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TW201620402A - 香味源的製造方法及包裝體 - Google Patents

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TW201620402A
TW201620402A TW104134659A TW104134659A TW201620402A TW 201620402 A TW201620402 A TW 201620402A TW 104134659 A TW104134659 A TW 104134659A TW 104134659 A TW104134659 A TW 104134659A TW 201620402 A TW201620402 A TW 201620402A
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TW
Taiwan
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flavor
tobacco
trapping
component
weight
Prior art date
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TW104134659A
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English (en)
Inventor
中野拓磨
藤井景子
打井公□
山田学
Original Assignee
日本煙草產業股份有限公司
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Publication date
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Abstract

本發明為一種載持菸草原料所含有之香吸嚐味成分之香味源的製造方法,係具備:對前述菸草原料施予鹼處理之步驟A;以及以使前述施予鹼處理後之菸草原料及由非菸草原料所構成之香味基材維持非接觸的狀態之方式,將前述施予鹼處理後之菸草原料及前述香味基材配置在同一空間內,藉此,將從前述菸草原料以氣相所釋出之前述香吸嚐味成分載持於前述香味基材之步驟B。

Description

香味源的製造方法及包裝體
本發明係關於載持菸草原料所含有之香吸嚐味成分之香味源的製造方法及可攜帶之包裝體。
以往,為人所知者係使用菸草原料本身作為香味抽吸器或口腔用製品等之香吸嚐味製品等所使用的香味源之技術,或者,是將從菸草原料所萃取之香吸嚐味成分載持於香味基材作為香味源之技術。
先前技術文獻
專利文獻1:日本特表2010-506594號公報
專利文獻2:日本WO2012/023515
第1特徵為一種香味源的製造方法,其係載持菸草原料所含有之香吸嚐味成分之香味源的製造方法,該主旨在於具備:對前述菸草原料施予鹼處理之步驟A;以及,以使前述施予鹼處理後之菸草原料及被非菸草原料所構成之香味基材維持非接觸狀態之方式,將前述施予鹼 處理後之菸草原料及前述香味基材配置在同一空間內,藉此,使從前述菸草原料以氣相所釋出之前述香吸嚐味成分載持於前述香味基材之步驟B。
第2特徵係該主旨在於在第1特徵中,前述香味基材為固體狀的構件或含浸於固體之液體。
第3特徵係該主旨在於在第1特徵或第2特徵中,前述香味基材為捕集溶劑;並且具備:將羧酸添加於前述捕集溶劑之步驟E。
第4特徵係該主旨在於在第3特徵中,添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率,為大於0.5且小於1.0。
第5特徵係該主旨在於在第3特徵中,在添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率為1.0以上之情況下,將至少含有前述香吸嚐味成分、前述羧酸及前述捕集溶劑之捕集溶液設為100重量%時,前述捕集溶液含有10重量%以上的水。
第6特徵係該主旨在於在第5特徵中,前述步驟B係包含:對配置在前述同一空間內之前述施予鹼處理後之菸草原料進行加熱之步驟;並且具備:在添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率為1.0以上之情況下,將水添加於前述捕集溶劑或前述捕集溶液之步驟 F;前述步驟F為,將前述捕集溶液設為100重量%時,以使前述捕集溶液含有10重量%以上的水之方式添加水之步驟。
第7特徵係該主旨在於在第3特徵中,在添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率為0.5以下之情況下,將至少含有前述香吸嚐味成分、前述羧酸及前述捕集溶劑之捕集溶液設為100重量%時,前述捕集溶液係含有10重量%以上的丙二醇、10重量%以上的水、或合計為10重量%以上之丙二醇及水的混合液。
第8特徵係該主旨在於在第7特徵中,前述步驟B係包含:對配置在前述同一空間內之前述施予鹼處理後之菸草原料進行加熱之步驟;並且具備:在添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率為0.5以下之情況下,將丙二醇、水、或丙二醇及水的混合液添加於前述捕集溶劑或前述捕集溶液之步驟F;前述步驟F為將前述捕集溶液設為100重量%時,以使前述捕集溶液含有10重量%以上的丙二醇、10重量%以上的水、或合計為10重量%以上的前述混合液之方式,添加丙二醇、水、或前述混合液之步驟。
第9特徵係該主旨在於在第6特徵或第8特徵中,於前述步驟B中,前述施予鹼處理後之菸草原料與前述捕集溶劑一起被加熱時,前述步驟F係在前述步驟 B後進行。
第10特徵係該主旨在於在第1特徵至第9特徵中之任一特徵中,前述步驟B包含至少對前述施予鹼處理後之菸草原料進行加熱之步驟。
第11特徵係該主旨在於在第1特徵、第2特徵及第10特徵中之任一特徵中,前述香味基材為固體狀的構件;並且具備:混練前述香味基材之步驟C。
第12特徵係該主旨在於在第11特徵中,具備:於前述步驟C之後,使前述香味基材成形之步驟D。
第13特徵為一種包裝體,其係可攜帶之包裝體,該主旨在於具備:具有藉由非菸草原料所構成之香味基材之香吸嚐味製品、施予鹼處理並以氣相來釋出香吸嚐味成分之菸草原料、以及容納前述菸草原料及前述香味基材之容納部;前述容納部係以使前述菸草原料及前述香味基材維持非接觸狀態之方式,限制前述菸草原料及前述香味基材之至少一方的移動;前述菸草原料及前述香味基材係配置在藉由前述容納部所構成之同一空間內。
