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TWI388439B - 立體圖紋形成方法 - Google Patents

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TWI388439B
TWI388439B TW099125609A TW99125609A TWI388439B TW I388439 B TWI388439 B TW I388439B TW 099125609 A TW099125609 A TW 099125609A TW 99125609 A TW99125609 A TW 99125609A TW I388439 B TWI388439 B TW I388439B
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photoresist layer
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Chien Min Chang
Jung Chin Wu
Wan Li Chuang
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Compal Electronics Inc
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/24—Curved surfaces
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B44—DECORATIVE ARTS
    • B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
    • B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
    • B44C1/22—Removing surface-material, e.g. by engraving, by etching
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    • G—PHYSICS
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Description

立體圖紋形成方法
本發明是有關於一種立體圖紋形成方法，且特別是有關於一種在成型工件上形成立體圖紋的方法。
目前眾多電子裝置，例如筆記型電腦、行動電話或數位相機等，常利用金屬材料作為外觀構件的材質。為了增添電子裝置整體美感的設計，以吸引消費者的注意，常需在外觀構件上形成各式圖紋。現有以雷射在金屬製成型工件表面雕刻而產生的圖紋，常因成型工件的表面輪廓而影響其雕刻品質。舉例來說，成型工件於表面輪廓的深淺差異常會導致雷射光束於加工時聚焦不易，而使得圖紋變得粗糙，或圖紋的輪廓的深度過淺甚或不明顯。
本發明提供一種立體圖紋形成方法，以在成型工件上形成立體圖紋。
本發明的一實施例提出一種立體圖紋形成方法。此形成方法的步驟如下，本發明係揭露一種立體圖紋形成方法，步驟包含：提供一成型工件，其內表面與外表面分別具有一第一光阻層與一第二光阻層；將成型工件置於一透光治具上；曝光及顯影部分第一光阻層與第二光阻層，使得第一光阻層形成一圖案化光阻層，第二光阻層形成一蝕刻保護層；蝕刻成型工件，以使成型工件的外表面形成一立體圖紋；以及移除圖案化光阻層與蝕刻保護層。
基於上述，在本發明的上述實施例中，成型工件內表面所設置蝕刻保護層，而可於蝕刻過程中可保護成型工件的內表面。此外，藉由可撓式光罩能適應成型工件的表面輪廓的特性，而可平順地吸附在外表面的光阻層上，以順利地在後續曝光、顯影與蝕刻製程中，在成型工件的外表面形成立體圖紋。
為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1至圖8是依照本發明一實施例的一種立體圖紋形成方法的示意圖。請先參考圖1，在本實施例中，首先提供一成型工件130，其用以作為一電子裝置(未繪示)的外觀件。成型工件130具有一外表面S1與背對此外表面S1的一內表面S2，其中外表面S1呈外凸狀，而內表面S2呈內凹狀。換句話說，成型工件130可以是將一平板金屬殼體藉由沖壓或折彎等技術而製作成的一立體成型殼體。惟本實施例並未以此為限。
接著，在成型工件130的外表面S1與內表面S2上各形成一第一光阻層110與一第二光阻層120。本實施例並未限制第一光阻層110與第二光阻層120形成在成型工件130上的方式，製作者可藉由將成型工件130浸泡於光阻液中、噴塗光阻液在成型工件130的表面上或以其他合適的方式將第一光阻層110與第二光阻層120分別形成在成型工件100之外表面S1上與內表面S2上。
