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TWI311585B - Aqueous resist stripper composition - Google Patents

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TWI311585B
TWI311585B TW094125443A TW94125443A TWI311585B TW I311585 B TWI311585 B TW I311585B TW 094125443 A TW094125443 A TW 094125443A TW 94125443 A TW94125443 A TW 94125443A TW I311585 B TWI311585 B TW I311585B
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TW
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hydroxide
composition
weight
group
aqueous
Prior art date
Application number
TW094125443A
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English (en)
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TW200613543A (en
Inventor
Kwang-Yong Lee
Woong Kim
Hyuk-Jin Cha
Won-Su Byeon
Yong-Man Jeong
Choul-Kyu Lim
Nak-Chil Jung
Original Assignee
Samyang Ems Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Samyang Ems Co Ltd filed Critical Samyang Ems Co Ltd
Publication of TW200613543A publication Critical patent/TW200613543A/zh
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Publication of TWI311585B publication Critical patent/TWI311585B/zh

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Description

1311585 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於水性光阻剝離液組成物其能夠剝離一已 熟成之光阻劑(cured resist),特別是水性光阻剝離液組成物 5 其能夠將光阻劑自其所塗覆之基板,如一彩色濾光片(color filter substrate)或一薄模電晶體基板(TFT substrate),上剝 離而再生一基板。_ 1 【先前技術】 10 通常,製成一彩色薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD) 包含數個生成步驟,在一透明基板如玻璃上,一彩色濾光 片生成一黑色矩陣樹脂(black matrix resin)及一畫素(pixel) 其包含紅色(R)、綠色(G)和藍色(B);在彩色濾光片上以濺 鍍法(sputtering method)生成一透明導電膜(transparent 15 conducting film)以作為一電極;在透明導電膜上生成一配 向膜(alignment layer);及填充液晶於液晶顯示器中。 ; 光阻劑被廣泛運用於生成彩色薄膜電晶體液晶顯示器 之配置物上,如一保護膜(overcoat)、一感光間隔材(photo spacer)、一彩色濾光片、一黑色矩陣等。