第14特徵係該主旨在於在第13特徵中,前述香吸嚐味製品為使用在前述香吸嚐味成分的抽吸之香味抽吸器;前述香味抽吸器包含:前述香味基材、與保持前述香味基材之保持具;前述保持具於前述香味抽吸器的使用前,作為前述容納部的一部分發揮功能。
第15特徵係該主旨在於在第13特徵中,包裝體係具備:形成用以容納前述菸草原料及前述香吸嚐味 製品之空間之盒體;前述香味基材為在口腔內所使用之口腔用基材;前述香吸嚐味製品是藉由前述口腔用基材本身所構成之口腔用製品;前述容納部是藉由前述盒體所構成。
第16特徵係該主旨在於在第14特徵中,前述香味基材為含有至少一種多元醇之構件。
第17特徵係該主旨在於在第15特徵中,前述口腔用基材為膠基質、錠劑、膜片及糖果基材的至少任一種。
第18特徵係該主旨在於在第13特徵至第17特徵中之任一特徵中,前述同一空間為密閉空間。
10‧‧‧處理裝置
11、21、22、31‧‧‧容器
12‧‧‧噴霧器
20‧‧‧遷移裝置
21A‧‧‧外壁
21B‧‧‧內壁
23、32、34‧‧‧管
30‧‧‧捕集裝置
31A‧‧‧溶劑配置空間
31B‧‧‧溶劑未配置空間
33‧‧‧釋出部分
33A‧‧‧開口
50、50A、111、211、311菸草原料
60、122、322‧‧‧香味基材
61、62‧‧‧釋出成分
63‧‧‧殘存成分
70‧‧‧捕集溶劑
100、200、300‧‧‧包裝體
110‧‧‧供給構件
112‧‧‧包裝體構件
120、220、320‧‧‧香吸嚐味製品
121‧‧‧保持具
130、330‧‧‧容納部
230‧‧‧盒體
231‧‧‧本體
232、310‧‧‧蓋體
233‧‧‧區隔板
312‧‧‧蓋本體
321‧‧‧匣本體
第1圖係顯示第1實施形態之製造裝置的一例之圖。
第2圖係顯示第1實施形態之製造裝置的一例之圖。
第3圖係顯示第1實施形態之香味源的製造方法的基本概念之流程圖。
第4圖係顯示第1實施形態之香味源的製造方法的第1例之流程圖。
第5圖係顯示第1實施形態之香味源的製造方法的第2例之流程圖。
第6圖係顯示第1實施形態之香味源的製造方法的第3例之流程圖。
第7圖係顯示變更例1之製造裝置的一例之圖。
第8圖係用以說明第2實施形態之包裝體的第1例之 圖。
第9圖係用以說明第2實施形態之包裝體的第1例之圖。
第10圖係用以說明第2實施形態之包裝體的第1例之圖。
第11圖係用以說明第2實施形態之包裝體的第2例之圖。
第12圖係用以說明第2實施形態之包裝體的第2例之圖。
第13圖係用以說明第2實施形態之包裝體的第3例之圖。
第14圖係用以說明第1實驗之圖。
第15圖係用以說明第1實驗之圖。
第16圖係用以說明第1實驗之圖。
第17圖係用以說明第2實驗之圖。
第18圖係用以說明第2實驗之圖。
第19圖係用以說明第2實驗之圖。
第20圖係用以說明第3實驗之圖。
第21圖係用以說明第3實驗之圖。
第22圖係用以說明第3實驗之圖。
第23圖係用以說明第4實驗之圖。
第24圖係用以說明第4實驗之圖。
第25圖係用以說明第5實驗之圖。
第26圖係用以說明第5實驗之圖。
第27圖係用以說明第6實驗之圖。
第28圖係用以說明第6實驗之圖。
第29圖係用以說明第6實驗之圖。
以下係說明實施形態。於以下圖面的記載中,對於同一或類似的部分,係附加同一或類似的符號。惟圖面為示意性者,應留意者在於各尺寸的比率等與實際有所不同。
因此,具體的尺寸等,應參考以下的說明來判斷。此外,圖面相互間,當然亦包含彼此之尺寸的關係或比率相異之部分。
[實施形態的概要]
上述技術中,由於菸草原料所含有之夾雜成分對於吸味造成不良影響,故較佳係去除夾雜成分。亦有人提出去除夾雜成分之技術,但在該技術中,係必須有複雜的製程和大規模的裝置,故無法簡便且低成本地去除夾雜成分。
首先,實施形態之香味源的製造方法,為載持菸草原料所含有之香吸嚐味成分之香味源的製造方法。香味源的製造方法係具備:對前述菸草原料施予鹼處理之步驟A;以及以使前述施予鹼處理後之菸草原料及藉由非菸草原料所構成之香味基材維持非接觸狀態之方式,將前述施予鹼處理後之菸草原料及前述香味基材配置在同一空間內,藉此,將從前述菸草原料以氣相所釋出之前述 香吸嚐味成分載持於前述香味基材之步驟B。
實施形態中,在菸草原料及香味基材處於非接觸的狀態下,將從菸草原料以氣相所釋出之香吸嚐味成分載持於香味基材。因此,與在菸草原料及香味基材處於接觸的狀態下使香吸嚐味成分載持於香味基材之情況相比,可簡便且低成本地抑制夾雜成分的遷移,並將菸草原料所含有之香吸嚐味成分載持於香味基材。
其次,實施形態之包裝體,為可攜帶之包裝體。包裝體係具備:具有藉由非菸草原料所構成之香味基材之香吸嚐味製品、施予鹼處理並以氣相來釋出香吸嚐味成分之菸草原料、以及容納前述菸草原料及前述香味基材之容納部。前述容納部以使前述菸草原料及前述香味基材維持非接觸的狀態之方式,限制前述菸草原料及前述香味基材之至少一方的移動。前述菸草原料及前述香味基材配置在藉由前述容納部所構成之同一空間內。
實施形態中,將菸草原料及香味基材配置在藉由容納部所構成之同一空間內,並以使菸草原料及香味基材維持非接觸狀態之方式,限制菸草原料及香味基材之至少一方的移動。因此,可簡便且低成本地抑制夾雜成分的遷移,並將菸草原料所含有之香吸嚐味成分載持於香味基材。
[第1實施形態] (製造裝置)
以下,說明第1實施形態之製造裝置。第1圖及第2圖係顯示第1實施形態之製造裝置的一例之圖。
首先,參考第1圖來說明處理裝置10的一例。處理裝置10具有容器11及噴霧器12。
容器11係容納菸草原料50。容器11例如藉由具有耐熱性及耐壓性之構件(如SUS;Steel Used Stainless)所構成。容器11較佳係構成密閉空間。所謂「密閉空間」,意指在通常的處理(運送、保存等)中,防止雜質混入之狀態。藉此,可抑制菸草原料50所含有之香吸嚐味成分往容器11的外側逸散。
菸鹼成分,如上述般,為賦予菸草香吸嚐味之香吸嚐味成分的一例,實施形態中,應注意的是使用作為香吸嚐味成分的指標。
噴霧器12係將鹼物質賦予至菸草原料50。鹼物質較佳例如使用碳酸鉀水溶液等鹼性物質。
在此,噴霧器12較佳係將鹼物質賦予至菸草原料50的pH成為8.0至14.0的範圍為止,較佳成為8.5至11.0的範圍為止。此外,為了有效率地從菸草原料50以氣相有效率地來釋出香吸嚐味成分,鹼物質噴霧後之菸草原料50的水分量,較佳為10重量%以上,更佳為30重量%以上。菸草原料50之水分量的上限並無特別限定,例如為了有效率地加熱菸草原料50,較佳為50重量%以下。