請同時參考圖2及圖3，將已形成有第一光阻層110與第二光阻層120的成型工件130安裝並定位在一治具140上。接著，提供一可撓性光罩150，其例如是以一種軟性材料(TPU、PET、PC、CPP或OPP...等)所製成的薄膜。將此可撓性光罩150置放在成型工件130上方並對準其外表面S1後，藉由真空將可撓式光罩150吸附於成型工件130的外表面S1上，以遮蔽部分第一光阻層110。此時，藉由真空而能排除可撓式光罩150與成型工件130的外表面S1之間可能存在的空氣或間隙，讓可撓式光罩150能平順地吸附在成型工件130的第一光阻層110上。
接著，請參考圖4，將成型工件130進行曝光製程，以使從可撓式光罩150所暴露出的部分第一光阻層110因曝光而產生化學反應。在此值得注意的是，治具140的材質具有可透光的特性，其例如是以透明的PC或壓克力材料所製成。據此，當曝光光源200對第一光阻層110進行曝光時，曝光光源200所產生的光線亦能穿透治具140而到達位於成型工件130之內表面S2上的第二光阻層120，以完全曝光第二光阻層120。
在本實施例的曝光製程中，曝光光源200可提供紫外線以將曝光第一光阻層110與第二光阻層120，然本實施例並未以此為限。此外，可撓式光罩150的材料尚可選用具有耐紫外線、耐磨與不易變形的材料。
請參考圖5及圖6，在完成圖4的曝光製程之後，接著進行顯影製程，藉由顯影劑(未繪示)將圖5中部分未受曝光的第一光阻層110溶解移除，僅留下經過曝光後的部分第一光阻層110，而形成一圖案化光阻層110A。在此同時，由於第二光阻層120已完全曝光，因此第二光阻層120並不會與顯影劑發生作用而仍能維持於內表面S2上。
然而，前述實施例中，第一光阻層與第二光阻層之光阻液係選用正光阻液，因此，未受到撓性光罩遮蔽而受曝光的部分可被顯影劑溶解移除。除此之外，第一光阻層亦可選用負光阻液，顯影劑係溶解未受曝光的部分第一光阻層。
請參考圖7及圖8，接著，便對成型工件130進行蝕刻製程。在本實施例中，蝕刻成型工件130的方式係為一濕式蝕刻，其中以圖案化光阻層110A作為蝕刻罩幕而蝕刻成型工件130的外表面S1。值得注意的是，經過曝光製程與顯影製程後的第二光阻層120在此成為一蝕刻保護層120A，藉以保護成型工件130的內表面S2。
最後，對成型工件130的外表面S1完成蝕刻之後，便移除成型工件130上的圖案化光阻層110A與蝕刻保護層120A。屆此，便完成在成型工件130形成立體圖紋132的製作過程。
綜上所述，在本發明的上述實施例中，成型工件內表面所設置蝕刻保護層，而可於蝕刻過程中可保護成型工件的內表面。此外，藉由可撓式光罩能適應成型工件的表面輪廓的特性，而可平順地吸附在外表面的光阻層上，以順利地在後續曝光、顯影與蝕刻製程中，在成型工件的外表面形成立體圖紋。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
110．．．第一光阻層
110A．．．圖案化光阻層
120．．．第二光阻層
120A．．．蝕刻保護層
130．．．成型工件
140．．．治具
150．．．可撓式光罩
200．．．曝光光源
S1．．．外表面
S2．．．內表面
圖1至圖8是依照本發明一實施例的一種立體圖紋形成方法的示意圖。
110．．．第一光阻層
120．．．第二光阻層
130．．．成型工件
140．．．治具
150．．．可撓式光罩
200．．．曝光光源
S1．．．外表面
S2．．．內表面

Claims (7)

  1. 一種立體圖紋形成方法，包括：提供一成型工件，其內表面與外表面分別具有一第一光阻層與一第二光阻層；將該成型工件置於一透光治具上；曝光及顯影部分該第一光阻層與該第二光阻層，使得該第一光阻層形成一圖案化光阻層，該第二光阻層形成一蝕刻保護層；蝕刻該成型工件，以使該成型工件的該外表面形成一立體圖紋；以及移除該圖案化光阻層與該蝕刻保護層。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的立體圖紋形成方法，其中係以一可撓性光罩曝光該第一光阻層。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的立體圖紋形成方法，其中係以真空吸附的方式將該可撓性光罩緊密貼附於該第一光阻層。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的立體圖紋形成方法，其中該第一光阻層與該第二光阻層為同時曝光。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的立體圖紋形成方法，其中該第一光阻層與該第二光阻層為同時顯影。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的立體圖紋形成方法，其中該成型工件材質係為金屬，經過一沖壓製程所製成。
  7. 如申請專利第1項所述的立體圖紋形成方法，其中該成型工件係為一立體成型的殼體。
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