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TW202532226A - 光學積層體、以及使用上述光學積層體之偏光板、影像顯示面板及影像顯示裝置 - Google Patents

光學積層體、以及使用上述光學積層體之偏光板、影像顯示面板及影像顯示裝置

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Publication number
TW202532226A
TW202532226A TW113140170A TW113140170A TW202532226A TW 202532226 A TW202532226 A TW 202532226A TW 113140170 A TW113140170 A TW 113140170A TW 113140170 A TW113140170 A TW 113140170A TW 202532226 A TW202532226 A TW 202532226A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
wavelength
optical
spectral transmittance
optical laminate
layer
Prior art date
Application number
TW113140170A
Other languages
English (en)
Inventor
橋本慶介
堀井篤
山本真理子
鰐田憲彦
Original Assignee
日商大日本印刷股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商大日本印刷股份有限公司 filed Critical 日商大日本印刷股份有限公司
Publication of TW202532226A publication Critical patent/TW202532226A/zh

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    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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Abstract

本發明提供一種光學積層體，其減少藍光，並且耐擦傷性及密接性優異，且能夠抑制亮度降低。本發明之光學積層體於基材與硬塗層之間包含：含有苯并三唑系化合物之底塗層（primer layer），且滿足條件1～3。條件1：波長410 nm之分光穿透率未達1.0%，波長450 nm之分光穿透率為15.0%以上且未達85.0%，波長490 nm之分光穿透率為85.0%以上。條件2：自上述硬塗層與上述底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之上述底塗層之剖面之壓痕硬度之平均為190 MPa以上。條件3：於藉由JIS K5600-5-6：1999之劃格（cross-cut）法評價上述底塗層及上述硬塗層對上述基材之密接性時，評價之分類為0或1。

Description

光學積層體、以及使用上述光學積層體之偏光板、影像顯示面板及影像顯示裝置
本發明係關於光學積層體、以及使用上述光學積層體之偏光板、影像顯示面板及影像顯示裝置。
有使用發光二極體（Light Emitting Diode，以下稱為「LED」）作為個人電腦及平板等影像顯示裝置之背光光源之情形。LED會強烈地發出被稱為藍光之光。 藍光係波長380 nm以上495 nm以下之光，具有接近紫外線之性質，並且具有較強之能量。因此，認為因藍光到達人之視網膜，而產生視網膜之損傷、眼睛疲勞、對睡眠之不良影響等問題。
作為解決藍光問題之方法，於專利文獻1中提出了一種保護眼睛免受藍光影響之眼鏡。然而，於專利文獻1之手法中，由於經常需要眼鏡，故而缺乏便利性。
作為解決藍光問題之另一方法，考慮使於影像顯示裝置中所使用之光學積層體含有紫外線吸收劑之方法。於專利文獻2中提出一種包含紫外線吸收劑，將分光穿透率調整至特定之範圍之光學積層體。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2007-93927號公報 專利文獻2：日本專利第6696562號公報
[發明所欲解決之課題] 專利文獻2之光學積層體之目的在於，藉由將波長410 nm時之分光穿透率設為未達10%等來減少藍光。然而，於專利文獻2之光學積層體之設計中，有無法充分地減少藍光之情形。
又，為了抑制製造時及使用時之損傷，而期望光學積層體之耐擦傷性良好。然而，若於構成光學積層體之層中添加紫外線吸收劑，則有光學積層體之耐擦傷性降低之情形。專利文獻2之光學積層體並未對兼顧藉由添加紫外線吸收劑所實現之藍光減少與耐擦傷性進行研究。 又，於為了使光學積層體之耐擦傷性變得良好，而提高形成於基材上之功能層之硬度之情形時，有功能層之密接性降低之情況。作為「功能層之密接性」，可例舉：基材與功能層之密接性、及功能層為多層時之功能層彼此之密接性。專利文獻2之光學積層體並未對藉由添加紫外線吸收劑所實現之藍光減少、耐擦傷性、及密接性之平衡進行任何研究。 進而，對於光學積層體，要求減少藍光，且另一方面不損害影像顯示裝置之亮度。
本發明之課題在於提供光學積層體、以及使用其之偏光板、影像顯示面板及影像顯示裝置，上述光學積層體減少藍光，並且耐擦傷性及密接性優異，且能夠抑制亮度降低。 [解決課題之技術手段]
本發明提供以下＜1＞～＜4＞。 ＜1＞一種光學積層體，其於基材上具有硬塗層， 上述光學積層體於上述基材與上述硬塗層之間包含：含有苯并三唑系化合物之底塗層（primer layer）；且滿足下述條件1～3， 條件1：上述光學積層體之波長410 nm之分光穿透率未達1.00%，波長450 nm之分光穿透率為15.00%以上且未達85.00%，波長490 nm之分光穿透率為85.00%以上； 條件2：自上述硬塗層與上述底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之上述底塗層之剖面之壓痕硬度的平均為190 MPa以上； 條件3：於藉由JIS K5600-5-6：1999之劃格（cross-cut）法評價上述光學積層體中上述底塗層及上述硬塗層之密接性時，評價之分類為0或1。 ＜2＞一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側而成之第1透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側而成之第2透明保護板，上述第1透明保護板及上述第2透明保護板中之一者為＜1＞所記載之光學積層體且以上述光學積層體之上述硬塗層側之面朝向與上述偏光元件相反之側之方式配置而成。 ＜3＞一種影像顯示面板，其具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光射出面側之光學膜，且包含＜4＞所記載之光學積層體作為上述光學膜，上述影像顯示面板係以上述光學積層體之上述硬塗層側之面朝向與上述顯示元件相反之側之方式配置而成。 ＜4＞一種影像顯示裝置，其包含＜3＞所記載之影像顯示面板。 [發明之效果]
本發明之光學積層體、以及使用其之偏光板、影像顯示面板及影像顯示裝置能夠減少藍光，並且使耐擦傷性及密接性變得良好，且能夠抑制影像顯示裝置之亮度之降低。
以下，說明本發明之實施方式。
[光學積層體] 本發明之光學積層體於基材上具有硬塗層， 上述光學積層體於上述基材與上述硬塗層之間包含：含有苯并三唑系化合物之底塗層；且滿足下述條件1～3。 條件1：上述光學積層體之波長410 nm之分光穿透率未達1.00%，波長450 nm之分光穿透率為15.00%以上且未達85.00%，波長490 nm之分光穿透率為85.00%以上。 條件2：自上述硬塗層與上述底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之上述底塗層之剖面之壓痕硬度之平均為190 MPa以上。 條件3：於藉由JIS K5600-5-6：1999之劃格法評價上述光學積層體中上述底塗層及上述硬塗層之密接性時，評價之分類為0或1。
圖1係本發明之光學積層體100之剖面形狀之概略剖視圖。 圖1之光學積層體100於基材10上具有硬塗層30。圖1之光學積層體100於基材10與硬塗層30之間具有底塗層20。 圖1係示意性剖視圖。即，構成光學積層體100之各層之縮小比例等係為了容易圖示而示意者，與實際之縮小比例等不同。圖2亦同樣如此。
本發明之光學積層體並不限定為圖1之積層構成。例如，本發明之光學積層體亦可具有圖1中未記載之其他層。
＜條件1＞ 於條件1中，界定了光學積層體之分光穿透率。具體而言，界定了如下內容：波長410 nm之分光穿透率未達1.00%，波長450 nm之分光穿透率為15.00%以上且未達85.00%，波長490 nm之分光穿透率為85.00%以上。
於波長410 nm之分光穿透率為1.00%以上之情形時，藍光之減少變得不充分。波長410 nm之分光穿透率較佳為0.80%以下，更佳為0.60%以下，進而較佳為0.40%以下。 波長410 nm之分光穿透率之下限並無特別限制。波長410 nm之分光穿透率之下限通常為0.005%以上，較佳為0.01%以上。 關於波長410 nm之分光穿透率之適宜範圍之實施形態，可例舉：0.005%以上且未達1.00%、0.005%以上0.80%以下、0.005%以上0.60%以下、0.005%以上0.40%以下、0.01%以上且未達1.00%、0.01%以上0.80%以下、0.01%以上0.60%以下、0.01%以上0.40%以下。