菸草原料50所含有之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的初期含量,於乾燥狀態下,當菸草原料50 的總重量為100重量%時,較佳為2.0重量%以上。香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的初期含量,較佳為4.0重量%以上。
菸草原料50例如可使用菸葉相思草(Nicotiana.tabacum)或黃花煙草(Nicotiana.rustica)等之菸草屬的原料。菸葉相思草例如可使用白肋種或黃色種等之品種。菸草原料50亦可使用白肋種或黃色種以外之種類的菸草原料。
菸草原料50可藉由菸絲或粉粒體的菸草原料所構成。此時,菸絲或粉粒體的粒徑較佳為0.5mm至1.18mm。
其次,參考第2圖來說明遷移裝置20的一例。遷移裝置20係具備:容器21、容器22、以及管23。
容器21具有外壁21A及內壁21B。藉由外壁21A及內壁21B所構成之容器21,係容納施予鹼處理後之菸草原料50(以下為菸草原料50A)。於外壁21A及內壁21B之間,形成熱介質(例如蒸氣)循環之流路。藉由在形成於外壁21A及內壁21B之間之流路中循環的熱介質,加熱被容納於容器21內之菸草原料50A。
容器22係作為另外與容器21不同而設置,並容納香味基材60。管23為筒狀的構件,管23的一端往容器21的內側呈開口,管23的另一端往容器22的內側呈開口。
在此,容器21、容器22及管23係以使菸 草原料50A及香味基材60維持非接觸狀態之方式容納菸草原料50A及香味基材60。容器21、容器22及管23,較佳係構成密閉空間。所謂「密閉空間」意指在通常的處理(運送、保存等)中,防止雜質混入之狀態。藉此,可抑制菸草原料50所含有之香吸嚐味成分往密閉空間的外側逸散。
如上述般,在形成於外壁21A及內壁21B之間之流路中循環的熱介質,係加熱被容納於容器21內之菸草原料50A。菸草原料50A的加熱條件並無特別限定,較佳為40℃以上且未達150℃。
香味基材60係藉由非菸草原料所構成。香味基材60較佳為固體狀的構件或含浸於固體之液體。
固體狀的構件,只要是具有一定形狀之構件即可,可為具有一定的黏度之半固體(凝膠狀的構件)。香味基材60為固體狀的構件時,香味基材60例如可為膠基質、錠劑、膜片及糖果基材的至少任一種。
含浸於固體之液體,例如為含有多元醇等之噴霧源(例如甘油)之捕集溶劑。捕集溶劑係除了甘油之外,亦可含有酸性物質。酸性物質例如可使用果糖衍酸(Levulinic Acid)、蘋果酸、檸檬酸、酒石酸、丙酮酸(Pyruvic Acid)或甲酸等之羧酸。捕集溶劑係除了甘油及酸性物質之外,亦可含有水或丙二醇。香味基材60為含浸於固體之液體時,香味基材60例如為含浸於濾嘴構件(例如乙酸酯濾嘴)之捕集溶劑。惟,實施形態並不限定於此,香味基材60亦可為容納於電子香菸用的匣之捕集溶劑。
(香味源的製造方法的基本概念)
以下,說明第1實施形態之香味源的製造方法的基本概念。第3圖係顯示第1實施形態之香味源的製造方法的基本概念之流程圖。
如第3圖所示,步驟S10(亦即步驟A)中,使用上述處理裝置10,將鹼物質賦予至菸草原料50。鹼物質例如可使用碳酸鉀水溶液等之鹼性物質。
菸草原料50所含有之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的初期含量,於乾燥狀態下,當菸草原料50的總重量為100重量%時,較佳為2.0重量%以上。香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的初期含量,較佳為4.0重量%以上。
鹼處理後之菸草原料50的pH,為8.0至14.0的範圍,較佳為8.5至11.0的範圍。
步驟S20(亦即步驟B)中,使用上述遷移裝置20,將從施予鹼處理後之菸草原料50(菸草原料50A)以氣相所釋出之香吸嚐味成分,載持於香味基材60。此處,菸草原料50A及香味基材60係以使菸草原料50A及香味基材60維持非接觸狀態之方式,配置在藉由容器21及容器22所構成之同一空間內。藉由容器21及容器22所構成之同一空間,較佳為密閉空間。
在此,步驟S20較佳係包含對施予鹼處理後之菸草原料50(菸草原料50A)進行加熱之步驟。菸草原料 50A的加熱條件並無特別限定,如上述般,較佳係40℃以上且未達150℃。惟,應留意的是亦可不進行菸草原料50A的加熱。
步驟S30中,有時會藏置香味基材60。香味基材60的藏置,可在密閉空間進行或開放空間進行。此外,香味基材60的藏置,可在密閉空間進行之後,在開放空間進行。香味基材60係在菸草原料50A未存在於同一空間之狀態下藏置。藏置的樣態,可考量為於製品的流通過程、製造工廠、店鋪中的保管。
(香味源的製造方法的第1例)
以下,說明第1實施形態之香味源的製造方法的第1例。第4圖係顯示第1實施形態之香味源的製造方法的第1例之流程圖。第4圖中,對於與第3圖相同之處理,係賦予同樣的步驟號碼。惟,應留意的是第4圖所示之流程為第3圖所示之流程的選項,並非必要之流程。
第1例係適用於香味基材60為固體狀的構件之情況。亦即,香味基材60例如為膠基質、錠劑、膜片及糖果基材的至少任一種。
如第4圖所示,第1例中,與第3圖所示之流程相比,係追加步驟S22A至步驟S23A。
步驟S22A(亦即步驟C)中,係混練香味基材60。具體而言,係以使香味基材60的內部與香味基材60的表層部互換之方式混練香味基材60。藉此,由於移往香 味基材60的表層部之香吸嚐味成分被封入於香味基材60的內側,所以可抑制移往香味基材60的表層部之香吸嚐味成分的揮發。混練處理(步驟S22A),從處理容易度來看,可在開放空間進行。惟,混練處理(步驟S22A)亦可與步驟S20同樣地在密閉空間進行。
步驟S23A(亦即步驟D)中,係使香味基材60成形。應留意的是,步驟S23A(成形處理)係於步驟S22A(混練處理)後進行。
第1例中,遷移處理(步驟S20)係可包含對施予鹼處理後之菸草原料50(菸草原料50A)進行加熱之步驟。
(香味源的製造方法之第2例)
以下,說明第1實施形態之香味源的製造方法的第2例。第5圖係顯示第1實施形態之香味源的製造方法的第2例之流程圖。第5圖中,對於與第3圖及第4圖相同之處理,係賦予同樣的步驟號碼。惟應留意的是第5圖所示之流程為第4圖所示之流程的選項,並非必要之流程。
第2例係與第1例相同,係適用於香味基材60為固體狀的構件之情況。亦即,香味基材60例如為膠基質、錠劑、膜片及糖果基材的至少任一種。
如第5圖所示,第2例中,與第4圖所示之流程相比,係追加步驟S21A。
步驟S21A中,係判定遷移處理是否進行N 次以上。N為2以上的整數。判定結果為YES時,進行步驟S22C的處理。判定結果為NO時,進行步驟S22A的處理。