然而,當光阻劑 20 以光或熱熟成之後,就無法只將錯誤配置之光阻劑從基板 去除。特別是,很難去除各種光阻劑,如環氧基(epoxy-based) 、' 環氧丙 稀瘦基 (epoxy acrylate- based) 、 丙烯 酸基紫 外線保護膜(acrylate-based UV overcoat)和_熱保護膜 (thermal overcoat)、一感光間隔材光阻、一彩色濾光片光 1311585 阻,一黑色矩陣樹脂及使用於異丙醇(IPA)和多區域垂直配 向(MVA)模式之光阻劑。如上所述,習知光阻剝離液組成 物具有一缺失’即錯誤配置之不良彩色濾光片或不良薄膜 電晶體基板沒有經過如修復與再生等再生程序就被棄置, 因為其缺乏能夠從基板上有效脫除大量熟成光阻劑之溶 劑。 為了解決上述問題,因而出現許多相關的研究。在美 國專利第5,059,500號中,揭露一些經熟成之彩色光阻可在 Ό 10毫米托耳(mmtorr)之真空及50瓦(W)工作電流(operating 10 current)的條件下以電漿脫除。但是此使用電漿之方法卻 有使用高真空、高電力、有毒氣體及設僥昂貴等缺點。 美國專利第5,756,239號中,揭露一些經熟成之彩色光 阻被小規模脫除,但是此方法並不適於應用在大規模的玻 璃基板上。 15 美國專利第5,091,103號、第 5,308,745號、第 5,102,777 號及第5,597,678號揭露一光阻剝離液其包括N-曱基石比嗔酮 (N-methylpyrrolidone)、伸烧基乙二醇醚(alkylene glycol / ether)及 1,3-二甲基-2-口米0坐琳酮(1,3-dimethyl-2-imidazo-• lidinone)以剝離一交聯之光阻薄膜(cross- linked photoresist 20 film)。然而,此剝離劑具有其可溶性不足以脫除彩色濾光 片之缺點。 韓國專利公開第2003-2664號揭露一彩色濾光片之水 性剝離液組成物其包括:(a)由無機驗性氫氧化物 (inorganic alkaline hydroxide)、 一烧基銨氫氧化物 1311585 (alkylammonium hydroxide)、烧基芳香基I安氳氧化物 (alkylarylammonium hydroxide)所組成之群族,(b)伸炫基 乙二醇醚(alkylene glycol ether) ’(c)水性胺(aqueous amine compound),及(d)水。然而,此水性剝離液之缺點在於其修 5 復過程的時間增長,其原因在於其對熱保護膜的剝離速率 緩慢。 【發明内容】 J 因此,本發明係為解決上述先前技術之缺失而產生, 10 故本發明之一目的在提供水性光阻剝離液組成物以輕鬆脫 除各種在薄膜電晶體液晶顯示器製造過程中所產生而不易 經由習知方法脫除之光阻劑,該光阻劑係選自於環氧基、 環氧丙烯酸基、丙烯酸基紫外線保護膜和熱保護膜、一感 光間隔材光阻、一彩色濾光片光阻,一黑色矩陣樹脂及使 15 用於異丙醇(IPA)和多區域垂直配向(MVA)模式之族群者, 且本發明可以將剝離過程中下層金屬層和玻璃基板的受腐 蝕程度降到最低,將剝離液之替換週期增至最大,因為其 蒸氣損失率低且其大規模再生彩色基板和薄膜電晶體基板 的剝離速率高。 20 為達成上述目的,本發明提供水性光阻剝離液組成 物,其根據組成物之總重,包括0.3至15重量百分比之無機 驗性化合物;0.1至12重量百分比之四烧基銨氫氧化物化合 (tetraalkylammonium hydroxide compound) ; 0.1 至 40 重量 百分比之水溶性有機溶劑;及33至99.5重量百分比之水。 1311585 【實施方式】 以下,將詳細說明本發明之較佳實施例。 本發明之水性光阻剝離液組成物包括一無機鹼性化合 物。該無機鹼性化合物的作用在於減弱鍵結成份和/或組成 5 剝離液組成物之經熟成之多功用單體之間的鍵結力而可容 易將一光阻劑自一玻璃表面脫除。無機驗性化合物之一例 子可以包括,但不限定於’碳酸納(sodium carbonate)、礙 酸钟(potassium carbonate)、石夕酸納(sodium silicate)、石夕酸 鉀(potassium silicate)、氫氡化鈉(sodium hydroxide)、氫氧 10 化鉀(P〇tassium hydroxide)等,只要其具有上述作用即可。 