TWI381377B - Optical information recording media - Google Patents
Optical information recording media Download PDFInfo
- Publication number
- TWI381377B TWI381377B TW097113368A TW97113368A TWI381377B TW I381377 B TWI381377 B TW I381377B TW 097113368 A TW097113368 A TW 097113368A TW 97113368 A TW97113368 A TW 97113368A TW I381377 B TWI381377 B TW I381377B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- light
- information recording
- durability
- reflectance
- layer
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 57
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 39
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 description 80
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 56
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 50
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 27
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 26
- 230000008859 change Effects 0.000 description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 12
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 11
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 9
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 9
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 7
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001152 Bi alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/258—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers
- G11B7/259—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers based on silver
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Description
本發明係關於譬如CD-ROM(唯讀記憶體,read Only Memory)、DVD-ROM、BD(藍光光碟)-ROM、HD DVD-ROM等讀取專用之光資訊記錄媒體,特別係關於如BD及HD DVD等使用藍色雷射光進行再生之讀取專用的光資訊記錄媒體者。
光資訊記錄媒體(光碟),基於記錄再生原理,大致分為讀取專用型、追記型、改寫型3種類。
圖1係模式地表示讀取專用型光碟之代表性構成者。該讀取專用型光碟,具有在透明等基板1之上依序積層以Ag(銀)、Al(鋁)、Au(金)等為主成分之反射膜2及光透過層3之構造。於基板1上,記錄有由凹凸之陸區.凹部(記錄資料)之組合的資訊,譬如可使用厚度1.1 mm、直徑12 cm之聚碳酸酯製基板。光透過層3係藉由貼合光透過片材或藉由光透過性樹脂之塗布.硬化而形成。記錄資料之再生,藉由檢測照射於光碟之雷射光之位相差及反射差來進行。
在圖1之例中,雖表示在基板1上分別具有1層反射膜2及光透過層3之1層光碟,但例如如圖2所示,亦可使用具有第1資訊記錄面11及第2資訊記錄面12之2層光碟。即,該2層光碟,在記錄有基於凹凸之陸區.凹部(記錄資料)之組合的資訊之基板1上,具有依序積層第1反射膜2A、第1光透過層3A、第2反射膜2B及第2光透過層3B之構成。在第1光透過層3A上藉由陸區.凹部之組合而記錄有與基板1不同之
資訊。
迄今,作為使用於光碟之反射膜,使用有Au、Cu(銅)、Ag、Al及以該等為主成分之合金。
其中,以Au為主成分之反射膜具有化學穩定性優異、記錄特性之經時變化少之優點。此種反射膜極其昂貴,又,對於使用於BD及HD DVD之記錄再生之藍色雷射光(波長405 nm),有無法獲得足夠高的反射率之問題。又,雖然以Cu為主成分之反射膜較廉價,但在習知之反射膜材料中化學穩定性最差。又,與Au同樣具有對於藍色雷射光反射率低之缺點,用途受到限制。至於以Al為主成分之反射膜,具有比Ag系及Au系之反射膜化學穩定性差之缺點。
與此相對,以Ag為主成分之反射膜,在實用波長領域之400~800 nm範圍內顯示有足夠高的反射率,現在,在使用藍色雷射之光碟中,從反射率及透過率等光學特性之觀點觀之,可使用之反射膜用金屬僅為Ag。但,純Ag在化學穩定性及記錄特性之經時變化(結晶組織之熱穩定性)方面比Au系反射膜差。因此,以耐久性之改善為目的,已提案有各種Ag基合金(譬如、專利文獻1~專利文獻4)。
在專利文獻1中揭示有包含Au、Cu、Pd(鈀)、Rh(銠)等元素之Ag基合金,又在專利文獻2中揭示有包含Zn(鋅)等元素之Ag基合金。在專利文獻3及專利文獻4中,由與本申請人同一申請人揭示有光碟用反射膜。其中,在專利文獻3中,揭示藉由於Ag中添加Nd(釹)等稀土類元素來抑制結晶組織之經時變化的反射膜,在專利文獻4中,揭示藉由
於Ag中添加Bi(鉍)來提高保持於高溫高濕環境時的耐久性之反射膜。