於波長450 nm之分光穿透率未達15.00%之情形時，影像顯示裝置之亮度降低。於波長450 nm之分光穿透率為85.00%以上之情形時，藍光之減少變得不充分。 波長450 nm之分光穿透率之下限較佳為17.00%以上，更佳為19.00%以上，進而較佳為20.00%以上。 波長450 nm之分光穿透率之上限較佳為83.00%以下，更佳為81.00%以下，進而較佳為79.00%以下。 關於波長450 nm之分光穿透率之適宜範圍之實施形態，可例舉：15.00%以上且未達85.00%、15.00%以上83.00%以下、15.00%以上81.00%以下、15.00%以上79.00%以下、17.00%以上且未達85.00%、17.00%以上83.00%以下、17.00%以上81.00%以下、17.00%以上79.00%以下、19.00%以上且未達85.00%、19.00%以上83.00%以下、19.00%以上81.00%以下、19.00%以上79.00%以下、20.00%以上且未達85.00%、20.00%以上83.00%以下、20.00%以上81.00%以下、20.00%以上79.00%以下。
於波長490 nm之分光穿透率未達85.00%之情形時，影像顯示裝置之亮度降低。 波長490 nm之分光穿透率較佳為87.00%以上，更佳為90.00%以上。 波長490 nm之分光穿透率之上限並無特別限制。波長490 nm之分光穿透率之上限通常為96.00%以下，較佳為95.00%以下。 關於波長490 nm之分光穿透率之適宜範圍之實施形態，可例舉：85.00%以上96.00%以下、85.00%以上95.00%以下、87.00%以上96.00%以下、87.00%以上95.00%以下、90.00%以上96.00%以下、90.00%以上95.00%以下。
為了減少藍光並且容易地抑制影像顯示裝置之亮度之降低，光學積層體較佳為自波長410 nm至波長490 nm之分光穿透率之值逐漸增加。
當將光學積層體之波長455 nm之分光穿透率定義為X%，將波長445 nm之分光穿透率定義為Y%時，X－Y較佳為15.00%以上。 X－Y為15.00%以上，意指光之穿透率於波長450 nm前後急遽變大。因此，藉由將X－Y設為15.00%以上，能夠減少藍光，並且容易地抑制影像顯示裝置之亮度之降低。 X－Y更佳為20.00%以上，進而較佳為25.00%以上。 X－Y之上限並無特別限制。X－Y之上限通常為50.00%以下，較佳為38.00%以下。 關於X－Y之適宜範圍之實施形態，可例舉：15.00%以上50.00%以下、15.00%以上38.00%以下、20.00%以上50.00%以下、20.00%以上38.00%以下、25.00%以上50.00%以下、25.00%以上38.00%以下。
本發明之光學積層體之波長超過410 nm且未達450 nm之分光穿透率之平均較佳為1.00%以上40.00%以下，更佳為2.00%以上28.00%以下。 本發明之光學積層體之波長超過450 nm且未達490 nm之分光穿透率之平均較佳為64.00%以上90.00%以下，更佳為70.00%以上89.00%以下。 本發明之光學積層體之波長超過490 nm且為780 nm以下之分光穿透率之平均較佳為80.00%以上，更佳為85.00%以上。 本發明之光學積層體之波長410 nm以上780 nm以下之分光穿透率之最大值較佳為85.0%以上96.0%以下，更佳為87.0%以上95.0%以下。
光學積層體之分光穿透率可藉由底塗層之苯并三唑系化合物之吸收特性、上述化合物之含量、底塗層之厚度等來進行調整。詳細之調整方法將於底塗層之實施方式中進行說明。
於本說明書中，測定分光穿透率時之光入射面設為基材側之面。分光穿透率之測定波長間隔設為5 nm以下。分光穿透率可藉由通用之測定裝置來進行測定。
於本說明書中，只要無特別說明，則分光穿透率及奈米壓痕儀硬度等之測定係於溫度23±5℃、相對濕度40%以上65%以下進行測定。於各測定開始前，將對象樣品設為於上述環境中暴露30分鐘以上60分鐘以下後進行測定。
＜條件2＞ 於條件2中，界定了如下內容：自硬塗層與底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之底塗層之剖面之壓痕硬度之平均為190 MPa以上。
於條件2中，底塗層之剖面之壓痕硬度在「自硬塗層與底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置」實施。圖1之符號X相當於「硬塗層與底塗層之界面」。於條件2中，在自上述界面沿厚度方向1.0 μm之位置，測定底塗層之剖面之壓痕硬度。
於即便使硬塗層變得較硬，但「與硬塗層相鄰之層」較柔軟之情形時，亦無法使光學積層體之耐擦傷性變得良好。不滿足條件2意指底塗層不硬而柔軟。因此，於不滿足條件2之情形時，即便使硬塗層變得較硬，亦無法使光學積層體之耐擦傷性變得良好。
條件2之壓痕硬度之平均較佳為195 MPa以上，更佳為200 MPa以上。 於條件2之壓痕硬度之平均過大之情形時，可能會有底塗層與硬塗層之密接性降低，或於光學積層體之加工時產生裂痕之情形。因此，條件2之壓痕硬度之平均較佳為400 MPa以下，更佳為350 MPa以下，進而較佳為300 MPa以下。 關於條件2之壓痕硬度之平均之適宜範圍之實施形態，可例舉：190 MPa以上400 MPa以下、190 MPa以上350 MPa以下、190 MPa以上300 MPa以下、195 MPa以上400 MPa以下、195 MPa以上350 MPa以下、195 MPa以上300 MPa以下、200 MPa以上400 MPa以下、200 MPa以上350 MPa以下、200 MPa以上300 MPa以下。
於本說明書中，條件2之壓痕硬度之平均設為從10個部位之測定值中去除最大值及最小值後所得之8個部位之測定值之平均值。
底塗層之剖面之壓痕硬度係製作光學積層體之厚度方向之垂直剖面露出之樣品，並使用上述樣品來進行測定。上述樣品係藉由步驟X1～X2而製作。
X1：製作將光學積層體切割成任意大小之切斷樣品後，製作藉由樹脂包埋上述切斷樣品之包埋樣品。切斷樣品之大小設為縱10 mm×橫3 mm之短條狀。包埋用樹脂設為環氧樹脂。 包埋樣品係藉由以下方式而獲得，即，於將切斷樣品配置於矽包埋板內後，流入包埋用樹脂，進而使包埋用樹脂硬化後，自矽包埋板取出切斷樣品及包裹其之包埋用樹脂而獲得。包埋樣品之形狀為塊狀。
X2：對塊狀之包埋樣品垂直地進行切削，製作光學積層體之厚度方向之垂直剖面露出之切片樣品。包埋樣品係使用玻璃刀與鑽石刀並利用切片機來進行切削。
將玻氏（Berkovich）壓頭（材質：鑽石三角錐）垂直地壓入至上述樣品之剖面之特定之位置，藉此測定壓痕硬度。 壓痕硬度較佳為於下述條件進行測定。 ＜測定條件＞ ・使用壓頭：玻氏壓頭 ・壓入條件：位移控制方式 ・最大壓入深度：200 nm ・負載施加時間：20秒（速度：10 nm/秒） ・保持時間：於最大壓入深度保持5秒 ・負載卸載時間：20秒（速度：10 nm/秒）
以如下方式算出壓痕硬度。 首先，連續地測定與壓入負載F（N）對應之壓入深度h（nm），而製作負載-位移曲線。對所製作之負載-位移曲線進行分析，以最大壓入負載F max（N）除以壓頭與塑膠膜相接之投影面積A p（mm 2）所得之值之方式，算出壓痕硬度H IT（下述式（1））。 H IT＝F max/A p…（1） 「A p」係藉由標準方法對裝置修正壓頭前端曲率後之接觸投影面積。
為了容易滿足條件2，較佳為實施選自下述（A1）～（A3）中之1種以上之手段。（A1）～（A3）之詳情將於底塗層之實施方式中進行說明。 （A1）使底塗層用塗佈液不過度地滲透至基材中。 （A2）使用苯并三唑系化合物之聚合物作為苯并三唑系化合物。 （A3）使用游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物作為底塗層之黏合劑樹脂。
＜條件3＞ 於條件3中，界定了如下內容：於藉由JIS K5600-5-6：1999之劃格法評價光學積層體中底塗層及硬塗層之密接性時，評價之分類為0或1。
於JIS K5600-5-6：1999之劃格法中，評價分為0～5之6種。分類0之評價最良好，分類5之評價最差。分類0、1、2之內容記載如下。 分類0：切割之邊緣完全光滑，任何網格均無剝落。 分類1：切割之交叉點處之塗膜發生較小剝落。於劃格部分受到影響者明確不超過5%。 分類2：塗膜沿切割之邊緣、及/或於交叉點發生剝落。於劃格部分受到影響者明確超過5%但不超過15%。
於本說明書中，JIS K5600-5-6：1999之劃格法係將切割之間隔設為1 mm而實施。切入切口之側設為光學積層體之硬塗層側。使切口貫通硬塗層及底塗層，並到達基材之表面。
滿足條件3，意指於光學積層體中，基材與底塗層之密接性、及底塗層與硬塗層之密接性兩者均良好。 於條件3中，劃格法之分類較佳為0。
為了容易滿足條件3，較佳為實施選自下述（B1）～（B3）中之1種以上之手段。 （B1）使底塗層用塗佈液滲透至基材中。 （B2）於底塗層與硬塗層之界面發生交聯反應。 （B3）不使底塗層之硬度變得過硬，且不使其變得過軟。（於底塗層之硬度過硬之情形時，底塗層與硬塗層之密接性降低，故而變得難以滿足條件3；於底塗層之硬度過軟之情形時，底塗層變得容易發生凝聚破壞，故而變得難以滿足條件3。）