其中較佳為使用氫氧化鈉或氫氧化卸。 本發明中’根據剝離液組成物之總重,該無機鹼性化 合物之含量為0.3至15重量百分比。該無機鹼性化合物含量 若低於0.3重量百分比,會有剝離性不良之缺失,而其含量 15若超過15重量百分比,則會有因水分蒸發及有機溶劑的關 係而使一有機鹽和一無機鹼性化合物沈澱成固狀的缺失, 、一進而造成玻璃基板嚴重的損傷。無機鹼性化合物較佳含量 為1至7重量百分比。 四.烧基兹氧化物化合物(tetraaikyiammonium 20 hydroxide comP〇und) ’其包含於本發明之水性光阻剝離液 組成物中,如下列化學式1所示: 【化學式1】 1311585
R
OH R2-n+-r4 r3 其中,心至^係獨立地為可被取代的烷基或不可被取 代的烷基。不可被取代的烷基包括具有1至4個碳原子之烷 基,其係選自由曱基(methyl group)、乙基(ethyl group)、n-5 丙基(n-propyl group)、n-丁基(n-butyl group)等之基團所組 成者。而可被取代的烷基較佳為一具1至4個碳原子烷基, 該烷基中之氫原子可以被羥基、烷氧基或羥烷基 (hydroxyalkyl)取代,可被取代的烧基的例子包括2-羧乙基 (2-hydroxy ethyl group) 、 3-經丙基(3-hydroxy propyl 10 group)、4-經丁基(4-hydroxy butyl group)、2-甲氧基乙基 (2-methoxyethyl group) 、 2-(2-經乙.氧)乙基 (2-(2-hydroxyethoxy) ethyl group)等。四烧基铵氫氧化物化 合物(tetraalkylammonium hydroxide compound)的例子包 括四甲基銨氫氧化物(tetramethyl ammonium hydroxide)、 13 四乙基銨氫氧化物(tetraethylammonium hydroxide)、四正丙 基銨氳氧化物(tetra n-propylammonium hydroxide)、四正丁 基銨氳氧化物(tetra n-butylammonium hydroxide)、四(2-經 乙基)銨氫氧化物(tetra(2- hydroxyethyl)ammonium hydroxide)、三曱基(2-經乙基)敍氫氧化物 20 (trimethyl(2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide)、三曱基 2-(2-經乙氧)乙基銨氫氧化物(trimethyl2-(2-hydroxy ethoxy)ethylammonium hydroxide)、二曱基二乙基錄氫氧化 1311585 物(dimethyldiethylammonium hydroxide)等。上述化合物可 以單獨使用也可以混和使用。 四烷基銨氫氧化物,其主要作用在於將紅、綠、藍光 之彩色光阻自彩色濾光片上移除,其含量依據本發明水性 5 光阻剝離液組成物之總重,而為〇. 1至12重量百分比且較佳 的為0.1至8重量百分比。四烧基錄氫氧化物的含量若低於 0 · 1重量百分比,則其具有不良的光阻劑剝離性,而其含量 若超過12重量百分比,雖然其具有能輕鬆剝離光阻劑的優 點,但是卻會造成玻璃基板的腐#。 10 本發明之水性光阻剝離液組成物包括一水溶性有機溶 劑。該水溶性有機溶劑只膨脹光阻劑中被熟成的部分,故 可有效地將該經熟成的部分從基板上剝離,且其可特別有 效運用於熱保護膜之脫除。 該水溶性有機溶劑包括氨類(amides)如二甲基亞硬 15 (dimethylsulfoxide)、N-曱基-2- °比口各 _ (N-methyl-2-pyrrolidinone)、N-乙基 2-°比洛酮.