔組成物中之第一研磨劑及第二研磨劑之各別量以口腔組成物之重量計為約13至約21%。

於一些具體例中，第一研磨劑之用量以口腔組成物之重量計為約15至約19%，而第二研磨劑之用量為約15至約19%。於某些較佳具體例中，第一研磨劑之存在量以重量計為約17%，而第二研磨劑之存在量以口腔組成物之重量計為約17%。因此，根據本發明之許多具體例，於定期口腔保健組成物中研磨劑之總量(包括第一及第二研磨劑)以定期口腔保健組成物之總重量計較佳大於約25%，尤佳大於約30%，及於一些具體例中大於約35%。

於一些具體例中，定期口腔保健組成物包含具有艾氏硬度每100,000轉數大於約5毫克損失之第一研磨劑及具有艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失之第二研磨劑。第一研磨劑對第二研磨劑之比例範圍為約1：1.6至約1.6：1。此外。定期口腔組成物具有大於約100之PCR及小於約200之RDA。於某些具體例中，RDA低於約175。於某些具體例中，第一研磨劑具有油吸收度小於約90立方公分/100克，而第二研磨劑具有油吸收度大於約90立方公分/100克。於一些具體例中，第一研磨劑對第二研磨劑之比例為約1：1。研磨劑之總量(包括第一及第二研磨劑)大於約30%。第一研磨劑及第二研磨劑選擇性存在之量分別為約17%。於一些具體例中，第一及第二研磨劑分別以總定期口腔保健組成物之重量計為約15%至約19%之用量存在。第一及第二研磨劑選擇性包含矽石。

於某些具體例中，定期口腔組成物包含第一研磨劑，其包含矽石，具有艾氏硬度每100,000轉數大於約5毫克損失及油吸收度小於約90立方公分/100克。定期口腔組成物另包含第二研磨劑，其包含矽石，具有艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失及油吸收度大於約90立方公分/100克。第一研磨劑之存在量以重量計為約13%至約21%，同樣地，第二研磨劑之存在量以組成物之重量計為約13%至約21%。於一些具體例中，第一研磨劑及第二研磨劑分別以定期口腔組成物之重量計約15%至約19%之用量存在。於某些具體例中，第一及第二研磨劑分別以口腔組成物之重量計約17%之用量存在。PCR較佳大於100，RDA較佳小於200，於某些具體例中小於約175。第一及第二研磨劑存在於口腔組成物中之總量較佳大於約 25%，尤佳大於約30%。

於某些具體例中，定期口腔組成物包含第一研磨劑，其包含矽石且具有油吸收度小於約90立方公分/100克及艾氏硬度每100,000轉數大於約5毫克損失。定期口腔組成物另包含第二研磨劑，其包含矽石且具有油吸收度大於約90立方公分/100克及艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失。第一研磨劑對第二研磨劑之比例為約1：1.6至約1.6：1。此外，存在於口腔組成物中之第一和第二研磨劑之總量以組成物之重量計為大於約25%。

於某些具體例中，定期口腔組成物具有第一研磨劑對第二研磨劑之比例範圍約1：1.6至約1.6：1。於一特殊具體例中，活性成分包含一種非離子性抗菌成分，諸如類似三氯生之鹵化二苯醚，如將於下文所詳細論述者。於一些具體例中，第一研磨劑具有油吸收度小於約90立方公分/100克及艾氏硬度每100,000轉數大於約5毫克損失，而第二研磨劑具有油吸收度大於約90立方公分/100克及艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失。

本文所述之定期口腔保健組成物(主要及定期的)可包含一種口腔可接受之載劑。可用以形成供口腔保健組成物之傳統成分為熟悉此項技藝者所熟知者。載劑可為液體、半固體或固體相。口腔組成物可為潔齒劑(包括牙膏、牙粉及預防糊膏)、糖果(包括膠質、球珠及咀嚼物)、薄膜、塗抹凝膠形式，或熟悉此項技藝者所熟悉之任何其他研磨劑可使用之形式。特殊載劑成分之選擇視期望之產品形式而定。