但,對於光碟用反射膜之耐久性之要求愈來愈高,特別,在如BD-ROM及HD DVD-ROM之使用藍色雷射之光碟中,需求更高之耐久性(不發生經時劣化)。一般,對於光碟用反射膜,除要求高反射率以外,也要求保持於用於評價經時劣化之高溫高濕環境下時之光碟特性變化少(耐環境性)。再者,在使用藍色雷射之光碟中,除上述特性以外,還要求譬如,在保持於用以評價照射太陽光及熒光燈之光時之光碟特性劣化而進行之高強度光照射環境下的試驗(光照射加速試驗)中特性變化小(耐光性),及對於用以評價反復再生時之特性變化之試驗的耐久性(反復再生耐久性)優異。此者,譬如,在BD-ROM中,形成於作為讀取用雷射光之入射側的反射膜上之光透過層之厚度為約100 μm,由於相比習知之光碟CD及DVD更薄,基於光透過層之反射膜之保護效果小。因此,對於使用於BD-ROM等之反射膜,要求相比習知更高之耐久性。
專利文獻1:日本特開平6-208732號公報專利文獻2:日本特開2002-117587號公報專利文獻3:日本特開2002-15464號公報專利文獻4:日本專利第3655907號明細書
本發明係鑒於相關問題點發明而成者,其目的係提供一種具有反射膜之光資訊記錄媒體,該反射膜不僅具有高反
射率、保持於高溫高濕環境下時之光碟特性變化少(耐環境性優異),且保持於高強度光照射環境下時之耐光性、及對於反復再生試驗之耐久性(反復再生耐久性)亦優異,特別是適宜使用於如BD-ROM及HD DVD-ROM之使用藍色雷射之光碟的耐久性方面極其優異。
本發明之第1光資訊記錄媒體,係在基板上依序積層至少1層各反射膜及光透過層之再生專用的光資訊記錄媒體,反射膜係以Ag為主成分之合金(Ag基合金)。該Ag基合金含有0.01~1.0原子%之Bi及0.1~13.0原子%之Cu。
本發明之第2光資訊記錄媒體,係在基板上依序積層第1反射膜、第1光透過層、第2反射膜、及第2光透過層之讀取專用的光資訊記錄媒體,第1反射膜及前述第2反射膜係由含有0.01~1.0原子%之Bi及0.1~3.0原子%之Cu的Ag基合金所構成。第1反射膜及前述第2反射膜,只要滿足上述要件,組成既可相同亦可不同。Ag基合金以含有稀土類元素,譬如含有0.05~1.0原子%之Nd為佳。又,資訊之再生最好藉由藍色雷射來進行。
根據本發明,可提供一種具有不僅反射率高、耐環境性優異,且,耐光性及反復再生耐久性亦優異之反射膜之讀取專用光資訊記錄媒體。
本發明者為提供一種光資訊記錄媒體,其為具有耐久性(耐環境性、耐光性、反復再生耐久性)優異之反射膜的讀取專用光資訊記錄媒體,特別是作為利用藍色雷射進行再
生之BDROM及HD DVD-ROM等而可適宜使用之光資訊記錄媒體,而進行了積極探討。
其結果發現,在BD-ROM中,若數千萬回地反復再生同一資料單位則讀取錯誤增加,而無法讀取。基於該基礎實驗,本發明者,基於「如迄今為止,僅以使用於光資訊記錄媒體之一般耐久性試驗(保持於溫度80℃、相對濕度約85%之高溫高濕環境下之加速環境試驗、及相比通常環境保持於高強度之光照射下之光照射加速試驗)來評價耐久性為不充分,有必要提供在反復再生耐久性方面亦優異之反射膜」之觀點,進行了進一步探討。其結果發現,(a)若使用含有特定量Bi及Cu之Ag-Bi-Cu合金,則可取得不僅具有高反射率、耐環境性及耐光性優異,且反復再生耐久性亦非常優異之反射膜,(b)進而,若使用在上述Ag-Bi-Cu合金中含有稀土類元素之Ag-Bi-Cu稀土類合金,則可進一步提高耐環境性,而完成本發明。
又,本說明書中,所謂「耐久性優異」係指,在保持於高溫高濕環境下時的耐環境性、保持於高強度光照射環境下時的耐光性、及對於反復再生之反復再生耐久性之方面均優異。
詳細而言,「耐環境性性優異」係指,在溫度80℃、相對濕度約85%之環境下進行保持240小時之加速環境試驗,測定加速環境試驗前後之反射率之變化時,反射率變化量為±3%以內之者。藉此,可評價高溫高濕下之長期保存時之耐久性。
又,「耐光性優異」係指,在進行照射240小時之為通常室內環境20倍強度的光之光照射加速試驗、測定光照射加速試驗前後之反射率變化時,反射率變化量為±3%以內者。
「反復再生耐久性優異」係指,如後述實施例所詳述,在進行1200萬次單一資料單位之再生、測定讀取信號錯誤指標的符號錯誤率(SER)時,SER為10×10-4
以下者。
以下,對達成上述構成之詳情及本發明所使用之Ag基合金進行說明。
本發明者,在開發耐久性優異之新穎Ag基合金時,詳細地探討了前述專利文獻4所記載之Ag基合金、詳細而言、Ag-Bi-Z群元素(在此,所謂Z群元素指由專利文獻4所揭示之「Cu、Au、Rh、Pd、Pt(白金))之元素所構成之群)及Ag-Bi-Z群元素-稀土類元素合金為基礎,Bi及稀土類元素、各種Z群元素對耐久性(特別是反復再生耐久性)之影響。具體而言,使用由各種組成所構成之Ag基合金濺鍍靶、在形成有凹部.陸區之聚碳酸酯基板上藉由濺鍍法成膜各種Ag合金薄膜之後,成膜紫外線硬化樹脂之光透過層製作1層BD-ROM光碟,檢查各種耐久性。其結果,判明了以下事情。
首先,為維持光資訊記錄媒體所要求之習知特性,即高反射率、確保良好之耐環境性及耐光性,Bi之添加為不可或缺。又,在此尚未考慮反復再生耐久性。如後述實施例所示,相比於Bi無添加群,添加了Bi之群提高了上述之特
性。推測出耐環境性之提高,係由於藉由Bi之添加而抑制Ag原子之擴散、抑制因熱使表面粗糙度增大,可明顯抑制加速環境試驗後之反射率降低。又,耐光性試驗結果,雖然耐光性試驗後之跳動值變化小(表中未表示),但可察見反射率下降。該理由雖然其細節尚不明確,但可推測起因於直接積層於Ag基合金反射膜上之紫外線硬化樹脂之未反應成分等與Ag基合金中所含之稀土類元素等的反應之故。
但,亦已判明僅添加Bi,無法提高反復再生耐久性(參照後述實施例)。為追究反復再生劣化之原因,在藉由掃描電子顯微鏡分析由不含Cu之Ag-Bi基合金構成之反射膜時,可於反射膜之雷射光入射側觀察到Ag粒子析出,藉此,可推測出引起雷射散亂與凹部形狀之變化而SER增加。
因此,為提高反復再生耐久性,以Ag-Bi基合金為基礎,多種改變Z群元素之種類來進行實驗。其結果判明,在Z群所包含之元素中,特別,只要在使用Cu之情況,反復再生耐久性提高(參照後述實施例)。詳細而言,在添加有Cu之情況,可維持基於Ag-Bi合金之優異特性(高反射率、優異之耐環境性及耐光性),且即使進行反復再生試驗亦完全未見SER增加。此可大概推測係由於:藉由添加比Ag容易氧化之Cu,在反射膜之紫外線硬化樹脂之界面形成Cu氧化物層等,此係作為保護層而作用,該Cu氧化物層亦具有抑制Ag原子之表面擴散之作用。
與此相對,在使用Cu以外之Z群元素時,如後述實施例