(N-ethyl-2-pyrrolidinone)、 / N-丙基-2-0比洛酮(N-propyl-2-pyrrolidinone)、.N-經甲基-2- 0比 口各酮(N-hydroxymethyl-2-pyrrolidinone)、N-經-2-乙基 °比 洛酮(N-hydroxyethyl-2-pyrrolidinone)、N-曱基曱醯胺 2〇 (N-methylformamide)、N,N-二曱基曱醯胺(N,N-dimethyl -formamide)、N-甲基乙醯胺(N-methylacetamide)、N-二曱 基乙醯胺(N-dimethylacetamide)、N,N、-二曱基乙醯胺 (Ν,Ν-dimethyl acetamide) 、 Ν,Ν-二乙基乙酿胺 (Ν,Ν-diethylacetamide)等;諷類(sulfones)如二甲颯 10 1311585 (dimethylsulfone)、二乙颯(diethyl- sulfone)、雙(2-經乙基) 石風(bis(2-hydroxyethyl)sulfone)、四亞曱 基石風 (tetramethylenesulfone)等;醇類如甲醇(methylalcohol)、乙 醇(ethyl alcohol)、丙醇(propylalcohol)、丁醇(butyl 5 alcohol)、戊醇(pentylalcohol)、己醇(hexyl alcohol)、異丙 醇(isopropylalcohol)、異丁醇(isobutylalcohol)等及其衍生 物。以上化合物可獨立使用或混和使用。 上述水溶性有機溶劑之含量,依據水性剝離液組成物 一 j 的總重,而為0.1至40重量百分比,且較佳的為1至3〇重量百 10 分比。該水溶性有機溶劑之含量若少於〇. 1重量百分比,則 對光阻劑的膨脹效果不良因而造成其剝離性不良,而該水 溶性有機溶劑的含量若超過40重量百分比,其雖然會顯現 出絕佳的光阻劑膨脹效果’但是卻會有因組成物穩定性降 低而使用時間增長之不良剝離性。 15 本發明之水性光阻剝離液組成物中,水可以作為一溶 劑,因其係一環保溶劑且其具有穩定及抗易燃之剝離性等 )特性。使用於本發明水性光阻剝離液組成物之水較佳為純 水或超純水(ultra pure water)如離子交換水(i〇n_exchanged water)、蒸餾水等,且其含量依本發明組成物之總重,而為 20 33至99.5重量百分比。 同時’ 一胺化合物或一含伸烷基乙二醇基(alkylene glycol-based)之有機溶劑更可以添加以增進本發明水性光 阻剝離液組成物之剝離性。由於鈦(Ti)和鋁(A1)的腐蝕性, 該複合胺較佳為在251:的水溶液中具有酸分解常數(acid 11 1311585 dissociation constant, pH)7.5至 13.5之負對數。胺化合物之 一例子包括燒醇胺類(alkanol amines)如經胺 (hydroxylamine)、乙酵胺(monoethanolamine)、二乙醇胺 (diethanolamine)、三乙醇胺(triethanolamine)、2-(2-氨基乙 5 氧基)乙醇(2-(2-(aminoethoxy)ethanol)、Ν,Ν-二曱基乙基胺 (Ν,Ν-dimethylethylamine) 、 Ν,Ν-二乙 基醇胺 (Ν,Ν-diethylethanolamine) 、 Ν,Ν-二丁 基醇胺 (Ν,Ν-dibutylethanolamine) 、 Ν- 曱 基醇胺 w (N-methylethanolamine) 、 N- 乙 基醇胺 10 (N-ethylethanolamine)、N-丁 基醇胺(N-butylethanolamine)、 N-甲基二乙醇胺(N-methyl diethanolamine)、單異丙醇胺 (monoisopropanol- amine)、三異丙醇月安(triisopropanolamine) 等;聚伸燒基多胺類(polyalkylene polyamines)如二伸乙烧. 三胺 (diethylenetriamine)、.三伸 乙 烧.四.