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TW201829917A - 具有浮動式密封支架的流動室匣 - Google Patents

具有浮動式密封支架的流動室匣 Download PDF

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TW201829917A
TW201829917A TW106145323A TW106145323A TW201829917A TW 201829917 A TW201829917 A TW 201829917A TW 106145323 A TW106145323 A TW 106145323A TW 106145323 A TW106145323 A TW 106145323A TW 201829917 A TW201829917 A TW 201829917A
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microfluidic plate
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microfluidic
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TW106145323A
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大衛 凱沛萊恩
盧宜特 安東尼 約翰 迪
理查 安倫 凱莉
阿席斯 庫瑪
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美商伊路米納有限公司
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Abstract

本發明提供一種用於化學或生物分析系統之匣。該匣可包括一浮動微流體板，該浮動微流體板使用一或多個浮動支撐支架固持在該匣中，該一或多個浮動支撐支架併有可密封該微流體板上之流體端口之墊片。該等浮動支撐支架可包括可使該微流體板與該等密封件對準之定位特徵。

Description

具有浮動式密封支架的流動室匣 相關申請案之交互參照
本申請案主張於2017年3月24日申請之英國(GB)申請案1704769.7之優先權權益，且亦根據35 U.S.C.§119(e)主張於2017年1月3日申請之美國專利申請案第62/441,927號之優先權權益，該兩個申請案之全部內容特此以引用之方式併入本文中。
本發明係關於一種用於化學或生物分析系統之匣。
定序器，例如基因組定序器，諸如DNA定序器或RNA定序器，及其他生物或化學分析系統有時可能利用微流體流動室，諸如可藉由其中蝕刻有微流體流動通道之玻璃板提供之微流體流動室。此種流動室可製成層之層壓堆疊，其中流動通道蝕刻在一或多個層中。在大多數流動室中，可藉由穿過最外層中之一個或兩個以到達其內之流動通道之開口來進入流動室內之流動通道。
由於在樣本已經流過流動室之後難以對流動室進行淨化，因此通常在分析特定樣本之前更換流動室。因此，通常使用基於匣之方法來實施流動室，以促進流動室之便利更換。
在本說明書中描述之標的物之一或多個實施之細節在附圖及以 下描述中闡述。自描述、附圖及申請專利範圍，其他特徵、態樣及優點將變得顯而易見。請注意，下圖之相對尺寸可能並非按比例繪製，除非特別指出係按比例縮放之圖。
在一些實施中，提供一種設備，其包括：一框架；一微流體板，其具有在一第一側中之一或多個第一流體端口；及一第一支撐支架，其附接至該框架，使得該微流體板插置於該第一支撐支架與該框架之間，該第一支撐支架相對於該微流體板及該框架浮動，該微流體板及該框架相對於彼此浮動，且該第一支撐支架之一第一側面向該微流體板。在此種實施中，該第一支撐支架可包括一第一定位特徵，該第一定位特徵自該第一支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之一第一邊緣，該第一支撐支架亦可包括一第二定位特徵，該第二定位特徵自該第一支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之一第二邊緣。該第一支撐支架可包括具有至少一個密封件之一第一墊片，該至少一個密封件自該第一支撐支架之該第一側凸出且抵靠該微流體板之該第一側而定位，且當該第一墊片之該至少一個密封件與該一或多個第一流體端口中之一對應至少一個第一流體端口對準時，該第一支撐支架之該第一定位特徵與該第一支撐支架之該第二定位特徵可分別接觸該微流體板之該第一邊緣與該第二邊緣。
在一些此種實施中，該微流體板可具有與該第一側相對之一第二側，該框架可具有一第一重疊部分，當沿著與該微流體板之一主表面垂直之一方向檢視時，該第一重疊部分與該微流體板之包括該第二邊緣之一第一部分重疊，該第一重疊部分可靠近該微流體板之該第二側，該第一重疊部分可具有在平行於該第二邊緣之一方向上具有一第一狹槽寬度之一第一夾臂狹槽，該微流體板之該第二側可經由該第一夾臂狹槽例如被裸眼看到，該設備可或經建構以與一分析裝置之一接收器介接，該接收器具有一第一夾臂，該第一夾臂可自一鬆開位置移動至一夾持位置，在該鬆開位置中，該第一夾臂不按壓在該微流體 板之該第二側上且不與該第一夾臂狹槽接合，在該夾持位置中，該第一夾臂按壓在該微流體板之該第二側上且與該第一夾臂狹槽接合，且當該第一夾臂處於該夾持位置時，該第一狹槽寬度可大於該第一夾臂在平行於該第二邊緣之一方向上且位於該第一夾臂狹槽內之一寬度。
