[go: up one dir, main page]

TW201840353A - 脫硫方法及脫硫裝置 - Google Patents

脫硫方法及脫硫裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201840353A
TW201840353A TW107106762A TW107106762A TW201840353A TW 201840353 A TW201840353 A TW 201840353A TW 107106762 A TW107106762 A TW 107106762A TW 107106762 A TW107106762 A TW 107106762A TW 201840353 A TW201840353 A TW 201840353A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
alkali
gas
slurry
extracted
extraction
Prior art date
Application number
TW107106762A
Other languages
English (en)
Inventor
亀田孝雄
丸川浩伸
Original Assignee
日商千代田化工建設股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日商千代田化工建設股份有限公司 filed Critical 日商千代田化工建設股份有限公司
Publication of TW201840353A publication Critical patent/TW201840353A/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/18—Absorbing units; Liquid distributors therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46—Removing components of defined structure
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46—Removing components of defined structure
    • B01D53/48—Sulfur compounds
    • B01D53/50—Sulfur oxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/77—Liquid phase processes
    • B01D53/78—Liquid phase processes with gas-liquid contact

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)

Abstract

一種廢氣的脫硫方法，具備：接觸工程，將含有硫氧化物的被處理氣體，導入至收容於反應槽內之含鹼劑液中，對含鹼劑液供給氧，令含鹼劑液中析出藉由硫氧化物和氧和含鹼劑液中的鹼劑之反應而產生的生成物；及第1抽出工程，從反應槽內的第1區域，抽出含有含鹼劑液與析出的生成物之漿體；及第2抽出工程，抽出反應槽內的、或是從和反應槽連通之第2區域，抽出能夠將漿體還原之流體；及混合工程，將第1抽出工程中抽出的漿體、與第2抽出工程中抽出的流體予以混合；及分離回收工程，從混合工程中被混合的漿體與流體之混合物，將固體成分予以分離回收。

Description

脫硫方法及脫硫裝置
本發明有關噴射鼓泡(jet bubbling)方式的脫硫方法及脫硫裝置。
從燃煤爐或燃煤火力發電廠排出的燃燒廢氣中含有硫氧化物(SOx)，此硫氧化物會藉由脫硫裝置被去除。作為從含有硫氧化物的燃燒廢氣將硫氧化物除去之脫硫裝置，已知有噴射鼓泡方式或噴霧(spray)方式等，噴射鼓泡方式的脫硫裝置其脫硫性能優良因此廣受使用。所謂噴射鼓泡方式的脫硫裝置，係於反應槽內將含有硫氧化物的廢氣在含鹼劑液中起泡，令硫氧化物與氧與鹼劑反應而將硫氧化物除去者。
噴射鼓泡方式的脫硫裝置中，藉由反應而生成之石膏會蓄積於反應槽中，因此含有生成的石膏之漿體(slurry)會從反應槽中被抽出。然後，被抽出的漿體會被固液分離，固體成分亦即石膏會被回收。另一方面，藉由固液分離而石膏被回收後的回收殘液，至少一部分會從脫硫裝置被排出。 　　此處，從反應槽中抽出的漿體中含有之液，為高氧化環境且高pH，因此含有氧化性物質或6價硒(Se6+ )。氧化性物質會引起排水處理裝置的劣化，此外，6價硒在世界各國都被限制排出。鑑此，會藉由排水處理裝置進行排水處理，去除氧化性物質或6價硒。不過，會需要排水處理裝置的設置成本或處理時間，因此盼望減低氧化性物質或6價硒，已有許多人嘗試將系統內的環境從高氧化環境變為低氧化環境(趨近還原環境之狀態)。
例如，專利文獻1中記載之噴射鼓泡方式的濕式脫硫裝置中，在反應槽內設置隔壁，藉此讓反應槽被區隔成受到充分的氧供給之完全氧化域、及未受到充分的氧供給之不完全氧化域。按照此專利文獻1之脫硫裝置，實現了在完全氧化域確保高脫硫率，並且在不完全氧化域減低氧化性物質。 　　然而專利文獻1的脫硫裝置中，必須在反應槽的內部設置許多的追加構件，如將反應槽區隔成完全氧化域與不完全氧化域之隔壁、或可對各域供給相異量的氧之氧供給手段、設於各域之攪拌機等。此外，內部設有該些追加構件之反應槽，其機構會複雜化。
另一方面，專利文獻2中記載之噴射鼓泡方式的濕式脫硫裝置中，從反應槽暫且被抽出之高氧化環境的漿體，藉由和含有硫氧化物之燃燒廢氣接觸而被還原，成為了低氧化環境後再次從反應槽被抽出，被排出至裝置外而回收。也就是說，再次從反應槽被抽出的漿體，藉由和含有硫氧化物之燃燒廢氣接觸，會比最初從反應槽被抽出時被還原成更低氧化環境。是故，按照專利文獻2之脫硫裝置，能夠以簡單的構成，達成抑制對排水處理裝置的負荷與生成物的高回收率化及高純度化。 　　不過近年來，排水限制益發強化，強烈盼望一種藉由做出低氧化環境來抑制氧化性物質或6價硒的生成，並且具有優良的脫硫性能，簡易的構成之噴射鼓泡方式的脫硫方法及脫硫裝置。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]　日本特許第4269379號公報 　　[專利文獻2]　日本特開2015-71141號公報
[發明所欲解決之問題]
鑑此，本發明之目的在於提供一種抑制氧化性物質或6價硒的生成，並且具有優良的脫硫性能，簡易的構成之脫硫方法及脫硫裝置。 [解決問題之技術手段]
本發明的一個實施形態之脫硫方法，其特徵為，具備：接觸工程，將含有硫氧化物的被處理氣體，導入至收容於反應槽內之含鹼劑液中，對該含鹼劑液供給氧，令前述含鹼劑液中析出藉由前述硫氧化物和前述氧和前述含鹼劑液中的鹼劑之反應而產生的生成物；及第1抽出工程，從前述反應槽內的第1區域，抽出含有前述含鹼劑液與前述析出的生成物之漿體；及第2抽出工程，抽出前述反應槽內的、或是從和前述反應槽連通之第2區域，抽出能夠將前述漿體還原之流體；及混合工程，將前述第1抽出工程中抽出的前述漿體、與前述第2抽出工程中抽出的前述流體予以混合；及分離回收工程，從該混合工程中混合的前述漿體與前述流體之混合物，將固體成分予以分離回收。