在此,應留意的是,第5圖所示之流程中,由於N為2以上,所以進行至少2次的遷移處理(步驟S20)。此外,應留意的是以於混練處理(步驟S22A)後進行遷移處理(步驟S20)者設為1循環時,係至少進行1次之循環。藉此,除了抑制移往香味基材60的表層部之香吸嚐味成分的揮發之外,並且在香味基材60的表層部所含有之香吸嚐味成分的濃度藉由混練處理(步驟S22A)而降低之狀態下進行遷移處理(步驟S20),所以可從菸草原料50A使期望量的香吸嚐味成分迅速地往香味基材60遷移。
第2例中,應留意的是由於N為2以上,所以步驟S23A(成形處理)係於步驟S22A(混練處理)後進行。
此外,第2例中,遷移處理(步驟S20)可包含對施予鹼處理後之菸草原料50(菸草原料50A)進行加熱之步驟。
(香味源的製造方法的第3例)
以下說明第1實施形態之香味源的製造方法的第3例。第6圖係顯示第1實施形態之香味源的製造方法的第3例之流程圖。第6圖中,對於與第3圖相同之處理,係賦予同樣的步驟號碼。惟應留意的是第6圖所示之流程為 第3圖所示之流程的選項,並非必要之流程。
第3例係適用於香味基材60為捕集溶劑之情況。香味基材60例如為含浸於濾嘴構件(例如乙酸酯濾嘴)之捕集溶劑。惟實施形態並不限定於此,香味基材60亦可為容納於電子香菸用的匣之捕集溶劑。捕集溶劑例如為多元醇等之噴霧源(例如甘油)。
如第6圖所示,第3例中,與第3圖所示之流程相比,係追加步驟S21B。
在步驟S21B(亦即步驟E及步驟F)中,係進行添加處理。添加處理只要在較步驟S20(遷移處理)前進行即可,亦可在較步驟S10(鹼處理)前進行。
第3例中係遷移處理(步驟S20)可包含對施予鹼處理後之菸草原料50(菸草原料50A)進行加熱之步驟。此外,第3例中,較佳係使用上述遷移裝置20,且捕集溶劑未被加熱。
步驟S21B(添加處理)中,係將添加物添加於捕集溶劑。添加物例如為酸性物質,酸性物質例如可使用果糖衍酸、蘋果酸、檸檬酸、酒石酸、丙酮酸或甲酸等之羧酸。亦即,步驟S21B(添加處理)係包含將羧酸添加於捕集溶劑之步驟(步驟E)。
在此,酸性物質(羧酸)的添加量,較佳係滿足以下之條件。具體而言,該條件為:添加於捕集溶劑之酸性物質(羧酸)的莫耳量相對於藉由捕集溶劑所捕集之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的莫耳量之比率(以下為A/N 比)為大於0.5且小於1.0之條件。在此應留意的是,A/N比的下限及上限包含約0.03的誤差。亦即,A/N比係以大於0.47至0.53的範圍內之任一值(下限值)較佳,且小於0.97至1.03的範圍內之任一值(上限值)為較佳。
再者,步驟S21B(添加處理)較佳係包含:在A/N比為0.5以下之情況下,將丙二醇、水、或丙二醇及水的混合液添加於捕集溶劑之步驟(步驟F)。具體而言,如此之步驟較佳為使至少含有香吸嚐味成分、羧酸及捕集溶劑之捕集溶液設為100重量%時,將10重量%以上的丙二醇、10重量%以上的水、或合計為10重量%以上的混合液,添加於捕集溶劑或捕集溶液之步驟。在此,丙二醇、水之添加量或混合液之添加量的上限並無特別限定,較佳為80重量%,更佳為50重量%。添加物係除了丙二醇、水、或混合液之外,亦可含有上述羧酸。
如此,與羧酸相比,香吸嚐味成分(例如菸鹼成分)較多之情況下,藉由添加丙二醇及水的至少一方,如後述第4實驗所示般,可提升香吸嚐味成分殘存率。
另一方面,步驟S21B(添加處理)較佳係包含:在A/N比為1.0以上之情況下,將水添加於捕集溶劑之步驟(步驟F)。具體而言,如此之步驟為使至少含有香吸嚐味成分、羧酸及捕集溶劑之捕集溶液設為100重量%時,將10重量%以上的水添加於捕集溶劑或捕集溶液之步驟為較佳。在此,水之添加量的上限並無特別限定,較佳為80重量%,更佳為50重量%。添加物除了丙二醇、水、或混 合液之外,亦可含有上述羧酸。
如此,與香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)相比,羧酸較多之情況下,亦即因羧酸與甘油之反應而容易產生羧酸的酯化之情況下,藉由添加水,可抑制因羧酸與甘油之反應所產生之羧酸的酯化。因此,可抑制伴隨著羧酸的酯化之不必要之酯的生成。
(作用及效果)
第1實施形態中,在菸草原料50及香味基材60處於非接觸的狀態下,將從菸草原料50以氣相所釋出之香吸嚐味成分載持於香味基材60。因此,與在菸草原料及香味基材處於接觸的狀態下將香吸嚐味成分載持於香味基材之情況相比,可簡便且低成本地抑制夾雜成分的遷移,並將菸草原料50所含有之香吸嚐味成分載持於香味基材60。
[變更例1]
以下,說明第1實施形態的變更例1。以下係主要說明相對於第1實施形態之相異點。變更例1為上述香味源的製造方法的第3例(亦即,香味基材60為捕集溶劑之情況)之變更例1。
具體而言,第1實施形態中,係例示出示意性的遷移裝置20,作為用以進行遷移處理(步驟S20)之裝置。相對於此,變更例1中,使用第1圖所示之處理裝置10及第7圖所示之捕集裝置30,作為用以進行遷移處理(步 驟S20)之裝置。對施予鹼處理後之菸草原料50A進行加熱時,在將菸草原料50A容納於處理裝置10的容器11之狀態下,可將容器11一起加熱菸草原料50A。
如第7圖所示,捕集裝置30具有:容器31、管32、釋出部分33、及管34。
容器31係容納捕集溶劑70(亦即香味基材60)。容器31例如藉由對於捕集溶劑及揮發性香吸嚐味成分/揮發性夾雜物具有承受性之構件(例如玻璃或不鏽鋼(SUS))所構成。容器31較佳係構成具有可抑制空氣往空間外移動之程度的氣密性之空間。
捕集溶劑70的溫度例如為常溫。此處,常溫的下限例如為捕集溶劑70不會凝固之溫度,較佳為10℃。常溫的上限例如為40℃以下。藉由將捕集溶劑70的溫度設為10℃以上40℃以下,可抑制來自捕集溶液之香吸嚐味成分的逸散,並可從捕集溶液有效率地去除銨離子或吡啶等之揮發性夾雜成分。為了使捕集溶劑70的溫度成為10℃以上40℃以下,可將容器31的溫度冷卻至低於常溫之溫度(例如5℃)。
捕集溶劑70例如可使用甘油、水或乙醇。於捕集溶劑70中係與第1實施形態相同,可添加酸性物質。酸性物質可使用例如果糖衍酸、蘋果酸、檸檬酸、酒石酸、丙酮酸或甲酸等之羧酸。
管體32係與第1圖所示之處理裝置10的容器11連通。管體32係將藉由菸草原料50的加熱從菸草原 料50以氣相所釋出之釋出成分61導引至捕集溶劑70。
釋出部分33係設置在管體32的前端,並浸漬在捕集溶劑70。釋出部分33具有複數個開口33A。藉由管體32所導引之釋出成分61,係作為泡狀的釋出成分62從複數個開口33A釋出至捕集溶劑70中。