在該設備之一些此種實施中，該微流體板可具有與該第一邊緣相對之一第三邊緣及與該第二邊緣相對之一第四邊緣，該框架可具有一第二重疊部分，當沿著垂直於該微流體板之該主表面之該方向檢視時，該第二重疊部分與該微流體板之包括該第四邊緣之一第二部分重疊，該第二重疊部分可靠近該微流體板之該第二側，且該第二重疊部分可具有在平行於該第四邊緣之一方向上具有一第二狹槽寬度之一第二夾臂狹槽，該微流體板之該第二側可經由該第二夾臂狹槽看到，該設備將或經建構以與之介接的該分析裝置之該接收器可具有一第二夾臂，該第二夾臂可自一鬆開位置移動至一夾持位置，在該鬆開位置中，該第二夾臂不按壓在該微流體板之該第二側上且不與該第二夾臂狹槽接合，在該夾持位置中，該第二夾臂按壓在該微流體板之該第二側上且與該第二夾臂狹槽接合，且當該第二夾臂處於該夾持位置時，該第二狹槽寬度可大於該第二夾臂在平行於該第四邊緣之一方向上且位於該第二夾臂狹槽內之一寬度。
在該設備之一些實施中，在該微流體板中可存在兩個第一流體端口，且該第一墊片可包括兩個密封件，每一密封件具有一通孔，該通孔穿過該第一支撐支架且當該第一支撐支架之該第一定位特徵與該第一支撐支架之該第二定位特徵分別接觸該微流體板之該第一邊緣與該第二邊緣時與該等第一流體端口中之一不同第一流體端口對準。
在一些此種實施中，該第一墊片可包括一支撐腳，該支撐腳自該第一支撐支架之該第一側凸出且抵靠該微流體板而定位，一第一軸線可界定於該第一墊片之該兩個密封件之中心點之間，該第一墊片之該支撐腳可沿垂直於 該第一軸線且平行於該微流體板之一第二軸線自該第一軸線偏移一第一量，且該第一墊片之該支撐腳可具有一上表面，該上表面接觸該微流體板且與亦與該微流體板接觸之該第一墊片之該兩個密封件之上表面共面。在該設備之一些其他此種實施中，該第一墊片之該支撐腳可不充當一密封件。
在該設備之一些實施中，該第一墊片可共同模製至該第一支撐支架中。
在該設備之一些實施中，該第一支撐支架可具有背對該第一支撐支架之該第一側之一第二側，且至少兩個第一流體端口定位特徵可自該第一支撐支架之該第二側突出，每一第一流體端口定位特徵與或經建構以與一分析裝置之一第一流體端口區塊上之一對應流體端口定位孔接合以或經建構以接收該設備。
在該設備之一些實施中，該框架可包括兩個相對之第一固定夾，該等第一固定夾具有面向彼此之相對表面，該第一支撐支架可定位於該兩個相對之第一固定夾之間，該等第一固定夾之該等相對表面可隔開一第一距離，且該第一支撐支架之在該等第一固定夾之該等相對表面之間的部分可在橫跨該等第一固定夾之該等相對表面之間的一方向上具有小於該第一距離之一第一寬度。
在該設備之一些實施中，該第一支撐支架可包括一第三定位特徵，該第三定位特徵自該第一支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之與該微流體板之該第一邊緣相對之一第三邊緣，且該微流體板可插置於該第一支撐支架之該第一定位特徵與該第一支撐支架之該第三定位特徵之間。
在該設備之一些實施中，該微流體板可為矩形，且該微流體板之該第一邊緣可與該微流體板之該第二邊緣正交，且該微流體板之該第二邊緣可與該微流體板之該第三邊緣正交。
在該設備之一些實施中，該框架可具有一大體矩形開口，該微流體板可位於該大體矩形開口內，該大體矩形開口可具有面向彼此之相對側壁，且該第一支撐支架之該第一定位特徵可插置於該大體矩形開口之該等相對側壁中之一者與該微流體板之該第一邊緣之間，且該第一支撐支架之該第三定位特徵可插置於該大體矩形開口之該等相對側壁中之另一相對側壁與該微流體板之該第三邊緣之間。
在該設備之一些實施中，該大體矩形開口可在平行於該第二邊緣之一方向上具有一開口寬度，一第一定位特徵寬度可存在於該第一支撐支架之該第一定位特徵與該第一支撐支架之該第三定位特徵之該等表面的最遠部分之間，該等最遠部分面向該大體矩形開口之該等相對側壁，且該開口寬度減去該第一定位特徵寬度可小於該第一距離減去該第一寬度。
在一些實施中，該微流體板可進一步包括在該第一側上之一或多個第二流體端口，且該設備可進一步包括：一第二支撐支架，其附連至該框架，使得該微流體板插置於該第二支撐支架與該框架之間，該第二支撐支架相對於該微流體板及該框架浮動，該微流體板與該框架相對於彼此浮動，且該第二支撐支架之一第一側面向該微流體板。在此種實施中，該第二支撐支架可包括一第一定位特徵，該第一定位特徵自該第二支撐支架之該第一側突出且接近該微流體板之該第一邊緣，該第二支撐支架可包括一第二定位特徵，該第二定位特徵自該第二支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之與該微流體板之該第二邊緣相對之一第四邊緣，該微流體板可插置於該第一支撐支架之該第二定位特徵與該第二支撐支架之該第二定位特徵之間，該第二支撐支架可包括具有至少一個密封件之一第二墊片，該至少一個密封件自該第二支撐支架之該第一側凸出且抵靠該微流體板而定位，且當該第二墊片之該至少一個密封件與該一或多個第二流體端口中之一對應至少一個第二流體端口對準時，該第二支撐支架 之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第二定位特徵可分別接觸該微流體板之該第一邊緣與該第四邊緣。
在一些此種實施中，該框架可包括具有面向彼此之相對表面之兩個相對之第二固定夾，該第二支撐支架可定位於該兩個相對之第二固定夾之間，該等第二固定夾之該等相對表面可隔開一第二距離，且該第二支撐支架之在該等第二固定夾之該等相對表面之間的部分可在橫跨該等第二固定夾之該等相對表面之間的一方向上具有小於該第二距離之一第二寬度。
在一些其他此種實施中，該第二支撐支架可包括自該第二支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之該第三邊緣之一第三定位特徵，且該微流體板可插置於該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第三定位特徵之間。