此外，本發明的另一個實施形態之脫硫裝置，其特徵為，具備：反應槽，具有：被處理氣體導入路、及從該被處理氣體導入路供含有硫氧化物的被處理氣體導入之被處理氣體導入室、及設於該被處理氣體導入室的下側而供含鹼劑液收容於其下部之含鹼劑液室、及將被導入至前述被處理氣體導入室的前述被處理氣體供給至收容於前述含鹼劑液室的前述含鹼劑液中之氣體下降管；及氧供給管，對收容於前述含鹼劑液室之前述含鹼劑液中供給氧；及第1抽出部，從前述含鹼劑液室內的第1區域，抽出含有前述含鹼劑液與藉由前述硫氧化物和前述氧和前述含鹼劑液中的鹼劑之反應而產生的生成物當中析出至前述含鹼劑液中的析出物之漿體；及第2抽出部，抽出前述反應槽內的、或是從和前述反應槽連通之第2區域，抽出能夠將前述漿體還原之流體；及混合槽，將前述第1抽出部抽出的前述漿體、與前述第2抽出部中抽出的前述流體予以混合；及分離回收部，從該混合槽中被混合的前述漿體與前述流體之混合物，將固體成分予以分離回收。 [發明之功效]
按照本發明，能夠提供一種抑制氧化性物質或6價硒的生成，並且具有優良的脫硫性能，簡易的構成之脫硫方法及脫硫裝置。
[第1實施形態] 〈脫硫裝置〉 　　一面參照圖1一面說明本發明第1實施形態之噴射鼓泡方式的脫硫裝置。 　　圖1為本發明第1實施形態之噴射鼓泡方式的脫硫裝置的一例示意模型圖。所謂噴射鼓泡方式，係指對被收容於反應槽的下部之含鹼劑液中導入被處理氣體及氧，一面令被處理氣體與含鹼劑液氣液接觸而形成泡沫(froth)層一面令它們反應，來除去硫氧化物之方式。
(硫氧化物、被處理氣體) 　　本發明中作為硫氧化物(SOx)，例如可舉出亞硫酸氣體、或是亞硫酸氣體溶解於水而成之物等各種形態的二氧化硫等。此外，作為含有硫氧化物之氣體(被處理氣體)，可舉出從燃煤爐或燃煤火力發電廠排出的燃燒廢氣等。另，例如在煤的燃燒廢氣中一般而言來自煤的硒會含有一定量，本發明的其中一個目的是抑制來自這樣的被處理氣體中含有的硒之6價硒的生成。是故，本發明實施形態之脫硫裝置中作為訂為對象之被處理氣體，並不限於煤的燃燒廢氣，例如煤以外的燃料的燃燒廢氣且為含有硒及硫氧化物之氣體等種種廢氣，得涵括於其對象。
(反應槽) 　　如圖1所示，噴射鼓泡方式的脫硫裝置100，具有噴射鼓泡方式的反應槽11。另，第1實施形態中的反應槽11為圓筒狀，但反應槽11不限於圓筒狀，能夠做成箱形狀(直方體形狀)等任意形狀。 　　反應槽11，具有被處理氣體導入室14、含鹼劑液室16、被處理氣體排出室17。此外，反應槽11中，設有被處理氣體導入路12、被處理氣體排出口13。
被處理氣體導入路12，在反應槽11的側壁中央部附近突出設置，將被處理氣體導入被處理氣體導入室14。 　　被處理氣體導入室14，設於反應槽11的內部的鉛直方向中央部，供含有硫氧化物之被處理氣體從被處理氣體導入路12導入。 　　含鹼劑液室16，設於被處理氣體導入室14的下側，構成為在下部可收容含鹼劑液15。 　　被處理氣體排出室17，設於被處理氣體導入室14的上側，和被處理氣體排出口13連通。 　　被處理氣體排出口13，在反應槽11的側壁上部突出設置，將在含鹼劑液室16已受脫硫處理之被處理氣體，從被處理氣體排出室17排出。
被處理氣體導入室14和含鹼劑液室16，藉由橫截反應槽11之第1隔壁18而被分隔。此外，被處理氣體導入室14和被處理氣體排出室17，藉由橫截反應槽11之第2隔壁19而被分隔。
第1隔壁18兼作被處理氣體導入室14的底面。在第1隔壁18，設有朝下方延伸而到達比含鹼劑液15的液面21還下方之複數個氣體下降管22，氣體下降管22將被處理氣體導入室14與含鹼劑液室16連通。是故，被導入至被處理氣體導入室14的被處理氣體，會透過複數個氣體下降管22而被供給至收容於含鹼劑液室16之含鹼劑液15中。在氣體下降管22的下側設有複數個小的開口，從氣體下降管22噴出的被處理氣體會被分散至含鹼劑液15中。
第2隔壁19兼作被處理氣體排出室17的底面。在第2隔壁19，設有朝下方延伸，貫通被處理氣體導入室14的水平方向中央部而到達含鹼劑液室16之連通管25，連通管25將含鹼劑液室16與被處理氣體排出室17連通。是故，於含鹼劑液室16內已受脫硫之被處理氣體，會從含鹼劑液室16內的液面21上的空間亦即空間部26，透過連通管25到達被處理氣體排出室17，從被處理氣體排出口13被排出。 　　另，亦可設計成省略被處理氣體排出室17或連通管25，而以連通至空間部26之方式來設置被處理氣體排出口13，空間部26兼作如圖1所示般的被處理氣體排出室17。
在被處理氣體導入路12內，設有將經由配管31的工業用水對被處理氣體噴霧之工業用水供給管32。工業用水，被用作為將被處理氣體加濕之加濕液，將被處理氣體加濕、冷卻。於被處理氣體導入路12內被噴霧的加濕液不限於工業用水，例如為水等，凡是可將被處理氣體加濕之液體則無特別限制。另，配管31及工業用水供給管32，未必一定要設置。此外，在被處理氣體導入路12內及被處理氣體導入室14內，除工業用水供給管32以外亦可設有供給加濕液之其他構件。
在反應槽11，設有將含鹼劑液15攪拌之攪拌機27。攪拌機27，以規定的旋轉速度旋轉，將被收容於含鹼劑液室16中之含鹼劑液15攪拌。
(氧供給管) 　　在反應槽11的含鹼劑液室16的底部鄰近，舖設有氧供給管38的一端。氧供給管38的另一端，連接至反應槽11的外部的氧供給源(未圖示)。又，氧藉由氧供給管38被供給至含鹼劑液室16中收容之含鹼劑液15中。 　　被供給至含鹼劑液15中的氧，會和溶解於含鹼劑液15中的鹼劑及硫氧化物反應。藉由氧和鹼劑和硫氧化物之反應而產生的生成物的一部分，會析出至含鹼劑液15中而成為析出物。以下，將懸濁有析出物的含鹼劑液(以高濃度含有析出物的含鹼劑液)稱為漿體。 　　另，氧供給管38，可從氧供給源供給含氧之液體或氣體至含鹼劑液15中，惟由經濟的觀點看來較佳是供給空氣。
(第1抽出部、第1區域) 　　在內部收容漿體之含鹼劑液室16的側壁底部，設有連接至泵浦34之配管33。泵浦34，透過配管33將漿體從含鹼劑液室16內抽出。在泵浦34的出口側連接有配管35的一端，配管35的另一端連接至詳細後述之混合槽36。是故，從含鹼劑液室16被抽出的漿體，會透過配管33、泵浦34、配管35而被收容於混合槽36。 　　配管33、泵浦34及配管35構成第1抽出部。此外，含鹼劑液室16內當中，設有配管33之位置的鄰近為第1區域，漿體從此第1區域藉由第1抽出部被抽出。
配管33的相對於泵浦34側的端部而言相反側的端部，不限定於連接至含鹼劑液室16的側壁底部之構成，凡為設於可抽出含鹼劑液室16內的漿體的位置之構成則無特別限制。但，若要在含鹼劑液室16內也可抽出高氧化性環境的漿體，配管33的端部較佳是設於含鹼劑液室16的底部(比供給被處理氣體之氣體下降管22還靠近供給氧之氧供給管38的區域)。含鹼劑液室16的底部，漿體中的氧的濃度高，為高氧化性環境，因此氧化性物質或6價硒的濃度雖高，但對於抽出不含還原物而煤塵亦少之良好的石膏而言是特別合適的區域。從此處抽出的漿體，與能夠還原漿體之流體(詳細後述)共同混合使用，藉此能夠同時達成氧化性物質或6價硒的減低。 　　另，配管33，亦可設於含鹼劑液室16的底部當中的底面部分，但更佳是設於側壁部分。此外，為了於攪拌機27停止時配管33更不易因沉積石膏而閉塞，並且可抽出良好品質的石膏，特佳是將配管33的下端對齊攪拌機27停止時之漿體沉降高度。