於某些較佳具體例中，組成物獨立地為潔齒劑之形式，其中例示之載劑為實質上半固體或固體。載劑可為水性的，例如載劑較佳包含約5%至約95%之水。於其他具體例中，載劑為實質上非水性的。載劑選擇性地包含例如口腔護理活性成分、表面活性藥劑(諸如表面活性劑、乳化劑及泡沫調整劑)、黏度修飾劑及增稠劑、濕潤劑、稀釋劑、填料、其他之pH修飾劑、著色劑、保存劑、溶劑及彼等之組合。應瞭解儘管上述類別物質之一般屬性可能不同，但彼等有共通屬性且任何特定物質可在兩或多類此等類別物質內充作多種目的。如熟悉此項技藝者所瞭解者，口腔組成物除了那些先前所描述之成分(包括例如潤膚劑、保濕劑、口感劑等)外，選擇性地包括其他物質。口腔組成物之適當載劑之實例被揭示於美國專利案6,669,929、6,379,654及4,894,220中，彼等各自之內容併入本文作為參考。

口腔保健活性成分包括例如抗菌活性劑、抗牙石劑、抗齲齒劑、消炎劑、抗敏感劑、酵素、營養物等。可用於本發明中之活性藥劑被揭示於美國專利案6,290,933及6,685,921中，彼等各自之內容併入本文作為參考。

任何適當之氟離子源可存在於口腔組成物中，諸如那些描述於美國專利案5,080,887中者，其之內容併入本文作為參考。氟離子源、酸性磷酸酶及焦磷酸酶酵素抑制劑於此技藝中熟知作為抗齲齒劑。此等來源之實例為無機金屬及/或銨之氟離子鹽及化合物，諸如：氟化鈉、氟化鉀、氟化銨、氟化鈣；銅之氟化物，諸如氟化亞銅；氟化鋅；氟化鋇；氟矽酸鈉、氟矽酸銨、氟鋯酸鈉；及單氟磷酸鈉、單-及二-氟磷酸鋁及氟化焦磷酸鈣鈉。氟離子源亦可為氟化胺，諸如歐力氟(olaflur)(N'-十八基三亞甲基二胺-N,N,N'-三(2-乙醇)-二氫氟化物)。較佳為氟化鈉、氟化胺、氟化錫、單氟磷酸鈉(MFP)及其之混合物。

口腔組成物選擇性包含一種抗牙石成分，例如一或多種論述於美國專利案5,292,526(其之內容全部併入本文作為參考)中之抗牙石成分。於許多具體例中，抗牙石成分包括一或多種聚磷酸鹽。抗牙石組成物可包括以有效抗牙石量存在於口腔組成物中之至少一種完全或部分中和之鹼金屬或銨之三聚磷酸鹽或六偏磷酸鹽。抗牙石成分亦可包括抗牙石量之至少一種水可溶、直鏈、分子性去水合之聚磷酸鹽。抗牙石成分亦可包括一種鉀和鈉鹽之混合物，其中至少一種以有效抗牙石量存在，作為聚磷酸鹽抗牙石劑。其他有用之抗牙石劑包括聚羧酸酯聚合物及聚乙烯甲醚/順丁烯二酸酐(PVM/MA)共聚物，諸如GANTREZ^®。

所有其他可用於口腔保健組成物中之已知的物質或分子可被含括於每日或定期組成物中。例如此等其他分子可包括抗菌劑、抗牙菌斑劑、去敏感劑、消炎劑、著色劑、增稠劑、香味劑、表面活性劑、研磨劑、抗黏附劑、抗齲齒劑、感覺劑及/或維生素。