＜基材＞ 基材較佳為具備透光性、平滑性、耐熱性，且機械強度優異者。作為此種基材，可例舉：聚酯、三乙醯纖維素（TAC）、二乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、聚醯胺、聚醯亞胺、聚醚碸、聚碸、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯縮醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚胺酯（polyurethane）及非晶質烯烴（Cyclo-Olefin-Polymer，環烯烴聚合物：COP）等塑膠膜。基材亦可為將2片以上之塑膠膜貼合而成者。
於上述基材中，為了使機械強度及尺寸穩定性變得良好，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯膜。於聚酯膜中，較佳為經延伸加工之膜，更佳為經雙軸延伸加工之膜。 就透光性及光學各向同性之觀點而言，較適宜為TAC膜、丙烯酸膜。進而，就容易使基材與底塗層之密接性變得良好之方面而言，較佳為TAC膜及丙烯酸膜。由於TAC膜容易被底塗層用塗佈液之成分滲透，故而容易使密接性變得良好。由於丙烯酸膜容易被底塗層用塗佈液之成分滲透，進而丙烯酸膜中之樹脂成分溶出至底塗層側，故而容易使密接性變得良好。 就耐候性優異之方面而言，較適宜為COP膜、聚酯膜。
作為塑膠膜之原料，可例舉選自「新合成之原料」、「經再生利用之原料」及「來自生質之原料」中之1種以上。為了減輕環境負擔，較佳為包含來自生質之原料作為塑膠膜之原料。所謂來自生質之原料，係指來自植物之原料。 可藉由放射性碳（C14）之測定來判定是否為來自生質之原料。已知由於大氣中之二氧化碳中包含一定比率（105.5 pMC）之C14，故而吸收大氣中之二氧化碳而生長之植物中之C14含量亦為105.5 pMC左右。又，亦已知於化石燃料中幾乎不含有C14。因此，藉由測定原料中之所有碳原子中所包含之C14之比率，可判定原料是否來自生質。 為了使機械強度及尺寸穩定性變得良好，並且減輕對環境之負擔，基材較佳為包含來自生質之原料之聚酯的聚酯膜。
基材之厚度較佳為5 μm以上300 μm以下，更佳為20 μm以上200 μm以下，進而較佳為30 μm以上120 μm以下。 於欲將光學積層體薄膜化之情形時，基材之厚度之較佳之上限為80 μm以下，更佳之上限為70 μm以下。 基材之厚度係利用通用之膜厚測定器來進行測定。作為膜厚測定器，可例舉數顯標準外側測微計（Mitutoyo公司，商品號「MDC-25SX」）。關於基材之厚度，只要對任意10點進行測定所得之平均值為上述數值即可。
於本說明書所示之構成要件中，於分別示出複數個數值之上限之選項及下限之選項之情形時，可設為將選自上限之選項中之一個與選自下限之選項中之一個組合而成之實施形態。例如，作為上述基材之厚度之實施形態，可例舉：5 μm以上300 μm以下、5 μm以上200 μm以下、5 μm以上120 μm以下、5 μm以上80 μm以下、5 μm以上70 μm以下、5 μm以上20 μm以下、20 μm以上300 μm以下、20 μm以上200 μm以下、20 μm以上120 μm以下、20 μm以上80 μm以下、20 μm以上70 μm以下、30 μm以上300 μm以下、30 μm以上200 μm以下、30 μm以上120 μm以下、30 μm以上80 μm以下、30 μm以上70 μm以下。
為了提高密接性，可對基材之表面實施電暈放電處理等物理處理或化學處理，或者於基材之表面形成易接著層。 基材之JIS K7361-1：1997之全光線穿透率較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而較佳為85%以上。
＜硬塗層＞ 本發明之光學積層體需要於基材上具有硬塗層。藉由具有硬塗層，可容易使光學積層體之耐擦傷性變得良好。其中，如後所述，為了使光學積層體之耐擦傷性變得良好，而需要底塗層滿足條件2。
硬塗層較佳為包含熱硬化性樹脂組成物或游離輻射硬化性樹脂組成物等硬化性樹脂組成物之硬化物作為主成分者，更佳為包含游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物作為主成分。所謂主成分意指構成硬塗層之樹脂成分之50質量%以上，較佳為70質量%以上，更佳為90質量%以上。
熱硬化性樹脂組成物係至少包含熱硬化性樹脂之組成物，且係藉由加熱而硬化之樹脂組成物。 作為熱硬化性樹脂，可例舉：丙烯酸樹脂、胺酯樹脂、酚樹脂、脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。於熱硬化性樹脂組成物中，可視需要向該等硬化性樹脂中添加硬化劑。
游離輻射硬化性樹脂組成物係包含具有游離輻射硬化性官能基之化合物（以下亦稱為「游離輻射硬化性化合物」）之組成物。作為游離輻射硬化性官能基，可例舉：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性不飽和鍵結基、及環氧基、氧雜環丁基等。作為游離輻射硬化性化合物，較佳為具有乙烯性不飽和鍵結基之化合物，更佳為具有2個以上之乙烯性不飽和鍵結基之化合物，其中，進而較佳為具有2個以上之乙烯性不飽和鍵結基之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物。即，硬塗層較佳為包含多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之硬化物。作為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，可使用單體及低聚物中之任一種。 所謂游離輻射，意指電磁波或帶電粒子束中具有能夠使分子聚合或交聯之能量量子者，通常可使用紫外線（UV）或電子束（EB），此外，亦可使用X射線、γ射線等電磁波、α射線、離子束等帶電粒子束。
多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之官能基數較佳為3以上8以下，更佳為3以上6以下。藉由將官能基數設為3以上，可容易使耐擦傷性變得良好。藉由將官能基數設為8以下，可容易抑制於裁斷等加工時產生裂痕。
游離輻射硬化性化合物較佳為包含多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物。換言之，硬塗層較佳為包含多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之硬化物作為黏合劑樹脂。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物中之2官能(甲基)丙烯酸酯系單體，可例舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A四乙氧基二丙烯酸酯、雙酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。 作為3官能以上之(甲基)丙烯酸酯系單體，例如可例舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸改質三(甲基)丙烯酸酯等。 上述(甲基)丙烯酸酯系單體可為對分子骨架之一部分進行改質者。例如，上述(甲基)丙烯酸酯系單體亦可使用藉由環氧乙烷、環氧丙烷、己內酯、異三聚氰酸、烷基、環狀烷基、芳香族、雙酚等對分子骨架之一部分進行改質所得者。
作為多官能(甲基)丙烯酸酯系低聚物，可例舉：胺酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合物等。 胺酯(甲基)丙烯酸酯例如可藉由多元醇及有機二異氰酸酯與(甲基)丙烯酸羥基酯之反應而獲得。 較佳之環氧(甲基)丙烯酸酯係如下者：使3官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯；使2官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與多元酸以及(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯；及使2官能以上之芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等與酚類以及(甲基)丙烯酸進行反應而獲得之(甲基)丙烯酸酯。
多官能(甲基)丙烯酸酯系低聚物之數量平均分子量較佳為500以上3000以下，較佳為600以上2000以下，進而較佳為700以上1200以下。 於本說明書中，數量平均分子量及重量平均分子量係藉由GPC分析來進行測定，且以標準聚苯乙烯進行換算而得之平均分子量。
為了調整硬塗層用塗佈液之黏度等，可併用單官能(甲基)丙烯酸酯作為游離輻射硬化性化合物。作為單官能(甲基)丙烯酸酯，可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯及(甲基)丙烯酸異莰酯等。 游離輻射硬化性化合物可單獨使用1種，或組合2種以上而使用。
於游離輻射硬化性化合物為紫外線硬化性化合物之情形時，硬塗層用塗佈液較佳為包含光聚合起始劑及光聚合促進劑等添加劑。 作為光聚合起始劑，可例舉選自苯乙酮、二苯甲酮、α-羥烷基苯酮（α-hydroxyalkylphenone）、米其勒酮、安息香、二苯乙二酮二甲基縮酮（benzil dimethyl ketal）、苯甲醯基苯甲酸酯、α-醯基肟酯、α-胺基烷基苯酮、9-氧硫𠮿類等中之1種以上。 光聚合促進劑係能夠減輕硬化時之空氣所導致之聚合阻礙而加快硬化速度者，例如可例舉選自對二甲胺基苯甲酸異戊酯、對二甲胺基苯甲酸乙酯等中之1種以上。