(第2抽出部、第2區域) 　　另一方面，在反應槽11，抽出能夠將藉由泵浦34被抽出的漿體予以還原之流體的配管37的一端，係設於被處理氣體導入室14的側壁當中相對於設有被處理氣體導入路12之位置而言相反側的位置。配管37的另一端，延伸至詳細後述之混合槽36的內部。是故，從被處理氣體導入室14抽出的被處理氣體，會透過配管37被供給至收容於混合槽36內的漿體。 　　也就是說，第1實施形態中，從被處理氣體導入室14抽出而透過配管37被供給至混合槽36之被處理氣體，為能夠將漿體還原之流體。此外，配管37構成第2抽出部。此時，被處理氣體導入室14內當中設有配管37之位置的鄰近為第2區域，能夠將漿體還原之流體亦即被處理氣體從此第2區域被抽出。
另，能夠將從第2抽出部被抽出的漿體予以還原之流體，不限定於被處理氣體。只要是可從反應槽11、或從和反應槽11連通的反應槽11的外部抽出之流體，且能夠將從第1抽出部被抽出的漿體予以還原之流體則無特別限制。例如，亦可從含鹼劑液室16中的泡沫層28抽出泡沫流體，而用作為能夠將漿體還原之流體。針對從泡沫層28抽出泡沫流體而用作為能夠將漿體還原之流體的例子後述之。
當使用被處理氣體作為能夠將漿體還原之流體的情形下，配管37的設置處，只要是能夠抽出被供給至收容於含鹼劑液室16的含鹼劑液15中之前的被處理氣體之位置則無特別限制。例如，當為反應槽11內的情形下，配管37亦可設於被處理氣體導入室14的任意位置、或氣體下降管22內的任意位置。此外例如當為和反應槽11連通的反應槽11的外部的情形下，亦可設於和反應槽11連通的被處理氣體導入路12的任意位置、或透過被處理氣體導入路12連通至反應槽11而成而連絡從生成被處理氣體的外部裝置至被處理氣體導入路12之連絡路(未圖示)內的任意位置。 　　此外，被處理氣體導入室14內的被處理氣體，是藉由被處理氣體導入室14內的自體壓力而經由配管37被供給至混合槽36內的漿體中，但亦可設置壓縮機等來供給。
(混合槽) 　　在反應槽11的外部，設有混合槽36。 　　配管35的一端連接至混合槽36，另一端連接至將漿體從含鹼劑液室16抽出之泵浦34。是故，漿體會藉由泵浦34而被供給至混合槽36。 　　此外，配管37的一端連接至混合槽36並且延伸至混合槽36的內部，另一端連接至被處理氣體導入室14的側壁。是故，被處理氣體會透過配管37而被供給至混合槽36。
例如，700MW的鍋爐廢氣中，廢氣中的SO2 的濃度為700ppm的情形下，作為配管37，係設置1根4英吋(10.16cm)直徑的PVC(聚氯乙烯；poly vinyl chloride)管，將流經配管37的被處理氣體的流量訂為300～600Nm3 / h-wet。
在混合槽36中設有將漿體與被處理氣體混合之攪拌機41，以規定的旋轉速度旋轉。
又，配管49的一端連接至混合槽的上部。配管49的另一端，連接至含鹼劑液室16的側壁上部(和比泡沫層28還上方的空間部26相對應之側壁部分)。是故，在混合槽36內和漿體充分地氣液接觸而受脫硫後之被處理氣體，會從混合槽36內的上部透過配管49被供給至含鹼劑液室16內的空間部26。
混合槽36，只要是將第1抽出部抽出的漿體、與第2抽出部抽出的流體予以混合而做成混合物者則無特別限制。在混合槽36內，高氧化性環境之漿體，藉由比漿體還低氧化性環境之被處理氣體而被還原，氧化性物質或6價硒會被減低。
針對此混合槽36內之還原反應詳細說明之。 　　在含鹼劑液室16內產生的脫硫反應中需要溶氧，因此從氧供給管38供給氧。不過，藉由氧而引起之氧化反應若進展過度，則4價硒(Se4+ )會被氧化而產生6價硒(Se6+ )，並且氧化性物質會增加。是故，含鹼劑液室16內的漿體，其6價硒或氧化性物質容易增加，特別是氧供給管38的鄰近為高氧化性環境因此6價硒或氧化性物質的濃度高。但，含鹼劑液室16的底部的漿體，雖氧化性物質或6價硒的濃度高，但含有不含還原物而煤塵亦少之良好的石膏。 　　另一方面，在反應槽11內、或和反應槽11連通的反應槽11的外部，存在能夠將第1抽出部抽出的漿體予以還原之流體。
鑑此，第1實施形態中，被處理氣體的一部分從被處理氣體導入室14內被抽出，與收容於混合槽36內的高氧化性環境的漿體混合。被處理氣體比漿體還低氧化性環境，因此高氧化性環境的漿體會在混合槽36內被還原。其結果，在混合槽36內6價硒被還原成4價硒，氧化性物質被減低。此外，在此時的混合槽36內會產生脫硫反應，因此被供給至混合槽36內的被處理氣體，會在漿體中起泡而充分地受脫硫後，透過配管49到達含鹼劑液室16內的空間部26。 　　是故，第1實施形態之脫硫裝置，於混合槽36內令還原反應和脫硫反應充分地產生，藉此能夠以簡易的構成實現抑制氧化性物質或6價硒生成、及優良的脫硫性能。
圖2為相對於混合槽36內之被處理氣體的供給量而言之氧量的關係的一例示意圖表。 　　700MW的鍋爐廢氣中，當廢氣中的SO2 的濃度為700ppm的情形下，作為配管37，係設置1根4英吋(10.16cm)直徑的PVC(聚氯乙烯；poly vinyl chloride)管，而測定令流經配管37的被處理氣體的流量變化時之混合槽36內的氧量，揭示於圖2。 　　按照圖2，可知藉由令被處理氣體的流量變化，可相互轉移到比圖表中的虛線還上方的區域亦即氧存在之氧化性環境、及比虛線還下方的區域亦即氧不存在之還原性環境。
此外，圖3為相對於混合槽36內之被處理氣體的供給量而言之氧量及氧化還原電位的關係的一例示意圖表。如同圖2的情形般，測定令被處理氣體的流量變化時之混合槽36內的氧量及氧化還原電位(Oxidation-Reduction Potential；ORP)，揭示於圖3。圖3中虛線表示混合槽36內的ORP，實線表示混合槽36內的溶氧量。 　　按照圖3，可知藉由令被處理氣體的流量變化，能夠達成ORP200mV以下。當ORP成為200mV以下的情形下，也就是說，當圖3中被處理氣體的導入量為400Nm3 /h-wet以上的情形下，混合槽36內的溶氧量為0附近或其以下，可知氧化性環境的漿體會被還原，成為還原性環境或趨近還原性環境之狀態。
(測定部) 　　在混合槽36，設有測定混合槽36內的混合物的氧化還原電位之測定部亦即ORP測定部50。ORP測定部50，只要是能夠測定混合槽36內的混合物的氧化還原電位之物則無特別限制。ORP測定部50測定出的氧化還原電位，被送至詳細後述之控制部(未圖示)。
(分離回收部) 　　在混合槽36的側壁，設有連接至泵浦43之配管42。在混合槽36被混合的漿體與被處理氣體之混合物，從混合槽36內透過配管42藉由泵浦43被抽出。又，在泵浦43的出口側連接有配管44的一端，在配管44的另一端連接有固液分離機46。固液分離機46，將從混合槽36內抽出的混合物固液分離，將固體成分予以分離回收。固液分離機46為分離回收部。