管體34係將未被捕集溶劑70捕集之殘存成分63導引至容器31的外側。
變更例1中,上述容器31係藉由捕集溶劑70的界面而區分為配置有捕集溶劑70之溶劑配置空間31A、以及未配置捕集溶劑70之溶劑未配置空間31B。設置在管體32的前端之釋出部分33,被配置在溶劑配置空間31A內。亦即,菸草原料50及捕集溶劑70係配置在藉由第1圖所示之容器11、第7圖所示之溶劑配置空間31A、以及連通於容器11與溶劑配置空間31A之管體32及釋出部分33所構成之同一空間內。在從菸草原料50以氣相所釋出之釋出成分61與捕集溶劑70接觸前之階段中可抑制釋出成分61的逸散之涵義上,變更例1之同一空間為密閉空間。
在此,釋出成分62由於是藉由菸草原料50的加熱以氣相所釋出之成分,所以有可能因釋出成分62而使捕集溶劑70的溫度上升。因此,捕集裝置30為了將捕集溶劑70的溫度維持在常溫,可具有冷卻捕集溶劑70之功能。
捕集裝置30為了增大釋出成分62相對於捕 集溶劑70之接觸面積,可具有拉西環(Raschig Ring)。
在此,添加於捕集溶劑之羧酸的莫耳量相對於被捕集溶劑所捕集之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的莫耳量之比率為1.0以上之情況下,使至少含有香吸嚐味成分、羧酸及捕集溶劑之捕集溶液設為100重量%時,捕集溶液較佳係含有10重量%以上的水。至少於步驟S30(藏置處理)前,只要捕集溶液含有10重量%以上的水即可。此外,較佳係從遷移處理(步驟S20)至步驟S30(藏置處理)為止,維持捕集溶液含有10重量%以上的水之狀態。捕集溶液所含有之水的上限並無特別限定,較佳為80重量%以下。
遷移處理(步驟S20)所使用之捕集溶劑,可使用水,亦可使用添加有羧酸之水。於該情況下,可於捕集溶劑中更添加甘油。添加甘油之時機,係於進行步驟S30(藏置處理)時,只要在步驟S30(藏置處理)之前即可。添加甘油之時機,係於遷移處理(步驟S20)加熱捕集溶劑時,從抑制甘油的揮發或改質之觀點來看,較佳係在遷移處理(步驟S20)之後。如上述般,於甘油的添加後,捕集溶液較佳係含有10重量%以上的水。
此外,添加於捕集溶劑之羧酸的莫耳量相對於被捕集溶劑捕集之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的莫耳量之比率為0.5以下之情況下,使至少含有香吸嚐味成分、羧酸及捕集溶劑之捕集溶液設為100重量%時,捕集溶液較佳係含有10重量%以上的丙二醇、10重量%以上 的水、或合計為10重量%以上之丙二醇及水的混合液。至少於步驟S30(藏置處理)之前,只要捕集溶液含有10重量%以上的丙二醇、水或混合液即可。此外,較佳係從遷移處理(步驟S20)至步驟S30(藏置處理)為止,維持捕集溶液含有10重量%以上的丙二醇、水或混合液之狀態。捕集溶液所含有之丙二醇、水或混合液的上限並無特別限定,較佳為80重量%以下。
[第2實施形態] (包裝體的第1例)
以下係說明第2實施形態之包裝體的第1例。第8圖至第10圖係用以說明第2實施形態之包裝體100之圖。
如第8圖所示,包裝體100為可攜帶。包裝體100具有供給構件110與香吸嚐味製品120。
供給構件110具有菸草原料111及包裝構件112。菸草原料111係施予鹼處理並以氣相來釋出香吸嚐味成分。包裝構件112係包裝菸草原料111的至少一部分。
香吸嚐味製品120為使用在香吸嚐味成分的抽吸之香味抽吸器。香吸嚐味製品120具有保持具121及香味基材122。保持具121例如為具有筒狀形狀之紙管,並保持香味基材122。此外,於保持具121內,插入有供給構件110的菸草原料111。香味基材122例如為乙酸酯濾嘴。香味基材122為含有至少一種多元醇之構件。多元醇例如為甘油或丙二醇等。香味基材122係捕集從菸草原 料111以氣相所釋出之香吸嚐味成分。
包裝體的第1例中,包裝構件112及保持具121係構成容納菸草原料111及香味基材122之容納部130。容納部130以使菸草原料111及香味基材122維持非接觸狀態之方式,限制菸草原料111及香味基材122之至少一方的移動。菸草原料111及香味基材122配置在由容納部130(包裝構件112及保持具121)所構成之同一空間內。
具體而言,被包裝構件112所保持之菸草原料111,如第9圖所示,被插入於保持具121,並暴露於保持具121的內側空間。由於菸草原料111被包裝構件112所保持,且香味基材122藉由保持具121所保持,所以菸草原料111及香味基材122維持在非接觸的狀態。
在此,被包裝構件112及保持具121所構成之同一空間,較佳為密閉空間。所謂「密閉空間」,意指在通常的處理(運送、保存等)中,防止雜質的混入之狀態。例如,保持具121的一端被供給構件110所封閉,保持具121的另一端被密封構件密封。藉此,可抑制菸草原料111所含有之香吸嚐味成分往容納部130(包裝構件112及保持具121)的外側逸散。
包裝的第1例中,應留意的是,供給構件110,如第10圖(第8圖所示之A-A剖面)所示,在香吸嚐味製品120(香味抽吸器)的使用時,從香吸嚐味製品120卸下。亦即,應留意的是,保持具121在香吸嚐味製品120(香 味抽吸器)的使用前,具有作為容納部130的一部分之功能,但在香吸嚐味製品120(香味抽吸器)的使用時,並不具有作為容納部130的一部分之功能。
雖無特別限定,但在包裝體的第1例中,香吸嚐味製品120可為具備伴隨著燃燒之碳熱源等之燃燒型香味抽吸器,亦可為具備未伴隨著燃燒而產生噴霧之霧化器等之非燃燒型香味抽吸器。
包裝體的第1例中,菸草原料111,與菸草原料50相同,例如可使用菸葉相思草(Nicotiana.tabacum)或黃花煙草(Nicotiana.rustica)等之菸草屬的原料。菸葉相思草例如可使用白肋種或黃色種等之品種。菸草原料111亦可使用白肋種或黃色種以外之種類的菸草原料。
菸草原料111可藉由菸絲或粉粒體的菸草原料所構成。此時,菸絲或粉粒體的粒徑,為了增大比表面積,較佳為1.18mm以下。更佳係菸絲或粉粒體的粒徑為0.5mm以下。此處,菸絲或粉粒體的粒徑之下限值並無特別限定,較佳為0.212mm以上。
菸草原料111所含有之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的初期含量,於乾燥狀態下,當菸草原料111的總重量為100重量%時,較佳為2.0重量%以上。香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的初期含量,較佳為4.0重量%以上。
鹼處理後之菸草原料111的pH,如上述般,較佳為8.0以上。更佳係鹼處理後之菸草原料111的pH為 8.0至14.0的範圍,再更佳為8.5至11.0的範圍。
(包裝體的第2例)
以下係說明第2實施形態之包裝體的第2例。第11圖至第12圖係用以說明第2實施形態之包裝體200之圖。
如第11圖及第12圖所示,包裝體200為可攜帶。包裝體200具有香吸嚐味製品220及盒體230。
香吸嚐味製品220是由在口腔內所使用之口腔用基材本身所構成之口腔用製品。口腔用基材是由非菸草材料所構成之香味基材的一例。香吸嚐味製品220例如為膠基質、錠劑、膜片及糖果基材的至少任一種。
盒體230為形成用以容納菸草原料221及香吸嚐味製品220之空間之容納部的一例。盒體230具有:本體231、蓋體232、區隔板233。
本體231具有箱形狀。蓋體232係可開閉地安裝於本體231。本體231及蓋體232係於關閉蓋體232之狀態下,形成容納菸草原料211及香吸嚐味製品220之空間。區隔板233係將藉由本體231及蓋體232所形成之空間,區隔為容納菸草原料211之空間與容納香吸嚐味製品220之空間。區隔板233具有開孔,該開孔係用以使從菸草原料211以氣相所釋出之香吸嚐味成分,從容納菸草原料211之空間對於容納香吸嚐味製品220之空間進行通氣者。區隔板233較佳係具有複數個開孔。
亦即,盒體230係以使菸草原料211及香吸 嚐味製品220維持非接觸狀態之方式,藉由區隔板233來限制菸草原料211及香吸嚐味製品220之至少一方的移動。菸草原料211及香吸嚐味製品220係配置在藉由盒體230(本體231及蓋體232)所構成之同一空間內。同一空間較佳為密閉空間。所謂「密閉空間」,意指在通常的處理(運送、保存等)中,防止雜質的混入之狀態。藉此,可抑制菸草原料211所含有之香吸嚐味成分往盒體230的外側逸散。
包裝體的第2例中,菸草原料211係與菸草原料111相同,施予鹼處理並以氣相來釋出香吸嚐味成分。菸草原料211例如可使用菸葉相思草(Nicotiana.tabacum)或黃花煙草(Nicotiana.rustica)等之菸草屬的原料。菸葉相思草例如可使用白肋種或黃色種等之品種。菸草原料111亦可使用白肋種或黃色種以外之種類的菸草原料。
菸草原料211可藉由菸絲或粉粒體的菸草原料所構成。此時,菸絲或粉粒體的粒徑,為了增大比表面積,較佳為1.18mm以下。更佳係菸絲或粉粒體的粒徑為0.5mm以下。在此,菸絲或粉粒體的粒徑之下限值並無特別限定,較佳為0.212mm以上。
菸草原料211所含有之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的初期含量,於乾燥狀態下,當菸草原料211的總重量為100重量%時,較佳為2.0重量%以上。香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的初期含量,較佳為4.0重量%以上。
鹼處理後之菸草原料211的pH,如上述般,較佳為8.0以上。更佳係鹼處理後之菸草原料211的pH為8.0至14.0的範圍,較佳為8.5至11.0的範圍。
包裝體的第2例中,菸草原料211可裝入於具有透氣性之袋等。藉此,構成菸草原料211之菸絲或粉粒體的菸草原料,不會從區隔板233的開孔進入於容納香吸嚐味製品220之空間。
(包裝體的第3例)
以下係說明第2實施形態之包裝體的第3例。第13圖係用以說明第2實施形態之包裝體300之圖。
如第13圖所示,包裝體300為可攜帶。包裝體300為例如使用於具備霧化器等之非燃燒型香味抽吸器之匣。包裝體300具備蓋體310及香吸嚐味製品320。
蓋體310具有菸草原料311及蓋本體312。菸草原料311具有與菸草原料111相同之構成。菸草原料311係施予鹼處理並以氣相來釋出香吸嚐味成分。蓋本體312係保持菸草原料311。
香吸嚐味製品320具有匣本體321及香味基材322。匣本體321例如為具有筒狀形狀之構件,並保持香味基材322。香味基材322例如是由樹脂膜布或棉等之多孔體所構成,且含有至少一種多元醇之構件。多元醇例如為甘油或丙二醇等。香味基材322係捕集從菸草原料311以氣相所釋出之香吸嚐味成分。
包裝體的第3例中,蓋本體312及匣本體321係構成容納菸草原料311及香味基材322之容納部330。容納部330以使菸草原料311及香味基材322維持非接觸狀態之方式,限制菸草原料311及香味基材322之至少一方的移動。菸草原料311及香味基材322配置在藉由容納部330(蓋本體312及匣本體321)所構成之同一空間內。
具體而言,藉由蓋本體312所保持之菸草原料311,被插入於匣本體321,並暴露於匣本體321的內側空間。由於菸草原料311被蓋本體312所保持,且香味基材322藉由匣本體321所保持,所以菸草原料311及香味基材322維持非接觸的狀態。
在此,藉由蓋本體312及匣本體321所構成之同一空間,較佳為密閉空間。所謂「密閉空間」,意指在通常的處理(運送、保存等)中,防止雜質的混入之狀態。例如,匣本體321的一端係藉由蓋體310所封閉,匣本體321的另一端係被密封構件所密封。藉此,可抑制菸草原料311所含有之香吸嚐味成分往容納部330(蓋本體312及匣本體321)的外側逸散。
在包裝體的第3例中,應留意的是,蓋本體312在香吸嚐味製品320的使用時從香吸嚐味製品320卸下。所謂香吸嚐味製品320的使用時,意指將香吸嚐味製品320裝載於非燃燒型香味抽吸器時。
(作用及效果)
第2實施形態中,將菸草原料111(菸草原料211或菸草原料311)及香味基材122(香吸嚐味製品220或香味基材322)配置在藉由容納部130(盒體230或容納部330)所構成之同一空間內,並以使菸草原料111(菸草原料211或菸草原料311)及香味基材122(香吸嚐味製品220或香味基材322)維持非接觸狀態之方式,限制菸草原料111(菸草原料211或菸草原料311)及香味基材122(香吸嚐味製品220或香味基材322)之至少一方的移動。因此,可簡便且低成本地抑制夾雜成分的遷移,並將菸草原料111(菸草原料211或菸草原料311)所含有之香吸嚐味成分載持於香味基材122(香吸嚐味製品220或香味基材322)。
[實驗結果] (第1實驗)
在第1實驗中,依據上述香味源的製造方法的基本概念(參考第3圖)來製造樣本1-4。惟,省略有關步驟S30(藏置處理)。樣本1-4的製造所使用之菸草原料及香味基材(膠基質)的組成及重量,如第14圖所示。此外,第3圖所示之步驟S20(遷移處理)所適用之條件(遷移溫度及遷移期間),如第14圖所示。樣本1、2的製造所使用之遷移來源原料的原料量係設為40mg,樣本3、4的製造所使用之遷移來源原料的原料量係設為80mg。