硬塗層之厚度之下限較佳為1.3 μm以上，更佳為2.0 μm以上，上限較佳為30.0 μm以下，更佳為10.0 μm以下。藉由將硬塗層之厚度設為上述範圍，能夠使耐擦傷性變得良好，且容易抑制於裁斷等加工時產生裂痕。 關於硬塗層之厚度之適宜範圍之實施形態，可例舉：1.3 μm以上30.0 μm以下、1.3 μm以上10.0 μm以下、2.0 μm以上30.0 μm以下、2.0 μm以上10.0 μm以下。
硬塗層及後述之底塗層之厚度可利用掃描式穿透電子顯微鏡而獲得光學積層體之剖面照片，並選擇該剖面照片之任意20個部位，藉由20個部位之厚度之平均值而算出。
硬塗層可進而包含消光劑、調平劑、防污劑、抗靜電劑、抗氧化劑、界面活性劑、分散劑及光穩定劑等添加劑。 硬塗層亦可包含紫外線吸收劑，但為了使耐擦傷性變得良好，較佳為實質上不包含紫外線吸收劑。所謂實質上不包含紫外線吸收劑，意指紫外線吸收劑之含量為硬塗層之總固形物成分之0.1質量%以下，較佳為0.01質量%以下，更佳為0質量%。
為了容易使耐擦傷性變得良好，硬塗層較佳為自硬塗層與底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之硬塗層之剖面之壓痕硬度的平均為300 MPa以上。 硬塗層之剖面之壓痕硬度之平均更佳為310 MPa以上，進而較佳為320 MPa以上。 若硬塗層之剖面之壓痕硬度之平均過大，則有於光學積層體之加工時產生裂痕之情形。因此，硬塗層之剖面之壓痕硬度之平均較佳為500 MPa以下，更佳為430 MPa以下。 為了容易使硬塗層之剖面之壓痕硬度之平均處於上述範圍內，較佳為將多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之官能基數設為上述範圍。 關於硬塗層之剖面之壓痕硬度之平均之適宜範圍之實施形態，可例舉：300 MPa以上500 MPa以下、300 MPa以上430 MPa以下、310 MPa以上500 MPa以下、310 MPa以上430 MPa以下、320 MPa以上500 MPa以下、320 MPa以上430 MPa以下。
於本說明書中，硬塗層之剖面之壓痕硬度之平均設為從10個部位之測定值中去除最大值及最小值後所得之8個部位之測定值之平均值。 硬塗層之剖面之壓痕硬度係製作光學積層體之厚度方向之垂直剖面露出之樣品，並使用上述樣品來進行測定。上述樣品係藉由上述步驟X1～X2而製作。 測定硬塗層之剖面之壓痕硬度時之測定條件設為與上述底塗層之剖面之壓痕硬度之測定條件相同之條件。
硬塗層例如可藉由如下方式而形成：將包含形成硬塗層之材料及溶劑之硬塗層用塗佈液塗佈於底塗層上並進行乾燥後，視需要照射游離輻射，藉此形成上述硬塗層。
＜底塗層＞ 本發明之光學積層體需要於基材與硬塗層之間包含：含有苯并三唑系化合物之底塗層。
於使苯并三唑系化合物等紫外線吸收劑包含於硬塗層中之情形時，難以使光學積層體之耐擦傷性變得良好。又，於使苯并三唑系化合物等紫外線吸收劑包含於基材中之情形時，在基材上塗佈底塗層時有紫外線吸收劑從基材流出之情形，或者有紫外線吸收劑從基材之與形成底塗層之面相反側之面經時性地滲出之情形。因此，本發明之光學積層體係使苯并三唑系化合物包含於底塗層中。
苯并三唑系化合物較佳為吸收峰滿足下述條件Y1及Y2之化合物。 （條件Y1） 於波長380 nm以上410 nm以下具有吸收峰作為第1吸收峰之化合物。 （條件Y2） 於超過上述第1吸收峰且為490 nm以下之波長不具有吸收峰之化合物。
藉由使用滿足上述條件Y1及Y2之苯并三唑系化合物，可容易滿足條件1之3個波長之分光穿透率之條件。又，藉由使用滿足上述條件Y1及Y2之苯并三唑系化合物，可容易使自波長410 nm至波長490 nm之分光穿透率之值逐漸增加。進而，藉由使用滿足上述條件Y1及Y2之苯并三唑系化合物，可容易使X－Y成為15.00%以上。
於本說明書中，所謂吸收峰，意指吸光度從增加轉為減少之波長。
於條件Y1中，吸收峰之位置更佳為波長380 nm以上400 nm以下，進而較佳為波長380 nm以上390 nm以下。
滿足上述條件Y1及Y2之苯并三唑系化合物進而可於未達波長380 nm之波長區域內具有吸收峰。 作為滿足上述條件Y1及Y2之苯并三唑系化合物之一例，可例舉下述通式（1）所表示之對甲氧基苯酚（methoquinone）型苯并三唑系化合物。
式（1）中，R 1表示氫原子或碳數1～8之烷基。R 2表示碳數1～8之烷基。R 3表示烷基碳數1～2之丙烯醯氧基烷基、或烷基碳數1～2之甲基丙烯醯氧基烷基。
作為通式（1）所表示之對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之具體例，可例舉：2-(2-羥基-5-甲氧基苯基)-2H-苯并三唑-5-羧酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯、2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲氧基苯基)-2H-苯并三唑-5-羧酸2-丙烯醯氧基乙酯、2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲氧基苯基)-2H-苯并三唑-5-羧酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯。
底塗層之苯并三唑系化合物較佳為包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物。藉由為聚合物，可容易提高底塗層之壓痕硬度。進而，藉由為聚合物，可使苯并三唑系化合物難以從底塗層滲出，可容易使與後述之交聯硬化成分之相容性變得良好。 上述聚合物可例舉：對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之均聚物、及對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物與其他聚合性單體之共聚物。作為其他聚合性單體，可例舉(甲基)丙烯酸酯系化合物。
關於作為其他聚合性單體之(甲基)丙烯酸酯系化合物，可例舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸酯2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸烷基酯類；(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥丙基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、己內酯改質(甲基)丙烯酸羥基酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯系化合物；(甲基)丙烯酸環氧丙酯；等。
使對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物進行均聚或共聚時之聚合方法，可採用溶液聚合法、乳化聚合法、懸浮聚合法、塊狀聚合法等通用之聚合方法。聚合時所使用之聚合起始劑等添加劑可從通用之材料中選擇而使用。聚合時之反應溫度較佳為40℃以上140℃以下。
包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物之數量平均分子量較佳為2000以上10000以下，更佳為3000以上8000以下，進而較佳為4000以上6000以下。
底塗層較佳為除了苯并三唑系化合物以外亦包含游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。又，如上所述，苯并三唑系化合物較佳為包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物。即，底塗層更佳為包含：包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物、及游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物。
於底塗層中，包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物、與游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物之質量比較佳為95：5～50：50，更佳為85：15～55：45，進而較佳為82：18～58：42。 若包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物之比率過少，則變得難以減少藍光。若包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物之比率過多，則底塗層之硬度變得容易降低。若游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物之比率過多，則底塗層與硬塗層之密接性變得容易降低。因此，藉由將質量比設為上述範圍，可容易滿足條件1～3。