(排水處理裝置) 　　在固液分離機46的後段，連接有排水處理裝置。藉由固液分離機46而固體成分被回收後之回收殘液，會經由連接至固液分離機46之配管45而被供給至排水處理裝置。排水處理裝置，可從回收殘液除去氮化合物或COD(化學需氧量；Chemical Oxygen Demand)成分、6價硒等而排出作為排水。
(鹼劑導入部) 　　從配管45分歧出的配管47，連接至反應槽11的含鹼劑液室16。在配管47，於途中設有導入石灰石等鹼劑之鹼劑導入部48。鹼劑導入部48，將鹼劑導入至固液分離後的回收殘液的一部分，做出可再次利用作為含鹼劑液室16中的含鹼劑液15。 　　另，配管47及鹼劑導入部48，未必一定要設置。
(控制部) 　　如前述般，ORP測定部50測定出的混合槽36內的混合物的氧化還原電位會被送至控制部(未圖示)。 　　控制部，基於此氧化還原電位來控制設於配管37之未圖示的閥等，而能夠將從被處理氣體導入室14抽出的被處理氣體的量(能夠將漿體還原之流體的量)調整成任意量。 　　另，控制部，除去從被處理氣體導入室14抽出的被處理氣體的量以外，還能控制從含鹼劑液室16抽出的漿體的量。控制部，控制泵浦34、或是設於配管33，35之未圖示的閥等，而能夠將從含鹼劑液室16抽出的漿體的量調節成任意量。
控制部，較佳是控制抽出的被處理氣體的量而使ORP測定部50測定之氧化還原電位會成為200mV以下，更佳是控制使成為0mV以上150mV以下。
依以上方式調整了混合槽36內的混合物的ORP後，固體成分藉由固液分離機46被分離回收。
按照以上說明的本發明第1實施形態之脫硫裝置，能夠以簡易的構成實現抑制氧化性物質或6價硒的生成、及優良的脫硫性能。
〈脫硫方法〉 　　接著，一面參照圖1一面說明使用了上述脫硫裝置100之脫硫方法。此處，第1實施形態之脫硫方法，至少具備接觸工程、第1抽出工程、第2抽出工程、混合工程、分離回收工程。以下，針對各工程依序說明。
(接觸工程) 　　接觸工程，是將含有硫氧化物的被處理氣體，導入至收容於反應槽11內之含鹼劑液15中，對含鹼劑液15供給氧，令含鹼劑液15中析出藉由硫氧化物和氧(溶氧)和含鹼劑液15中的鹼劑之反應而產生的生成物。
圖1所示例子中，首先，含有硫化合物的被處理氣體被導入至設於反應槽11之被處理氣體導入路12。被導入至被處理氣體導入路12的被處理氣體，和從工業用水供給管32噴霧出的工業用水接觸。工業用水為將被處理氣體加濕、冷卻之加濕液。若被處理氣體接觸加濕液，則被處理氣體會被加濕而能夠抑制裝置內的乾燥所造成之水垢(scale)的發生。
接著，被加濕的被處理氣體，經由被處理氣體導入室14流進氣體下降管22。流進氣體下降管22的被處理氣體，到達含鹼劑液室16，從位於收容於含鹼劑液室16內的含鹼劑液15的液面21的下方之氣體下降管22的位於下端鄰近之複數個孔噴出。從氣體下降管22的位於下端鄰近之複數個孔噴出的被處理氣體會成為氣泡狀，在含鹼劑液15中分散，一面和含鹼劑液氣液接觸一面上昇。
像這樣，由被處理氣體的氣體不連續相、與含鹼劑液的液連續相所構成之氣液接觸層亦即泡沫層28，會形成於含鹼劑液15的液面21上。氧從氧供給管38被供給至含鹼劑液15，因此泡沫層28中，被處理氣體所含有之硫氧化物會和含鹼劑液15中的氧及鹼劑反應。一連串的流程中，被處理氣體中的SO2 等硫氧化物會溶解於含鹼劑液中，藉此從被處理氣體中被除去。
硫氧化物和氧和鹼劑之反應中，被處理氣體中含有之SO2 等硫氧化物會和鹼劑及氧反應，藉由反應而產生之生成物的一部分會析出至含鹼劑液15中。 　　例如，當硫氧化物含有SO2 ，作為鹼劑使用了石灰石(CaCO3 )，會發生下記(1)式的反應。也就是說，下記(1)式的反應中，會產生生成物亦即石膏(CaSO4 ・2H2 O)，其一部分會作為析出物而析出至含鹼劑液15中。另一方面，硫氧化物會從被處理氣體被除去。
所謂含鹼劑液含有的鹼劑，為中和酸之中和劑，例如可舉出碳酸鈣、氫氧化鈉等。此外，作為含鹼劑液的溶媒，可舉出水。
被除去了硫氧化物的被處理氣體，會經由含鹼劑液室16的上部的空間部26、連通管25及被處理氣體排出室17，從被處理氣體排出口13排出。
(第1抽出工程) 　　然後，第1抽出工程，是從反應槽11(含鹼劑液室16)內的第1區域，抽出高濃度地含有脫硫反應中產生而析出的生成物之含鹼劑液(以下稱為漿體)。第1區域，為比後述第2區域還高氧化性環境之區域。 　　圖1所示例子中，含鹼劑液室16內的側壁底部鄰近的區域為第1區域。此時，第1抽出工程，從含鹼劑液室16內的側壁底部鄰近的區域，藉由泵浦34經由配管33將漿體抽出。被抽出的漿體，經由配管35被收容於混合槽36內。但，本發明完全不限定於圖1所示之構成。
第1抽出工程，亦可從含鹼劑液室16內的側壁底部以外的區域抽出漿體。抽出漿體之區域，亦即第1區域，只要是可於含鹼劑液室16內抽出漿體之區域則無特別限制。但，含鹼劑液室16的底部，漿體中的氧的濃度高，為高氧化性環境，因此氧化性物質或6價硒的濃度雖高，但對於抽出不含還原物而煤塵亦少之良好的石膏而言是特別合適的區域。從此處抽出的漿體，與能夠還原漿體之流體(詳細後述)共同混合使用，藉此能夠同時達成氧化性物質或6價硒的減低。
(第2抽出工程) 　　另一方面，第2抽出工程，是將被導入至反應槽11的被處理氣體的一部分，從被處理氣體導入室14的第2區域抽出。第2區域，為可將第1抽出工程中抽出的漿體予以還原的環境之區域。 　　圖1所示例子中，被處理氣體導入室14內的側壁鄰近為第2區域。此時，第2抽出工程，從被處理氣體導入室14內的側壁鄰近的區域，藉由配管37將被處理氣體導入室14內的被處理氣體的一部分抽出。被抽出的被處理氣體，被供給至收容於混合槽36內之漿體中。被處理氣體比漿體還低氧化性環境，因此能夠將漿體還原。但，本發明完全不限定於圖1所示之構成。
第2抽出工程，只要能夠從反應槽11、或是和反應槽11連通的反應槽11的外部抽出能夠將第1抽出工程中抽出的漿體予以還原之流體則無特別限制。是故，第2抽出工程，作為能夠將第1抽出工程中抽出的漿體予以還原之流體，亦可抽出被處理氣體的一部分以外之流體。此外，第2抽出工程中抽出能夠將漿體還原之流體之區域，也就是說第2區域，亦可為被處理氣體導入室14內的側壁鄰近以外之區域，亦可為反應槽11內的被處理氣體導入室14以外之區域，亦可為和反應槽11連通的反應槽11的外部。
當抽出被處理氣體的情形下，第2抽出工程，較佳是將被導入至含鹼劑液15中之前的被處理氣體的一部分抽出。另，第2抽出工程，亦可將被導入至反應槽11之前的被處理氣體的一部分抽出，亦可將被導入至反應槽11後的被處理氣體的一部分抽出。是故，第2抽出工程，能夠從氣體下降管22內、從被處理氣體導入室14內或從被處理氣體導入路12內、或是從透過被處理氣體導入路12連通至反應槽11而構成而連絡從生成被處理氣體的外部裝置至被處理氣體導入路12之連絡路(未圖示)內，抽出被處理氣體。