所示,完全未看出如添加Cu般使提高反復再生耐久性之效果。其理由細節雖尚不明確,但可推測,Pd、Au、Pt、Rh為化學性穩定,由於與Ag同樣或更加難以氧化,因此不在表面形成氧化物保護層,與添加Cu同樣之反復再生耐久性提高效果未有效發揮。又,在後述實施例中,雖然未示添加有Rh時之數據,但可推測Rh為與Au及Pd同樣之貴金屬元素,無助於提高反復再生耐久性。
又,對代替Z群元素而添加有專利文獻2所記載之Zn的Ag合金亦進行了耐久性試驗,如後述實施例所示,無法獲得與使用Pd等時同樣之結果,反復再生耐久性降低。
由此可判斷出,尤其僅在使用含有Cu之Ag-Bi-Cu合金時,可獲得全部滿足所需要特性的讀取專用之光資訊記錄媒體。
再者,本發明者在探討稀土類元素對耐久性之影響時,可判斷出對Ag-Bi-Cu合金進而添加稀土類元素後,耐環境性進一步提高。
鑒於以上之實驗結果,在本發明中,作為耐久性極其優異之讀取專用光資訊記錄媒體用之反射膜,特定為Ag-Bi-Cu合金,以Ag-Bi-Cu-稀土類元素合金為佳。
其次,對於構成本發明所使用之Ag基合金之各元素,進行詳細說明。再者,在以下說明中,表示各元素之組成比例之「%」係指「原子%」。
Bi:0.01~1.0%
Bi為有助於保持於高溫高濕環境下時凝集之抑制(結晶
組織穩定性與表面平滑性之維持)等之元素,藉由Bi之添加來提高耐加速環境特性及耐光性。為有效發揮上述作用,Bi量之下限定為0.01%。在Bi量未滿0.01%時,表面粗糙度增大,加速環境試驗後之反射率下降變大。一方面,若Bi量超過1.0%,則耐光性試驗後之反射率下降變大,因此將上限設為1.0%。Bi量以0.05%以上0.8%以下為佳,0.1%以上0.6%以下則更佳。
Cu:0.1~13.0%
Cu係有助於提高反復再生耐久性的元素。若Cu量為未滿0.1%,則無法得到所需之反復再生特性,因此Cu量之下限設為0.1%。Cu量以0.2%以上為佳,0.3%以上則更佳。一方面,若Cu量超過13.0%則初期反射率下降,例如,無法取得使用藍色雷射光之光碟再生所必要之信號,因此,Cu量之上限設為13.0%。又,本發明之反射膜特別使用於2層光碟時,如以下所說明,較好將Cu量之上限設為3.0%,設為2.0%則更佳。
在此,對隨著使用之光碟種類變更Cu量之上限的理由加以說明。譬如,在由與本申請人同一申請人提出之前述專利文獻4之反射膜中將Cu量之上限設為3%,與本發明之Cu量之上限(13.0%)相比,抑制為非常低,其理由係,在上述專利文獻中,主要設想為適用於該申請當時(2002年)主流之DVD,是考量反射率降低及熱傳導率降低。首先,關於反射率,在DVD之規格中,當為光碟時,對於波長650 nm之雷射光,規定為單層光碟確保45%~65%之反射率,2
層光碟確保為18~30%之反射率,特別在使用2層光碟時,為讀取雷射光入射側之內側層,而要求高反射率。在專利文獻4中,為滿足上述規格,將在Ag合金薄膜單層之實驗樣品中達成88%以上之反射率作為合格基準,將Cu添加量之上限設定為3%。
然而,在專利文獻4申請後開發之藍光光碟(Blu-ray Disc,BD)及HD DVD等中,係使用波長405 nm之藍色雷射光,規格所規定之反射率於單層光碟為約40%、2層光碟為約15%。即,作為使用藍色雷射光之光碟的反射膜而要求之反射率特性,與DVD相比變得非常低(特別係單層光碟)。另一方面,關於熱傳導率,在專利文獻4申請當時未規定熱傳導率之規格,為使用有機記錄膜取得良好之記錄信號而對反射膜要求高熱傳導率。但,現在之狀況為,記錄層變成使用無機記錄膜,使用無機記錄膜之光碟不必定為高熱傳導率,對於熱傳導率,亦無需嚴格要求如專利文獻4申請當時之高熱傳導率。在此狀況之變化下可了解,將具有改變Cu量之Ag-Bi-Cu合金之反射膜的BD實際製作後測定反射率,則如後述實施例所示,即使將Cu量添加到13.0%,亦可充分確保BD所要求之反射率之規格(單層光碟為約40%)。因此,特別為設定適用於BD之本發明,將Cu量之上限設定為13.0%。
又,Cu量之上限,嚴格來說,以隨著光碟之記錄層數而適宜變更為佳。譬如,作為記錄層為2層以上之光碟用反射膜材料而使用Ag基合金時,若考慮起因於靠近雷射入射
側之第2反射膜之光吸收的第1記錄面之反射率,則相比單層時反射膜自身之反射率要求更高。因此,Cu量之上限以3%為佳。
如此,Cu量之上限若為13.0%(2層以上之光碟時為3%),則比前述Bi及後述選擇元素之稀土類元素之含有量之上限多。一般,向Ag加入添加元素後初期反射率有下降之趨勢,但Cu,由於相比Bi及稀土類元素,因Cu添加之初期反射率下降作用低,因此可增多添加量。
本發明之Ag基合金,基本以上述範圍含有Bi及Cu,剩餘部分由Ag及不可避免之雜質構成。
其中,為進而提高特性,亦可以0.05%以上1.0%以下之範圍添加稀土類元素,藉此,與Bi同樣,可提高耐環境性。
本發明所使用之稀土類元素,係指在鑭系元素(週期表中,從原子序數57之La到原子序數71之Lu之合計15種元素),加上Sc(鈧)與Y(釔)之元素群。該等元素,既可單獨使用,亦可以任意組合併用2種以上。其中,以Nd、Sm(釤)、Tb(鉍)、Y、Gb(釓)為佳,最佳者為Nd。
稀土類元素之含有量,以0.05%以上1.0%以下為佳。在稀土類元素之含有量未滿0.05%時,凝集未受到抑制,結晶組織之穩定性未充分維持,表面粗糙度增大而加速環境試驗後之反射率之下降增大。一方面,一旦稀土類元素之含有量超過1.0%,由於產生光照射加速試驗後之反射率下降,故將上限設為1.0%為佳。稀土類元素之含有量之下
限,為0.1%則更佳,稀土類元素之含有量之上限為0.8%則更佳,為0.6%則尤其佳。
添加於Ag之元素(Bi及Cu,以稀土類元素為佳)之合計量之上限,主要從反射率之觀點觀之,在使用於單層光碟之反射膜時,設為20%為佳,使用於2層光碟時,設為5%為佳。如前述,一般,向Ag添加元素進行合金化後初期反射率有下降之趨勢,但添加元素之合計量之決定要滿足BD-ROM光碟之反射率之規定值(單層光碟約40%、2層光碟約15%)。
本發明所使用之Ag基合金,可使用作為光碟用之反射膜材料,可適用於具有1層以上記錄層之光碟。反射膜之厚度,從實用上之觀點觀之,以5~50 nm為佳。在反射膜之厚度為未滿5 nm時,無法確保充分之反射率,信號之讀取困難。一方面,眾所周知一旦反射膜之厚度超過50 nm則失去再生信號之明顯性(跳動值增加),因此,作為上限較好為50 nm。具體而言,反射膜之較佳厚度,隨著光碟之記錄層而不同,譬如,在使用於1層光碟之反射膜時,以20~50 nm左右為佳。一方面,2層光碟之雷射入射側之第2反射膜之厚度,以5~30 nm左右為佳。若第2反射膜之厚度越過30 nm,則在第1光透過層記錄面中於再生時無法透過足夠之光。一方面,在第2反射膜之厚度未滿5 nm時,在第2光透過層記錄面中於再生時無法獲得足夠之反射光。第1反射膜之厚度以設為20~50 nm為佳。