在一些額外此種實施中，該框架可具有一大體矩形開口，該微流體板可具有與該第一邊緣相對之一第三邊緣，該微流體板可位於該大體矩形開口內，該大體矩形開口可具有相對側壁，該等相對側壁面向彼此且在平行於該第二邊緣之一方向上界定一開口寬度，該第二支撐支架之該第一定位特徵可插置於該大體矩形開口之該等相對側壁中之一者與該微流體板之該第一邊緣之間，且該第二支撐支架之該第三定位特徵可插置於該大體矩形開口之該等相對側壁中之另一相對側壁與該微流體板之該第三邊緣之間，該微流體板可在橫跨該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第三定位特徵之間的一方向上具有一板寬度，一第二定位特徵寬度可存在於該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第三定位特徵之該等表面的最遠部分之間，該等最遠部分面向該大體矩形開口之該等相對側壁，且該開口寬度減去該第二定位特徵寬度可小於該第二距離減去該第二寬度。
在一些實施中，在該微流體板中可存在兩個第二流體端口，且該 第二墊片可包括兩個密封件，每一密封件具有一通孔，該通孔穿過該第二支撐支架且當該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第二定位特徵分別接觸該微流體板之該第一邊緣與該第四邊緣時與該等第二流體端口中之一不同第二流體端口對準。
在一些實施中，該第二墊片可包括一支撐腳，該支撐腳自該第二支撐支架之該第一側凸出且抵靠該微流體板而定位，一第三軸線可界定於該第二墊片之該兩個密封件之中心點之間，該第二墊片之該支撐腳可沿著垂直於該第三軸線且平行於該微流體板之一第四軸線自該第三軸線偏移一第二量，且該第二墊片之該支撐腳可具有一上表面，該上表面接觸該微流體板且可與該第二墊片之亦與該微流體板接觸之該兩個密封體之上表面共面。在一些此種實施中，該第二墊片之該支撐腳可不充當一密封件。在一些替代或額外此種實施中，該第二墊片可共同模製至該第二支撐支架中。
在一些實施中，該第二支撐支架可具有背對該第二支撐支架之該第一側之一第二側，且至少兩個第二流體端口定位特徵可自該第一支撐支架之該第二側突出，每一第一流體端口定位特徵與或經建構以與一分析裝置之一第一流體端口區塊上之一對應流體端口定位孔接合以或經建構以接收該設備。
參考附圖及以下詳細描述進一步詳細描述此等及其他實施。自描述、附圖及申請專利範圍，其他特徵，態樣及優點將變得顯而易見。請注意，下圖中之相對尺寸可能並非按比例繪製。
本文揭示之各種實施在附圖之各圖中以實例而非限制之方式說明，其中相同附圖標記指代類似元件。
圖1描繪實例性流動室匣之分解等角視圖。
圖2描繪圖1之實例性流動室匣之分解下側等角視圖。
圖3描繪處於未分解狀態之圖1之實例性流動室匣之前等角視圖。
圖4描繪處於未分解狀態之圖1之實例性流動室匣之後等角視圖。
圖5及圖6為說明當密封件插置於其間之表面橫向平移時密封件可如何滾動之圖。
圖7及圖8為說明具有支撐腳之墊片可如何防止圖5及圖6中所說明之滾動行為之圖。
圖9描繪圖1之實例性流動室匣之浮動支撐支架之等角視圖。
圖10描繪圖1之實例性流動室匣之浮動支撐支架之下側等角視圖。
圖11描繪用於圖1之實例性流動室匣之實例性接收器之等角視圖。
圖12描繪圖11之實例性接收器及圖1之實例性流動室匣之分解等角視圖。
圖13描繪圖1之實例性流動室匣之平面圖。
圖14至圖17描繪在實例性流動室匣之夾持期間可能發生之組件對準之各個階段。
圖1至圖4及圖9至圖13在每一圖內係按比例繪製，但所描繪之實施方式之比例可能在圖之間變化。
本發明人已構想用於流動室匣之新設計，諸如可用於利用含於玻璃板結構內之微流體流動結構之化學及生物分析系統中之流動室匣。此等概念在本文中關於下圖進行論述，但應理解，此等概念可在除了所示之特定實例之外的匣設計中實施，且此種其他實施仍將可能落入申請專利範圍之範圍內。
圖1描繪實例性流動室匣之分解等角視圖。在圖1中，流動室匣100 具有框架102，該框架可例如由模製塑膠或其他耐用材料製成。框架可提供用於支撐玻璃板(或其他材料之板，例如丙烯酸或其他塑膠)之支撐結構，諸如包括微流體流動結構之玻璃板114；此板在本文亦可被稱為微流體板。在此實例中，具有第一邊緣122、第二邊緣124、第三邊緣126及第四邊緣128之玻璃板包括四組多個平行微流體流動通道，該等微流體流動通道沿平行於玻璃板長軸之方向，例如沿著平行於第一邊緣122及/或第三邊緣126之軸線，延伸。在可應用之範圍內，術語「第一」、「第二」、「第三」等(或其他序數指示符)僅用於說明由此等術語描述之各個對象作為單獨之實體，且不意味著暗示時間順序，除非在本文中另外明確說明。第一邊緣122及第三邊緣126在一些實施中可大致正交於第二邊緣124及第四邊緣128，但在其他實施中，可為其他定向。如在描繪圖1之實例性流動室匣之分解下側等角視圖的圖2中可看到，每一組微流體結構可終止於一或多個第一流體端口118及一或多個第二流體端口120。第一流體端口118及第二流體端口120可位於玻璃板114之第一側116中，但其他實施可僅在第一側116上包括第一流體端口118或第二流體端口120。框架102可具有大小設計為接收玻璃板114之大體矩形開口(或另一形狀之開口)104；矩形開口104可包括相對側壁106，當匣完全組裝時，該等相對側壁緊鄰玻璃板114之第一邊緣122及第三邊緣126。如本文所使用，術語「大體矩形」用於指具有總體矩形形狀之開口，但在總體形狀中可存在各種特徵或不連續性，諸如沿著所描繪矩形開口之一個側壁之半圓形凹口或沿著矩形開口104之短邊緣之夾臂狹槽。相對側壁106可隔開開口寬度195以允許第一支撐支架132及第二支撐支架160，且因此允許玻璃板114，在至少一些移動範圍(例如，約1mm至約2mm或更小)內在矩形開口104內浮動。