(混合工程) 　　混合工程，是將第1抽出工程中從第1區域抽出的漿體、與第2抽出工程中從第2區域抽出的能夠將漿體還原之流體予以混合。 　　圖1所示例子中，混合工程，是將從被處理氣體導入室14內抽出的被處理氣體的一部分供給至收容於混合槽36內之從含鹼劑液室16內抽出的漿體中，並起泡，藉此將它們混合。此外，混合工程，較佳是令設於混合槽36之攪拌機41以規定的旋轉速度旋轉，以促進漿體與被處理氣體之混合。 　　混合工程中，高氧化性環境之漿體，藉由比漿體還低氧化性環境之被處理氣體而被還原，氧化性物質或6價硒會被減低。此外，混合工程中與漿體混合了的被處理氣體，藉由在漿體中氣液接觸而受到脫硫，透過配管49被導入至含鹼劑液室16中的空間部26。
(測定工程) 　　此外，測定工程，較佳是測定混合工程中獲得的混合物的氧化還原電位。 　　圖1所示例子中，在混合槽36內設有測定氧化還原電位之ORP測定部50，測定工程，測定混合槽36內的(漿體與被處理氣體之)混合物的氧化還原電位。然後，詳細後述之控制工程，較佳是基於測定出的氧化還原電位，控制第1抽出工程中抽出的漿體的量。
(分離回收工程) 　　分離回收工程，從混合工程中被混合的漿體與流體之混合物，將固體成分予以分離回收。 　　圖1所示例子中，分離回收工程，從在混合槽36內被混合的漿體與被處理氣體之混合物，藉由固液分離機46將固體成分予以分離回收。另，固體成分從混合物被分離回收後之回收殘液，會經由連接至固液分離機46的出口側之配管45而被供給至排水處理裝置，在排水處理裝置受到排水處理(排水處理工程)。
(排水處理工程) 　　排水處理工程，從藉由固液分離機46而固體成分(析出物)被分離回收後之回收殘液，除去氮化合物或COD、6價硒等。排水處理是在設於外部之排水處理裝置進行。 　　藉由固液分離機46而固體成分被分離回收後之回收殘液，會經由配管45而被供給至排水處理裝置。此回收殘液，其氧化性物質或6價硒的量被減低，因此不必設置新的排水處理裝置，或是能夠減低排水處理的負荷。
(鹼劑導入工程) 　　此外，鹼劑導入工程，較佳是將石灰石等鹼劑導入至藉由固液分離機46而固體成分被分離之回收殘液當中的一部分，而做出可再次供給至含鹼劑液室16內之含鹼劑液15。 　　圖1所示例子中，設有從連接至固液分離機46的出口側之配管45分歧出的配管47，鹼劑導入工程，是將石灰石等鹼劑藉由設於配管47的途中之鹼劑導入部48而導入至回收殘液的一部分。被導入了鹼劑之回收殘液的一部分，會透過配管47被收容於含鹼劑液室16內，用作為含鹼劑液15。
(控制工程) 　　接著，針對上述的控制工程，舉出控制方法的具體例詳細說明之。 　　如前述般，控制工程，是基於測定工程中測定出的氧化還原電位，來控制1抽出工程中抽出的漿體的量。 　　圖1所示例子中，在混合槽36內設有ORP測定部50，控制工程，基於控制部(未圖示)接收到的從ORP測定部50送來之混合槽36內的混合物的氧化還原電位，而控制第2抽出工程中抽出的被處理氣體的量(能夠將漿體還原之流體的量)。 　　另，控制工程，除了第2抽出工程中抽出的被處理氣體的量以外，還能控制第1抽出工程中抽出的漿體的量。
控制工程，較佳是控制抽出的被處理氣體的量而使測定工程中ORP測定部50測定之氧化還原電位會成為200mV以下，更佳是控制使成為0mV以上150mV以下。
按照以上說明的本發明第1實施形態之脫硫方法，能夠以簡易的構成實現抑制氧化性物質或6價硒的生成、及優良的脫硫性能。
[第2實施形態] 　　圖4為本發明第2實施形態之噴射鼓泡方式的脫硫裝置示意模型圖。圖5為圖4所示脫硫裝置的主要部位擴大圖，揭示溢流壩60及其鄰近之構成。以下，雖針對第2實施形態說明，但對於和第1實施形態相同的構件標記相同符號，並省略重複說明。
如圖4及圖5所示，第2實施形態之脫硫裝置200，係替換圖1所示第1實施形態之脫硫裝置100中的配管37，而具備溢流壩60及配管71。是故，若將第2實施形態之脫硫裝置200與第1實施形態之脫硫裝置100比較，則第2抽出部(第2抽出工程)相異，此外，省略圖示之控制部(控制工程)亦相異。在第2實施形態之脫硫裝置200與第1實施形態之脫硫裝置100中，除第2抽出部及控制部以外為同一。 　　以下，針對脫硫裝置200的第2抽出部(第2抽出工程)及控制部(控制工程)詳述之。
(第2抽出部、第2抽出工程、第2區域) 　　第2實施形態中，在含鹼劑液室16內的側壁鄰近，設有從比含鹼劑液15的液面21還下方的位置延伸至液面21的上方之溢流壩60。形成於含鹼劑液15的液面21上之構成泡沫層28之泡沫流體，會溢流過溢流壩60，而流入至含鹼劑液室16的側壁側。另一方面，位於泡沫層28的下部之含鹼劑液15，會被溢流壩60攔住，因此不會流過溢流壩60的上方(不會溢流)，而不會流入至含鹼劑液室16的側壁側。
針對溢流壩60參照圖5進一步詳細說明。 　　第2實施形態的溢流壩60，具備側板61、及具有開口部62a之底板62。此外，在溢流壩60的下部設有上昇流抑止板63。
側板61，延伸至比含鹼劑液15的靜止液面還上方，攔住含鹼劑液15，而令泡沫流體從泡沫層28溢流。是故，側板61，較佳是延伸至比含鹼劑液15的靜止液面還上方，且比泡沫層28的上端還下方。具體而言，側板61，較佳是延伸至比靜止液面(標準液面高度)還50mm以上上方，更佳是延伸至100mm以上300mm以下上方。 　　此處所謂靜止液面，為被處理氣體從氣體下降管22噴出之前的靜止的液面。另，靜止液面位於比液面21還稍上方。
另，於排煙脫硫裝置200停止時，泡沫層28中的固形物沉積於溢流壩60的底板62，藉此可能會於排煙脫硫裝置200運轉時損及溢流機能。鑑此，底板62，在圖5所示例子中係傾斜配置，而具有開口部62a。藉由設置開口部62a，泡沫層28中的固形物會被排出至溢流壩60外，而能夠抑制沉積。 　　開口部62a的形狀雖無特別限制，但例如為直徑25mm以上50mm以下的圓形形狀。圖5所示例子中，是設有1個開口部62a，但亦可設有複數個開口部62a。
上昇流抑止板63，設於開口部62a的下方。上昇流抑止板63，能夠抑制於含鹼劑液室16的側壁鄰近藉由攪拌機27而產生之溢流壩60外的含鹼劑液15的上昇流，通過開口部62a而流入至底板62的上方(往溢流壩60內混入)。此外，上昇流抑止板63，還能抑制從氧供給管38供給的氣體通過開口部62a而流入至底板62的上方。
又，將溢流過溢流壩60的泡沫流體予以抽出之配管71的一端，係設於含鹼劑液室16的側壁。配管71的另一端，延伸至混合槽36的內部。是故，經由含鹼劑液室16內的溢流壩60而被抽出的泡沫流體，會透過配管71被供給至收容於混合槽36內之漿體中。
也就是說，第2實施形態中，從含鹼劑液室16透過配管71被抽出而供給至混合槽36的泡沫流體，為能夠將漿體還原之流體。此外，第2實施形態中，溢流壩60與配管71構成第2抽出部。此時，含鹼劑液室16內當中設有配管71之位置的鄰近，亦即藉由溢流壩60與含鹼劑液室16的側壁而被區隔出之區域，為第2區域。第2抽出部，從第2區域抽出能夠將漿體還原之流體亦即泡沫流體。另，雖亦能不設置溢流壩60而直接從配管71抽出泡沫流體，但可能會有位於泡沫層28的下部之含鹼劑液15大量混入之情形，因此較佳是設置溢流壩60來圍住泡沫流體。此外，泡沫流體是由氣液二相所構成，但氣體的比率高，因此設置溢流壩60，會比直接從配管71抽出更容易確保有效的液量，因此較佳。