可被添加至組成物中之其他成分包括錫離子劑、三氯生、三氯生單磷酸鹽、氯己丁、亞勒西丁、己替丁、血根鹼、苯扎氯銨、水楊基苯胺、溴化多明芬、氯化鯨蠟基吡錠(CPC)、氯化十四基吡錠(TPC)、氯化N-十四基-4-乙基吡錠(TDEPC)、辛尼丁、戴摩匹諾、辛匹諾、尼新、鋅離子劑、銅離子劑、精油、呋喃酮、細菌素、乙基月桂醯基精胺酸鹽、木蘭萃取物、金屬離子源、精胺酸碳酸氫鹽、和厚朴酚、厚朴酚、熊果酸、烏西酸、莫林、沙棘之萃取物、過氧化物、酵素、山茶花萃取物、類黃酮、黃烷、鹵化二苯醚、肌胺酸及蜂膠。

Claims

一種清潔口腔表面、維持口腔健康及/或增進口腔健康之套組，包含：主要口腔保健組成物與定期口腔保健組成物，其中a.該主要口腔保健組成物係用於與口腔表面接觸每日2至5次，及b.該定期口腔保健組成物係用於在約42天之期間內接觸口腔表面4至18次；其中主要口腔保健組成物包含一種藥劑，其選自下列所組成之群組：錫離子劑；三氯生；三氯生單磷酸鹽；氯己丁(chlorhexidine)；亞勒西丁(alexidine)；己替丁(hexetidine)；血根鹼(sanguinarine)；苯扎氯銨(benzalkonium chloride)；水楊基苯胺、溴化多明芬(domi-phen)；氯化鯨蠟基吡錠(CPC)；氯化十四基吡錠(TPC)；氯化N-十四基-4-乙基吡錠(TDEPC)；辛尼丁(octe-nidine)；戴摩匹諾(delmopinol)；辛匹諾(octapinol)；尼新(nisin)；鋅離子劑；銅離子劑；精油；呋喃酮；細菌素；乙基月桂醯基精胺酸鹽；木蘭萃取物；金屬離子源；精胺酸碳酸氫鹽；和厚朴酚；厚朴酚；熊果酸(ursolic acid)；烏西酸(ursic acid)；莫林(morin)；沙棘之萃取物；過氧化物；酵素；山茶花萃取物；類黃酮；黃烷；鹵化二苯醚；肌胺酸；及蜂膠；其中定期口腔保健組成物包含一第一研磨劑，其包含矽石，且具有油吸收度小於約90立方公分/100克與艾氏(Einlehner)硬度每100,000轉數大於約5毫克至20毫克損失；及一第二研磨劑，其包含矽石，且具有油吸收度大於約90立方公分/100克與艾氏硬度每100,000轉數小於約5毫克損失，其中第一研磨劑對第二研磨劑之比例為約1：1.6至約1.6：1，且其中定期口腔組成物具有薄膜清潔比例大於約100且輻射活性牙本質磨耗低於約200，其中定期口腔保健組成物之第一研磨劑具有平均顆粒尺寸小於約11微米，且第二研磨劑具有平均顆粒尺寸大於約8微米，其中定期口腔保健組成物之第一研磨劑以約13%至約21重量%之用量存在，定期口腔保健組成物之第二研磨劑以約13%至約21重量%之用量存在。
根據申請專利範圍第1項之套組，其中(b)係藉以刷子塗覆口腔表面定期口腔保健組成物予以達成。
根據申請專利範圍第1項之套組，其中定期口腔保健組成物具有輻射活性牙本質磨耗低於約175。
根據申請專利範圍第1項之套組，其中定期口腔保健組成物之第一研磨劑以約17重量%之用量存在，定期口腔保健組成物之第二研磨劑以約17重量%之用量存在。
根據申請專利範圍第1項之套組，其中定期口腔保健組成物中第一及第二研磨劑之總量以組成物之重量計大於約30%。
根據申請專利範圍第1項之套組，其中口腔表面在42天之期間內與定期口腔保健組成物接觸6次。