以上,對於使用於本發明之Ag基合金進行了說明。
本發明之讀取專用之光資訊記錄媒體,在將上述Ag基合金作為反射膜材料使用時有如下之特徵:該Ag基合金所適用之光碟之構成及種類(光透過層、基板等之種類)並無特別限定,可採用通常所使用之者。
又,基板之種類亦未特別限定,可使用光碟用基板所通用之樹脂、譬如、聚碳酸酯樹脂及丙烯酸樹脂等。若考慮價格及機械性特性等,則使用聚碳酸酯樹脂為佳。
基板之厚度,於0.4~1.2 mm之範圍內為佳。又,形成於基板上之凹部深度,為50~100 nm之範圍內為佳。
再者,光透過層之各類亦未限定,譬如可使用紫外線硬化樹脂、聚碳酸酯樹脂等。光透過層之厚度,在1層光碟中,以約100 μm左右為佳,在2層光碟中,第1光透過層之厚度為約25 μm左右、第2光透過層之厚度為約75 μm為佳。
使用於本發明之Ag基合金薄膜,譬如可藉由濺鍍法、蒸鍍法等成膜,而以濺鍍法為佳。原因係,藉由濺鍍法,由於上述合金元素均一地分散於Ag基質中而可得均質之膜,可獲得穩定之光學特性及耐久性。
使用於濺鍍法之濺鍍靶,可藉由溶解.鑄造法、粉末燒結法、噴射成型法等之任一種方法製造,特別,以使用真空溶解.鑄造法來製造為佳。原因係,藉由真空溶解.鑄造法製造之Ag基合金濺鍍靶,相比以其他之方法製造之濺鍍靶,氮及氧等雜質成分之含有量少,若使用該濺鍍靶則濺鍍速度穩定,使用此而成膜之第1反射膜及第2反射膜,反
射膜組成之穩定性等特性極其優異,可提供高性能及可靠性高之光碟。
以下,例舉實施例以更具體地說明本發明,但本發明不因下述實施例而受限制,在符合前.後述之宗旨之範圍內可加以適當地變更來實施,該等皆包含於本發明之技術範圍內。
在本實施例中,如以下所述製作1層BD-ROM。
首先,使用具有陸區.凹部之Ni(鎳)壓模,藉由射出成型聚碳酸酯以獲得厚度1.1 mm之基板。一方面,藉由真空溶解.鑄造法,製作含有表1所記載之各種成分之Ag基合金濺鍍靶。
使用由此得到之Ag基合金濺鍍靶,藉由DC磁控管濺鍍法在上述基板上成膜厚度35 nm之反射膜。濺鍍條件設為,Ar氣體流量:20 sccm、Ar氣體壓力:2 mTorr(0.266 Pa)、成膜功率:DC400W、到達真空度:2.0×10-6
Torr(26×10-6
Pa)以下。其次,藉由旋轉塗布法將紫外線硬化樹脂塗布成厚度100 μm,藉由紫外線照射使樹脂硬化形成光透過層,而得到1層BD-ROM。
對於由此得到之1層BD-ROM,評價以下之特性。
在BD中,反射率定義為17PP變調信號之8T信號之反射率之最大值(R8H)。在本實施例中,藉由雷射波長405
nm、對物透鏡之開口數(NA)0.85之雷射讀取頭,從光透過層側再生資訊信號,將該再生信號,使用預先已知反射率之光碟之信號加以換算,算出反射率(在進行以下試驗之前的初期反射率)。以反射率為35%以上之者為合格。
進行在溫度80℃、相對濕度約85%之大氣環境中保持240小時之高溫高濕試驗,測定試驗前後之反射率之變化量。在本實施例中,以加速環境試驗前後之反射率變化量為±3%以內之者為合格。
用於評價耐光性之光照射加速試驗,對於屋內用照明燈所照射之波長300~400 nm之紫外線20倍強度之光照射240小時,基於試驗前後之反射率之變化量評價。具體而言,使用東芝燈技(toshiba light & technology corportion)製FHF32EX之燈,在離燈30 cm之距離,將由上述所得到之BD-ROM之光透過層與燈對向配置來進行實驗,測定反射率之變化量。在本實施例中,以光照射加速試驗前後之反射率變化量為±3%以內為合格。
以0.35 mW之再生功率、線速9.8 m/s進行1200萬次單一資料單位之再生後,測定讀取信號錯誤之指標的符號錯誤率(SER)。以SER為10×10-4
以下者為合格。再者,確認任一BD-ROM其初期之SER均為1×10-5
以下。
將如此得到之初期反射率、耐環境性、耐光性、及反復
再生耐久性之結果集中概述於表1。在表1中設置綜合評價欄,對其所有特性,合格者記以○,任何不合格者記以×。
藉由表1,可考核如下。
No.5為滿足本發明之要件之Ag-Bi-Cu合金;No.6~10、12~13為滿足本發明之較佳要件之Ag-Bi-Cu-稀土元素合金,任何一項,均為反射率高、全部之耐久性優異。
與之相對,不滿足本發明之要件之任何一項之下述例,具有以下之問題。
(關於No.1及No.2)
No.1及No.2,均為未添加Bi之例。其中,No.1係添加Pd作為Z群元素之例,耐光性差。No.2係未添加Z群元素而添
加有Nd之例。藉由添加Nd來代替Bi,提高了耐環境性,但耐光性差。
根據該等結果,可知對於耐光性之提高,Bi之添加為不可或缺。
該等為未添加Cu(No.3、4、14~17)或Cu之添加量多(No.11)之例。
如表1所示,未添加Cu之上述例,均為反復再生耐久性差。又,在No.4中,由於稀土類元素之Nd之添加量多,因此耐光性降低。又,如No.11,若Cu之添加量多則合金元素之合計量變多而反射率降低。
No.15~17,作為Z群元素,為使用Cu以外之元素之例,任何一項,均未確認有反復再生耐久性之提高。又,No.14,為代替Z群元素而使用Zn之例,未確認有反復再生耐久性之提高。又,對於No.14~17,僅評價了反復再生耐久性,對於耐環境性與耐光性未進行實驗。
根據以上之實驗結果可知,對於反復再生耐久性之提高,Cu之添加為不可或缺,若在本發明規定之範圍內添加Cu,則可取得高反射率與優異耐久性。又,具有Ag-Bi-Cu合金及Ag-Bi-Cu-稀土類元素合金之反射膜的光資訊記錄媒體,可確認具有高反射率,且耐環境性、耐光性、及反復再生耐久性均優異。
在本實施例中,如下製作2層BD-ROM。在此,第1反射
膜及第2之反射膜,均使用表2所示之Ag合金膜。
首先,使用具有陸區.凹部之Ni壓模,藉由射出成型聚碳酸酯以獲得厚度1.1 mm之基板。一方面,藉由真空溶解.鑄造法,製作具有表2記載之成分之Ag基合金濺鍍靶。
使用如此所得之Ag基合金濺鍍靶,在上述基板上藉由DC磁控管濺射法成膜厚度40 nm之第1反射膜。濺鍍條件,與前述實施例1相同。其次,藉由旋轉塗布法將紫外線硬化樹脂塗布為厚25 μm,藉由紫外線照射使樹脂硬化而形成第1光透過層(厚度25 μm)。
再者,藉由DC磁控管濺射法成膜厚度20 nm之第2反射膜。濺鍍條件,除將成膜功率變更為DC 100W以外,其他與前述實施例1相同。其次,藉由旋轉塗布法將紫外線硬化樹脂塗布為厚75 μm,藉由紫外線照射使樹脂硬化來形成第2光透過層(厚度75 μm),獲得2層BD-ROM。