玻璃板114可藉由使用一或多個支撐支架(例如第一支撐支架132及第二支撐支架160)而固持在匣100中之適當位置。在此論述中，僅詳細論述 第一支撐支架132之特徵，但自圖中容易明白，可或可不與第一支撐支架132相同之第二支撐支架160至少在結構上類似於第一支撐支架132，且可以類似方式操作。
第一支撐支架132可具有第一側134(見圖1)及第二側136(見圖2)。第一側134可面向玻璃板114且可具有第一定位特徵138，例如模製銷或柱，其遠離第一側134延伸且至少足夠長，以使得第一定位特徵138之面向玻璃板114之側在匣完全組裝時可接觸玻璃板114。第一定位特徵138可定位在第一支撐支架132上，使得當匣完全組裝時，第一定位特徵138接近或接觸玻璃板114之第一邊緣122。第一支撐支架132亦可具有一或多個第二定位特徵140(圖1中亦說明額外第二定位特徵140')，其可與第一定位特徵138類似，惟每一第二定位特徵140可定位於第一支撐支架132上，使得第二定位特徵140接近玻璃板114之第二邊緣124或實體接觸玻璃板114之第二邊緣124除外。第一支撐支架132亦可包括第三定位特徵142，其可定位在第一支撐支架132之與第一定位特徵138相對之側上。若使用，則第一定位特徵138及第三定位特徵142可藉由第一浮動間隙156彼此分開，該第一浮動間隙之大小可設定為稍大於板寬度130，從而允許玻璃板114「浮動」在第一定位特徵138及第三定位特徵142之範圍內。第一定位特徵138及第三定位特徵142之最遠部分可類似地界定第一定位特徵寬度157。開口寬度195可寬於第一定位特徵寬度157，使得第一支撐支架132可在矩形開口104的相對側壁106之間橫向浮動。
第一支撐支架亦可包括一或多個第一墊片144，其可包括一或多個密封件146(在此實例中，每一第一墊片144包括兩個密封件146，每一密封件經定位以與不同之第一流體端口118介接)。第一墊片144可例如可插入至第一支撐支架132中，或在一些實施中可與第一支撐支架132共同模製(在後一種情況下，第一墊片144與第一支撐支架132實際上可被視為單一組件)。密封件可自第 一支撐支架之第一側134及可選地第二側136凸出，使得如在本文中稍後論述，其可分別壓抵在玻璃板114與流體端口區塊上。在一些實施中，例如，若當匣安裝在分析裝置中時面向第二側136之流體端口區塊具有可與密封件接合之凸起凸台，則該密封件可不在第一支撐支架之第二側136上凸出。
第一墊片144亦可包括支撐腳148，該支撐腳可經提供以當第一支撐支架132在平行於玻璃板114之主表面之方向上平移同時密封件146與玻璃板114接觸時防止或減輕第一墊片144圍繞穿過密封件146之中心的軸線之「滾動」。為此，支撐腳148可自橫跨第一墊片144之密封件146之中心之間的第一軸線150沿著垂直於第一軸線150之第二軸線152偏移一定量，以便提供力矩臂來抵抗此種滾動行為。支撐腳148及密封件146全部可設計成具有接觸表面，當使玻璃板114與第一墊片144接觸時，該等表面可一致地接觸玻璃板114。此等接觸表面可全部彼此平行，以確保當支撐腳148之接觸表面與玻璃板114接觸時，密封件146之接觸表面亦與玻璃板114良好地接觸，即不具有任何錯位間隙。在所說明之實例性匣中，每一支撐支架包括兩個第一墊片，但若需要減少混淆，可稱之為第二墊片、第三墊片等。亦應理解，雖然支撐腳148看起來類似於密封件146，但實際上可能根本不提供任何「密封」特性-其可僅出於防止或減輕「滾動」之目的而存在。
圖5及圖6為說明當密封件插置於其間之表面橫向平移時密封件可如何滾動之圖。在圖5中，玻璃板514自流體端口區塊564偏移，且具有墊片544之支撐支架532插置於其間。墊片544具有密封件546，其與流體端口區塊564中之流體端口518'對準，但與玻璃板514中之流體端口518略微錯位。如圖6中可見，當玻璃板514橫向滑動以使得流體端口518與密封件546對準時，密封件546與玻璃板514/流體端口區塊564之間的摩擦可能會導致密封件546不滑動相稱之距離，結果，墊片544及支撐支架532可能稍微傾斜或滾動，從而導致在密封件546 與玻璃板514/流體端口區塊564之間出現間隙594。當然，此係不期望的，因為其會引起洩漏。
圖7及圖8為說明具有支撐腳之墊片可如何防止圖5及圖6中所示之滾動行為之圖。可看出，墊片544已延伸至右側，且支撐腳748已添加至墊片544。當玻璃板514向左滑動時，如圖6所示，支撐腳748對由密封件546與玻璃板514/流體端口區塊564之間的摩擦引起之任何潛在滾動力矩引入反作用力矩。此舉防止間隙594之形成，且保持密封件546與其密封之表面的良好接觸。
第一支撐支架132可卡入兩個相對之第一固定夾108(在圖2中僅一個可見，因為另一個被框架102之其他特徵遮蔽-然而，在框架102之相對端上可見類似地建構但處於不同位置之第二固定夾)。第一固定夾108可具有相對表面110，該等相對表面彼此分開第一距離112。第一距離可大於第一支撐支架132之第一寬度158，由此允許第一支撐支架132在卡入第一固定夾108中時橫向浮動一定量。在一些實施中，第一支撐支架132與相對側壁106之間的浮動量(即，開口寬度195減去第一定位特徵寬度157)可小於第一支撐支架132與固定夾108之間的浮動量，即第一距離112減去第一寬度158。第二支撐支架160可存在類似之關係。
圖3描繪處於未分解/組裝狀態之圖1之實例性流動室匣之前等角視圖。圖4描繪處於未分解/組裝狀態之圖1之實例性流動室匣之後等角視圖。可看出，玻璃板114藉由第一支撐支架132及第二支撐支架160被固持在框架102內之適當位置，該第一支撐支架及該第二支撐支架又分別藉由第一固定夾108及第二固定夾固持在適當位置。框架可具有與玻璃板114之對應之第一部分197及第二部分197'(見圖1)重疊之第一重疊部分196及第二重疊部分196'(見圖2)。第一部分197可包括第二邊緣124，且第二部分197'可包括第四邊緣128。重疊部分196/196'可防止玻璃板114自框架102之前面掉出，例如，玻璃板114可夾在重疊部 分196/196'與第一/第二支撐支架132/160之間。然而，玻璃板114仍然可在一定程度上在框架內自由地浮動。
圖9描繪圖1之實例性流動室匣100之第一支撐支架132之等角視圖。圖10描繪圖1之實例性流動室匣100之第一支撐支架132之下側等角視圖。除了第一定位特徵138、第二定位特徵140及可能之第三定位特徵142之外，第一支撐支架132亦可包括在第一支撐支架132之第二側136上之第一流體端口定位特徵154(第二支撐支架160亦可具有對應之第二流體端口定位特徵)。可看出，第一支撐支架具有延伸超過第一寬度158之部分，例如位於第一支撐支架132之四個最外拐角處之小「齒」。此等齒可與第一固定夾108接合，且可允許第一支撐支架132亦沿平行於第一邊緣122之軸線浮動某一受限量。
在此實例性匣中，玻璃板114可相對於支撐支架132及160浮動，且支撐支架132及160又可相對於框架102浮動。因此，在該實例性匣中存在兩層浮動組件。此等不同層浮動組件以及所提供之各種定位特徵之組合允許玻璃板114與密封件146彼此且與位於接收匣100之設備上之浮動歧管區塊上之端口適當地對準。
圖11描繪用於圖1之實例性流動室匣之實例性接收器之等角視圖。如圖11所示，可提供接收器162；該接收器可為利用匣100之較大分析裝置之子組件。接收器162可包括卡盤176，在分析操作期間，玻璃板114可例如藉由真空吸引至該卡盤上。在此實例中，接收器162可包括一對第一流體端口區塊164及一對相對之第二流體端口區塊166。第一流體端口區塊164及第二流體端口區塊166可經建構以在至少平行於卡盤176之上表面的方向上(且可能亦在垂直於卡盤176之上表面之方向上)稍微浮動。接收器162之末端可包括例如可用於將玻璃板114夾持在卡盤176上之夾持機構。此種夾持機構可例如具有夾臂172，該等夾臂可向下旋轉且在安裝匣100時接觸匣100之玻璃板114之上表面。接收器 162亦可包括定位特徵，該等定位特徵定位成當安裝匣100時與支撐支架及匣100之玻璃板114接合。例如，橫向定位銷168可被置放成使得當玻璃板114沿卡盤176之短軸橫向平移時，玻璃板114接觸橫向定位銷168，且縱向定位銷170可定位成例如當縱向定位銷170中之一者朝向其他縱向定位銷170移動時，接觸匣100之支撐支架。在此實例中，左側之縱向定位銷170相對於接收器位置固定，而另一縱向定位銷170經建構以沿著與卡盤176之長軸平行之軸線滑動。滑動之縱向定位銷170可被彈出以偏向另一縱向定位銷170。下文參照圖12更詳細地解釋各種定位特徵。
圖12描繪圖11之實例性接收器及圖1之實例性流動室匣之分解等角視圖。在此實例中，匣100已經以分解圖說明，但形成匣之各種組件將根據圖3在匣100被置放在接收器162中之前完全組裝。
當匣100位於接收器162之頂部上時，夾臂172可向下旋轉且與玻璃板114之頂側接合。夾臂172亦可在其樞轉時沿其旋轉軸朝向橫向定位銷168平移，使得夾臂172之各側與矩形凹口或夾臂狹槽198之各側接合，從而導致整個框架102亦沿著相同之軸線平移。例如，夾臂狹槽198之大小可例如在平行於第二邊緣124之方向上具有夾臂寬度173，該夾臂寬度小於夾臂狹槽198在相同方向上之寬度，以允許夾臂172穿過夾臂狹槽198自由地擺動，且在夾臂172之橫向平移期間，壓抵夾臂狹槽198之背對橫向定位銷168之側，由此將框架102推向橫向定位銷168。在此橫向滑動運動期間，框架102將(若尚未處於此種狀態)在沿著相對側壁106中之一者定位的定位特徵接觸點182處與第一支撐支架132上之第一定位特徵138(及第二支撐支架160上之相應之第一定位特徵)接觸。隨著框架102繼續朝向橫向定位銷168平移，玻璃板114將最終與兩個橫向定位銷168及第一定位特徵138(見沿著玻璃板114之第一邊緣122之橫向定位銷接觸點184及定位特徵接觸點182)。最終，第一定位組件138將被夾在框架102與玻璃板114 之間(其被壓抵橫向定位銷168)，由此將第一支撐支架132及第二支撐支架160牢固地定位在橫向方向(即垂直於卡盤176之長軸)上之空間中。此使得第一支撐支架132及第二支撐支架160上之密封件分別與玻璃板114上之對應之第一流體端口118及對應之第二流體端口120對準。
在框架102朝向橫向定位銷168平移之後或同時，可使縱向定位銷170朝向彼此移動(一個或兩個可移動)，由此接觸第一支撐支架132及第二支撐支架160之面向的邊緣及朝向彼此推動第一支撐支架132與第二支撐支架160。當第一支撐支架132與第二支撐支架160朝向彼此移動時，玻璃板114可與第一支撐支架132及第二支撐支架160上之第二定位特徵140(及140'，若存在)接觸。第一支撐支架132及第二支撐支架160因此可與玻璃板114且因此與第一流體端口118及第二流體端口120對準。
在此種板對準之後或期間，流體端口區塊164、166可被升高，使得第一流體端口定位特徵154(及第二支撐支架160上之對應第二流體端口定位特徵)可被插入至第一流體端口區塊164及第二流體端口區塊166上之相應對準孔188中。當流體端口區塊升高時，第一流體端口定位特徵154及第二流體端口定位特徵可與對應之對準孔188接合，且迫使第一流體端口區塊164及第二流體端口區塊166分別與第一支撐支架132及第二支撐支架160對準。此又確保相應支撐支架132、160上之對應密封件146分別與第一流體端口區塊164及第二流體端口區塊166上之流體端口對準。
因此，匣100可具有與匣100中之不同組定位特徵/銷接合且位於接收器162上且被移動至精確對準之位置中之多層浮動組件，該等精確對準之位置使得流體端口、密封件及端口區塊端口對齊，例如使得流體端口、密封件及端口區塊端口之中心線在一些實施中位於彼此之小於約0.05mm內，由此確保高品質之液密密封。同時，匣之一些實施的特徵可在於浮動支架中之額外特徵(例 如，支撐腳)，其可防止密封件之滾動行為，由此確保任何密封連接之完整性。一些浮動組件(例如，支撐支架)亦可用於以防止由於玻璃板與匣框架之間的熱膨脹不匹配、匣架之輕微彎曲等等而對玻璃板施加應力之方式固定其他浮動組件，例如玻璃板。
參考圖13可更好地理解匣100中之各種組件之浮動行為，圖13描繪圖1之實例性流動室匣之平面圖。為了參考之目的，橫向定位銷168展示為虛線圓形，且夾臂172之輪廓展示為虛線圓角矩形，但所示之其餘組件為匣100之一部分。夾臂172以「接合」位置(黑色線體)及非接合位置(灰色線體)展示，在「接合」位置中，夾臂接合且壓抵夾臂狹槽198之各側(見圖2)，該非接合位置可為其在橫向平移之前的位置。玻璃板114可相對於分別由第一定位特徵138及第二定位特徵142界定之框架102橫向移動一定量。第一支撐支架及第二支撐支架可能夠橫向(及縱向地)移動較小量，如由支架浮動包絡180所示。例如，第一支撐支架及第二支撐支架可能夠相對於框架橫向浮動距離X(其可為開口寬度195減去第一定位特徵寬度157)，且玻璃板114可能夠相對於第一支撐支架132及第二支撐支架160橫向浮動距離Y，該距離Y可為第一浮動間隙156減去板寬度130。在一些此種實施中，Y可小於X，然而，玻璃板114可相對於框架102比第一支撐支架132及第二支撐支架160浮動更大量，因為玻璃板114相對於框架102具有總體浮動X+Y。此可允許對玻璃板之定位進行相當大之調整。
在圖14至圖17中評述實例性對準序列，圖14至圖17描繪在夾持實例性流動室匣期間可能發生之組件對準之各個階段。在圖14中，流動室匣之框架1402(以實線展示)下降至具有兩個浮動流體端口區塊1464(以虛線展示)之接收器上。可看出，由於兩者皆為「浮動的」，所以流體端口區塊1464略微歪斜。在圖14中亦可看到支撐支架1432(虛線)及玻璃板1414(點劃線)之輪廓。在玻璃板1414上存在四個流體端口1418之個例。可看出，在每一流體端口1418 處，存在屬支撐支架(虛線圓圈)及流體端口區塊(虛線)之對應特徵。此等對應於例如密封件146中之孔及流體端口區塊1464中之端口。顯然，在每一位置處在此等三個單獨之流體流動特徵之間存在一些對準，但對準與理想情況相距甚遠，從而導致在每一位置處之不同組態之孔可能導致流體流動不平衡。
在圖15中，支撐支架1432已經與流體端口區塊1464完全接合，使得流體端口定位特徵1454(見圖14)完全插入對準孔1488(亦見圖14)中。例如，對準孔1488可為埋頭的，且流體端口定位特徵1454可具有圓錐形或圓形尖端，使得即使有些錯位，其亦可彼此接合；當流體端口定位特徵1454更完全地與對準孔1488接合時，埋頭部分可變窄且迫使流體端口定位特徵1454朝向對準孔1488之中心移動。可看出，對準孔1488中用於給定流體端口區塊1464之一個對準孔可為圓形的，由此提供X及Y位置約束，而另一個可為長圓形的以提供例如僅沿著Y軸之單一約束度，因為此可足以在一個實施中防止圍繞另一對準孔1488旋轉。應認識到，對準孔1488及流體端口定位特徵1454亦可調換，即對準孔1488可位於支撐支架1432上，且流體端口定位特徵1454可位於流體端口區塊1464上。
返回圖15，匣與流體支撐區塊1464之介接使得流體端口區塊1464彼此且與支撐支架1432對準。因此，流體端口區塊1464上之端口現在精確地與支撐支架1432上之孔(例如密封件)對準。然而，支撐支架1432上之孔/密封件尚未與玻璃板上之流體端口1418對準。
在圖16中，玻璃板1414已向上移動以接觸支撐支架1432上之第二定位特徵1440；玻璃板1414之此接觸及向上移動使得支撐支架1432向上移動，直至其接觸縱向定位銷1470，從而牢固地將支撐支架1432鎖定在豎直方向上之適當位置(相對於圖之定向；實際上此更準確地稱為縱向)-此使玻璃板1414中之流體端口1418與支撐支架1432中之對應孔/密封件在豎直方向上對準。
最後，在圖17中，框架1402可被推向橫向定位銷1468。此使得框架1402之內側邊緣接觸第一定位特徵1438，從而導致支撐支架1432又朝向橫向定位銷1468移動，直至第一定位特徵1438亦接觸玻璃板1414，且推動玻璃板1414之相對側與橫向定位銷1468接觸。可看出，第一流體端口1418及相應密封孔及流體端口區塊孔完全對準，由此確保一致大小之流量孔徑及適當之密封對準。
在整個本發明(包括申請專利範圍)中使用之術語「約」用於描述及說明小波動，諸如由處理中之變化引起之小波動。例如，除非在特定上下文中另外指定，否則其可指小於或等於指定值或與指定關係等效之值的±5%，諸如小於或等於±2%，諸如小於或等於±1%，諸如小於或等於±0.5%，諸如小於或等於±0.2%，諸如小於或等於±0.1%，諸如小於或等於±0.05%。
如前所述，在本發明及申請專利範圍中對順序指示符(例如，(a)、(b)、(c)等等)之任何使用應理解為不傳達任何特定次序或順序，除非明確指出此種次序或順序。例如，若存在標有(i)、(ii)及(iii)之三個步驟，則應理解，除非另有說明，否則此等步驟可以任何次序執行(或甚至同時進行，若不另外限制)。例如，若步驟(ii)涉及處置在步驟(i)中產生之元件，則步驟(ii)可被視為在步驟(i)之後之某個點處發生。類似地，若步驟(i)涉及處置在步驟(ii)中產生之元件，則應理解相反次序。
亦應理解，使用「將」(例如，「該設備將與分析裝置之接收器介接」)可用諸如「經建構以」之語言來替換，例如「該設備經建構以與分析裝置之接收器介接」，等等。
應理解，預期前述概念之所有組合(限制條件為此等概念不相互不一致)為本文揭示之發明標的物之一部分。特定言之，預期出現在本發明結尾處之要求保護之標的物之所有組合為本文揭示之發明標的物之一部分。為了簡潔起見，此等置換及組合中之許多將不在本文中單獨論述及/或說明。

Claims (22)

  1. 一種設備，其包含：一框架；一微流體板，其具有在一第一側中之一或多個第一流體端口；及一第一支撐支架，其附接至該框架，使得：該微流體板經插置於該第一支撐支架與該框架之間，該第一支撐支架相對於該微流體板及該框架浮動，該微流體板及該框架相對於彼此浮動，且該第一支撐支架之一第一側面向該微流體板，其中：該第一支撐支架包括一第一定位特徵，該第一定位特徵自該第一支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之一第一邊緣，該第一支撐支架包括一第二定位特徵，該第二定位特徵自該第一支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之一第二邊緣，該第一支撐支架包括具有至少一個密封件之一第一墊片，該至少一個密封件自該第一支撐支架之該第一側凸出且抵靠該微流體板之該第一側而定位，且當該第一墊片之該至少一個密封件與該一或多個第一流體端口中之一對應的至少一個第一流體端口對準時，該第一支撐支架之該第一定位特徵與該第一支撐支架之該第二定位特徵分別接觸該微流體板之該第一邊緣與該第二邊緣。
  2. 如申請專利範圍第1項之設備，其中：該微流體板具有與該第一側相對之一第二側，該框架具有一第一重疊部分，當沿著與該微流體板之一主表面垂直之一方向檢視時，該第一重疊部分與該微流體板之包括該第二邊緣之一第一部分重疊，該第一重疊部分靠近該微流體板之該第二側，該第一重疊部分具有在平行於該第二邊緣之一方向上具有一第一狹槽寬度 之一第一夾臂狹槽，該微流體板之該第二側可經由該第一夾臂狹槽看到，該設備將與一分析裝置之一接收器介接，該接收器具有一第一夾臂，該第一夾臂可自一鬆開位置移動至一夾持位置，在該鬆開位置中，該第一夾臂不按壓在該微流體板之該第二側上且不與該第一夾臂狹槽接合，在該夾持位置中，該第一夾臂按壓在該微流體板之該第二側上且與該第一夾臂狹槽接合，且當該第一夾臂處於該夾持位置時，該第一狹槽寬度大於該第一夾臂在平行於該第二邊緣之一方向上且位於該第一夾臂狹槽內之一寬度。
  3. 如申請專利範圍第2項之設備，其中：該微流體板具有與該第一邊緣相對之一第三邊緣及與該第二邊緣相對之一第四邊緣，該框架具有一第二重疊部分，當沿著垂直於該微流體板之該主表面之該方向檢視時，該第二重疊部分與該微流體板之包括該第四邊緣之一第二部分重疊，該第二重疊部分靠近該微流體板之該第二側，且該第二重疊部分具有在平行於該第四邊緣之一方向上具有一第二狹槽寬度之一第二夾臂狹槽，該微流體板之該第二側可經由該第二夾臂狹槽看到，將於其內介接該設備的該分析裝置之該接收器具有一第二夾臂，該第二夾臂可自一鬆開位置移動至一夾持位置，在該鬆開位置中，該第二夾臂不按壓在該微流體板之該第二側上且不與該第二夾臂狹槽接合，在該夾持位置中，該第二夾臂按壓在該微流體板之該第二側上且與該第二夾臂狹槽接合，且當該第二夾臂處於該夾持位置時，該第二狹槽寬度大於該第二夾臂在平行於該第四邊緣之一方向上且位於該第二夾臂狹槽內之一寬度。
  4. 如申請專利範圍第1項之設備，其中： 在該微流體板中存在兩個第一流體端口，且該第一墊片包括兩個密封件，每一密封件具有一通孔，該通孔穿過該第一支撐支架且當該第一支撐支架之該第一定位特徵與該第一支撐支架之該第二定位特徵分別接觸該微流體板之該第一邊緣與該第二邊緣時，與該等第一流體端口中之一不同的第一流體端口對準。
  5. 如申請專利範圍第4項之設備，其中：該第一墊片包括一支撐腳，該支撐腳自該第一支撐支架之該第一側凸出且抵靠該微流體板而定位，一第一軸線經界定於該第一墊片之該兩個密封件之中心點之間，該第一墊片之該支撐腳沿垂直於該第一軸線且平行於該微流體板之一第二軸線自該第一軸線偏移一第一量，且該第一墊片之該支撐腳具有一上表面，該上表面接觸該微流體板且與同樣和該微流體板接觸之該第一墊片之該兩個密封件之上表面共面。
  6. 如申請專利範圍第5項之設備，其中該第一墊片之該支撐腳不充當一密封件。
  7. 如申請專利範圍第5項之設備，其中該第一墊片共同模製至該第一支撐支架中。
  8. 如申請專利範圍第1項之設備，其中：該第一支撐支架具有背對該第一支撐支架之該第一側之一第二側，且至少兩個第一流體端口定位特徵自該第一支撐支架之該第二側突出，每一第一流體端口定位特徵與一分析裝置之一第一流體端口區塊上之一對應的流體端口定位孔接合以接收該設備。
  9. 如申請專利範圍第1項之設備，其中：該框架包括具有面向彼此之相對表面的兩個相對之第一固定夾， 該第一支撐支架定位於該兩個相對之第一固定夾之間，該等第一固定夾之該等相對表面隔開一第一距離，且該第一支撐支架之在該等第一固定夾之該等相對表面之間的部分在橫跨該等第一固定夾之該等相對表面之間的一方向上具有小於該第一距離之一第一寬度。
  10. 如申請專利範圍第9項之設備，其中：該第一支撐支架包括一第三定位特徵，該第三定位特徵自該第一支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之與該微流體板之該第一邊緣相對之一第三邊緣，且該微流體板插置於該第一支撐支架之該第一定位特徵與該第一支撐支架之該第三定位特徵之間。
  11. 如申請專利範圍第10項之設備，其中：該微流體板為矩形，且該微流體板之該第一邊緣與該微流體板之該第二邊緣正交，且該微流體板之該第二邊緣與該微流體板之該第三邊緣正交。
  12. 如申請專利範圍第10項之設備，其中：該框架具有一大體矩形開口，該微流體板位於該大體矩形開口內，該大體矩形開口具有面向彼此之相對側壁，且該第一支撐支架之該第一定位特徵插置於該大體矩形開口之該等相對側壁中之一者與該微流體板之該第一邊緣之間，且該第一支撐支架之該第三定位特徵插置於該大體矩形開口之該等相對側壁中之另一相對側壁與該微流體板之該第三邊緣之間。
  13. 如申請專利範圍第10項之設備，其中：該大體矩形開口在平行於該第二邊緣之一方向上具有一開口寬度， 一第一定位特徵寬度存在於該第一支撐支架之該第一定位特徵與該第一支撐支架之該第三定位特徵之該等表面的最遠部分之間，該等最遠部分面向該大體矩形開口之該等相對側壁，且該開口寬度減去該第一定位特徵寬度小於該第一距離減去該第一寬度。
  14. 如申請專利範圍第9項之設備，其中該微流體板進一步包括在該第一側上之一或多個第二流體端口，且該設備進一步包含：一第二支撐支架，其附連至該框架，使得：該微流體板插置於該第二支撐支架與該框架之間，該第二支撐支架相對於該微流體板及該框架浮動，該微流體板與該框架相對於彼此浮動，且該第二支撐支架之一第一側面向該微流體板，其中：該第二支撐支架包括一第一定位特徵，該第一定位特徵自該第二支撐支架之該第一側突出且接近該微流體板之該第一邊緣，該第二支撐支架包括一第二定位特徵，該第二定位特徵自該第二支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之與該微流體板之該第二邊緣相對之一第四邊緣，該微流體板插置於該第一支撐支架之該第二定位特徵與該第二支撐支架之該第二定位特徵之間，該第二支撐支架包括具有至少一個密封件之一第二墊片，該至少一個密封件自該第二支撐支架之該第一側凸出且抵靠該微流體板而定位，且當該第二墊片之該至少一個密封件與該一或多個第二流體端口中之一對應的至少一個第二流體端口對準時，該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第二定位特徵分別接觸該微流體板之該第一邊緣與該第四邊緣。
  15. 如申請專利範圍第14項之設備，其中： 該框架包括具有面向彼此之相對表面之兩個相對之第二固定夾，該第二支撐支架定位於該兩個相對之第二固定夾之間，該等第二固定夾之該等相對表面隔開一第二距離，且該第二支撐支架之在該等第二固定夾之該等相對表面之間的部分在橫跨該等第二固定夾之該等相對表面之間的一方向上具有小於該第二距離之一第二寬度。
  16. 如申請專利範圍第15項之設備，其中：該第二支撐支架包括自該第二支撐支架之該第一側突出且靠近該微流體板之該第三邊緣之一第三定位特徵，且該微流體板插置於該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第三定位特徵之間。
  17. 如申請專利範圍第16項之設備，其中：該框架具有一大體矩形開口，該微流體板具有與該第一邊緣相對之一第三邊緣，該微流體板位於該大體矩形開口內，該大體矩形開口具有相對側壁，該等相對側壁面向彼此且在平行於該第二邊緣之一方向上界定一開口寬度，該第二支撐支架之該第一定位特徵插置於該大體矩形開口之該等相對側壁中之一者與該微流體板之該第一邊緣之間，且該第二支撐支架之該第三定位特徵插置於該大體矩形開口之該等相對側壁中之另一相對側壁與該微流體板之該第三邊緣之間，該微流體板在橫跨該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第三定位特徵之間的一方向上具有一板寬度，一第二定位特徵寬度存在於該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支 撐支架之該第三定位特徵之該等表面的最遠部分之間，該等最遠部分面向該大體矩形開口之該等相對側壁，且該開口寬度減去該第二定位特徵寬度小於該第二距離減去該第二寬度。
  18. 如申請專利範圍第14項之設備，其中：在該微流體板中存在兩個第二流體端口，且該第二墊片包括兩個密封件，每一密封件具有一通孔，該通孔穿過該第二支撐支架且當該第二支撐支架之該第一定位特徵與該第二支撐支架之該第二定位特徵分別接觸該微流體板之該第一邊緣與該第四邊緣時與該等第二流體端口中之一不同的第二流體端口對準。
  19. 如申請專利範圍第18項之設備，其中：該第二墊片包括一支撐腳，該支撐腳自該第二支撐支架之該第一側凸出且抵靠該微流體板而定位，一第三軸線經界定於該第二墊片之該兩個密封件之中心點之間，該第二墊片之該支撐腳沿著垂直於該第三軸線且平行於該微流體板之一第四軸線自該第三軸線偏移一第二量，且該第二墊片之該支撐腳具有一上表面，該上表面接觸該微流體板且與同樣和該微流體板接觸之該第二墊片之該兩個密封體之上表面共面。
  20. 如申請專利範圍第19項之設備，其中該第二墊片之該支撐腳不充當一密封件。
  21. 如申請專利範圍第19項之設備，其中該第二墊片共同模製至該第二支撐支架中。
  22. 如申請專利範圍第14項之設備，其中：該第二支撐支架具有背對該第二支撐支架之該第一側之一第二側，且至少兩個第二流體端口定位特徵自該第一支撐支架之該第二側突出，每一 第一流體端口定位特徵與一分析裝置之一第一流體端口區塊上之一對應的流體端口定位孔接合以接收該設備。
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