配管71的設置處，只要是能夠抽出溢流過溢流壩60的泡沫流體之位置則無特別限制，但較佳是設於比含鹼劑液15的液面21(標準液面高度)還上方，且比泡沫層28的上端還下方之含鹼劑液室16的側壁。具體而言，配管71，較佳是設於從含鹼劑液15的靜止液面(標準液面高度)起算100mm下方至200mm上方之含鹼劑液室16的側壁的範圍內。
另，構成泡沫層28之泡沫流體，包含脫硫反應中生成而析出的析出物、及含鹼劑液、及脫硫反應中受脫硫的被處理氣體，又，還包含被處理氣體中含有的煤塵等雜質。包含這樣各種成分之泡沫流體，透過配管71被供給至混合槽36。
第2實施形態中，脫硫裝置200具備複數個溢流壩60。圖4及圖5中為便於理解發明，僅圖示1個溢流壩60，其他則省略圖示。 　　圖6A為第2實施形態之脫硫裝置的構成示意概略截面圖。另，圖6A中為便於理解發明，針對反應槽11的側壁及溢流壩60以外之構成係省略圖示。 　　如圖6A所示，溢流壩60，沿著圓筒狀的反應槽11的側壁而等間隔地設有4個。溢流壩60不限於4個，能夠設置任意數量。複數個溢流壩60較佳是等間隔地配置。
此外，圖6B為第2實施形態之脫硫裝置的變形例的構成示意概略截面圖。圖6B中亦為便於理解發明，針對反應槽11的側壁及溢流壩60以外之構成係省略圖示。 　　如圖6B所示，溢流壩60，沿著直方體形狀的反應槽11的側壁而等間隔地設有4個。此時，於反應槽11的水平方向截面，溢流壩60亦可設於反應槽11的四隅，但較佳是設於長方形形狀亦即截面的各邊的中點鄰近。當溢流壩60設於中點鄰近的情形下，相較於四隅的情形，泡沫流體的流動會變得良好，會更加促進泡沫層28與含鹼劑液15之交替，因此較佳。
(控制部、控制工程) 　　第2實施形態中，控制部，是基於混合槽36內的混合物的氧化還原電位，來控制泵浦34、或是設於配管33，35之未圖示的閥等，而能夠將從含鹼劑液室16抽出的漿體的量調節成任意量。 　　另，控制部，除了從含鹼劑液室16抽出的漿體的量以外，還能控制從含鹼劑液室16抽出的泡沫流體的量。控制部，控制設於配管71之未圖示的閥等，而能夠將從含鹼劑液室16內的泡沫層28抽出的泡沫流體調整成任意量。
控制部，較佳是控制抽出的漿體的量而使ORP測定部50測定之氧化還原電位會成為200mV以下，更佳是控制使成為0mV以上150mV以下。
按照以上說明的本發明第2實施形態之脫硫方法，能夠以簡易的構成實現抑制氧化性物質或6價硒的生成、及優良的脫硫性能。
在此，針對第2實施形態之脫硫裝置200中，藉由控制從含鹼劑液室16抽出的漿體的量而能夠減低氧化性物質一事，舉出具體例進一步詳細說明之。 　　圖7為相對於含鹼劑液的氧化還原電位而言之氧化性物質的濃度的關係示意圖，揭示pH=4(實線)的情形、與pH=5(虛線)的情形。 　　按照圖7，可知含鹼劑液中的氧化性物質的濃度，會因氧化還原電位而變化。由圖7得知，若氧化還原電位為200mV以下則氧化性物質變得幾乎不存在。
另一方面，圖8為藉由第2實施形態之脫硫裝置200進行脫硫時，相對於從含鹼劑液室16抽出的漿體的量而言之混合槽36內(混合物中的含鹼劑液)的氧化還原電位的關係示意圖。此時，700MW的鍋爐廢氣中，以廢氣中的SO2 的濃度為700ppm之條件進行脫硫。 　　由圖8得知，藉由控制從含鹼劑液室16抽出的漿體的量，能夠使氧化還原電位成為200mV以下，其結果，可知氧化性物質會變得幾乎不存在。
(第2實施形態的效果、作用機制) 　　話說回來，構成泡沫層28之泡沫流體中，如前述般係含有煤塵，但藉由減低泡沫層28中含有的煤塵，可知會獲得抑制裝置內的水垢發生之效果。是故，第2實施形態中，除第1實施形態之效果外，更發揮抑制裝置內的水垢發生之效果。以下講述可獲得此效果之作用機制。
煤塵是非常微細的粒子，因此具有因其微細的形狀而引起之浮遊性。是故，被捕捉於泡沫層28中的煤塵，會在氣泡泡沫的表面附著滯留。 　　此處，習知的脫硫裝置中，漿體(含鹼劑液)的抽出是僅從含鹼劑液室的底部，因此絕大部分的泡沫流體不會直接被排出至外部，是故微細的煤塵隨著脫硫處理會必然地在泡沫層中濃度升高，成為高濃度。成為了高濃度的煤塵，會以濃縮於氣泡泡沫之狀態下存在，其一部分藉由被處理氣體的流動而被剝落，附著於脫硫裝置的下游的構件表面，成為水垢發生的原因。此外，從氣泡泡沫被剝落的高濃度的煤塵，會和朝向被處理氣體排出口之被處理氣體的流動同行，而有排出至脫硫裝置外之氣體的煤塵濃度變高之情形。 　　鑑此，第2實施形態中，被捕捉於泡沫層28中的煤塵，雖會在氣泡泡沫的表面附著滯留，但會藉由配管71等而被抽出。其結果，能夠減低泡沫層28的氣泡泡沫的表面的煤塵的濃度，第2實施形態中能夠抑制來自於煤塵之水垢的發生，此外，伴隨此能夠減低排出至排煙脫硫裝置外之氣體(受清淨化後之氣體)的煤塵濃度。
此外，第2實施形態中，係有效利用泡沫流體。含鹼劑液室16中的漿體為高氧化性環境而高pH，因此氧化性物質或6價硒多，但泡沫層28中的泡沫流體為低氧化性環境而低pH，且無氧化性物質，主體為有利於排水處理之4價硒。積極地利用具備這樣的性質之泡沫流體，藉此便能減低排水處理裝置的負荷。
[第3實施形態] 　　圖9為本發明第3實施形態之噴射鼓泡方式的脫硫裝置示意模型圖。以下，雖針對第3實施形態說明，但對於和第2實施形態相同的構件標記相同符號，並省略重複說明。
如圖9所示，第3實施形態之脫硫裝置300，除圖4所示第2實施形態之脫硫裝置300之外，還具備配管81、泵浦82、配管83、固液分離機84、配管85。是故，若將第3實施形態之脫硫裝置300與第2實施形態之脫硫裝置200比較，則第3實施形態中相異處在於具備第3抽出部(第3抽出工程)、及副分離回收部(副分離回收工程)，這點以外則相同。 　　以下，針對脫硫裝置300的第3抽出部(第3抽出工程)及副分離回收部(副分離回收工程)詳述之。
(第3抽出部、第3抽出工程) 　　在構成第1抽出部之配管33，分歧設有連接至泵浦82之配管81。泵浦82，透過配管81將漿體從配管33抽出。此漿體，為泵浦34從含鹼劑液室16抽出之漿體的一部分。 　　在泵浦82的出口側連接有配管83的一端，配管83的另一端連接至固液分離機84。是故，透過從配管33分歧出的配管81而被抽出之漿體，其固體成分會藉由固液分離機84而被分離回收。針對此分離回收後述之。
配管81、泵浦82及配管83構成第3抽出部。此外，圖9所示例子中，漿體是藉由第3抽出部而從配管33的往配管81之分歧位置被抽出。另，配管81，只要是在含鹼劑液室16與混合槽36之間則亦可設於任一處。換言之，只要是能夠將第1抽出工程中抽出的漿體的一部分，於混合工程中供混合之前予以抽出則無特別限制。
此外，配管81，亦可連接至含鹼劑液室16。也就是說，亦可透過配管81將收容於含鹼劑液室16內之漿體藉由泵浦82抽出，經由配管83供給至固液分離機84。此時，反應槽11(含鹼劑液室16)的設有配管81之位置的鄰近為第3區域，漿體從此第3區域藉由第3抽出部被抽出。