使用如此得到之2層BD-ROM,與前述實施例1同樣地測定SER值。在本實施例中,第1資訊記錄面及第2資訊記錄面之SER,任何一項,均為10×10-4
以下而為合格。
將該等結果表示於表2。
由表2,未含有Cu之表2之No.2,第1資訊記錄面之反復再生耐久性差,相對地,含有本發明之範圍內之Cu的表2
之No.1,反復再生耐久性優異。由該實驗結果,確認即使在2層BD-ROM中,與1層BD-ROM同樣,因Cu添加而有反復再生耐久性提高作用。又,,雖表2中未表示,但可確認表2之No.1,具有高反射率,耐環境性及耐光性兩方面均優異。
1‧‧‧基板
2‧‧‧反射膜
2B‧‧‧第2反射膜
3‧‧‧光透過層
3B‧‧‧第2光透過層
11‧‧‧第1資訊記錄面
12‧‧‧第2資訊記錄面
圖1係模式地表示讀取專用型光碟(1層光碟)之圓周方向之重要部份的截面圖。
圖2係模式地表示其他讀取專用型光碟(2層光碟)之圓周方向之重要部份之圖。
Claims (4)
- 一種光資訊記錄媒體,其為藍色雷射用且反復再生耐久性優異者,其特徵在於:其係在基板上依序分別積層至少一層反射膜及光透過層而成的藍色雷射用之讀取專用之光資訊記錄媒體,其中前述反射膜,係包含含有0.35~1.0原子%(若無特別註記,%表示原子%,以下亦同)之Bi及0.1~13.0原子%之Cu的Ag基合金。
- 一種光資訊記錄媒體,其為藍色雷射用且反復再生耐久性優異者,其特徵在於:其係在基板上依序積層第1反射膜、第1光透過層、第2反射膜、及第2光透過層而成之藍色雷射用之讀取專用之光資訊記錄媒體,其中前述第1反射膜及前述第2反射膜為相同或不同,其係包含含有0.35~1.0原子%之Bi及0.1~3.0原子%之Cu的Ag基合金。
- 如請求項1或2之光資訊記錄媒體,其中前述Ag基合金含有0.05~1.0原子%之稀土類元素。
- 如請求項3之光資訊記錄媒體,其中前述Ag基合金含有稀土類元素之Nd。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007106344A JP4540687B2 (ja) | 2007-04-13 | 2007-04-13 | 読み出し専用の光情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200907953A TW200907953A (en) | 2009-02-16 |
| TWI381377B true TWI381377B (zh) | 2013-01-01 |
Family
ID=39925479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW097113368A TWI381377B (zh) | 2007-04-13 | 2008-04-11 | Optical information recording media |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20100143636A1 (zh) |
| EP (1) | EP2088594A4 (zh) |
| JP (1) | JP4540687B2 (zh) |
| CN (1) | CN101548324B (zh) |
| TW (1) | TWI381377B (zh) |
| WO (1) | WO2008133020A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5103462B2 (ja) * | 2009-11-18 | 2012-12-19 | 株式会社神戸製鋼所 | Ag合金熱拡散制御膜およびこれを備えた熱アシスト記録用磁気記録媒体 |
| JP5682165B2 (ja) * | 2010-07-23 | 2015-03-11 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光モジュール、及び分析装置 |
| JP2014047400A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Kobe Steel Ltd | フラットパネルディスプレイの半透過電極用Ag合金膜、およびフラットパネルディスプレイ用半透過電極 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW514909B (en) * | 2000-04-28 | 2002-12-21 | Kobe Steel Ltd | Reflection layer or semi-transparent reflection layer for use in optical information recording media, optical information recording media and sputtering target for use in the optical information recording media |
| US20040028912A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-02-12 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film |
| JP2005146419A (ja) * | 2002-08-20 | 2005-06-09 | Kobe Steel Ltd | 光情報記録媒体用Ag基合金スパッタリングターゲット |
| US20050238839A1 (en) * | 2004-04-21 | 2005-10-27 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho(Kobe Steel, Ltd.) | Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target |
Family Cites Families (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5948497A (en) * | 1992-10-19 | 1999-09-07 | Eastman Kodak Company | High stability silver based alloy reflectors for use in a writable compact disk |