底塗層之游離輻射硬化性樹脂組成物之硬化物較佳為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之硬化物。上述多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之官能基數較佳為3以上8以下，更佳為3以上6以下。藉由將官能基數設為3以上，由於可容易提高底塗層之硬度，因此可容易滿足條件2。藉由將官能基數設為8以下，由於可抑制底塗層之硬度變得過高，因此可容易滿足條件3。
底塗層之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物可為單體，亦可為低聚物。作為底塗層之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之實施形態，可例舉與硬塗層之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之實施形態相同者。
條件2之壓痕硬度之平均亦可藉由光聚合起始劑之含量及紫外線之照射量來進行調整。例如，存在如下傾向：底塗層用塗佈液中之光聚合起始劑相對於游離輻射硬化性樹脂組成物之含量越多，則條件2之壓痕硬度之平均變得越大。又，存在如下傾向：塗佈底塗層用塗佈液並進行硬化時之紫外線之照射量越多，則條件2之壓痕硬度之平均變得越大。
藉由自包含游離輻射硬化性樹脂組成物之塗佈液來形成底塗層及硬塗層之兩者，由於變得容易於底塗層與硬塗層之界面發生交聯反應，因此可容易滿足條件3。
底塗層例如可藉由如下方式而形成：將包含形成底塗層之材料及溶劑之底塗層用塗佈液塗佈於基材上並進行乾燥後，視需要照射游離輻射，藉此形成上述底塗層。 上述塗佈液較佳為將固形物成分之比率設為16質量%以上，更佳為設為18質量%以上。固形物成分之比率較少，意指塗佈液中之溶劑之比率較多。若溶劑之比率較多，則底塗層用塗佈液變得容易滲透至基材中。而且，多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物具有較苯并三唑系化合物更容易滲透至基材之傾向。因此，於塗佈液中之溶劑之比率較多之情形時，由於多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物滲透至基材中，底塗層中之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物相對於苯并三唑系化合物之比率變得容易降低。即，藉由將固形物成分之比率設為16質量%以上，由於可容易抑制底塗層中之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之比率降低，因此可容易滿足條件2。
關於溶劑，例如可例示：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮（MIBK）、環己酮等酮類；二㗁烷、四氫呋喃等醚類；己烷等脂肪族烴類；環己烷等脂環式烴類；甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二氯甲烷、二氯乙烷等鹵化碳類；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；異丙醇、丁醇、環己醇等醇類；甲基賽珞蘇、乙基賽珞蘇等賽珞蘇類；丙二醇單甲醚乙酸酯等二醇醚類；乙酸賽珞蘇（cellosolve acetate）類；二甲基亞碸等亞碸類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等醯胺類等；亦可為其等之混合物。 溶劑較佳為根據基材之種類來進行選擇。例如，於基材為TAC膜之情形時，較佳為甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、甲苯、乙酸乙酯、環己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯。
底塗層之厚度之下限較佳為1.3 μm以上，更佳為1.4 μm以上，上限較佳為7.5 μm以下，更佳為6.5 μm以下。藉由將底塗層之厚度設為上述範圍，可容易滿足條件1之3個波長之分光穿透率之條件。 關於底塗層之厚度之適宜範圍之實施形態，可例舉：1.3 μm以上7.5 μm以下、1.3 μm以上6.5 μm以下、1.4 μm以上7.5 μm以下、1.4 μm以上6.5 μm以下。
底塗層可進而包含調平劑、防污劑、抗靜電劑、抗氧化劑、界面活性劑、分散劑及光穩定劑等添加劑。
＜其他層＞ 光學積層體可具有除了基材、底塗層及硬塗層以外之其他層。作為其他層，可例舉：抗反射層、防污層、抗靜電層、接著劑層等。
＜鉛筆硬度＞ 為了提高耐擦傷性，光學積層體之硬塗層側之表面之鉛筆硬度較佳為2H以上，更佳為3H以上。
於本說明書中，鉛筆硬度係設為除了以下之測定條件及判定條件以外，依據JIS K5600-5-4：1999而測得者。 ＜測定條件＞ ・負載：500 g ・速度：1.4 mm/秒 ＜判定條件＞ 對鉛筆硬度之測定樣品進行5次鉛筆硬度試驗，將未觀察到4次以上之傷痕等外觀異常時之硬度作為各樣品之鉛筆硬度之值。例如，使用2H之鉛筆，進行5次試驗，若未產生4次外觀異常，則該樣品之鉛筆硬度為2H。關於外觀異常，並不包含變色，而是對傷痕進行確認。
＜光學特性＞ 光學積層體之JIS K7361-1：1997之全光線穿透率較佳為80%以上，更佳為85%以上。 將測定全光線穿透率及霧度時之光入射面作為基材側之面。於本說明書中，全光線穿透率意指10個部位之測定值之平均值。
光學積層體之JIS K7136：2000之霧度較佳為1.0%以下，更佳為0.7%以下，進而較佳為0.5%以下。藉由將霧度設為1.0%以下，可容易使影像之解析度變得良好。霧度之下限值並無特別限制，通常為0.1%以上。
＜大小、形狀等＞ 光學積層體可為經切割成特定大小之單片狀形態，亦可為將長條片捲繞成卷狀之卷狀形態。單片之大小並無特別限定，最大徑為2英吋以上500英吋以下左右。所謂「最大徑」，意指將光學積層體之任意2點連結時之最大長度。於光學積層體為長方形之情形時，長方形之對角線成為最大徑。於光學積層體為圓形之情形時，圓之直徑成為最大徑。 卷狀之寬度及長度並無特別限定，一般而言，寬度為500 mm以上3000 mm以下，長度為500 m以上5000 m以下左右。卷狀形態之光學積層體可按照影像顯示裝置等之大小，切割成單片狀來使用。進行切割時，較佳為將物性不穩定之捲筒端部排除。 單片之形狀亦無特別限定，例如可為三角形、長方形及五邊形等多邊形，亦可為圓形，亦可為不規則之不定形。更具體而言，於光學積層體為長方形之情形時，只要顯示畫面沒有問題，則縱橫比並無特別限定。例如，可例舉橫：縱＝1：1、4：3、16：10、16：9、2：1等。
[偏光板] 本發明之偏光板具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側而成之第1透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側而成之第2透明保護板，上述第1透明保護板及上述第2透明保護板中之一者為上述本發明之光學積層體且以上述光學積層體之上述硬塗層側之面朝向與上述偏光元件相反之側之方式配置而成。
偏光板係例如為了藉由與λ/4相位差板之組合來賦予抗反射性而使用。於此情形時，於影像顯示裝置之顯示元件上配置λ/4相位差板，將偏光板配置於較λ/4相位差板靠近視認者側。 於液晶顯示裝置用途中，偏光板係為了賦予液晶快門之功能而使用。於此情形時，液晶顯示裝置係如下配置：自背光源側依序配置有下側偏光板、液晶顯示元件、上側偏光板，且下側偏光板之偏光元件之吸收軸與上側偏光板之偏光元件之吸收軸正交。於液晶顯示裝置之構成中，可使用本發明之偏光板作為上側偏光板及下側偏光板，較佳為使用本發明之偏光板作為上側偏光板。於上側偏光板中，較佳為使用本發明之光學積層體作為偏光元件之光射出面側之透明保護板。於下側偏光板中，較佳為使用本發明之光學積層體作為偏光元件之光入射面側之透明保護板。
＜透明保護板＞ 本發明之偏光板包含上述本發明之光學積層體作為第1透明保護板及第2透明保護板中之一者。 於第1透明保護板及第2透明保護板中之一者包含上述本發明之光學積層體之情形時，另一透明保護板較佳為光學各向同性之透明保護板。 於本說明書中，所謂光學各向同性，係指面內相位差為20 nm以下，較佳為10 nm以下，更佳為5 nm以下。丙烯酸膜、三乙醯纖維素（TAC）膜容易賦予光學各向同性。 於第1透明保護板及第2透明保護板中之一者包含上述本發明之光學積層體之情形時，較佳為光射出側之透明保護板包含上述本發明之光學積層體。
＜偏光元件＞ 作為偏光元件，例如可例舉：藉由碘等進行染色並進行延伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲醛膜、聚乙烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等片型偏光元件；由多個平行地排列之金屬線構成之線柵型偏光元件；塗佈有溶致型液晶或二色性賓主材料之塗佈型偏光元件；多層薄膜型偏光元件；等。該等偏光元件亦可為具備將不穿透之偏光成分反射之功能的反射型偏光元件。
[影像顯示面板] 本發明之影像顯示面板具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光射出面側之光學膜，且包含上述本發明之光學積層體作為上述光學膜，上述影像顯示面板係以上述光學積層體之上述硬塗層側之面朝向與上述顯示元件相反之側之方式配置而成（參照圖2）。