胺 15 (triethylenetetraamine)、伸丙二胺(propylene- diamine)、Ν,Ν-二乙基伸乙二胺(N,N-diethyl ethylenediamine)、Ν,Ν’-二乙 基伸乙二胺(N,N’-diethylethylenediamine)、1,4- 丁二胺 (1,4-butanediamine) 、N-乙基伸乙二胺(N-ethyl-ethylenediamine)、1,2-丙二胺(l,2-propane- diamine)、1,3-20 丙二胺(l,3-propanediamine) 、 1,6-己二胺 (l,6-hexanediamide)等;脂肪胺基類(aliphatic amines)如 2-乙基己胺(2-ethyl- hexylamine)、二辛基胺.(dioctylamine)、 三丁胺(tributylamine)、三丙胺(tripropylamine)、庚胺 (heptylamine)、環己胺(cyclohexyl amine)等;芳香胺類 12 1311585 -: (aromatic amines)如苯甲胺(benzyl_ amine)、二苯胺 (diphenylamine)等’環形胺(叮化^ amines)如派嗓 (piperazine)、N-甲基哌嗪(N_ methyl_piperazine)、曱基哌嗪 (methyl- piperazine)、羥基乙基哌嗓(hydroxylethyl_ 5 piperazine)等。上述化合物中最佳為使用單乙醇胺、2_(2_ 氨基乙氧基)乙醇、二伸乙三胺、三伸乙四胺、環己胺及哌 嗪。該胺化合物之含量根據組成物之總重及其穩定性與剝 離性可為1至30重量百分比。 — 此外,含伸烷基乙二醇基之有機溶劑包括,但不限定 10 於’一二甘醇(carbitols)有機溶劑如甲基二甘醇 (methylcarbitol)、乙基二甘醇(ethylcarbitol)、丁基二甘醇 (butyl carbitol); — 多元醇(polyhydric alcohols)之乙二醇有 機溶劑如乙二醇(ethylene glycol)、乙二醇甲醚(ethylene glycol monomethyl ether)、乙二醇乙醚(ethylene glycol 15 monoethyl ether)、乙二醇 丁 _ (ethylene glycol monobutyl ether)、乙二醇甲謎醋酸醋(ethylene glycol monome.thyl ether acetate) 、. 乙 二 醇.乙 躂 醋.酸 西旨 " (ethyleneglycolethyletheracetate) 、.二 甘 醇 . (diethyleneglycol)、二乙二醇甲醚(diethylene glycol 2〇 monomethyl ether)、二乙二醇乙醚(diethylene glycol monoethyl ether)、二乙二醇丁醚(diethylene glycol monobutyl ether);及其衍生物。其可以單獨使用或混合使 用。根據組成物之總重,該伸烷基乙二醇基之有機溶劑之 含量依其剝離性和水容性可為1至45重量百分比。 13 1311585 且,一界面活性劑(surfactant)可以添加以便更有效地 移除光阻劑成分。界面活性劑之作用在於降低光阻薄膜與 玻璃基板之間的相互作用力’因而降低表面能(surface energy)以讓一驗性化合物和一有機溶劑可滲透入一光阻塗 5 覆薄膜,最後提供玻璃基板優良之剝離性。此外,界面活 性劑可以避免讓已經剝離之光阻劑成分再次依附於玻璃基 板上,並且也可以避免水性剝離液因氧化作用而被漂白, 即使長時間使用亦然。界面活性劑並無特別限定,只要其 j 能夠使用於水性光阻剝離液即可。例如,界面活性劑包括 .... _ 10 亞礙基(sulfoxide-based)或羧基(carboxy-based)陽子界面活 性劑(cationic surfactant)如烧基苯續酸鹽(alkylbenzene sulfonate)、烧基硫酸鹽(alkyl-sulfate)、聚氧烧基鱗硫酸鹽 (polyoxyalkyl-ethersulfate)、烧烴磺酸(alkansulfonate)、聚 氧化乙烯烧基趟叛酸甲_醋(polyoxyethylene alkylether 15 methylcarboxylate)、烧基填酸酯(alkyl-phosphate)、烧基確 基琥 ίό 酸醋(alkylsulfo- succinate)、稀烴確酸 (olefinsulfonate)、艾斯基醯胺烧基硫酸酯(aceylamidoalkyl sulfate)、艾斯基肉胺酸醋(aceylsarcosinate)、.萘確酸納福馬 林濃縮物(sodium naphthalene sulfonate formalin condensate) 20 等’或具5至20重量百分比環氧乙烧加成物(ethylene oxide adduct)之非離子界面活性劑,其可以單獨使用或混合使 用。根據組成物之總重,界面活性劑之含量依其添加物之 效果和水性剝離液處理後之水洗特性較佳為〇.〇5至10重量 百分比。 14 1311585 本發明之水性光阻剝離液組成物顯現一優良之剝離 性’一下層基板之極低腐蝕度,及一低蒸發和熟成特性。 本水性剝離液組成物亦允許玻璃基板之大量製造,因其對 環境污染低,且’如上所述’使用水作為組成物之一溶劑 5 而在此範疇中能夠保持穩定地作用。因此,不像習知彩色 慮光片或薄膜電晶體基板因錯誤的組裝而造成浪費,本發 明水性光阻剝離液組成物所得之彩色瀘光片或薄膜電晶體 基板可以有效地脫除在彩色濾光片和薄膜電晶體基板上大 v $的各種光阻劑,因而使彩色濾光片和薄膜電晶體基板可 10 被再利用。 此後,將配合圖表說明本發明之較佳實施例。在說明 之别’應瞭解說明書及申請專利範圍中所使用之專有名詞 並非限疋於般的或字面的意義,而是依本發明之技術範 15 20 圍相關之思思與觀點詮釋,故創作人可對該專有名詞作最 適切的全釋與^義。因&,以下的說明僅係為了方便說明 而舉例而已,而非限定本專利之範圍,其他相同或經修改 而不離本發明之精神與範圍者,亦可包含在本發明之專利 範圍内。 f施例】-1 6 無機 … 化σ物、水、一四烷基銨氫氧化物及一水 溶性有椽溶劑依下# 下表1所列之ΐ添加入一配有攪拌器之容 、。。而《所得之混合物在室溫下以轉速至_啊授摔 違0.5至3小時1取得水㈣㈣組成物。 【表1】 15 1311585 亲1 離劑組成物(重量百分比) 無機鹼性 四烷基敍 水溶性有 伸烷基乙 水性脂肪 界面活 化 氫 機 二醇基之 胺 水 性 合物 氧化物 溶劑 有機溶劑 化合物 劑 實驗例1 KOH TMAH NMP - - 69 - 1 10 20 - - - 實驗例2 NaOH TMAH NMP - - 71 - 9 5 15 - - - 實驗例3 KOH TEAH NMP - - 63 - 1 11 25 - - - 實驗例4 KOH TPAH NMP - - 53 - 5 12 30 - - — 實驗例5 KOH TMAH NMP - - 73 - 9 3 15 - - 一 實驗例6 KOH TMAH DMAC - - 75 - 9 1 15 - - - 實驗例7 KOH TMAH BzOH - - 72 - 11 2 15 - - - 實驗例8 KOH TMAH DMSO - - 68 - 7 10 15 - - - 實驗例9 KOH TMAH 異丙醇 - - 68 - 7 10 15 - - - 實驗例 KOH TMAH 丁醇 - - 68 - 10 7 10 15 - - - 實驗例 KOH TMAH NMP EC - 63 11 7 10 10 10 - - 實驗例8 KOH TMAH NMP BDG - 63 - 7 10 10 10 - - 實驗例 KOH TMAH NMP - HDA 63 - 12 7 10 10 - 10 - 實驗例 KOH TMAH NMP - MEA 63 - 13 7 10 10 - 10 - 實'驗例 KOH TMAH NMP EC MEA 53 - 14 7 10 10 10 10 - 實驗例 KOH TMAH NMP EC MEA 54 K-290 15 7 8 10 10 10 1 實驗例 KOH TMAH NMP EC MEA 54 OP-10 16 7 8 10 10 10 1 比較例1-3 以備製上述實施例1 -16之方法備製水性光阻剝離液組 成物,唯其係依據下列表2之成分與含量備製而成。 5 【表2】 彔丨. 離劑組成物(重量百分比) KOH TMAH NMP ' DI 比較例1 - 15 30 55 比較例2 20 - 30 50 16 1311585
- 比較例 3 1 20 I 15 1 - 1 65 I 在表 1 和表 2 中 ’ KOH為氫氧化 If (potassium hydroxide), TMAH為四曱基錢氫氧化物 (tetramethyl- ammonium hydroxide) , TEAH為四乙基録氫氧化物 (tetraethylmmonium hydroxide),TP AH 為四丙基敍氫氧化物 5 (tetrapropylammonium hydroxide),NMP為 N-曱基n比口各烧酮 (N-methyl pyrrolidone),DMSO 為二甲亞石風(dimethyl sulfoxide),BzOH為苯甲醇(benzyl alcohol),BDG為二丁二 醇(butyldiglycol),EC為乙基二甘醇(ethylcarbitol),HDA為 i 經胺 (hydroxyl amine)· , MEA 為單乙醇胺 10 (monoethanolamine),DMAC 為 N,N -二甲基乙醯胺 (N,N-dimethyl- acetamide),DI為超純水,K-290 為陽子界面 活性劑其得自於漢儂化學公司(Hannong Chemicals Inc.), 及ΡΟ-ΙΟ為非離子界面活性劑其得自於漢儂化學公司 (Hannong Chemicals Inc.)。 15 上述方法備製之實施例與比較例之水性光阻剝離液組 成物測試以其剝離性、腐蝕性與蒸發率,如下: \ . . <剝離性評估〉
組成物A係由一黑色矩陣樹脂、一彩色濾光片、一紫外 線保護膜及一感光間隔材光阻所組成,而組成物B與組成物 20 A相同,只是以一熱保護膜取代紫外線保護膜。對組成物A 及B進行其剝離性之評估。以實施例及比較例所備製之水性 剝離液組成物保持在55°C的溫度下,然後在10分鐘、15分 鐘及20分鐘時各以超音波清洗(ultrasonic cleaning)調查測 試樣本之剝離程度。評估標準如下: 17 1311585 ◎:在15分鐘内完全去除。 〇:在15到20分鐘内完全去除。 X .:在20分鐘後仍未去除。 <腐钱性評估> 上述剝離性評估所使用之測試樣本亦同時被用來進行 水性剝離液組成物之腐蝕性測試。以實施例及比較例所備 製之水性剝離劑組成物保持在551的溫度下,將組成物浸 入經鉻黑色矩陣(Cr black matrix)處理過之有機基質中為時 25分鐘,然後以超純水洗淨。經此處理的鉻黑色矩陣以一 蚀刻劑去除’然後測量玻璃基板上受損部分與鉻黑色矩陣 剩餘的部分之間的差值以取得玻璃基板的腐蝕程度值。 〇:鉻黑色矩陣與玻璃基板幾乎受到腐银。 △:絡黑色矩陣與玻璃基板部分受到腐勉。 X :鉻黑色矩陣與玻璃基板受相當顯著之腐餘。 15 <蒸發率評估> 在一玻璃燒杯中加入100克之水性剝離液,將其保持在
之百分比。 測試所得的結果列於下列表3。 【表3】 測試 樣本 剝離性
18 1311585 實施例5 ----- 實施例6 ◎ 〇 10 竇施例7 ◎ 〇 11 會施例8 ◎ 〇 10 實施例9 ◎ 〇 9 實施例10 ◎ 〇 11 實施例11 ◎ 〇 11 實施例12 實施例13 ◎ 〇 10 ' ◎ 〇 9 " 竇施例14 ~ —◎ 〇 10 實施例15 ~' ◎ 〇 10 實施例16 ◎ 〇 9 會施例1 ^--- B ◎ 〇 10 竇施例2 ~~~ ◎ 〇 11 實施例3 ◎ 〇 10 實施例4 ◎ 〇 11 實施例5 ◎ 〇 10 實施例6 ~~ ◎ 〇 10 實施例7 ◎ 〇 11 實施例8_ ◎ 〇 10 實施例9 ◎ 〇 9 _ 實施例10 ◎ 〇 11 實施例11 i 〇 11 實施例12 ◎ 〇 10 實施例13 ◎ 〇 9 實施例14 ◎ 〇 10 — 實施例15 __ ◎ Δ 10 實施例16 ◎ 〇 9 — _ 比較例1 A ----- B ◎ 〇 10 比較例2 X Δ 11 比敍例3 X X 12 比較例1 __X X 11 比較例2 X Δ 11 比教例3 X X 12 J X X 11 請參考表3,i t (實施例〗至16)可·:、:二本發明之水性咖 陣樹脂、彩色&片去除各種光阻劑,如黑色 埶佯⑽隹 外線保護膜、感光間隔材光阻 ’同時亦顯示出其腐純非常低。 :時’表3也顯示了根據比較例⑴所得 組成物之剝離性不良且其會腐韻下層基板。 _ 易且5單2本么明之水性光阻剝離液組成物可用於; 林移除一不同的光阻,其經由製造TFT_LCD製程c 19