| KR100308217B1 (ko) * | 1996-09-09 | 2001-11-02 | 모리시타 요이찌 | 광학적정보기록매체와그제조방법,광학적정보기록·재생방법및광학적정보기록·재생장치 |
| JPH10177742A (ja) * | 1996-10-15 | 1998-06-30 | Kao Corp | 光記録媒体 |
| US6905750B2 (en) * | 1998-06-22 | 2005-06-14 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6007889A (en) * | 1998-06-22 | 1999-12-28 | Target Technology, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7045187B2 (en) * | 1998-06-22 | 2006-05-16 | Nee Han H | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6451402B1 (en) * | 1998-06-22 | 2002-09-17 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6790503B2 (en) * | 1998-06-22 | 2004-09-14 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6764735B2 (en) * | 1998-06-22 | 2004-07-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6544616B2 (en) * | 2000-07-21 | 2003-04-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US6852384B2 (en) * | 1998-06-22 | 2005-02-08 | Han H. Nee | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| SG116432A1 (en) * | 2000-12-26 | 2005-11-28 | Kobe Steel Ltd | Reflective layer or semi-transparent reflective layer for use in optical information recording media, optical information recording media and sputtering target for use in the optical information recording media. |
| JP4801279B2 (ja) * | 2001-05-09 | 2011-10-26 | 石福金属興業株式会社 | スパッタリングターゲット材 |
| HK1037473A2 (zh) * | 2001-09-20 | 2002-03-15 | 杨渠旺 | 帶有高效熱交換器和空氣篩檢程式的通風設備 |
| KR100491931B1 (ko) * | 2002-01-25 | 2005-05-30 | 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 | 반사 필름, 반사형 액정 표시소자 및 상기 반사 필름을형성하기 위한 스퍼터링 타겟 |
| JP2003272232A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-26 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体 |
| KR100568392B1 (ko) * | 2002-06-24 | 2006-04-05 | 가부시키가이샤 코베루코 카겐 | 은 합금 스퍼터링 타겟 및 그의 제조 방법 |
| JP3655907B2 (ja) | 2002-08-20 | 2005-06-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 光情報記録媒体用反射膜と半透過反射膜、および光情報記録媒体 |
| WO2004094135A1 (en) * | 2003-04-18 | 2004-11-04 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| JP2004326955A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
| JP3993530B2 (ja) * | 2003-05-16 | 2007-10-17 | 株式会社神戸製鋼所 | Ag−Bi系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
| JP4009564B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2007-11-14 | 株式会社神戸製鋼所 | リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜のAg合金薄膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
| JP2005029849A (ja) * | 2003-07-07 | 2005-02-03 | Kobe Steel Ltd | リフレクター用Ag合金反射膜、及び、このAg合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このAg合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
| JP2005048231A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-24 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | スパッタリングターゲット材 |