作為顯示元件，可例舉：液晶顯示元件、有機EL顯示元件及無機EL顯示元件等EL顯示元件、電漿顯示元件等，進而，可例舉微型LED顯示元件等LED顯示元件。該等顯示元件可於顯示元件之內部具有觸控面板功能。 作為液晶顯示元件之液晶之顯示方式，可例舉：IPS方式、VA方式、多域方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。
本發明之影像顯示面板可為附帶觸控面板之影像顯示面板。於此情形時，光學積層體可用作構成觸控面板之構件。
影像顯示面板之大小並無特別限定，最大徑為2英吋以上500英吋以下左右。所謂最大徑，意指將影像顯示面板之面內之任意2點連結時之最大長度。
[影像顯示裝置] 本發明之影像顯示裝置包含上述本發明之影像顯示面板。
本發明之影像顯示裝置較佳為進而具備電性連接於上述影像顯示面板之驅動控制部、以及收容上述影像顯示面板及上述驅動控制部等之殼體。 於顯示元件為液晶顯示元件之情形時，本發明之影像顯示裝置中需要背光源。背光源係配置於與液晶顯示元件之光射出面側相反之側。
影像顯示裝置之大小並無特別限定，有效顯示區域之最大徑為2英吋以上500英吋以下左右。 影像顯示裝置之有效顯示區域係指可顯示影像之區域。例如，於影像顯示裝置具有包圍顯示元件之殼體之情形時，殼體之內側之區域成為有效顯示區域。 所謂有效顯示區域之最大徑，係指將有效顯示區域內之任意2點連結時之最大長度。例如，於有效顯示區域為長方形之情形時，長方形之對角線成為最大徑。於有效顯示區域為圓形之情形時，圓之直徑成為最大徑。
本發明包含以下＜1＞～＜8＞。 ＜1＞一種光學積層體，其於基材上具有硬塗層， 上述光學積層體於上述基材與上述硬塗層之間包含：含有苯并三唑系化合物之底塗層；且滿足下述條件1～3， 條件1：上述光學積層體之波長410 nm之分光穿透率未達1.00%，波長450 nm之分光穿透率為15.00%以上且未達85.00%，波長490 nm之分光穿透率為85.00%以上； 條件2：自上述硬塗層與上述底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之上述底塗層之剖面之壓痕硬度的平均為190 MPa以上； 條件3：於藉由JIS K5600-5-6：1999之劃格法評價上述光學積層體中上述底塗層及上述硬塗層之密接性時，評價之分類為0或1。 ＜2＞如＜1＞所記載之光學積層體，其中，上述光學積層體自波長410 nm至波長490 nm之分光穿透率之值逐漸增加。 ＜3＞如＜1＞或＜2＞所記載之光學積層體，其中，於將上述光學積層體之波長455 nm之分光穿透率定義為X%，將上述光學積層體之波長445 nm之分光穿透率定義為Y%時，X－Y為15.00%以上。 ＜4＞如＜1＞至＜3＞中任一項所記載之光學積層體，其中，自上述硬塗層與上述底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之上述硬塗層之剖面之壓痕硬度的平均為300 MPa以上。 ＜5＞如＜1＞至＜4＞中任一項所記載之光學積層體，其中，上述基材為三乙醯纖維素膜或丙烯酸膜。 ＜6＞如＜1＞至＜5＞中任一項所記載之光學積層體，其中，於上述條件2中，上述底塗層之剖面之壓痕硬度之平均為190 MPa以上400 MPa以下。 ＜7＞如＜1＞至＜6＞中任一項所記載之光學積層體，其中，上述底塗層之厚度為1.3 μm以上7.5 μm以下。 ＜8＞一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側而成之第1透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側而成之第2透明保護板，上述第1透明保護板及上述第2透明保護板中之一者為＜1＞至＜7＞中任一項所記載之光學積層體且以上述光學積層體之上述硬塗層側之面朝向與上述偏光元件相反之側之方式配置而成。 ＜9＞一種影像顯示面板，其具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光射出面側之光學膜，且包含＜1＞至＜7＞中任一項所記載之光學積層體作為上述光學膜，上述影像顯示面板係以上述光學積層體之上述硬塗層側之面朝向與上述顯示元件相反之側之方式配置而成。 ＜10＞一種影像顯示裝置，其包含＜9＞所記載之影像顯示面板。 [實施例]
繼而，藉由實施例進一步詳細地說明本發明，但本發明不受該等例任何限定。只要無特別說明，則「份」及「%」以質量為基準。
1.測定及評價 以如下方式，進行實施例及比較例之光學積層體之測定及評價。 各測定及評價時之環境設為溫度23±5℃、相對濕度40%以上65%以下。於各測定及評價開始前，將對象樣品於上述環境中暴露30分鐘以上60分鐘以下後進行測定及評價。 各測定及評價中所使用之樣品可藉由切割實施例及比較例之光學積層體而製作。切割部位係在以目視確認無髒污或傷痕等異常點之後，自隨機之部位中選擇。
1-1.分光穿透率 使用分光光度計（島津製作所製作，商品名：UV-2450），測定實施例及比較例之光學積層體之分光穿透率。測定波長間隔設為1 nm。光源設為D65。又，測定係依據JIS Z8722：2009之「5.4 穿透物體之測定方法」之幾何條件e。於表中示出波長410 nm、450 nm、490 nm之分光穿透率、波長410 nm以上780 nm以下之分光穿透率之最大值。又，於表中示出將波長455 nm之分光穿透率定義為X%、將波長445 nm之分光穿透率定義為Y%時之「X－Y」。
1-2.壓痕硬度 藉由說明書正文之步驟X1～X2，製作壓痕硬度之測定用樣品。 X1之矽包埋板使用DOSAKA EM公司所製造者。X1之包埋用環氧樹脂使用將Struers公司製造之商品名「EPOFIX」與該公司製造之商品名「EPOFIX用硬化劑」以10：1.2混合所得者。X1之包埋用樹脂之硬化係藉由在常溫放置12小時而實施。作為切割X2之塊狀之包埋樣品之裝置，使用Leica Microsystems公司製造之商品名「超薄切片機 EM UC7」。於切割塊狀之包埋樣品時，首先利用玻璃刀粗略地切削，製作包含塗佈面之剖面之縱100 μm×橫20 μm左右之面（粗修整）。最終，利用鑽石刀於「SPEED：1.40 mm/秒」、「FEED：80 nm」之條件切削該面，並利用篩網採集浮於水上之切片。將所採集之切片作為壓痕硬度測定用之樣品。篩網使用Nisshin EM製造之貼附有火棉膠膜之篩網（Cat No.651）。 繼而，將玻氏壓頭（材質：鑽石三角錐）垂直地壓入至樣品之剖面，使用HYSITRON公司製造之商品編號「TI950 TriboIndenter」作為測定裝置，使用上述裝置附帶之應用軟體（TriboScan Version 9.6.0.2），於下述條件測定壓痕硬度。關於壓痕硬度，測定下述第1及第2壓痕硬度。 第1壓痕硬度：自硬塗層與底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之底塗層之剖面之壓痕硬度。 第2壓痕硬度：自硬塗層與底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之硬塗層之剖面之壓痕硬度。 於上述測定中，於測定各樣品之壓痕硬度之前，使用壓痕硬度及複合彈性模數已知之標準試樣（HYSITRON公司製造之熔融石英（5-0098））實施壓入試驗，並實施標準核對，該標準核對係確認根據試驗結果所獲得之壓痕硬度及複合彈性模數為基準值內。 ＜測定條件＞ ・使用壓頭：玻氏壓頭（型號：TI-0039，HYSITRON公司製造） ・壓入條件：位移控制方式 ・最大壓入深度：200 nm ・負載施加時間：20秒（速度：10 nm/秒） ・保持時間：於最大壓入深度保持5秒 ・負載卸載時間：20秒（速度：10 nm/秒）
1-3.密接性 依據JIS K5600-5-6：1999之劃格法，評價實施例及比較例之光學積層體之底塗層及硬塗層之密接性。切割之間隔設為1 mm。評價之分類為0或1者可謂密接性良好。
1-4.鉛筆硬度（耐擦傷性） 製作將實施例及比較例之光學積層體切割成5 cm×10 cm之大小的樣品。除了以下之測定條件、加溫及判定條件以外，依據JIS K5600-5-4：1999，測定上述樣品之硬塗層側之面之鉛筆硬度。 測定時使用東洋精機製作所之鉛筆硬度試驗機（商品編號：NP型鉛筆刮痕塗膜硬度試驗機）。使用隱形膠帶（3M公司，商品編號「810-3-18」），將所切割之樣品之兩端部貼合於鉛筆硬度試驗機之基座而進行測定。 ＜測定條件＞ ・負載：500 g ・速度：1.4 mm/秒 ＜樣品之加溫＞ 於上述測定條件對樣品施加負載後，將樣品於100℃加溫10分鐘。然後，於加溫後立即以下述判定條件對鉛筆硬度進行判定。 ＜判定條件＞ 進行5次鉛筆硬度試驗，將未觀察到4次以上之傷痕等外觀異常時之硬度作為各樣品之鉛筆硬度之值。例如，使用2H之鉛筆，進行5次試驗，若未產生4次外觀異常，則該樣品之鉛筆硬度為2H。關於外觀異常，並不包含變色，而是對傷痕進行確認。對於因上述加溫而復原之凹陷，不計為外觀異常。鉛筆硬度2H以上為合格水準。
1-5.藍光截止率 於將LG Electronics公司製造之液晶顯示裝置（商品編號：49NANO86JNA）設為顯示白色之狀態，使用分光放射計（KONICA MINOLTA公司製造，商品名：CS-2000），測定無光學積層體之照度。照度係從液晶顯示裝置之正面進行測定，測定距離設為500 mm。上述分光放射計可測定各波長之照度。然後，藉由下述式，算出無光學積層體之藍光比。 藍光比＝波長400 nm以上500 nm以下之照度／波長300 nm以上700 nm以下之照度 繼而，於上述液晶顯示裝置上經由光學黏著層（PANAC公司製造，商品名「Panaclean PD-S1」，厚度50 μm）貼合實施例及比較例之光學積層體，而製作附有光學積層體之液晶顯示裝置。於將附有光學積層體之顯示裝置設為顯示白色之狀態，使用上述分光放射計來測定照度。然後，藉由上述式，算出有光學積層體之藍光比。 繼而，藉由下述式，算出藍光截止率（單位為「%」）。15%以上為合格水準。 藍光截止率＝（有光學積層體之藍光比／無光學積層體之藍光比）×100
1-6.亮度比 於將LG Electronics公司製造之液晶顯示裝置（商品號：49NANO86JNA）設為顯示白色之狀態，使用分光放射計（KONICA MINOLTA公司製造，商品名：CS-2000），測定無光學積層體之亮度。亮度係從液晶顯示裝置之正面進行測定，測定距離設為500 mm。繼而，於上述液晶顯示裝置上經由光學黏著層（PANAC公司製造，商品名「Panaclean PD-S1」，厚度50 μm）貼合實施例及比較例之光學積層體，而製作附有光學積層體之液晶顯示裝置。於將附有光學積層體之顯示裝置設為顯示白色之狀態，使用上述分光放射計來測定亮度。然後，藉由下述式算出亮度比（單位為「%」）。96%以上為合格水準。 亮度比＝（有光學積層體之亮度／無光學積層體之亮度）×100
1-7.色差（Δx、Δy） 於將LG Electronics公司製造之液晶顯示裝置（商品號：49NANO86JNA）設為顯示白色之狀態，使用分光放射計（KONICA MINOLTA公司製造，商品名：CS-2000），測定無光學積層體之x值及y值。x值及y值係國際照明委員會（CIE）之Yxy表色系統之x值及y值。測定係從液晶顯示裝置之正面進行測定，測定距離設為500 mm。繼而，於上述液晶顯示裝置上經由光學黏著層（PANAC公司製造，商品名「Panaclean PD-S1」，厚度50 μm）貼合實施例及比較例之光學積層體，而製作附有光學積層體之液晶顯示裝置。於將附有光學積層體之顯示裝置設為顯示白色之狀態，使用上述分光放射計來測定x值及y值。算出有光學積層體之x值與無光學積層體之x值之差之絕對值，將上述絕對值設為Δx。算出有光學積層體之y值與無光學積層體之y值之差之絕對值，將上述絕對值設為Δy。Δx及Δy之合格水準為0.190以下。
1-8.全光線穿透率（Tt）及霧度（Hz） 將實施例及比較例之光學積層體切割成10 cm×10 cm，製作測定用之樣品。使用霧度計（HM-150，村上色彩技術研究所製造），於下述條件測定各樣品之JIS K7361-1：1997之全光線穿透率、及JIS K7136：2000之霧度。 為了使光源穩定，而事先將裝置之電源開關設為開（ON）後經過15分鐘以上，然後於設置測定樣品之位置即入口開口處不設置任何物品而進行校正。其後，於入口開口處設置測定樣品，測定全光線穿透率及霧度。測定時之光入射面設為基材側。
2.對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之合成 依據日本特開2018-177976號公報之合成例1，合成下述式之對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物。
3.包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之共聚物之製作 於四口燒瓶安裝戴氏冷凝器、水銀溫度計、氮氣吹入管、攪拌裝置，加入上述「2」中所合成之化合物20質量份、甲基丙烯酸甲酯20質量份、及作為溶劑之甲基乙基酮60質量份、以及作為聚合起始劑之2,2'-偶氮雙-甲基丁腈1.5質量份，進行攪拌並同時以10 ml/分鐘之氮氣流量對燒瓶內進行氮氣置換1小時，其後於反應液溫度80～86℃並於回流狀態進行聚合反應10小時。聚合反應結束後，獲得含有「包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之共聚物」之溶液。繼而，使用蒸發器去除溶劑，獲得包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之共聚物。上述共聚物係數量平均分子量為5271、且於波長314.0 nm及383.6 nm具有吸收峰者。
4.底塗層用塗佈液之製備 ＜實施例1～6、11、比較例1、2、7之底塗層用塗佈液＞ 稱量上述「3」中所獲得之共聚物80質量份、作為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之新戊四醇三丙烯酸酯（日本化藥公司製造，商品名：PET-30）20質量份。進而，添加光聚合起始劑（IGM Resins公司製造，商品名：Omnirad184）10質量份、調平劑（DIC公司製造，商品名：F-568）0.5質量份。進而，加入甲基乙基酮及甲苯作為溶劑，進行攪拌使其溶解，獲得固形物成分22質量%之實施例1～6、11、比較例1、2、7之底塗層用塗佈液。甲基乙基酮與甲苯之質量比設為8：2。 ＜實施例7～10、12～13、比較例3～6、8～9之底塗層用塗佈液＞ 除了將上述「3」中所獲得之共聚物之摻合量、多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之種類及摻合量、光聚合起始劑之摻合量、底塗層用塗佈液之固形物成分濃度變更為表1～2之條件以外，以與實施例1等相同之方式，獲得實施例7～10、12～13、比較例3～6、8～9之底塗層用塗佈液。
5.光學積層體之製作 [實施例1] 於厚度80 μm之三乙醯纖維素膜（FUJIFILM公司製造，Fujitac TG60）上塗佈實施例1之底塗層用塗佈液，於70℃乾燥1分鐘。繼而，於氮氣環境下使用高壓水銀燈照射紫外線，形成厚度2.7 μm之底塗層。以累計光量成為400 mJ/cm 2之方式照射紫外線。 繼而，於底塗層上塗佈下述硬塗層用塗佈液1，於70℃乾燥1分鐘。繼而，於氮氣環境下使用高壓水銀燈照射紫外線，形成厚度3.5 μm之硬塗層，獲得實施例1之光學積層體。以累計光量成為400 mJ/cm 2之方式照射紫外線。 ＜硬塗層用塗佈液1＞ 混合作為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之新戊四醇三丙烯酸酯（日本化藥公司製造，商品名：PET-30）100質量份、光聚合起始劑（IGM Resins公司製造，商品名：Omnirad184）4質量份、調平劑（DIC公司製造，商品名：F-568）0.5質量份。進而，加入甲基異丁基酮作為溶劑，進行攪拌使其溶解，獲得固形物成分30質量%之塗佈液。
[實施例2～9、11～13]、[比較例1～6、8～9] 除了將底塗層用塗佈液之組成、底塗層之厚度、底塗層形成時之紫外線之累計光量、硬塗層之厚度變更為表1～2之條件以外，以與實施例1相同之方式，獲得實施例2～9、11～13、比較例1～6、8～9之光學積層體。
[實施例10] 將底塗層用塗佈液之組成、底塗層之厚度、硬塗層之厚度變更為表1之組成或厚度，進而將硬塗層用塗佈液1變更為下述硬塗層用塗佈液2，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得實施例10之光學積層體。 ＜硬塗層用塗佈液2＞ 混合作為多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之二新戊四醇六丙烯酸酯100質量份、光聚合起始劑（IGM Resins公司製造，商品名：Omnirad184）4質量份、調平劑（DIC公司製造，商品名：F-568）0.5質量份。進而，加入甲基異丁基酮作為溶劑，進行攪拌使其溶解，獲得固形物成分30質量%之塗佈液。
[比較例7] 除了未於底塗層上形成硬塗層以外，以與實施例1相同之方式，獲得比較例7之光學積層體。
[表1]
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10 實施例11 實施例12 實施例13
底塗層用塗佈液之組成 包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物 摻合量（質量份） 80 80 80 80 80 80 80 60 60 60 80 80 80
多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物 化合物之種類 PETA PETA PETA PETA PETA PETA PETA PETA 低聚物 DPHA PETA PETA PETA
摻合量（質量份） 20 20 20 20 20 20 20 40 40 40 20 20 20
光聚合起始劑（質量份） 10 10 10 10 10 10 10 10 10 10 10 12 12
固形物成分濃度（質量%） 22 22 22 22 22 22 18 22 22 22 22 22 22
底塗層之厚度（μm） 2.7 2.5 3.6 5.8 2.0 1.4 5.9 6.3 6.2 6.2 2.7 2.7 2.7
底塗層之累計光量（mJ/cm 2） 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 400 800
硬塗層之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物 PETA PETA PETA PETA PETA PETA PETA PETA PETA DPHA PETA PETA PETA
硬塗層之固形物成分濃度（質量%） 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30%