在此,樣本1-4之香味基材,係使用具有 5mm的直徑之球狀的膠基質。第1實驗中,以使表層部與內部之重量比成為1:1之方式,將膠基質區分為表層部與內部,並測定表層部與內部的香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)。樣本1、2的測定結果如第15圖所示,樣本3、4的測定結果如第16圖所示。
如第15圖所示,於遷移期間相同且遷移溫度不同之樣本1、2之任一者中,均確認到約90%以上的香吸嚐味成分包含於表層部。此外,如第16圖所示,於遷移溫度相同且遷移期間不同之樣本3、4中,均確認到約90%以上的香吸嚐味成分包含於表層部。
亦即,根據第1實驗,不依存於遷移期間及遷移溫度,而可確認到香吸嚐味成分集中於表層部。因此,直接於該狀態下進行香味基材的藏置處理(例如於製品的流通過程、製造工廠、店鋪中的保管)時,可確認到集中於表層部之香吸嚐味成分容易揮發。換言之,可得到以下發現,亦即如上述香味源的製造方法之第1例(參考第4圖)般,藉由在進行遷移處理(步驟S20)後進行混練處理(步驟S22A),可將遷移至香味基材的表層部之香吸嚐味成分封閉於香味基材的內側,並有效地抑制遷移至香味基材的表層部之香吸嚐味成分的揮發。
再者,如上述香味源的製造方法的第2例(參考第5圖)般,在進行遷移處理(步驟S20)後進行混練處理(步驟S22A)後,更進行遷移處理(步驟S20),藉此,在香味基材的表層部所含有之香吸嚐味成分的濃度經由混練 處理(步驟S22A)而降低之狀態下進行遷移處理(步驟S20),所以可從菸草原料將期望量的香吸嚐味成分迅速地遷移往香味基材。
(第2實驗)
在第2實驗中,依據上述香味源的製造方法的基本概念(參考第3圖)來製造樣本11、12。惟,省略步驟S30(藏置處理)。樣本11、12的製造所使用之菸草原料及香味基材(載持於乙酸酯濾嘴之捕集溶液)的組成及重量,如第17圖所示。此外,第3圖所示之步驟S20(遷移處理)所適用之條件(遷移溫度及遷移期間),如第17圖所示。
第2實驗中,於進行遷移處理(步驟S20)後,測定樣本11、12的香吸嚐味成分(在此,為菸鹼成分)含量。樣本11、12的測定結果,如第18圖及第19圖所示。
如第18圖及第19圖所示,可確認到與載持於乙酸酯濾嘴之捕集溶液僅由甘油所構成之樣本12相比,載持於乙酸酯濾嘴之捕集溶液除了甘油之外亦含有果糖衍酸之樣本11的香吸嚐味成分含量較多。
亦即,上述香味源的製造方法的第3例之添加處理(步驟S21B)中,可確認到藉由將酸性物質(在此為果糖衍酸)添加於捕集溶劑,可抑制先前被遷移至捕集溶劑之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)再次揮發,而能夠維持載持於香味基材之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)。
(第3實驗)
在第3實驗中,係模擬上述香味源的製造方法的第3例(參考第6圖),藉由菸鹼(CAS:54-11-5、純度:99.5%)及其他試藥的混合來製造樣本21-24。亦即,樣本21-樣本24中,係使用甘油作為香味基材(捕集溶劑)。以添加物之添加後的捕集溶液為100重量%時,樣本21的甘油量約70重量%,樣本22至樣本24的甘油量約90重量%。此外,關於樣本22-24,係將酸性物質(在此為果糖衍酸)添加於捕集溶劑。樣本22-24的A/N比,如第20圖所示,分別為0.53、1.16、3.52。A/N比,如上述般,為添加於捕集溶劑之酸性物質(在此為果糖衍酸)的莫耳量相對於被捕集溶劑所捕集之香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)的莫耳量之比率。
在第3實驗中,步驟S30(藏置處理)係在控制於40℃之環境下,涵蓋7天進行開放空間條件下的藏置。對於樣本21-24,係測定:進行開放空間條件下的藏置後之香吸嚐味成分量(在此為菸鹼成分量)相對於進行開放空間條件下的藏置前之香吸嚐味成分量(在此為菸鹼成分量)之比率(香吸嚐味成分殘存率)。該測定結果如第20圖及第21圖所示。此外,對於樣本22-24,係測定:進行開放空間條件下的藏置後之果糖衍酸量相對於進行開放空間條件下的藏置前之果糖衍酸量之比率(果糖衍酸殘存率)。該測定結果如第20圖及第22圖所示。
在此,第3實驗中,若香吸嚐味成分殘存率為0.8以上,則判定為香吸嚐味成分殘存率充足,若果糖 衍酸殘存率為0.8以上,則判定為果糖衍酸殘存率充足。
如第21圖所示,可確認到與不含果糖衍酸之樣本21相比,含有果糖衍酸之樣本22-24的香吸嚐味成分殘存率高。詳細而言,關於A/N比為1.0以上之樣本23及樣本24,香吸嚐味成分殘存率超過0.8,可確認到香吸嚐味成分殘存率充足,但當考量到0.03的誤差時,關於A/N比為0.5以下之樣本22,香吸嚐味成分殘存率低於0.5,可確認到香吸嚐味成分殘存率不足。另一方面,如第22圖所示,可確認到A/N比愈高,果糖衍酸殘存率愈降低。詳細而言,關於A/N比為1.0以上之樣本23及樣本24,果糖衍酸殘存率低於0.8,可確認到果糖衍酸殘存率不足,但當考量到0.03的誤差時,關於A/N比為0.5以下之樣本22,果糖衍酸殘存率超過0.8,可確認到果糖衍酸殘存率充足。
換言之,藉由酸性物質(在此,為果糖衍酸)的添加,雖然可提升香吸嚐味成分殘存率,但當考量到0.03的誤差時,A/N比為0.5以下之樣本22,該香吸嚐味成分殘存率不足,A/N比為1.0以上之樣本23及樣本24,該果糖衍酸殘存率不足。
在此,果糖衍酸殘存率的降低,可推測為因果糖衍酸與甘油的反應所產生之果糖衍酸的酯化等,而導致多餘物質的生成,故應留意的是以避免果糖衍酸殘存率的降低為較佳。
(第4實驗)
第4實驗中,係模擬上述香味源的製造方法的第3例(參考第6圖),藉由菸鹼(CAS:54-11-5、純度:99.5%)及其他試藥的混合來製造樣本31-33。亦即,樣本31-樣本33中,係使用甘油作為香味基材(捕集溶劑)。以添加物之添加後的捕集溶液為100重量%時,樣本31的甘油量約90重量%,樣本32及樣本33的甘油量約80重量%。此外,關於樣本31-樣本33,係將酸性物質(在此為果糖衍酸)添加於捕集溶劑。樣本31-33的A/N比,如第23圖所示,分別為0.53、0.50、0.49。應留意的是,考量到0.03的誤差時,樣本31-33係A/N比為0.5以下之樣本。在此,關於樣本32,係將10重量%的丙二醇添加於捕集溶劑中,關於樣本33,係將10重量%的水添加於捕集溶劑中。
第4實驗中,步驟S30(藏置處理),係在控制於40℃之環境下,涵蓋7天進行開放空間條件下的藏置。對於樣本31-33,係測定:進行開放空間條件下的藏置後之香吸嚐味成分量(在此為菸鹼成分量)相對於進行開放空間條件下的藏置前之香吸嚐味成分量(在此為菸鹼成分量)之比率(香吸嚐味成分殘存率)。該測定結果如第23圖及第24圖所示。