| US20050112019A1 (en) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho(Kobe Steel, Ltd.) | Aluminum-alloy reflection film for optical information-recording, optical information-recording medium, and aluminum-alloy sputtering target for formation of the aluminum-alloy reflection film for optical information-recording |
| JP4320000B2 (ja) * | 2004-04-21 | 2009-08-26 | 株式会社神戸製鋼所 | 光情報記録媒体用半透過反射膜と反射膜、および光情報記録媒体ならびにスパッタリングターゲット |
| EP1612784B1 (en) * | 2004-06-29 | 2007-11-28 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target |
| JP3907666B2 (ja) * | 2004-07-15 | 2007-04-18 | 株式会社神戸製鋼所 | レーザーマーキング用再生専用光情報記録媒体 |
| JP2006240289A (ja) * | 2005-02-07 | 2006-09-14 | Kobe Steel Ltd | 光情報記録媒体用記録膜および光情報記録媒体ならびにスパッタリングターゲット |
| JP2006294195A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Kobe Steel Ltd | 光情報記録用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
| JP4328310B2 (ja) * | 2005-04-14 | 2009-09-09 | 株式会社神戸製鋼所 | 光情報記録媒体用反射膜および光情報記録媒体 |
| JP2007002275A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Toyoshima Seisakusho:Kk | 薄膜形成用材料、及びそれを用いて形成された薄膜並びにその形成方法 |
| JP4527624B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2010-08-18 | 株式会社神戸製鋼所 | Ag合金反射膜を有する光情報媒体 |
| JP4377861B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2009-12-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
| JP2007035104A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Kobe Steel Ltd | 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
| JP4377877B2 (ja) * | 2005-12-21 | 2009-12-02 | ソニー株式会社 | 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
| US7833604B2 (en) * | 2006-12-01 | 2010-11-16 | Kobe Steel, Ltd. | Ag alloy reflective layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target for forming Ag alloy reflective layer for optical information recording medium |
| JP2009015391A (ja) * | 2007-06-29 | 2009-01-22 | Toshiba Corp | 情報処理装置および情報処理装置の制御方法 |
| JP4694543B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2011-06-08 | 株式会社コベルコ科研 | Ag基合金スパッタリングターゲット、およびその製造方法 |
| JP4833942B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2011-12-07 | 株式会社コベルコ科研 | Ag基合金スパッタリングターゲット |
-
2007
- 2007-04-13 JP JP2007106344A patent/JP4540687B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-04-10 EP EP08740191A patent/EP2088594A4/en not_active Withdrawn
- 2008-04-10 US US12/444,668 patent/US20100143636A1/en not_active Abandoned
- 2008-04-10 WO PCT/JP2008/057090 patent/WO2008133020A1/ja not_active Ceased
- 2008-04-10 CN CN2008800009278A patent/CN101548324B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-04-11 TW TW097113368A patent/TWI381377B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW514909B (en) * | 2000-04-28 | 2002-12-21 | Kobe Steel Ltd | Reflection layer or semi-transparent reflection layer for use in optical information recording media, optical information recording media and sputtering target for use in the optical information recording media |