Claims (1)

1311585 第94125443號,98年4月修正頁 十、申請專利範圍: 1. 一種水性光阻剝離液組成物,依據該組成物之總 , 重,包括0.3至15重量百分比之氫氧化鈉或氫氧化鉀;0.1 , 至12重量百分比之一四烷基銨氫氧化物 * 5 (tetraalkylammonium hydroxide compound) ; 0.1 至 40重量百 分比之一水溶性有機溶劑;以及33至99.5重量百分比之水。 2. 如申請專利範圍第1項所述之水性光阻剝離液組成 物,其中,該四烧基氨氳氧化物係選自於由四曱基銨氫氧 化物(tetramethylammonium hydroxide)、四乙基銨氫氧化物 1〇 (tetraethylammon.ium hydroxide)、四正丙基銨氫氧化物(tetra n-propylammonium- hydroxide)、四正 丁基錢氳氧化物(tetra n-butylammonium hydroxide)、四(2-經乙基)錢氫氧化物 (tetra(2-hydroxyetliyl)ammonium hydroxide)、三甲基(2-經乙 基)銨氫氧化物(trimethyl(2-hydroxyethyl)ammonium 15 hydroxide)、三曱基2-(2-經乙氧基)乙基銨氫氧化物 (trimethyl2-(2-hydroxyethoxy) ethylammonium hydroxide)及 - 二甲基二乙基銨氫氧化物(dimethyldiethylammonium . hydroxide)之族群所組成者。 3. 如申請專利範圍第1項所述之水性光阻剝離液組成 20 物,其中,該水溶性有機溶劑係選自於由二甲基亞楓 (dimethylsulfoxide) 、N-曱基-2- °比 σ各酮(N-methyl-2-pyrrolidinone) 、 N-乙基-2- °比 °各 _ (N-ethyl-2-pyrrolidinone) 、 N-丙基-2- σ比口各酉同 (N-propyl-2- 21 1311585 pyrrolidinone)、N-經曱基-2-°比0各酮(N-hydroxymethyl-2-pyrrolidinone)、N-經乙基-2-0 比 口各酮 (N-hydroxy ethyl-2- pyrrolidinone)、N-曱基甲醯胺(N-methylformamide)、Ν,Ν-二甲基曱醯胺(N,N-dimethylformamide)、N-甲基乙酿胺 5 (N-methyl acetamide) 、 N-二曱 基 乙酸胺 (N-dimethylacetamide) 、 N, N -二甲基乙醯胺 (Ν,Ν-dimethyl acetamide) 、 Ν,Ν-二乙基乙·醯胺 (N,N-diethylacetamide)、二甲石風(dimethylsulfone)、.二乙颯 (diethylsulfone)、雙(2-經乙基)石風(bis(2-hydroxyethyl) 10 sulfone)、四亞甲基颯(tetramethylenesulfone)、甲醇 (methylalcohol)、乙醇(ethylalcohol)、丙醇(propylalcohol)、 丁醇(butylalcohol)、戊醇(pentylalcohol)、己醇 (hexylalcohol)、異丙醇(isopropylalcohol)、異 丁醇 (isobutylalcohol)及其衍生物之族群所組成者。 15 4.如申請專利範圍第1項所述之水性光阻剝離液組成 物,更包括一胺化合物(amine compound)。 5.如申請專利範圍第1項所述之水性光阻剝離液組成 物,更包括一伸烧基乙二醇基的(alkylene glycol-based)有機 溶劑。 20 6.如申請專利範圍第5項所述之水性光阻剝離液組成 物,更包括一界面活性劑(surfactant)。 22
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