硬塗層之厚度（μm） 3.5 3.5 3.5 3.5 3.5 3.5 7.0 7.0 7.0 5.0 2.0 3.5 3.5
分光穿透率（%） 410 nm穿透率 0.05 0.06 0.05 0.05 0.18 0.34 0.03 0.10 0.12 0.12 0.04 0.08 0.05
450 nm穿透率 46.32 51.14 30.61 20.24 69.71 78.01 20.05 58.50 58.53 58.55 46.22 57.84 38.24
490 nm穿透率 91.01 91.05 90.32 90.08 91.57 91.54 90.00 91.15 91.20 91.23 90.93 91.33 90.41
X－Y 35.90 33.10 35.52 30.23 25.04 16.93 30.44 33.29 33.42 33.45 36.05 31.32 36.89
最大穿透率 92.30 92.27 91.95 91.95 92.27 92.27 91.98 92.01 92.18 92.05 92.20 91.21 90.67
全光線穿透率（%） 90.9 91.1 90.5 90.3 91.3 91.4 90.2 91.1 91.2 91.2 90.9 90.9 91.0
霧度（%） 0.3 0.3 0.3 0.4 0.3 0.2 0.6 0.5 0.5 0.7 0.3 0.3 0.2
藍光截止率（%） 40.4 36.0 51.1 59.0 22.8 16.0 59.6 29.9 29.9 29.8 40.2 31.3 45.7
亮度比（%） 97.5 97.8 96.9 96.5 98.3 98.6 96.4 97.9 97.9 98.0 97.5 98.0 97.1
色差 Δx 0.048 0.042 0.065 0.077 0.025 0.017 0.077 0.030 0.030 0.030 0.480 0.036 0.056
Δy 0.105 0.092 0.139 0.164 0.055 0.037 0.163 0.072 0.071 0.070 0.105 0.079 0.122
密接性 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
鉛筆硬度（耐擦傷性） 2H 2H 2H 2H 2H 2H 2H 3H 3H 3H 2H 3H 3H
壓痕硬度（MPa） 底塗層 232 231 235 238 252 258 205 268 278 295 233 341 392
硬塗層 328 330 325 319 322 314 308 329 331 418 318 359 360
[表2]
比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 比較例7 比較例8 比較例9
底塗層用塗佈液之組成 包含對甲氧基苯酚型苯并三唑系化合物之聚合物 摻合量（質量份） 80 80 80 90 60 60 80 80 80
多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物 化合物之種類 PETA PETA PETA PETA PETA HDDA PETA PETA PETA
摻合量（質量份） 20 20 20 10 40 40 20 20 20
光聚合起始劑（質量份） 10 10 10 10 10 10 10 4 15
固形物成分濃度（質量%） 22 22 15 22 15 22 22 22 22
底塗層之厚度（μm） 0.7 8.0 8.0 2.1 6.2 6.1 2.7 2.7 2.7
底塗層之累計光量（mJ/cm 2） 400 400 400 400 400 400 400 400 1000
硬塗層之多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物 PETA PETA PETA PETA PETA PETA - PETA PETA
硬塗層之固形物成分濃度（質量%） 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30% 30%
硬塗層之厚度（μm） 3.5 3.5 3.5 3.5 7.1 7.0 3.5 3.5
分光穿透率（%） 410 nm穿透率 1.47 0.05 0.05 0.05 0.11 0.16 0.04 0.13 0.07
450 nm穿透率 85.67 9.80 9.90 45.95 58.53 59.90 46.16 61.32 54.52
490 nm穿透率 91.14 89.60 89.64 90.80 91.19 91.38 90.92 91.42 91.18
X－Y 7.78 20.45 20.54 29.54 33.84 33.58 36.10 30.06 32.34
最大穿透率 91.95 92.27 91.95 92.01 92.23 92.15 92.32 91.24 91.17
全光線穿透率（%） 91.6 89.9 90.0 90.8 91.1 91.3 90.9 90.8 91.2
霧度（%） 0.2 0.6 0.6 0.3 0.5 0.3 0.3 0.3 0.2
藍光截止率（%） 7.9 69.0 68.5 42.3 29.9 28.9 40.1 29.0 33.6
亮度比（%） 99.0 95.9 96.0 97.3 97.9 98.2 97.5 98.1 97.9
色差 Δx 0.008 0.093 0.093 0.052 0.030 0.029 0.048 0.033 0.039
Δy 0.017 0.199 0.197 0.112 0.072 0.067 0.105 0.072 0.085
密接性 0 0 0 0 0 0 0 5 2
鉛筆硬度（耐擦傷性） 2H 2H 2B H H H 6B 2B 3H
壓痕硬度（MPa） 底塗層 - 232 135 165 185 170 228 145 450
硬塗層 348 332 330 312 332 320 - 321 331
於表1及2中，「PETA」意指新戊四醇三丙烯酸酯，「低聚物」意指荒川化學工業公司製造之胺酯丙烯酸酯低聚物（商品名：BEAMSET 577，官能基數3～6），「DPHA」意指二新戊四醇六丙烯酸酯，「HDDA」意指1,6-己二醇二丙烯酸酯。
根據表1及2之結果，可確認到實施例之光學積層體減少藍光，並且耐擦傷性及密接性優異，且能夠抑制亮度降低。
10:基材 20:底塗層 30:硬塗層 100:光學積層體 110:顯示元件 120:影像顯示面板 X:硬塗層與底塗層之界面
[圖1]係表示本發明之光學積層體之一實施方式之概略剖視圖。 [圖2]係表示本發明之影像顯示面板之一實施方式之剖視圖。

Claims (10)

  1. 一種光學積層體，其於基材上具有硬塗層， 上述光學積層體於上述基材與上述硬塗層之間包含：含有苯并三唑系化合物之底塗層（primer layer）；且滿足下述條件1～3， 條件1：上述光學積層體之波長410 nm之分光穿透率未達1.00%，波長450 nm之分光穿透率為15.00%以上且未達85.00%，波長490 nm之分光穿透率為85.00%以上； 條件2：自上述硬塗層與上述底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之上述底塗層之剖面之壓痕硬度的平均為190 MPa以上； 條件3：於藉由JIS K5600-5-6：1999之劃格（cross-cut）法評價上述光學積層體中上述底塗層及上述硬塗層之密接性時，評價之分類為0或1。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中，上述光學積層體自波長410 nm至波長490 nm之分光穿透率之值逐漸增加。
  3. 如請求項1之光學積層體，其中，於將上述光學積層體之波長455 nm之分光穿透率定義為X%，將上述光學積層體之波長445 nm之分光穿透率定義為Y%時，X－Y為15.00%以上。
  4. 如請求項1之光學積層體，其中，自上述硬塗層與上述底塗層之界面沿厚度方向1.0 μm之位置之上述硬塗層之剖面之壓痕硬度的平均為300 MPa以上。
  5. 如請求項1之光學積層體，其中，上述基材為三乙醯纖維素膜或丙烯酸膜。
  6. 如請求項1之光學積層體，其中，於上述條件2中，上述底塗層之剖面之壓痕硬度之平均為190 MPa以上400 MPa以下。
  7. 如請求項1之光學積層體，其中，上述底塗層之厚度為1.3 μm以上7.5 μm以下。
  8. 一種偏光板，其具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側而成之第1透明保護板、及配置於上述偏光元件之另一側而成之第2透明保護板，上述第1透明保護板及上述第2透明保護板中之一者為請求項1至7中任一項之光學積層體且以上述光學積層體之上述硬塗層側之面朝向與上述偏光元件相反之側之方式配置而成。
  9. 一種影像顯示面板，其具有顯示元件、及配置於上述顯示元件之光射出面側之光學膜，且包含請求項1至7中任一項之光學積層體作為上述光學膜，上述影像顯示面板係以上述光學積層體之上述硬塗層側之面朝向與上述顯示元件相反之側之方式配置而成。
  10. 一種影像顯示裝置，其包含請求項9之影像顯示面板。
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