(副分離回收部、副分離回收工程) 　　藉由第3抽出部而被抽出的漿體，會透過連接至泵浦82的出口側之配管83，被供給至固液分離機84。固液分離機84，將藉由第3抽出部而被抽出的漿體固液分離，將固體成分予以分離回收。固液分離機84為副分離回收部。藉由固液分離機84而固體成分被回收後之回收殘液，透過配管85、配管47回到含鹼劑液室16。 　　被供給至固液分離機84之漿體，不同於被供給至固液分離機46之混合物，其未混有構成泡沫層之泡沫流體。也就是說，被供給至固液分離機84之漿體中煤塵少。是故，藉由固液分離機84而被分離出的固體成分中混入之煤塵少，因此可獲得非常高品質的石膏。按照副分離回收部(副分離回收工程)，除藉由固液分離機46而從泡沫流體分離回收出的石膏，亦即煤塵的含有量多之相對低品質的石膏以外，還可藉由固液分離機84另行回收泡沫流體的含有量少，亦即煤塵的含有量少之高品質的石膏。
另，習知的脫硫裝置中，僅有從含鹼劑液室的下部抽出之漿體會被固液分離，而被回收作為石膏。此時，如前述般微細的煤塵幾乎不會被排出，因此含鹼劑液中及泡沫層中的煤塵會成為高濃度。是故，從含鹼劑液室抽出的漿體中，煤塵會以高濃度存在，因此會讓來自於此漿體之石膏的品質低落。當煤塵的主體為未燃燒碳的情形下該傾向會變得顯著，導致色相惡化。 　　不過，第3實施形態中，是從泡沫層28抽出泡沫流體而排出，藉此被送至固液分離機84之漿體中的煤塵的濃度會降低，因此石膏的品質會提升。
按照以上之第3實施形態，能夠另外回收煤塵的含有量少之石膏，因此可獲得高品質的石膏。此高品質的石膏，亦能和含有煤塵之相對低品質的石膏適當混合來利用。此外，第3實施形態中亦如同第2實施形態般，藉由固液分離機46而固體成分被回收後之回收殘液，其氧化性物質或6價硒會被減低，能夠將此回收殘液的一部分或全部送往排水處理裝置。
11‧‧‧反應槽
12‧‧‧被處理氣體導入路
13‧‧‧被處理氣體排出口
14‧‧‧被處理氣體導入室
15‧‧‧含鹼劑液
16‧‧‧含鹼劑液室
17‧‧‧被處理氣體排出室
18‧‧‧第1隔壁
19‧‧‧第2隔壁
21‧‧‧液面
22‧‧‧氣體下降管
25‧‧‧連通管
26‧‧‧空間部
27‧‧‧攪拌機
28‧‧‧泡沫層
31‧‧‧配管
32‧‧‧工業用水供給管
33‧‧‧配管
34‧‧‧泵浦
35‧‧‧配管
36‧‧‧混合槽
37‧‧‧配管
38‧‧‧氧供給管
41‧‧‧攪拌機
42‧‧‧配管
43‧‧‧泵浦
44‧‧‧配管
45‧‧‧配管
46‧‧‧固液分離機
47‧‧‧配管
48‧‧‧鹼劑導入部
49‧‧‧配管
50‧‧‧ORP測定部
60‧‧‧溢流壩
61‧‧‧側板
62‧‧‧底板
62a‧‧‧開口部
63‧‧‧上昇流抑止板
71‧‧‧配管
81‧‧‧配管
82‧‧‧泵浦
83‧‧‧配管
84‧‧‧固液分離機
85‧‧‧配管
100‧‧‧脫硫裝置
200‧‧‧脫硫裝置
300‧‧‧脫硫裝置
[圖1]本發明第1實施形態之噴射鼓泡方式的脫硫裝置的一例示意模型圖。 　　[圖2]相對於混合槽內之被處理氣體的供給量而言之氧量的關係的一例示意圖表。 　　[圖3]相對於混合槽內之被處理氣體的供給量而言之氧量及氧化還原電位的關係的一例示意圖表。 　　[圖4]本發明第2實施形態之噴射鼓泡方式的脫硫裝置的一例示意模型圖。 　　[圖5]圖4所示脫硫裝置的主要部位擴大圖。 　　[圖6A]本發明第2實施形態之脫硫裝置的構成示意概略截面圖。 　　[圖6B]本發明第2實施形態之脫硫裝置的變形例的構成示意概略截面圖。 　　[圖7]相對於含鹼劑液的氧化還原電位而言之氧化性物質的濃度的關係示意圖。 　　[圖8]相對於漿體的供給量而言之混合槽的氧化還原電位的關係示意圖。 　　[圖9]本發明第3實施形態之噴射鼓泡方式的脫硫裝置的一例示意模型圖。

Claims (14)

  1. 一種脫硫方法，其特徵為，具備： 　　接觸工程，將含有硫氧化物的被處理氣體，導入至收容於反應槽內之含鹼劑液中，對該含鹼劑液供給氧，令前述含鹼劑液中析出藉由前述硫氧化物和前述氧和前述含鹼劑液中的鹼劑之反應而產生的生成物；及 　　第1抽出工程，從前述反應槽內的第1區域，抽出含有前述含鹼劑液與前述析出的生成物之漿體；及 　　第2抽出工程，抽出前述反應槽內的、或是從和前述反應槽連通之第2區域，抽出能夠將前述漿體還原之流體；及 　　混合工程，將前述第1抽出工程中抽出的前述漿體、與前述第2抽出工程中抽出的前述流體予以混合；及 　　分離回收工程，從該混合工程中混合的前述漿體與前述流體之混合物，將固體成分予以分離回收。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之脫硫方法，其中，更具備： 　　測定工程，測定前述混合工程中獲得的混合物的氧化還原電位；及 　　控制工程，基於該測定工程中測定出的氧化還原電位，來控制前述第1抽出工程中抽出的前述漿體的量、及前述第2抽出工程中抽出的前述流體的量之至少一方。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之脫硫方法，其中，前述控制工程，控制使得前述測定工程中測定之氧化還原電位成為未滿200mV。
  4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之脫硫方法，其中，前述第1抽出工程，從前述反應槽的底部抽出前述漿體。
  5. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之脫硫方法，其中，前述第2抽出工程，抽出前述接觸工程中被導入前述含鹼劑液中之前的前述被處理氣體的一部分。
  6. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之脫硫方法，其中，前述接觸工程，在收容於前述反應槽內之前述含鹼劑液中將前述被處理氣體起泡，一面形成泡沫層一面令前述生成物析出， 　　前述第2抽出工程，從前述泡沫層抽出前述流體。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之脫硫方法，其中，更具備： 　　第3抽出工程，抽出漿體；及 　　副分離回收工程，從該第3抽出工程中抽出的前述漿體將固體成分予以分離回收； 　　前述第3抽出工程， 　　　將前述第1抽出工程中抽出的前述漿體的一部分，於前述混合工程中與前述流體混合之前予以抽出，或是， 　　　從前述反應槽內的第3區域，抽出含有前述含鹼劑液與前述析出的生成物之漿體。
  8. 一種脫硫裝置，其特徵為，具備： 　　反應槽，具有：被處理氣體導入路、及從該被處理氣體導入路供含有硫氧化物的被處理氣體導入之被處理氣體導入室、及設於該被處理氣體導入室的下側而供含鹼劑液收容於其下部之含鹼劑液室、及將被導入至前述被處理氣體導入室的前述被處理氣體供給至收容於前述含鹼劑液室的前述含鹼劑液中之氣體下降管；及 　　氧供給管，對收容於前述含鹼劑液室之前述含鹼劑液中供給氧；及 　　第1抽出部，從前述含鹼劑液室內的第1區域，抽出含有前述含鹼劑液與藉由前述硫氧化物和前述氧和前述含鹼劑液中的鹼劑之反應而產生的生成物當中析出至前述含鹼劑液中的析出物之漿體；及 　　第2抽出部，抽出前述反應槽內的、或是從和前述反應槽連通之第2區域，抽出能夠將前述漿體還原之流體；及 　　混合槽，將前述第1抽出部抽出的前述漿體、與前述第2抽出部中抽出的前述流體予以混合；及 　　分離回收部，從該混合槽中被混合的前述漿體與前述流體之混合物，將固體成分予以分離回收。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之脫硫裝置，其中，更具備： 　　測定部，測定前述混合物的氧化還原電位；及 　　控制部，基於該測定部測定出的氧化還原電位，來控制前述第1抽出部抽出的前述漿體的量、及前述第2抽出部抽出的前述流體的量之至少一方。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之脫硫裝置，其中，前述控制部，控制使得前述測定部測定之氧化還原電位成為200mV以下。
  11. 如申請專利範圍第8項至第10項中任一項所述之脫硫裝置，其中，前述第1抽出部，從前述含鹼劑液室的底部抽出前述漿體。
  12. 如申請專利範圍第8項至第10項中任一項所述之脫硫裝置，其中，前述流體為前述被處理氣體， 　　前述第2抽出部，從前述被處理氣體導入路或前述被處理氣體導入室抽出前述被處理氣體。
  13. 如申請專利範圍第8項至第10項中任一項所述之脫硫裝置，其中，前述流體，為泡沫流體，其構成形成於前述含鹼劑液室收容的前述含鹼劑液的液面上之泡沫層， 　　前述第2抽出部，從前述含鹼劑液室抽出前述泡沫流體。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之脫硫裝置，其中，更具備： 　　第3抽出部，抽出漿體；及 　　副分離回收部，從該第3抽出部抽出的前述漿體將固體成分予以分離回收； 　　前述第3抽出部， 　　　將前述第1抽出部抽出的前述漿體的一部分，於前述混合槽與前述反應槽之間予以抽出，或是， 　　　從前述反應槽內的第3區域，抽出含有前述含鹼劑液與前述析出的生成物之漿體。
TW107106762A 2017-03-09 2018-03-01 脫硫方法及脫硫裝置 TW201840353A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017044818A JP6837355B2 (ja) 2017-03-09 2017-03-09 脱硫方法および脱硫装置
JP2017-044818 2017-03-09

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201840353A true TW201840353A (zh) 2018-11-16

Family

ID=63447751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107106762A TW201840353A (zh) 2017-03-09 2018-03-01 脫硫方法及脫硫裝置

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6837355B2 (zh)
TW (1) TW201840353A (zh)
WO (1) WO2018163733A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109589782A (zh) * 2018-11-01 2019-04-09 韩燕� 一种车间热废气处理装置
CN113877416B (zh) * 2021-10-28 2024-07-23 浙江天翔环保设备有限公司 一种锅炉烟气脱硫脱硝装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6058230A (ja) * 1983-09-09 1985-04-04 Babcock Hitachi Kk 排煙脱硫方法および装置
JP4269379B2 (ja) * 1999-01-11 2009-05-27 千代田化工建設株式会社 湿式排煙脱硫方法および湿式排煙脱硫装置
JP3836048B2 (ja) * 2002-05-24 2006-10-18 三菱重工業株式会社 湿式排煙脱硫方法及びその装置
KR100651218B1 (ko) * 2005-12-13 2006-11-30 한국전력공사 단일단의 가스분산판을 갖는 배가스 처리장치
JP6262978B2 (ja) * 2013-10-03 2018-01-17 千代田化工建設株式会社 硫黄酸化物を含むガスの脱硫方法及び脱硫装置
WO2016158781A1 (ja) * 2015-03-27 2016-10-06 三菱日立パワーシステムズ株式会社 湿式排煙脱硫装置及び湿式排煙脱硫装置の運転方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018144011A (ja) 2018-09-20
JP6837355B2 (ja) 2021-03-03
WO2018163733A1 (ja) 2018-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI500445B (zh) A sulfur-containing gas-containing desulfurization method, and a desulfurization apparatus
JP6660953B2 (ja) 湿式排煙脱硫装置及び湿式排煙脱硫装置の運転方法
JP6462359B2 (ja) 亜硫酸ガス含有排ガスの脱硫方法および脱硫装置
CA2980923C (en) Degasser and method of stripping gas from a liquid
TW201840353A (zh) 脫硫方法及脫硫裝置
JPH0780243A (ja) 高濃度脱硫剤スラリによる脱硫方法と装置
JP4928786B2 (ja) 水銀固定化方法およびこれを用いた石膏生産方法、並びに水銀固定化装置およびこれを用いた排煙脱硫システム
US20180008929A1 (en) System for sulphur removal from a flue gas
JP7065161B2 (ja) 脱硫方法および脱硫装置
EP0945164B1 (en) Wet type exhaust gas desulfurization method
TW201503948A (zh) 海水脫硫裝置及海水脫硫系統
JPH08299754A (ja) 湿式排煙脱硫方法及び装置
JP3408571B2 (ja) 湿式排煙処理方法と湿式排煙処理装置
KR101626532B1 (ko) 석회석을 이용한 해수의 처리장치 및 처리방법
JP7164344B2 (ja) 酸化還元電位決定装置及びそれを備える脱硫装置、並びに酸化還元電位決定方法
JPH091160A (ja) 酸化性物質の除去方法及び湿式排煙脱硫装置
JP6985084B2 (ja) 硫黄酸化物を含むガスの脱硫方法および脱硫装置
JPH09271633A (ja) 湿式排煙脱硫方法
JPS631090B2 (zh)
JP2006263724A (ja) 燃焼排ガス浄化装置
JP2002126447A (ja) 湿式排煙脱硫方法
JP4192319B2 (ja) 湿式排煙脱硫方法および湿式排煙脱硫装置
JPH11309336A (ja) 排ガス脱硫設備
JP2007326024A (ja) 排ガス処理方法