| US20040028912A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-02-12 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film |
| US20060104853A1 (en) * | 2002-08-08 | 2006-05-18 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho(Kobe Steel, Ltd.) | Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film |
| JP2005146419A (ja) * | 2002-08-20 | 2005-06-09 | Kobe Steel Ltd | 光情報記録媒体用Ag基合金スパッタリングターゲット |
| US20050238839A1 (en) * | 2004-04-21 | 2005-10-27 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho(Kobe Steel, Ltd.) | Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target |
| TW200540862A (en) * | 2004-04-21 | 2005-12-16 | Kobe Steel Ltd | Semi-reflective film and reflective film for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2088594A4 (en) | 2010-11-10 |
| TW200907953A (en) | 2009-02-16 |
| CN101548324B (zh) | 2012-12-19 |
| EP2088594A1 (en) | 2009-08-12 |
| JP2008262654A (ja) | 2008-10-30 |
| CN101548324A (zh) | 2009-09-30 |
| JP4540687B2 (ja) | 2010-09-08 |
| WO2008133020A1 (ja) | 2008-11-06 |
| US20100143636A1 (en) | 2010-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100445083B1 (ko) | 광정보 기록매체용 반사층 또는 반투명 반사층, 광정보기록매체 및 광정보 기록매체용 스퍼터링 타겟 | |
| JP3365762B2 (ja) | 光情報記録媒体用の反射層または半透明反射層、光情報記録媒体及び光情報記録媒体用スパッタリングターゲット | |
| KR100789059B1 (ko) | 광정보 기록 매체용 반투과-반사막과 반사막, 광정보 기록매체, 및 스퍼터링 타겟 | |
| JP2006240289A (ja) | 光情報記録媒体用記録膜および光情報記録媒体ならびにスパッタリングターゲット | |
| JP2007035104A (ja) | 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット | |
| JP4377877B2 (ja) | 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット | |
| KR100770806B1 (ko) | 광기록매체와 그 제조방법 및 광기록매체에 대한 데이터기록방법 및 데이터 재생방법 | |
| TWI272607B (en) | Optical recording medium | |
| TWI378446B (zh) | ||
| TWI381377B (zh) | Optical information recording media | |
| EP1660316A2 (en) | Silver alloys for optical data storages and optical media containing same | |
| WO2005056850A1 (ja) | 反射率維持特性に優れた銀合金 | |
| WO2007046390A1 (ja) | 光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体、および光情報記録媒体用スパッタリングターゲット | |
| JP2008305529A (ja) | 光情報記録媒体及び光情報記録媒体の製造方法 | |
| JP5331420B2 (ja) | 読み出し専用の光情報記録媒体および該光情報記録媒体の半透過反射膜形成用スパッタリングターゲット | |
| WO2010119888A1 (ja) | 光情報記録媒体、光情報記録媒体の反射膜形成用スパッタリングターゲット | |
| JP4132800B2 (ja) | 光情報記録媒体用の半透明反射層および光情報記録媒体 | |
| JP4328310B2 (ja) | 光情報記録媒体用反射膜および光情報記録媒体 | |
| JP5600632B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JP2003027158A (ja) | 光記録ディスク反射膜形成用金合金 | |
| JP2007301761A (ja) | 光情報記録媒体用記録層および光情報記録媒体 | |
| JP2008018607A (ja) | 追記型光記録媒体 | |
| JP2009199700A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2010250888A (ja) | 光情報記録媒体 | |
| HK1167925A (zh) | 光信息记录媒体、形成光信息记录媒体的反射膜用的溅射靶 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |