[go: up one dir, main page]

TW561142B - A process for making a photoactive compound and photoresist therefrom - Google Patents

A process for making a photoactive compound and photoresist therefrom Download PDF

Info

Publication number
TW561142B
TW561142B TW088100457A TW88100457A TW561142B TW 561142 B TW561142 B TW 561142B TW 088100457 A TW088100457 A TW 088100457A TW 88100457 A TW88100457 A TW 88100457A TW 561142 B TW561142 B TW 561142B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
patent application
item
scope
compound
resin
Prior art date
Application number
TW088100457A
Other languages
English (en)
Inventor
Joseph E Oberlander
Original Assignee
Clariant Int Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Clariant Int Ltd filed Critical Clariant Int Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW561142B publication Critical patent/TW561142B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C259/00—Compounds containing carboxyl groups, an oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a nitrogen atom, this nitrogen atom being further bound to an oxygen atom and not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C259/04—Compounds containing carboxyl groups, an oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a nitrogen atom, this nitrogen atom being further bound to an oxygen atom and not being part of nitro or nitroso groups without replacement of the other oxygen atom of the carboxyl group, e.g. hydroxamic acids
    • C07C259/06—Compounds containing carboxyl groups, an oxygen atom of a carboxyl group being replaced by a nitrogen atom, this nitrogen atom being further bound to an oxygen atom and not being part of nitro or nitroso groups without replacement of the other oxygen atom of the carboxyl group, e.g. hydroxamic acids having carbon atoms of hydroxamic groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/22—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0382—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable the macromolecular compound being present in a chemically amplified negative photoresist composition
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

561142
五、發明說明（7) 重氮氯化物也可以使用，如美國序號Ν0·08/813，167(歸檔 於1997年3月7日）、及08/812, 54 2(歸檔於1997年3月7 曰）。在此列舉以供參考，所述實例有3，重氮，2, 4喹啉磺 醯氯和3，重氮，4 -氧香豆素磺醯氯等。 由2, 1-重氮萘醌酸和含有至少一個羥基的穩定化合物生 成的光活性酯化合物也在本發明的範圍内。這種酯化反應 也可如前所述在溶劑介質及固體鹼的存在下進行。並適需 要選用0·3倍當量的有機可溶胺。 画曰化反應在有機溶劑介質中進行。使用的溶劑能溶解反 應物、有機胺和其它成分（固體離子交換催化劑除外）。沒 有限制的例子有：丁内酯、丙酮、丙二醇單甲醚、二σ亞燒 ( 氧雜彡衣已烧）、四氮咲喃或其混合物。 固體 以使用 為了不 %須具 劑的洗 子交換 5, 543, 地催化 於鹵化 現，與 化劑減 反應 驗性催化劑的實例為陰離子交換樹脂，在工業上可 大孔樹脂（商）（Amber 1 y st®21 )或大孔樹脂（商）26。 使大量離子污染物進入到反應混合物中，這些樹脂 有足夠的純度。有時需要經過幾個水溶液和//或溶 滌步驟處理交換樹脂，以除去幾乎所有的雜質。離 樹脂的處理可結合參考美國專利（u. s. Patent)N(). 263以及美國序號η〇· 294, 453。固體樹脂以能有效 反應和除去齒化物的足夠量加入，較佳應用1至3倍 物的濃度，1至2倍於鹵化物的濃度更佳。另外已發 不使用固體陰離子催化劑比較，使用固體陰離子催 少了陰離子雜質。 條件，如溫度、時間、各成分的濃度，應調節至能
第10頁 561142 五、發明說明（8)
本發明的新穎組合物是由成獏樹脂，根據本發明所述方 法的高純度光活性化合物和光阻溶劑組合物的混合物調配 而成。成膜樹脂可以為酚醛樹脂、聚羥基苯乙烯和已知技 藝中的其它物質。 得到所需要酯化程度和純度的 持低於45°C，較佳應低於30°G 催化劑過濾，酯化產物洗滌， 燥。還可視需要在除去固體催 溶性酸溶劑（如冰醋酸），或者 Amberlyst®15)，使反應驟停。 具優點，可通過簡單的過濾方 一旦光活性酯生成，就可用 可從冷甲醇水溶液析出。光活 乾燥，這樣就得到可配製光阻 光=性化合物。溫度一般保 、酯化反應完成時，將固體 並較佳在35-40 t：真空乾 化劑後加入酸，可以採用可 固體陽離子交換樹脂（如 用固體陰離子交換樹脂更 法將它除去。 些已知方法分離，例如它 性酯可更進一步用水洗滌和 劑的高純度光活性化合物。 光敏組合物適用的溶劑包括：丙二醇單烷基醚、丙二醇 烧基（如甲基）醚乙酸酯、乙基-3 -乙氧基丙酸酯、乳酸乙 酯、乙基-3 -乙氧基丙酸酯和乳酸乙酯的混合物-2 -庚酮、 3一曱氧基-3-曱基丁醇、乙酸丁酯、笨甲醚（茴香醚）、二 曱苯、二甘醇二曱醚、乙二醇單乙醚乙酸酯或其混合物。 較佳的溶劑為丙二醇曱醚乙酸酯（PGMEA)、乳酸乙酯、2-庚酮、苯甲醚、乙基、3 -乙氧基丙酸酯（EEP)以及3 -曱氧 基一3-甲基丁醇。 在較佳的具體實施例中，光阻劑組合物的固體部分，即 酚醛樹脂和重氮萘醌’其樹脂範圍在1 5%至大約99%，重氮
561142 五、發明說明（ίο) 合樹脂，尤其是透明樹脂（如聚酯）。基片可具有適合叙人 物的黏合促進層，如含有六—烷基二矽烷。 Ό 然後將光阻劑組合物溶液塗到基片上，並將其在一 板上於大約70 t：至大約11 〇 t處理大約3〇秒至大約丨8〇秒…、 或者在對流烘箱中處理大約15至大約9〇分鐘。選擇這虑 理溫度是為了減少光阻劑中殘餘溶劑的濃度，同時 ， 上不會使光敏劑降解。料需要將溶劑的濃度減少到^本 小，首先引導這種處理溫度直到所有的溶劑基本蒸發 時在1微米厚的次序光阻劑組合物薄層仍保留在基片上。同 一個較佳的具體實施例是溫度在大約85 t至大約9〇 t Ϊ音ΐΪΪ處ϊΐί引導到溶劑除去的變化率變得相對戈 性質、使用的設備以及工業上需要的塗佈時=先J劍 的基片在使用適合的掩蔽、底片 禮 塗過 楔i上先化輻射曝光，如波長大約3〇〇納米至大 〜' 的，外輻射、X-射線、電子束、離子束或激光轄射。納来 光阻劑然後根據需要在顯影前或顯影後經過 烘烤或加熱處理。加熱溫度可在大至 先 圍，在大約100 °c至大約ii〇°c之間更佳。㈣在_個7 上進行大約30秒至大約2分鐘，在A_秒至大在個熱板 佳；或者在對流烘箱中進行大約30至大約45童和更 曝光的綠龍在難顯影溶㈣潰或嗜 顯影，以除去影像方式的曝光區域。溶液較應·:方法 掉’例如用氣氣劇烈搜掉。#基片保留在顯影
第13頁 561142 五、發明說明（12) 離子水通過柱體直到流出液清亮。將6床體積的1〇%(電子 級別）鹽酸以每床體積1 〇分鐘保留時間通過柱體。最後用 大量體積的去離子水通過柱體直到進入柱體的水與離開柱 的流出液電導率相同。這時的顆粒就可以使用並進行乾燥 了。 ’、 將盒-（4-羥基苯基）乙烷（ΤΗΡΕ)(13·5克，〇〇44莫耳）、 2, 1，4-重氮萘醌磺醯氯、(14· 9克，〇· 〇55莫耳）、2,丨，5-重 氮萘醒績醯氯（20. 3克’ 0· 0 75莫耳）、7 - 丁内酯（2〇〇毫 升）和丙酮（1 〇 〇毫升）的混合物在2 5 〇c緩和攪拌，直到大約 90%的起始原料溶於溶液中。丨5分鐘後，向混合物中加入 1:4-二氮雜二環（2,2,2_)辛烷（Dabc〇)(2 克，〇· 〇18 莫耳相 當於j· 14倍氣化物的當量）、τ — 丁内酯（6〇毫升）和丙酮 (3 y笔升）的，合液。1小時後加入淨化的大孔樹脂（商）2 1 ( π 克），同時使溫度低於30 〇c。反應混合物攪糾小時。將大 ^樹脂（商）21過濾。加入冰醋酸（2毫升）並攪掉丨小時。將 最、、的心液過，慮，/谷液在攪拌的同時加入去離子水毫 升）和曱醇（ 2 00毫升）的混合物，此時溫度保持η] π。 於漿擾摔3 0分鐘後過滅，將吝你* 將產物乾燥並用去離子水洗滌直 到洗條水洛液電導率小於丨微西門子（从Slemens)( #s)。 將化合物在3 5-40 t：真空烘箱中乾燥直到水的含量小於 二二基與八氣：物生成醋的…度用高壓液相色譜法測 ::85…乳化含量用硝酸銀法檢定小於以卿(百萬 Ώ ^ 一 )。
第15頁 561142 五、發明說明（13) 實例2 (比較性） 將叁-(4-羥基苯基）乙烷（ΤΗΡΕ)(6·2千克，20.2莫耳）、 2，1，4-重氮蔡醒々酿氯（36.8千克，25.2莫耳）、2，1 5 -重 氮蔡醌磺醯氯（10.1千克，37.5莫耳）、7 - 丁内醋（271 升）和丙酮（1 3 · 7升）在2 5。(：緩和攪拌，直到大約9 0 %的起始 原料溶於溶液中。超過3 0-40分鐘後向混合物中加入丨，4一 一氣雜二環（2，2，2-)辛烧（Dabco)(7.4千克，66 1莫耳）、 T - 丁内醋（24.3升）和丙酿1(12.1升）的溶液。混合物在 3 0 C攪拌1小時。將最後的溶液過濾。（向溶液中）加入冰 醋酸（3· 2千克）並攪拌1小時。酸化溶液過濾。將溶液加入 到去離子水（756升）和曱醇（81升）的混合物，同時進行授 拌並使溫度保持在1 5-20 °C。淤漿攪拌30分鐘後過渡。將 產物乾燦並用去離子水洗務直至洗條水溶液電導度在3 _ 5 微西門子。化合物在35-40 °C真空烘箱中乾燥直至水分含 量小於1%。酯化度用高壓液相色譜法測定為99%，而全部 氣化物含量用硝酸銀法檢驗為170ppm(百萬分之一）。 實例3 將叁-（4-羥基笨基）乙烷（ΤΗΡΕ)(13·5克，0.0 44莫耳）、 2，1，4-重氣蔡醒石黃醯氣（14.9克，〇.〇55莫耳）、2，1，5-重 氣:蔡醌石頁驗鼠（20.3克’0.075莫耳）、γ — 丁内g旨（g〇毫升） 和丙酮（4 5毫升）在2 5。(：緩和搜拌，直到大約9 〇 %的起始原 料溶於溶液中。超過1小時後，加入洗滌的大孔樹脂（商） 21(65克）’同時使溫度低於30 °C。將反應混合物攪拌1小 時。大孔樹脂（商）21過濾。加入冰醋酸（2毫升）並攪拌1小
第16頁 561142 五、發明說明（14) 〜 " --：- 時。大孔樹脂（商）21過濾將固體加到去離子水（8〇〇毫升） 和甲醇（2〇〇毫升）的混合物中，同時在15-20。(：進行授拌。 化合物在35-40 °C真 酯化程度用高壓液相 ^授拌30分鐘㈣。產物乾錢，用去離子水洗務直到 洗滌水溶液的電導率小於1微西門子 空烘箱中乾燥直到水分含量小於丨％ c 色譜法測定為2 7 %。 將三羥基苯—基·苯基（曱）酮（13 5克，〇 〇54莫耳）、 2二1，4-重氮萘醌磺醯氯（39· 3克，〇· 14莫耳）、2,丨，5—重氮 奈醌磺醯氣（4.3克，〇·〇ΐ6莫耳）和7 — 丁内酯（3〇〇毫升）的 混合物在25 °C緩和攪拌，直到9〇%的起始原料溶於溶液。 超過1 5分鐘後’向這種混合物中加一甲基嗎啉（3· 5克， 0.035莫耳相當於0.22倍氣化物的當量）和了― 丁内酯（6〇毫 升超過1小時後，加入純化的大孔樹脂（商）2丨（8 〇克）， 同時使反應溫度保持3 〇 °c以下，反應混合物攪拌1小時。 將大孔樹脂（商）2 1過濾。加入冰醋酸（2毫升）並攪拌j小 時。將最終的溶液過濾。將固體加入至去離子水（6 〇 〇毫 和曱醇（120毫升）的混合物中，同時在^一“它攪拌。 將淤漿攪拌3 〇分鐘後過濾。對產物進行乾燥後，用去離子 水洗條到水溶液的電導率小於1微西門子s)。該化合物 T在真空烘箱中於3 5 -4 0 °C時乾燥直至該水含量係低於 °用高壓液相色譜法測定的酯化程度為97%，全部氯化 物含量用硝酸銀法測定為17ppm。 ^ 實例5 (比較性〕
第17頁 561142 五、發明說明（15) 將二經基本基·本基（曱）嗣（12.5克，〇·〇54莫耳）、 2,1，4-重氮桌驅％酿鼠（39·3克，〇·14莫耳）、2，1 5-重氮 奈醒續醯氣（4.3克’0.016莫耳）、丁内酯（3〇〇毫升）的 混合物於25 °C缓和攪拌直到大約90%的起始原料溶於溶 液。超過15分鐘後，向這種混合物加入n—甲基嗎啉（18 克’0.18莫耳）和7 - 丁内酯（60毫升）的溶液。將混合物攪 拌1小時並使溫度保持在3 0 °C。加入冰醋酸（4毫升）攪拌1 小時。將最終溶液過濾，固體加到去離子水（6 0 〇毫升）和 曱醇（600毫升）的混合物中，同時在15 - 20 DC溫度下攪拌。 於漿擾拌3 0分鐘後過濾。將產物乾燥並用水洗條直至洗務 水溶液電導率小於1微西門子。化合物在3 5 - 4 0 °C真空烘箱 中乾燥直到水分含量小於1 %。酯化程度用高壓液相色譜法 測定為9 7%，全部氯化物含量用硝酸銀法測定為1 〇 〇 ρριη。 實例6 將對甲酚/甲醛樹脂（72克，〇·ι莫耳）、2, 1,5 -重氮萘酉昆 磺醯氣（64·6克，0.24莫耳）和丙酮（5〇〇毫升）在25。(：緩和 攪拌，直到9 0 %的起始原料溶於溶液中。超過1 5分鐘後， 向這種混合物加入三乙胺（2·6克，0.026莫耳）和丙酮（500 ΐ升）的溶液。1小時後，加入大孔樹脂（商）21並保持反應 溫度低於3 〇 °c。反應混合物攪拌1小時。將大孔樹脂 (商）2 1過濾。加入冰醋酸（2毫升）並擾拌1小時，最終的溶 液過濾。將固體加入到離子水（2400毫升）和曱醇（600毫 升）的混合物中，同時在1 5 - 2 0 °C攪拌。淤漿攪拌3 0分鐘後 過遽、。將產物乾燥並用去離子水洗條直到水洗滌溶液的電
第18頁 561142
五 '發明說明（16) 導率小於1微西門子。化合物在3 5-4 0 t：真空烘箱中乾燥至 水分含量小於1 · 〇%。通過高壓液相色譜法發現樹脂已被酯 化’並且全部氯化物含量用硝酸銀法測定為7〇ρρπι。 f例7 將對曱酚/曱醛樹脂（25%固體）（225克丙酮和75克，0· 1 莫耳樹脂）、2,1，5 -重氮萘醌磺醯氯（64·6克，0.24莫耳） 和丙嗣（5 0 0毫升）的混合物在2 5。(：緩和攪拌直至大約9 0 %的 起始原料溶於溶液中。經過1 5分鐘，向這種混合物加入三 乙胺（26.0克，0.257莫耳）和丙酮（50毫升）的溶液。混合 物攪拌1小時，並使溫度保持在3 〇。(：。加入冰醋酸（2毫升） 攪拌1小時。最終溶液過濾。將固體加到去離子水（丨2 〇 〇毫 升）和甲醇（250毫升）的混合物，同時在15-20 °C攪拌。淤 漿攪拌3 0分鐘過濾。使產物乾燥並用去離子水洗滌直到洗 條水溶液的電導率小於1微西門子。化合物在3 5 4 真空 烘箱中乾燥至水分含量小於1 %。通過高壓液相色譜法發 現’樹脂酯化具有與實例6相似的酯化程度，全部氣化物 含量用硝酸銀法測定為5 0 0 0 ppm。 實例8 將對曱酚/曱醛樹脂（3 0 0克2 5 %樹脂丙酮溶液）和2，1，5 -重氮萘醌磺醯氣（6 4 · 6克，0 · 2 4莫耳）在2 5 °C緩和攪拌，直 到9 0 %的起始原料溶於溶液中。經過1 5分鐘後，向這種溶 液加入三乙胺（2.6克，0.026莫耳相當於氯化物的〇·ι倍當 量）和丙酮（5 0毫升）。經1小時後，加入大孔樹脂 (商）2 1 ( 8 0克），並使反應溫度低於3 0 °C。反應混合物搜拌
第19頁 561142 五、發明說明（17) '一^—- 1小時。大孔樹脂（商）21過濾。用一半溶液通過丙嗣調渴 的2 0 0毫升預先洗滌大孔樹脂（商）1 5柱中。使溶液保持^ 時後過濾。過濾的溶液加入到去離子水（7 5 〇毫升）和甲醇^ ( 750毫升）的混合物中，溫度保持在15 — 2〇〇c。同時進行产 拌。於漿攪拌3 0分鐘過濾。使產物乾燥，用去離子水洗^ 至洗液電導率小於1微西門子。化合物在35_4〇它真空烘箱^ 乾燥至水分含量小於1· 0%。通過高壓液相色之譜法測定= 現樹脂已被酯化，全部氯化物含量用硝酸銀法測定為 1 1 ppm 。 實例9 生產光阻劑溶液是使用2 3 · 4重量％的甲酚/甲醛樹脂、 5·9重5%的1，2，3-苯三紛/丙_樹脂、β·4重量％從實例6得 到的光活性化合物、〇· 0 086重量％的FC-43 0 (從3Μ Co.， 3Μ
Center Building 233，St· Paui，ΜΝ55 1 44 得到）和 64·3 重量％的乳酸乙酯。 將光阻劑旋轉塗佈到矽板（片）上，並且在1 〇 〇 軟—烘9 0 秒鐘得到1 · 2微米（mi cro me ter)厚度膜。樣品用G-線分段 器影像形式曝光，並且在1 0 〇。〇後一曝光烘烤9 〇秒。用一 個87秒噴/攪21· 6 t循環將樣品用顯影劑顯影AZ® MIF-32(AZ® Electronic Materials, Clariant Corp., 70 Meister Ave·， Somerville， NJ 088 76 得到）° 板（片） 上得到的影像質量良好。
第20頁

Claims (1)

  1. 561142 修 六、申請專利範圍 .............-A， WK 補充 1 . 一種利用酯化反應生產高純度光活性酯化合物之方 法 其包括： a) 使經 劑、溶劑組合 且有機胺可溶 量以下的有機 b) 除去 c )將酯 2. 根據申 濃度為相對於 3. 根據申 為相對於鹵化 4. 根據申 基化合物 物其中固 於溶劑組 胺存在下 固體鹼性 化合物分 請專利範 鹵化物化 請專利範 物化合物 請專利範 與i化物化合物在固體鹼性催化 體鹼性催化劑不溶於溶劑組合物中 合物中及相對於鹵化物化合物1當 進行反應； 催化劑；以及 離。 圍第1項之方法，其中有機胺添加 合物之0.3當量以下。 圍第1項之方法，其中胺添加濃度 之0. 2當量以下。 圍第1項之方法，其中胺選自： 1,4-重氮雙環[2, 2, 2]辛烷、N-甲基嗎啉、三乙胺和二乙 醇胺。 其中固體鹼性催 其中陰離子交換 其中的固體鹼性 其中含鹵化物之 ，1，5-重氮萘醌磺 5. 根據申請專利範圍第1項之方法， 化劑為陰離子交換樹脂。 6. 根據申請專利範圍第5項之方法， 樹脂在用作催化劑前經純化除去雜質。 7. 根據申請專利範圍第1項之方法， 催化劑在酯化反應結束時過渡除去。 8. 根據申請專利範圍第1項之方法， 化合物選自：2，1，4 -重氮萘醌磺醯氣，2 醯氯、2，1，6 -重氮萘醌磺醯氯、3-重氮，2 ,4 -喹啉二酮磺
    O:\56\56717-920827.ptc 第22頁 561142 _案號88100457_免年（Γ月日 修正_ 六、申請專利範圍 醯氯、3 -重氮，2, 4 -喹啉二酮羧基氯化物、3 -重氮，4-氣香 豆素磺醯氯、3 -重氮，4 -氧香豆素羧基氯化物及其混合 物。 9. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中含羥基化合物 選自：酚系化合物及羥基脂肪族化合物。 10. 根據申請專利範圍第9項之方法，其中酚系化合物 為多經基ί分系化合物。 11. 根據申請專利範圍第1 0項之方法，其中的多羥基酚 系化合物選自募聚酚系甲醛樹脂、多羥基苯甲酮、多羥基 苯基烧、枯基苯酮和烧基苯酮。 12. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中的溶劑組合 物選自丙酮、丁内酯、丙二醇單曱醚、二氧雜環己烷、四 氫咲喃及其混合物。 13. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中分離酯之步 驟包括沉殿、洗務和乾燥。 14. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中的陽離子交 換樹脂在除去固體催化劑後添加，隨後過濾去除。 15. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中光活性化合 物具有的氯化物含量小於1 0 0 p p m。 16. 根據申請專利範圍第1項之方法，其中的光活性酯 化合物的酯化程度大於6 0 %。 17. —種生產高純度光敏組合物之方法，其包括以下步 驟： a)使羥基化合物與鹵化物化合物在固體鹼性催化劑
    O:\56\56717-920827.ptc 第23頁 561142 _案號88100457_沿年/月 日 修正_ 六、申請專利範圍 和溶劑組合物存在下進行反應，其中固體鹼性催化劑不溶 於溶劑組合物中； b)除去固體鹼性催化劑；以及 c )將酯化合物分離； 且進一步提供下列物質之混合物： (i )來自步驟c )的高純度酯化合物，其用量應足以 光敏化該組合物； (i i )成膜樹脂；及 (i i i )光阻溶劑組合物0 18. 根據申請專利範圍第1 7項之方法，其中的成膜樹脂 選自酚醛樹脂，聚羥基苯乙烯樹脂和聚羥基苯乙烯的衍生 物。 19. 根據申請專利範圍第1 8項之方法，其中的光阻溶劑 選自：丙二醇單烷基醚、丙二醇烷基醚乙酸酯、3 -乙氧基 丙酸乙酯、乳酸乙酯、3 -乙氧基丙酸乙酯和乳酸乙酯的混 合物、2-庚酮、3-甲氧基-3-甲基丁醇、乙酸丁酯、苯甲 醚、二甲苯、二甘醇二甲醚、乙二醇單乙醚乙酸酯或其混 合物。 20. 根據申請專利範圍第1 9項之方法，可進一步包括一 種或多種選自下列之添加劑：著色劑、均化劑、抗輝紋 劑、增塑劑、黏合促進劑、速度增強劑和表面活性劑。 21. 一種在適合的基片上成像生產半導體器件之方法， 其包括： a)提供由申請專利範圍第1 7項之方法所製得之光敏
    O:\56\56717-920827.ptc 第24頁 561142 案號 88100457 办年少月 曰 修正 六、申請專利範圍 組合物； b )將光敏組合物塗佈合適的基片上； c )加熱處理己塗佈的基片，直到實質上己去除所有 光阻溶劑為止；使光敏組合物顯影曝光，然後用鹼性顯影 劑水溶液除去以成像形式曝光區域的組合物。
    O:\56\56717-920827.ptc 第25頁
TW088100457A 1998-02-02 1999-01-13 A process for making a photoactive compound and photoresist therefrom TW561142B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/017,446 US5936071A (en) 1998-02-02 1998-02-02 Process for making a photoactive compound and photoresist therefrom

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW561142B true TW561142B (en) 2003-11-11

Family

ID=21782633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW088100457A TW561142B (en) 1998-02-02 1999-01-13 A process for making a photoactive compound and photoresist therefrom

Country Status (9)

Country Link
US (2) US5936071A (zh)
EP (1) EP1053508B1 (zh)
JP (1) JP2002501933A (zh)
KR (1) KR100551935B1 (zh)
CN (1) CN1171123C (zh)
DE (1) DE69902633T2 (zh)
MY (1) MY117963A (zh)
TW (1) TW561142B (zh)
WO (1) WO1999039245A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11675266B2 (en) 2021-04-15 2023-06-13 Industrial Technology Research Institute Photosensitive compound, photosensitive composition, and patterning method
CN119351027B (zh) * 2024-11-14 2025-12-05 广东荣昇化工制品有限公司 一种铝合金用环保密着剂的制备方法

Family Cites Families (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2929808A (en) * 1956-04-04 1960-03-22 Exxon Research Engineering Co Removal of metal contaminants in polymerization processes
US3666473A (en) * 1970-10-06 1972-05-30 Ibm Positive photoresists for projection exposure
US4033909A (en) * 1974-08-13 1977-07-05 Union Carbide Corporation Stable phenolic resoles
US4033910A (en) * 1975-09-26 1977-07-05 Union Carbide Corporation Methyl formate as an adjuvant in phenolic foam formation
JPS5280022A (en) * 1975-12-26 1977-07-05 Fuji Photo Film Co Ltd Light solubilizable composition
GB1509354A (en) * 1976-04-24 1978-05-04 Maruzen Oil Co Ltd Process for purifying halogenated alkenyl-phenol polymers
US4250031A (en) * 1977-03-01 1981-02-10 Unitika Ltd. Phenolic chelate resin and method of adsorption treatment
US4173470A (en) * 1977-11-09 1979-11-06 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Novolak photoresist composition and preparation thereof
US4195138A (en) * 1978-06-26 1980-03-25 The Dow Chemical Company Chelate resins prepared from the cured reaction product of a polyalkylenepolyamine and epoxide
US4452883A (en) * 1983-05-17 1984-06-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Barrier resin for photothermographic color separation
US4567130A (en) * 1984-07-27 1986-01-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for etching single photopolymer layer utilizing chemically soluble pigments
US4584261A (en) * 1984-07-27 1986-04-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for etching nonphotosensitive layer under washoff photopolymer layer
JPH063549B2 (ja) * 1984-12-25 1994-01-12 株式会社東芝 ポジ型フォトレジスト現像液組成物
US4588670A (en) * 1985-02-28 1986-05-13 American Hoechst Corporation Light-sensitive trisester of O-quinone diazide containing composition for the preparation of a positive-acting photoresist
US4636540A (en) * 1985-07-08 1987-01-13 Atlantic Richfield Company Purification of polymer solutions
JPS6232453A (ja) * 1985-08-06 1987-02-12 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型ホトレジスト用現像液
US4784937A (en) * 1985-08-06 1988-11-15 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Developing solution for positive-working photoresist comprising a metal ion free organic base and an anionic surfactant
US4747954A (en) * 1985-09-16 1988-05-31 The Dow Chemical Company Removal of metals from solutions
US4721665A (en) * 1986-09-29 1988-01-26 Polychrome Corporation Method for neutralizing acidic novolak resin in a lithographic coating composition
JP2560267B2 (ja) * 1987-03-25 1996-12-04 日本合成ゴム株式会社 感放射線性樹脂の製造方法
JPS6472155A (en) * 1987-09-12 1989-03-17 Tama Kagaku Kogyo Kk Developing solution for positive type photoresist
GB8729510D0 (en) * 1987-12-18 1988-02-03 Ucb Sa Photosensitive compositions containing phenolic resins & diazoquinone compounds
US4853315A (en) * 1988-01-15 1989-08-01 International Business Machines Corporation O-quinone diazide sulfonic acid monoesters useful as sensitizers for positive resists
JP2552891B2 (ja) * 1988-01-26 1996-11-13 富士写真フイルム株式会社 ポジ型フオトレジスト組成物
JPH01228560A (ja) * 1988-03-08 1989-09-12 Hitachi Chem Co Ltd 不純金属成分の低減された溶液の製造法
WO1990001726A1 (en) * 1988-08-10 1990-02-22 Macdermid, Incorporated Light-sensitive novolac resins
US5212044A (en) * 1988-09-08 1993-05-18 The Mead Corporation Photoresist composition including polyphenol and sensitizer
US5175078A (en) * 1988-10-20 1992-12-29 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Positive type photoresist developer
JPH03128903A (ja) * 1989-07-13 1991-05-31 Fine Kurei:Kk 合成樹脂の改質方法および改質合成樹脂
DE3923426A1 (de) * 1989-07-15 1991-01-17 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von novolak-harzen mit geringem metallionengehalt
JP2571136B2 (ja) * 1989-11-17 1997-01-16 日本ゼオン株式会社 ポジ型レジスト組成物
JPH0465415A (ja) * 1990-07-04 1992-03-02 Hitachi Chem Co Ltd 不純金属成分の低減されたノボラツク樹脂の製造法
US5300396A (en) * 1990-11-28 1994-04-05 Hoechst Celanese Corporation Process of making naphthoquinone diazide esters using lactone solvents
US5446125A (en) * 1991-04-01 1995-08-29 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Method for removing metal impurities from resist components
US5378802A (en) * 1991-09-03 1995-01-03 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Method for removing impurities from resist components and novolak resins
JPH0768296B2 (ja) * 1991-11-28 1995-07-26 丸善石油化学株式会社 ビニルフェノール系重合体の金属除去方法
JPH0768297B2 (ja) * 1991-11-28 1995-07-26 丸善石油化学株式会社 フォトレジスト用ビニルフェノール系重合体の精製方法
JP3630422B2 (ja) * 1991-12-18 2005-03-16 クラリアント・ファイナンス・（ビーブイアイ）・リミテッド ノボラック樹脂中の金属イオンの低減
WO1993018437A1 (en) * 1992-03-06 1993-09-16 Hoechst Celanese Corporation Photoresists having a low level of metal ions
US5300628A (en) * 1992-06-29 1994-04-05 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Selected chelate resins and their use to remove multivalent metal impurities from resist components
SG52770A1 (en) * 1992-07-10 1998-09-28 Hoechst Celanese Corp Metal ion reduction in top anti-reflective coatings for photoresists
US5830990A (en) * 1992-07-10 1998-11-03 Clariant Finance (Bvi) Limited Low metals perfluorooctanoic acid and top anti-reflective coatings for photoresists
CA2097791A1 (en) * 1992-08-28 1994-03-01 Sunit S. Dixit High aspect ratio, flexible thick film positive photoresist
SG49596A1 (en) * 1992-11-25 1998-06-15 Hoechst Celanese Corp Metal ion reduction in bottom anti-reflective coatings for photoresists
WO1994014858A1 (en) * 1992-12-29 1994-07-07 Hoechst Celanese Corporation Metal ion reduction in polyhydroxystyrene and photoresists
US5286606A (en) * 1992-12-29 1994-02-15 Hoechst Celanese Corporation Process for producing a developer having a low metal ion level
US5476750A (en) * 1992-12-29 1995-12-19 Hoechst Celanese Corporation Metal ion reduction in the raw materials and using a Lewis base to control molecular weight of novolak resin to be used in positive photoresists
US5472616A (en) * 1993-10-27 1995-12-05 Shipley Company, Inc. Modified anion exchange process
US5350714A (en) * 1993-11-08 1994-09-27 Shipley Company Inc. Point-of-use purification
JPH07199455A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型ホトレジスト組成物
US5500127A (en) * 1994-03-14 1996-03-19 Rohm And Haas Company Purification process
US5686561A (en) * 1994-08-23 1997-11-11 Hoechst Celanese Corporation Metal ion reduction in novolak resin solution using an anion exchange resin
WO1996012214A1 (en) * 1994-10-12 1996-04-25 Hoechst Celanese Corporation Low metal ion photoactive compounds and photoresists compositions produced therefrom
US5521052A (en) * 1994-12-30 1996-05-28 Hoechst Celanese Corporation Metal ion reduction in novolak resin using an ion exchange catalyst in a polar solvent and photoresists compositions therefrom
US5614352A (en) * 1994-12-30 1997-03-25 Hoechst Celanese Corporation Metal ion reduction in novolak resins solution in PGMEA by chelating ion exchange resin
US5837417A (en) * 1994-12-30 1998-11-17 Clariant Finance (Bvi) Limited Quinone diazide compositions containing low metals p-cresol oligomers and process of producing the composition
US5541033A (en) * 1995-02-01 1996-07-30 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Selected o-quinonediazide sulfonic acid esters of phenolic compounds and their use in radiation-sensitive compositions
US5750031A (en) * 1995-09-26 1998-05-12 Clariant Finance (Bvi) Limited Process for producing surfactant having a low metal ion level and developer produced therefrom
US5656413A (en) * 1995-09-28 1997-08-12 Hoechst Celanese Corporation Low metal ion containing 4,4'-[1-[4-[1-(4-Hydroxyphenyl)-1-methylethyl]phenyl]ethylidene]bisphe nol and photoresist compositions therefrom
US5962183A (en) * 1995-11-27 1999-10-05 Clariant Finance (Bvi) Limited Metal ion reduction in photoresist compositions by chelating ion exchange resin
US5665517A (en) * 1996-01-11 1997-09-09 Hoechst Celanese Corporation Acidic ion exchange resin as a catalyst to synthesize a novolak resin and photoresist composition therefrom
WO1997046915A1 (en) * 1996-06-06 1997-12-11 Clariant International, Ltd Metal ion reduction of aminochromatic chromophores and their use in the synthesis of low metal bottom anti-reflective coatings for photoresists
WO1998027461A1 (en) * 1996-12-17 1998-06-25 Clariant International Ltd. A method for reducing metal ion contaminants in photoresist compositions containing an organic polar solvent by ion exchange
WO1998027462A1 (en) * 1996-12-18 1998-06-25 Clariant International Ltd. Photoresist composition containing a polymeric additive
US5876897A (en) * 1997-03-07 1999-03-02 Clariant Finance (Bvi) Limited Positive photoresists containing novel photoactive compounds
US5866295A (en) * 1997-03-07 1999-02-02 Clariant Finance (Bvi) Limited Photosensitive quinolone compounds and a process of preparation

Also Published As

Publication number Publication date
DE69902633T2 (de) 2003-03-06
KR100551935B1 (ko) 2006-02-16
CN1292890A (zh) 2001-04-25
DE69902633D1 (de) 2002-10-02
JP2002501933A (ja) 2002-01-22
EP1053508A1 (en) 2000-11-22
KR20010040508A (ko) 2001-05-15
US5936071A (en) 1999-08-10
EP1053508B1 (en) 2002-08-28
US6048665A (en) 2000-04-11
CN1171123C (zh) 2004-10-13
MY117963A (en) 2004-08-30
WO1999039245A1 (en) 1999-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01105243A (ja) ポジ型フォトレジスト用ノボラック樹脂
JPH0616174B2 (ja) ナフトキノンジアジド系化合物及び該化合物を含有するポジ型フオトレジスト組成物
US4892801A (en) Mixed ester O-quinone diazide photosensitizers and process of preparation
JPH0727203B2 (ja) フォトレジスト及び該フォトレジストを有する物品の製法
JPS60158440A (ja) ポジ型フオトレジスト組成物
JPS63110446A (ja) ポジ型フオトレジスト組成物
TW561142B (en) A process for making a photoactive compound and photoresist therefrom
JPS6210646A (ja) ポジ型フオトレジスト組成物
JPH01309052A (ja) ポジ型フオトレジスト組成物
CN104391428A (zh) 含重氮基团的感光剂、光刻胶组合物与其制备方法
KR100465664B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물
JP2813033B2 (ja) ポジ型感光性樹脂組成物
JPS63161449A (ja) 高コントラストなフオトレジスト組成物
US5162510A (en) Process for the preparation of photosensitive compositions containing a mixed ester o-quinone photosensitizer
JPS6210645A (ja) ポジ型フオトレジスト組成物
US4902785A (en) Phenolic photosensitizers containing quinone diazide and acidic halide substituents
JPH0219846A (ja) 集積回路製作用ポジ型レジスト組成物の製造方法
US5035976A (en) Photosensitive article having phenolic photosensitizers containing quinone diazide and acid halide substituents
US5019478A (en) Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures
US6297352B1 (en) Method of reducing metal ion content of film-forming resins using a liquid/liquid centrifuge
JP2002501485A (ja) 感光性キノロン化合物及び製造方法
US5219714A (en) Selected trihydroxybenzophenone compounds and their use in photoactive compounds and radiation sensitive mixtures
JPS62270951A (ja) ポジ型フォトレジスト用クレゾールノボラック樹脂
JP3834852B2 (ja) ペンタフェノール系化合物およびその用途
US5220073A (en) Selected trihydroxybenzophenone compounds

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees