[go: up one dir, main page]

TW201827953A - 從材料剝離後程序溶劑移除固體之設備及方法 - Google Patents

從材料剝離後程序溶劑移除固體之設備及方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201827953A
TW201827953A TW107101323A TW107101323A TW201827953A TW 201827953 A TW201827953 A TW 201827953A TW 107101323 A TW107101323 A TW 107101323A TW 107101323 A TW107101323 A TW 107101323A TW 201827953 A TW201827953 A TW 201827953A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
filter
compartment
mlo
filtering
solvent
Prior art date
Application number
TW107101323A
Other languages
English (en)
Inventor
約翰 泰迪
保羅 維特
肯吉 努爾曼
吉姆 安德斯
Original Assignee
美商維克精密表面處理股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 美商維克精密表面處理股份有限公司 filed Critical 美商維克精密表面處理股份有限公司
Publication of TW201827953A publication Critical patent/TW201827953A/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D35/00Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
    • B01D35/28Strainers not provided for elsewhere
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D11/00Solvent extraction
    • B01D11/02Solvent extraction of solids
    • B01D11/0203Solvent extraction of solids with a supercritical fluid
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D29/00Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/085Funnel filters; Holders therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D29/00Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/11Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements
    • B01D29/13Supported filter elements
    • B01D29/23Supported filter elements arranged for outward flow filtration
    • B01D29/27Filter bags
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D29/00Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/50Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with multiple filtering elements, characterised by their mutual disposition
    • B01D29/52Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with multiple filtering elements, characterised by their mutual disposition in parallel connection
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B15/00Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area
    • B08B15/04Preventing escape of dirt or fumes from the area where they are produced; Collecting or removing dirt or fumes from that area from a small area, e.g. a tool
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/045Cleaning involving contact with liquid using perforated containers, e.g. baskets, or racks immersed and agitated in a liquid bath
    • B08B3/047Containers specially adapted therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D11/00Solvent extraction
    • B01D11/02Solvent extraction of solids
    • B01D11/0292Treatment of the solvent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67063Apparatus for fluid treatment for etching
    • H01L21/67075Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
    • H01L21/67086Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)

Abstract

一種設備及方法利用節省空間的設計並以大幅減少維修設備之停工時間的方式及不危害健康的方式從回收溶劑流移除後MLO(材料剝離)材料。

Description

從材料剝離後程序溶劑移除固體之設備及方法
本發明主要有關於用於從液體移除固體材料的設備及方法。詳言之,本發明有關於利用節省空間的設計並以大幅減少維修設備之停工時間的方式及不危害健康的方式從回收溶劑流移除後材料剝離(MLO)之材料的設備及方法。
材料剝離(Material Lift off; MLO)程序常用於半導體製造中來移除不想要的材料。在當諸如具侵犯性的蝕刻劑之濕化學物質腐蝕基材本身或腐蝕薄膜堆疊中希望保持不變的其他裸露的材料時使用此步驟。執行MLO的順序為施加光阻至一基材(電路板或晶圓)然後通過遮罩暴露於光線中。接著透過暴露光阻於將會移除部份阻劑之化學物質中顯影光阻。結果為部份受光阻保護以及部份裸露之基材。接著使基材在整個晶圓表面上經歷材料沈積(金屬、介電質等等)。此添加的薄膜在某些地方附著至基材而在其他地方附著至光阻。此時發生MLO步驟。通常使用溶劑來膨脹光阻並從基材移除光阻。在此步驟期間,當移除光阻時,先前沈積於光阻上的沈積薄膜(金屬等等)也會被移除。附著至基材的沈積薄膜則保持在原地。通常會收集溶劑以供再利用。在MLO之後,清洗基材然後使其乾燥。基材準備好供製程的下一步用。
以加壓溶劑從晶圓表面清洗掉被移除(剝離)的金屬(材料)。此金屬則跟隨回收溶劑的洩流路徑。在某些情況中,此金屬很大塊且會被加工室內的大型目濾篩擋住。比室洩流篩網更小的那些金屬塊(或如果在工具設計中沒有洩流篩的話全部的材料)會通過洩流管進入到回收化學物質迴路中。這些材料會導致硬體(像是泵)損壞,堵塞過濾器,且若不從回收溶劑流移除的話會導致後續加工的晶圓之產量損失(像是凹痕或刮痕)。
歷史上,濾篩可從溶劑流移除大部分的剝離材料。材料大小及量取決於晶圓設計。在大批量生產中,每星期需維修濾篩數次並非不常見。經妥善設計且尺寸合適之可重複使用的濾篩能捕捉大部分的材料並使較昂貴之單次使用的低孔徑過濾器可具有一或更多個月的壽命。
從濾篩清理被分離的材料之維修歷史上需要使工具停工。維修人員需例行性移除、清空並清理被溶劑弄濕的濾篩。業界需要一種能更有效率移除材料並以單一設計涵蓋多種孔徑的無停工時間之濾篩設計,其較不需維修且不會讓人員暴露於溶劑中。
在一實施例中,根據本發明的用於從後程序MLO溶劑過濾材料(金屬、介電質、等等)之設備包括焊接的包殼,其含有隔離的串聯濾篩。串聯濾篩焊件的各側具有濾篩外殼以容納濾篩以及通過其之經清理的溶劑。一非必要的可拋棄式袋型過濾器(薄膜)安置在濾篩內。在頂部附近有液體(溶劑)入口以及在較低的高度有出口。另有清洗劑(IPA或去離子水)及乾燥介質(CDA或氮氣)之次要入口(清除口)。洩流開口位在每一個濾篩外殼的底部。每一個濾篩外殼具有藉由夾子固定不動的O型環密封蓋。濾篩/過濾器定位器確保濾篩、袋型過濾器、O型環、及蓋子為恰當對齊以密封流體路徑並防止流體交越。流體入口/出口管透過密合墊及夾件連接至工具管道。
透過濾篩之一上方的入口將後程序的溶劑引入串聯濾篩焊件的一側。溶劑及金屬混合物一開始通過小網目尺寸(典型2至40 µm)之可拋棄式袋型過濾器(非必要)。通過過濾器及濾篩之乾淨的溶劑可流經液體出口。袋型過濾器之設置減少有效網目尺寸、增加收集效率、延長下游過濾器壽命、並藉由減少濾篩清理規模而使維修更容易。濾篩比前一代的大兩倍,使濾篩壽命加倍。串聯設計減少底面積並允許在操作的同時交換袋型過濾器(免除停工時間)。清洗口允許在交換之前清洗並乾燥袋型過濾器,故使維修人員不會暴露於溶劑中。
應可理解已簡化本發明之圖示及說明來以易於清處理解本發明的方式繪示相關元件,同時為了簡潔忽略了可能出現在本發明中的許多其他元件。相關領域中具有通常技藝之人會認知到可能希望有及/或需要其他元件來實施本發明。然而,由於這種元件為本領域中眾所周知的,且因為這種元件不會使該些人士更理解本發明,故在此並未提供這種元件的討論。
第1至8圖繪示用於從材料剝離後製程溶劑移除固體的設備100。尤其,設備100及相關方法組態成從利用一種節省空間的設計並以大幅減少維修設備之停工時間的方式及不危害健康的方式從回收溶劑流移除後材料剝離(MLO)之材料,此將於下詳述。
設備100一般包括第一濾篩裝置110及與第一過裝篩置110不相干的第二濾篩裝置120。如此所述,在本發明的一示範實施例中,有意讓第一及第二過濾(濾篩)裝置(110, 120)中之一者處於操作模式中(過濾後MLO材料),而第一及第二過濾裝置(110, 120)中之另一者處於離線模式中。然而,設備100亦可組態成使第一及第二過濾裝置(110, 120)兩者皆處於現行操作模式中,因如在此所述第一及第二過濾裝置(110, 120)各者為互不相干並包括專用的管線。
設備100包括一個含有第一及第二過濾裝置(110, 120)之主外殼130。主外殼130可具有任何數量的不同形狀及尺寸但大致上為具有中空內部之圍壁結構。主外殼130因此包括前壁132、相對的後壁133、第一側壁134、相對的第二側壁135、底壁136、及頂壁137。最佳示於第7及8圖中,第一及第二過濾裝置(110, 120)各互不相干,外殼110進一步包括內隔壁140,其將中空內部分成其中設有第一過濾裝置110之第一隔室以及其中設有第二過濾裝置120之第二隔室。如所示,第一及第二隔室在其方位上為並排設置,藉此以並排方位設置第一及第二過濾裝置(110, 120)。
在所示的實施例中,第一及第二隔室為彼此鏡像,因此具有相同面積;然而,可認知到第一及第二隔室在至少一種測量或性質上視為互不相同。例如,第一及第二隔室中之一者可具有增加的尺寸,因此其比另一隔室有更大的面積。
任何數量的不同材料可用來建構設備100,包括外殼110,只要其適合在此所述之意圖的應用。例如,適合的材料包括不同的金屬、塑膠等等。
如圖所示,第一過濾裝置110意欲插入第一隔室中且第一過濾裝置110意欲插入第二隔室中。當第一過濾裝置110插入第一隔室中時,在第一過濾裝置110及該設備的各個壁周圍形成第一空間111,類似地,當第二過濾裝置120插入第二隔室中時,在第二過濾裝置120及設備的各個壁周圍形成第二空間121。如在此所述,這些空間111及121含有已經通過個別的第一及第二過濾裝置(110, 120)之回收溶劑流,並因此可理解為經過濾之回收溶劑流。
在第1圖中所示的實施例中,主外殼130包括自頂壁137往上延伸並且與第一隔室和第一過濾裝置110相連之第一上外殼150,以及自頂壁137往上延伸並且與第二隔室和第二過濾裝置120相連之第二上外殼160。頂壁137包括形成從第一上外殼150的中空內部進入到第一隔室之入口的第一開口(例如環形開口),以及類似地,從第二上外殼160的中空內部進入到第二隔室之入口的第二開口(例如環形開口)。在一示範實施例中,第一及第二上外殼150及160各具有環形且構造上為管狀。第一及第二上外殼150及160可用任何數量的技術耦接至頂壁137,包括使用緊固件、諸如黏劑之接合媒介、焊接等等。
如所示,第一及第二上外殼150及160延伸於頂壁137上方,並如在此所述,提供使用者插入個別的第一及第二過濾裝置(110, 120)之位置。第一及第二上外殼150及160各者的形狀及大小與插入其中之相應的第一及第二過濾裝置(110, 120)互補,且如所示,這些構件各具有環形。在其頂端,第一上外殼150包括凸緣或唇部151,且類似地,在其頂端,第二上外殼160包括凸緣或唇部161。
建構外殼130使得第一及第二隔室各包括用於傳遞回收溶劑流(或其他流體流,因不限於以在此所述方式般使用設備100)的至少一流體入口及用於在藉由第一及第二過濾裝置(110, 120)中之一者過濾後移除回收溶劑流的至少一流體出口。
例如,第一隔室可具有第一(主要)入口200且較佳還包括第二(次要)入口210,連同出口220,以及洩流口230。由於第二隔室為第一隔室的鏡像,第二隔室亦包括第一(主要)入口240且較佳還包括第二(次要)入口250,連同出口260,以及洩流口270。如在此所述,與第一隔室相連的該組入口、出口、及洩流口和與第二隔室相連的該組入口、出口、及洩流口完全分開且不相干。
第一入口200為接收包括後MLO材料的回收溶劑流之入口,且出口220為被個別的過濾裝置(110, 120)過濾後之經過濾的回收溶劑流通過的結構。次要入口210可具有用於接收清洗劑(異丙醇(IPA)或去離子水)及乾燥介質(壓縮乾燥空氣(CDA)或氮氣)之清除口的形式。洩流口230為通過其第一隔室的流體內含物可在維修之類的期間被撤離之底部洩流口。第二隔室的入口240及250、出口260、及洩流口270提供類似功能,並因此為了簡明而不加以詳述。
第一入口200及第二入口210可形成第一上外殼150的一部分,且尤其彼此間可有角度偏移。第一及第二入口200及210各有從第一上外殼150徑向往外延伸的結構,並且各藉由形成在第一上外殼150的孔徑與第一上外殼150之中空內部流體連通。雖在所示實施例中,第一及第二入口200及210大約彼此間隔45度,此方位僅為示範性且可以彼此間不同方位設置它們。另外,第一及第二入口200及210的尺寸可相同、類似、或不同。例如,如所示,第一入口200,其為主要入口,可比第二入口210具有更大的尺寸(例如較大的直徑)。由管狀結構界定第一及第二入口200及210,並允許管道(像是流線、管子、等等)以密封的方式附加至其,以將流體傳遞到第一上外殼150的中空內部。
與第二隔室相連的第一(主要)入口240、第二(次要)入口250、出口260、及洩流口270可具有類似的結構及性質,並因此為了簡明而不加以詳述。
在所示的實施例中,第一入口200及250從外殼130的相反端往外延伸,而第二入口210及260從外殼110的前面往外延伸。
第一入口200及250可各包括連接器280以讓載有進料流(回流溶劑流)的入口管道得以輕易附接至入口200及250。連接器280可屬於「快速連接器」類型並一般提供管道與入口之間的密封連結。密合墊281可與連接器280一起使用。
第一隔室的出口220及第二隔室的出口260提供從個別的隔室出去之出口並包含通過外殼130中所形成的孔與個別的隔室連通的結構。在所示的實施例中,出口220及260沿著前壁132定位,尤其位在前壁132的頂部區域中。如此所述,出口220及260係設置在個別隔室中之較高的區域,以讓經過濾的回收溶劑流在被個別的過濾裝置過濾後得以填充個別的隔室。換言之,使回收溶劑流引導越過過濾裝置的過濾介質並進入到空間111及121之一內,且一開始,此經過濾的回收溶劑流開始填充隔室直到經過濾的回收溶劑流到達出口220及260的水平。一旦到達此水平,經過濾的回收溶劑流自由流出出口220及260(非常類似浴缸的溢流排洩)。
如第4及5圖中所示且於下更詳細說明,出口220及260形成在低於個別的過濾裝置(110, 120)之頂部的位置。此設置進一步確保離開出口的流體是已經藉由個別的過濾裝置(110, 120)過濾過的流體。
在所示的實施例中,第二入口直接位在出口上方;然而,此僅為一種實施方式且第二入口及出口可彼此徑向錯開。如同主要入口,出口220及260可包括連接器265,比如快速連接器類型,其確保與附接至出口的出口管道(管線)有妥善密封。
第一過濾裝置110意圖置於並固定在第一隔室內。第一過濾裝置110包括如下述般組合在一起的若干構件。詳言之,第一過濾裝置110包括第一過濾收容器,其可為具有封閉式底端402及開放式頂端404之穿孔籃400的形式。在所示實施例中,穿孔籃400可有圓柱形狀且開放式頂端404具有往外延伸的凸緣405。穿孔籃400可因此為金屬或塑膠籃的形式,沿著其底壁及側壁具有複數孔,以在裝置的正常操作期間讓流體得以從收容器400的中空內部流到外面。
凸緣405設計成安置在第一上外殼150的凸緣151上,且第一O型環407可設置在凸緣405及151之間以確保這些構件之間的妥善密封配合。當第一過濾裝置110在插入使用中的位置時,凸緣405倚著凸緣151的安置會使第一過濾裝置110懸掛在第一隔室之中,使封閉式底端402高於底壁136並間隔一段距離。在此使用中位置中,入口200的位置高於開放式頂端404並設置成使流經入口200的流體直接流入穿孔籃400的開放式頂端中。入口200因此設置成令未經過濾的回收溶劑流因重力而下降到穿孔籃400的中空內部中。類似地,第二入口210的位置在第一過濾裝置110上方,因此經過其之流體,如清洗劑(IPA或去離子水)及乾燥介質(CDA或氮氣),在第一過濾裝置110上方進入第一隔室。如先前所述,出口位在低於開放式頂端404的位置。
穿孔籃400中的孔洞形成有選定的大小(直徑),其係有鑑於後MLO材料的性質而選擇。換言之,穿孔籃400充當過濾器/濾篩,並因此形成孔洞以捕捉在穿孔籃400之中空內部內的後MLO材料而不穿過孔洞。穿孔籃400因此可理解為具有由孔洞尺寸界定之網目尺寸(篩尺寸)。在一實施例中,穿孔籃400的網目尺寸介於約25及150 µm之間;然而,可認知到這些值僅為示範性,故取決於欲過濾的材料亦可有其他的值。
第一過濾裝置110亦包括設置在穿孔籃400的中空內部內的可移除過濾介質420。過濾介質420可為具有封閉底端及開放頂端之袋子的形式。過濾介質420因此狀似一條襪子。建構過濾介質420的材質而使回收溶劑流可穿過,但後MLO材料卻無法穿過,藉此造成流體的過濾。過濾介質420因此可理解為由網目尺寸界定之網狀材料。過濾介質420的網目尺寸小於穿孔籃400的網目(篩)尺寸,故設計成過濾小型材料。在一實施例中,過濾介質420的網目尺寸介於約2及40 µm之間;然而,可認知到這些值僅為示範性,取決於欲過濾的材料亦可有其他的值。
過濾介質420具有與穿孔籃400互補的形狀,且在所示實施例中,過濾介質420具有圓柱形狀。
藉由將過濾介質420插入穿孔籃400中並令未過濾的回收溶劑流流入結合的過濾介質420/穿孔籃400結構的中空內部中,該溶劑流會經歷兩種不同的過濾程序,亦即,通過較細的過濾介質420然後通過穿孔籃400中的孔洞。一旦該溶劑流經過穿孔籃400的孔洞,經過濾的溶劑流接著進入到空間111中,並如此所述,第一過濾裝置110的連續操作使空間111中之經過濾的溶劑流之水平升高直到流體水平到達出口,經過濾的溶劑流會通過該出口離開外殼130並流到另一位置(例如流體回收位置)。
亦可認知到穿孔籃400及過濾介質420各者的過濾特性可輕易變更,因兩者為不相干分離的部件,而且這兩個部件都可自外殼130輕易移除,藉此允許其之輕易代換。換言之,取決於後MLO溶劑的特性,可從一組穿孔籃400及一組過濾介質420中選擇恰當的穿孔籃400及過濾介質420。詳言之,有鑑於欲移除之MLO材料(有鑑於MLO材料的類型及尺寸)選擇具有希望的網目尺寸(篩尺寸)的穿孔籃400及過濾介質420。
第一過濾裝置110包括用於以密封方式覆蓋第一過濾裝置110之覆蓋組件。覆蓋組件可包括執行若干不同功能的止動件500。首先,止動件500提供一種確保過濾介質420固定不動的手段,且尤其,開放式頂端(其可包括凸緣)嵌設(nested)止動件500與第一上外殼150的凸緣之間。如所示,止動件500包括環形底部,其大小為可容納在過濾介質420的中空內部內。止動件500亦包括向外延伸的凸緣件510,其連同第一上外殼150的凸緣用來夾住過濾介質的唇部(凸緣),以使過濾介質固定不動。
止動件500亦包括球門柱型結構520,由一對間隔的底部支腳522、延伸在底部支腳522之間的橫向構件、及具有有撓性的叉子形式之一對上支腳526。底部支腳522在兩個間隔的位置處(例如分隔180度)固定至凸緣510。上支腳526如所示可彼此呈斜角。止動件500的第二種功能在於結構520設計成定位特徵,以確保蓋件600(如下述)妥善安置(藉此確保密封的第一室)。
蓋件600組態成密封第一室,尤其密封第一上外殼150。蓋件600可為碟形且其之底部區域可具有比頂部區域更大的直徑以界定出如所示般之階梯型構造。第二O型環610設置在蓋件600與止動件500的凸緣510之間。
覆蓋組件亦包括蓋夾700,其確保蓋件(蓋子)600固定不動。蓋夾700可為環形結構,容納在蓋件600周邊並包括用於緊縮蓋夾700的手段,像是指捻螺釘710。
第二過濾裝置120包括第一過濾裝置110之相同構件,因此類似部件有類似編號。
覆蓋組件因此可提供有效率且方便進入第一及第二隔室的方式,尤其,進入第一及第二過濾裝置110及120以執行其之維修。
尤其,在正常操作期間,將待清理的回收溶劑流藉由流體連接至主要入口200及240而連接到第一及第二過濾裝置(110, 120)之一或更多。
在一實作中,可使用Y型連接器,以使待過濾之回收溶劑流的來源以一閥門連接至主要入口200及240兩者,該閥門用來選擇性控制溶劑流至主要入口200及240之一的流動。
在操作一段時間後,使操作的過濾裝置(110, 120)下線,首先藉由將未過濾的回收溶劑流轉向到過濾裝置(110, 120)的另一者,其被置於現行過濾模式中。接著,打開被帶下線之過濾裝置的洩流口以使相應的隔室洩流。一旦隔室完全排洩,可移除過濾裝置(110, 120),先藉由鬆開並移除相連的覆蓋組件。一旦移除覆蓋組件,可從隔室移除結合的穿孔籃400及可移除過濾介質420以允許其之維修及清潔。一旦完成維修,可將清理過的收容器400及過濾介質420插回到相應的過濾裝置內,並因此處於待命模式並準備好在另一個過濾裝置為了清理而被帶下線時執行過濾。
設備100提供包括但不限於下列之多項優點。由兩個濾篩(穿孔籃400)及兩個過濾介質(袋型過濾器)所界定之雙過濾裝置的設置提供下列特徵:(一)濾篩:金屬兩倍能力(雙倍壽命)、串聯設計有較小的底面積(footprint)、清洗/乾燥免除人員暴露在溶劑中、串聯濾篩免除停工時間、濾篩/過濾器定位器(indexer)確保恰當對準;以及(二)袋型過濾器:減少有效網目尺寸、允許改變袋型過濾器的孔洞尺寸、增加收集效率、藉由減少濾篩清理規模而使維修更方便、增加下游過濾器壽命。
熟悉本領域之人士可根據上述實施例認知到本發明之進一步的特徵及優點。依此,本發明不限於特別顯示及說明者,除了所附之申請專利範圍所指。在此引用的所有出版物及參考之全部內容以參考方式包含於此。
100‧‧‧設備
110‧‧‧第一過濾(濾篩)裝置
111‧‧‧第一空間
120‧‧‧第二過濾(濾篩)裝置
121‧‧‧第二空間
130‧‧‧外殼
132‧‧‧前壁
133‧‧‧後壁
134‧‧‧側壁
135‧‧‧側壁
136‧‧‧底壁
137‧‧‧頂壁
140‧‧‧內隔壁
150‧‧‧第一上外殼
151‧‧‧凸緣或唇部
160‧‧‧第二上外殼
161‧‧‧凸緣或唇部
200‧‧‧第一(主要)入口
210‧‧‧第二(次要)入口
220‧‧‧出口
230‧‧‧洩流口
240‧‧‧第一(主要)入口
250‧‧‧第二(次要)入口
260‧‧‧出口
265‧‧‧連接器
270‧‧‧洩流口
280‧‧‧連接器
281‧‧‧密合墊
400‧‧‧第一穿孔籃
402‧‧‧封閉式底端
404‧‧‧開放式頂端
405‧‧‧凸緣
407‧‧‧第一O型環
420‧‧‧過濾介質
500‧‧‧止動件
510‧‧‧凸緣件
520‧‧‧球門柱型結構
522‧‧‧底部支腳
526‧‧‧上支腳
600‧‧‧蓋件
610‧‧‧第二O型環
700‧‧‧蓋夾
710‧‧‧指捻螺釘
第1圖為根據本發明之一實作用於從後程序MLO過濾材料之設備的爆炸透視圖;
第2圖為在組裝狀態中之設備的上側視圖;
第3圖為設備之前視圖;
第4圖為沿第3圖的線A-A取得之剖面圖;
第5圖為沿第3圖的線B-B取得之剖面圖;
第6圖為設備之右側視圖;
第7圖為設備之頂平面圖;以及
第8圖為沿第7圖的線A-A取得之剖面圖。

Claims (20)

  1. 一種用於過濾後程序材料剝離(MLO)溶劑之設備,包含: 一包括有內隔壁之外殼,該內隔壁將該外殼之中空內部分成第一隔室及與該第一隔室完全隔離的第二隔室; 可移除式設置在該第一隔室中之第一過濾裝置; 可移除式設置在該第二隔室中並與該第一過濾裝置完全不相干之第二過濾裝置; 一第一入口及一第一出口,該第一入口係與該第一隔室流體連通並設置成使得未經過濾的後程序MLO溶劑流入該第一過濾裝置之內部中,而該第一出口係於該第一過濾裝置外部的位置處與該第一隔室流體連通以供接收經過濾的後程序MLO;以及 一第二入口及一第二出口,該第二入口係與該第二隔室流體連通並設置成使得未經過濾的後程序MLO溶劑流入該第二過濾裝置之內部中,而該第二出口係於該第二過濾裝置外部的位置處與該第二隔室流體連通接收經過濾的後程序MLO溶劑; 其中該設備係經配置使得該第一及第二過濾裝置中之一者可處於線上操作狀態中,同時該第一及第二過濾裝置中之另一者可處於離線狀態中
  2. 如申請專利範圍第1項所述之設備,其中該外殼係由前壁及後壁、頂壁及底壁、和第一側壁及第二側壁所界定,其中該內隔壁係延伸於該前壁及後壁之間且與該前壁及後壁呈密封關係,並延伸於該頂壁及底壁之間且與該頂壁及底壁呈密封關係。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之設備,其中一第一空間係形成在該第一隔室中圍繞該第一過濾裝置,該第一入口及該第一出口與該第一空間流體連通,且一第二空間係形成在該第二隔室中圍繞該第二過濾裝置,該第二入口及該第二出口與該第二空間流體連通。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之設備,其中所述未經過濾的後程序MLO溶劑係藉由引導其由該第一過濾裝置的內部到該第一過濾裝置的外部通過該第一過濾裝置來過濾。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之設備,其中該外殼包括突出於該頂壁上方之第一上外殼以及突出於該頂壁上方之第二上外殼。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之設備,其中該第一出口係形成在低於該第一入口的位置處以及低於該第一過濾裝置之開放式頂端的位置處。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之設備,其中該第一過濾裝置包含一具有中空內部之外穿孔濾篩體以及一設置在該外穿孔濾篩體的中空內部內之內過濾介質。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之設備,其中該內過濾介質包含一具有封閉式底端及開放式頂端之過濾袋。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之設備,其中該過濾袋具有與該外穿孔濾篩體之網目尺寸不同的網目尺寸。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之設備,其中該過濾袋具有比該外穿孔濾篩體之網目尺寸更小的網目尺寸。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之設備,其進一步包含一用於將該第一過濾裝置密封於該第一隔室中的第一覆蓋組件以及一用於將該第二過濾裝置密封於該第二隔室中的第二覆蓋組件,其中該第一外穿孔濾篩體在其開放式頂端係具有一凸緣件,該第一過濾袋嵌設在該第一外穿孔濾篩體的凸緣件和一個與該第一覆蓋組件相連的覆蓋凸緣件之間。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之設備,其中該第一覆蓋組件包括止動件,其包括該覆蓋凸緣件,且該第一過濾袋被固定在該第一外穿孔濾篩體的該凸緣件和該覆蓋凸緣件之間。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之設備,其中該止動件包括一對直立件,其係配置成迫使該第一覆蓋組件的蓋子妥善安置。
  14. 一種用於過濾後程序材料剝離(MLO)溶劑之系統,包含: 一後程序MLO溶劑來源; 一流體連接至該後程序MLO溶劑來源的雙過濾設備,該雙過濾設備包括: 一包括有內隔壁之外殼,該內隔壁將該外殼之中空內部分成第一隔室及與該第一隔室完全隔離的第二隔室; 可移除式設置在該第一隔室中之第一過濾裝置,該第一過濾裝置包括第一中空穿孔外過濾體以及設置在該第一穿孔外過濾體之中空內部內的第一過濾介質; 可移除式設置在該第二隔室中並與該第一過濾裝置完全不相干之第二過濾裝置,該第二過濾裝置包括第二中空穿孔外過濾體以及設置在該第二穿孔外過濾體之中空內部內的第二過濾介質; 一第一入口及一第一出口,該第一入口係與該第一隔室流體連通並設置成使得該後程序MLO溶劑流入該第一過濾介質之內部中,而該第一出口係於該第一過濾裝置外部的位置處與該第一隔室流體連通以供接收經過濾的後程序MLO溶劑,該經過濾的後程序MLO溶劑被引導通過該第一過濾介質及該第一穿孔外過濾體;以及 一第二入口及一第二出口,該第二入口係與該第二隔室流體連通並設置成使得該後程序MLO溶劑流入該第二過濾介質之內部中,而該第二出口係於該第二過濾裝置外部的位置處與該第二隔室流體連通以供接收經過濾的後程序MLO溶劑,該經過濾的後程序MLO溶劑被引導通過該第二過濾介質及該第二穿孔外過濾體; 其中該設備係配置成使得該第一及第二過濾裝置中之一者可處於線上操作狀態中,同時該第一及第二過濾裝置中之另一者可處於離線狀態中。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之系統,其中該第一及第二穿孔外過濾體各包含一具有中空內部且沿著其底壁和側壁有穿孔之穿孔濾篩體。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之系統,其中該該第一及第二過濾介質各包含一具有封閉式底端及開放式頂端之過濾袋。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之系統,其中該過濾袋具有與該外穿孔濾篩體之網目尺寸不同的網目尺寸。
  18. 如申請專利範圍第16項所述之系統,其中該過濾袋具有比該外穿孔濾篩體之網目尺寸更小的網目尺寸。
  19. 如申請專利範圍第16項所述之系統,其中該過濾袋之該開放式頂端包括安置在於該濾篩體之凸緣上的唇部以及關閉該過濾袋之蓋子,且該穿孔外過濾體至少部份插入該過濾袋之該開放式頂端之中。
  20. 一種用於過濾後程序材料剝離(MLO)溶劑之設備,包含: 一包括有內隔壁之外殼,該內隔壁將該外殼之中空內部分成第一隔室及與該第一隔室完全隔離的第二隔室; 可移除式設置在該第一隔室中之第一過濾裝置,該第一過濾裝置包括第一中空穿孔外過濾體以及設置在該第一穿孔外過濾體之中空內部內的第一過濾袋; 可移除式設置在該第二隔室中並與該第一過濾裝置完全不相干之第二過濾裝置,該第二過濾裝置包括第二中空穿孔外過濾體以及設置在該第二穿孔外過濾體之中空內部內的第二過濾袋; 一第一入口及一第一出口,該第一入口係與該第一隔室流體連通並設置成使得該後程序MLO溶劑流入該第一過濾介質之內部中,而該第一出口係於該第一過濾裝置外部的位置處與該第一隔室流體連通以供接收經過濾的後程序MLO溶劑,該經過濾的後程序MLO溶劑被引導通過該第一過濾介質及該第一穿孔外過濾體;以及 一第二入口及一第二出口,該第二入口係與該第二隔室流體連通並設置成使得該後程序MLO溶劑流入該第二過濾介質之內部中,而該第二出口係於該第二過濾裝置外部的位置與該第二隔室流體連通以供接收經過濾的後程序MLO溶劑,該經過濾的後程序MLO溶劑被引導通過該第二過濾介質及該第二穿孔外過濾體; 其中該設備係配置成使得該第一及第二過濾裝置中之一者可處於線上操作狀態中,同時該第一及第二過濾裝置中之另一者可處於離線狀態中。
TW107101323A 2017-01-19 2018-01-12 從材料剝離後程序溶劑移除固體之設備及方法 TW201827953A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201762448153P 2017-01-19 2017-01-19
US62/448,153 2017-01-19

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201827953A true TW201827953A (zh) 2018-08-01

Family

ID=62905924

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107101323A TW201827953A (zh) 2017-01-19 2018-01-12 從材料剝離後程序溶劑移除固體之設備及方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10413850B2 (zh)
EP (1) EP3570952A1 (zh)
JP (1) JP2020506036A (zh)
KR (1) KR20190104136A (zh)
CN (1) CN110121382A (zh)
TW (1) TW201827953A (zh)
WO (1) WO2018136644A1 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102623669B1 (ko) * 2021-12-07 2024-01-11 서울특별시 유출 트러프에 설치되는 이물질 필터링 장치
US12239924B2 (en) * 2023-01-26 2025-03-04 Mechanical Manufacturing Corporation Collar having modular parts for supporting stratified filtration
KR102619035B1 (ko) * 2023-07-07 2023-12-28 주식회사 승원 유지보수가 용이한 수돗물 내 이물질 여과장치
CN118807313B (zh) * 2024-09-14 2025-01-10 济南趵突泉酿酒有限责任公司 一种酒业智能式过滤装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6814876B1 (en) 2001-03-06 2004-11-09 Vortech Latinoamerica Versatile, modular, multi-stage water purification system
US7879248B2 (en) 2007-05-08 2011-02-01 Svetlik Iii Rudy James Filtering systems with integral filter back-flushing
US9333446B2 (en) 2013-04-15 2016-05-10 Veeco Precision Surface Processing Llc Apparatus and method to remove undissolved solids from post process dry film strip solvents
US20150047674A1 (en) 2013-08-16 2015-02-19 Tel Nexx, Inc. Method and apparatus for removal of photoresist using improved chemistry
US10207208B2 (en) 2016-11-21 2019-02-19 International Business Machines Corporation Autonomous filtration switch

Also Published As

Publication number Publication date
EP3570952A1 (en) 2019-11-27
JP2020506036A (ja) 2020-02-27
CN110121382A (zh) 2019-08-13
US10413850B2 (en) 2019-09-17
WO2018136644A1 (en) 2018-07-26
KR20190104136A (ko) 2019-09-06
US20180207562A1 (en) 2018-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201827953A (zh) 從材料剝離後程序溶劑移除固體之設備及方法
US9333446B2 (en) Apparatus and method to remove undissolved solids from post process dry film strip solvents
KR100956895B1 (ko) 필터 카트리지 구조물
JP5650705B2 (ja) 濾過装置
JP6000119B2 (ja) 加工廃液処理装置
JP5572198B2 (ja) 基板処理装置及び薬液再生方法
KR102049252B1 (ko) 케미컬 처리장치용 하우징 필터 및 이를 포함하는 케미컬 처리장치
US20050067339A1 (en) Retro filter bag
KR20180024890A (ko) 인라인 필터 및 이를 이용한 반도체 공정수 처리 방법
JP3539680B2 (ja) 汚液の濾過方法及びその装置
JP5558948B2 (ja) 集塵装置、及びそれを備える混合乾燥機
KR101964074B1 (ko) 액체용 탈기 장치
JP2005000767A (ja) フィルター装置および半導体製造装置
KR20160043087A (ko) 개선된 화학물질을 이용한 포토레지스트 제거 방법 및 장치
KR20110122505A (ko) 기판처리장치
KR100503922B1 (ko) 기액분리기
KR20120112914A (ko) 커버 내에 일체형 유로를 갖는 필터 하우징
JP4612557B2 (ja) フィルタ洗浄方法
RO111419B1 (ro) Dispozitiv de filtrare a unui fluid
CN215483392U (zh) 配液系统生产线与多功能过滤收集装置
JPH0410890Y2 (zh)
TWI896599B (zh) 真空輔助過濾
KR100589463B1 (ko) 반도체 설비용 필터 장치
KR100624895B1 (ko) 포토레지스트의 필터장치
KR20020091664A (ko) 반도체 소자 제조에 사용되는 도포 장비