在此,第4實驗中,若香吸嚐味成分殘存率為0.8以上,則判定為香吸嚐味成分殘存率充足。
如第24圖所示,可確認到關於將10重量%的丙二醇或水添加於捕集溶劑之樣本32及33,香吸嚐味成分殘存率超過0.8,可確認到香吸嚐味成分殘存率充足, 關於未添加丙二醇或水之樣本31,香吸嚐味成分殘存率低於0.8,可確認到香吸嚐味成分殘存率不足。亦即,第3實驗中,考量到0.03的誤差時,關於A/N比為0.5以下之樣本,雖確認到香吸嚐味成分殘存率不足,但即使是該樣本,藉由添加10重量%以上的丙二醇或水,可改善香吸嚐味成分殘存率。此外,當A/N比為0.5以下時,從第3實驗的結果,應留意果糖衍酸殘存率充足。
如此,在A/N比為0.5以下之情況下,以添加物(在此為果糖衍酸及丙二醇、果糖衍酸及水、或果糖衍酸、丙二醇及水)之添加後的捕集溶液為100重量%時,藉由使捕集溶液含有10重量%以上的丙二醇或10重量%以上的水,可確認到能夠充分地維持果糖衍酸殘存率,並提升香吸嚐味成分殘存率。
此外,可推測為藉由使捕集溶液含有合計為10重量%以上之丙二醇及水的混合液,亦可得到同樣之效果。
(第5實驗)
第5實驗中,係模擬上述香味源的製造方法的第3例(參考第6圖),藉由菸鹼(CAS:54-11-5、純度:99.5%)及其他試藥的混合來製造樣本41-44。關於樣本41-樣本44,係使用甘油作為香味基材(捕集溶劑)。以添加物之添加後的捕集溶液為100重量%時,樣本41及樣本43的甘油量約為80重量%,樣本42及樣本44的甘油量約為90重量%。 此外,關於樣本41-44,係將酸性物質(在此為果糖衍酸)添加於捕集溶劑。樣本41-43的A/N比,如第25圖所示,分別為2.99、2.98、1.56、1.62。應留意的是,樣本41-44係A/N比為1.0以上之樣本。在此,關於樣本41及樣本43,係將10重量%的水添加於捕集溶劑中。
第5實驗中,步驟S30(藏置處理),係在控制於40℃之環境下,涵蓋7天進行密閉空間條件下的藏置。對於樣本41-44,係測定:進行密閉空間條件下的藏置後之果糖衍酸量相對於進行密閉空間條件下的藏置前之果糖衍酸量之比率(果糖衍酸殘存率)。該測定結果如第25圖及第26圖所示。
在此,第5實驗中,若果糖衍酸殘存率為0.8以上,則判定為果糖衍酸殘存率充足。
如第26圖所示,可確認到關於將10重量%的水添加於捕集溶劑之樣本41及43,果糖衍酸殘存率超過0.8,可確認到果糖衍酸殘存率充足,關於未添加水之樣本42及44,果糖衍酸殘存率低於0.8,可確認到果糖衍酸殘存率不足。亦即,第3實驗中,關於A/N比為1.0以上之樣本,雖確認到果糖衍酸殘存率不足,但即使是該樣本,藉由添加10重量%以上的水,可改善果糖衍酸殘存率。此外,當A/N比為1.0以上時,從第3實驗的結果,應留意的是香吸嚐味成分殘存率充足。
如此,在A/N比為1.0以上之情況下,以添加物(在此為果糖衍酸及水)之添加後的捕集溶液為100重 量%時,藉由捕集溶液含有10重量%以上的水,可確認到能夠充分地維持香吸嚐味成分殘存率,並提升果糖衍酸殘存率。
(第6實驗)
第6實驗中,係模擬上述香味源的製造方法的第3例(參考第6圖),藉由菸鹼(CAS:54-11-5、純度:99.5%)及其他試藥的混合來製造樣本51-53。亦即,樣本51-樣本53中,係使用甘油作為香味基材(捕集溶劑)。以添加物之添加後的捕集溶液為100重量%時,樣本51至樣本53的甘油量約為90重量%。此外,關於樣本51-樣本53,係將酸性物質(在此為甲酸)添加於捕集溶劑中。樣本51-53的A/N比,如第27圖所示,分別為0.60、0.61、0.60。應留意的是,樣本51-53為A/N比大於0.5且小於1.0之樣本。
第6實驗中,步驟S30(藏置處理),係涵蓋7天進行開放空間條件下的藏置。對於樣本51-53,係測定:進行開放空間條件下的藏置後之香吸嚐味成分量(在此為菸鹼成分量)相對於進行開放空間條件下的藏置前之香吸嚐味成分量(在此為菸鹼成分量)之比率(香吸嚐味成分殘存率)。該測定結果如第27圖及第28圖所示。此外,對於樣本51-53,係測定:進行開放空間條件下的藏置後之甲酸量相對於進行開放空間條件下的藏置前之甲酸量之比率(甲酸殘存率)。該測定結果如第27圖及第29圖所示。
在此,第6實驗中,若香吸嚐味成分殘存率 為0.8以上,則判定為香吸嚐味成分殘存率充足,若甲酸殘存率為0.8以上,則判定為甲酸殘存率充足。
如第28圖所示,A/N比大於0.5且小於1.0之樣本51-53中,香吸嚐味成分殘存率超過0.8,可確認到香吸嚐味成分殘存率充足。此外,如第29圖所示,A/N比大於0.5且小於1.0之樣本51-53中,甲酸殘存率超過0.8,可確認到甲酸殘存率充足。亦即,第3實驗中,考量到0.03的誤差時,關於A/N比為0.5以下之樣本,可確認到香吸嚐味成分殘存率不足,關於A/N比為1.0以上之樣本,可確認到果糖衍酸殘存率不足,但若A/N比大於0.5且小於1.0,則可確認到既使不將丙二醇或水等之添加物添加於捕集溶劑中,香吸嚐味成分殘存率及甲酸殘存率亦充足。
如此,可確認到將羧酸等之酸性物質添加於捕集溶劑時,較佳係A/N比大於0.5且小於1.0。
[測定方法] (載持於膠基質或乙酸酯濾嘴之菸鹼成分的測定方法)
第1,將樣本全量投入於50ml容量的螺桿瓶,並投入11%的氫氧化鈉水溶液15ml後,投入1000ml的正己烷及500mg的正十七烷之混合溶液20ml。
第2,以鋁箔將上述螺桿瓶遮光後,振動18小時。
第3,將振動後的螺桿瓶靜置約1小時。
第4,採集上清液,以0.45μm的薄膜過濾 器過濾後,提供至氣相層析質譜分析儀(GCMS)。
(載持於捕集溶劑之菸鹼成分的測定方法)
依據德國標準化機構DIN 10373之方法來進行。亦即,採集捕集了香吸嚐味成分之捕集溶液100mg,加入11%的氫氧化鈉水溶液7.5mL與己烷10mL,振動60分鐘並進行萃取,藉此使菸鹼轉溶於己烷相中。萃取後,將上清液的己烷相提供至氣相層析質譜分析儀(GC/MS),並將菸草原料所含有之菸鹼重量予以定量。
(添加於捕集溶液之羧酸的測定方法)
藉由以下的方法進行分析。亦即,採集成為分析對象之捕集溶液20mg,加入10mL的純水,振動30分鐘並進行萃取。接著以0.45μm的薄膜過濾器將振動後的溶液過濾後,提供至毛細電泳系統,藉此將添加於捕集溶液之羧酸(果糖衍酸或甲酸)重量予以定量。
[其他實施形態]
本發明係藉由上述實施形態來說明,但構成該揭示內容的一部分之論述及圖面,不應解釋為用以限制本發明。對該業者而言可從該揭示內容思考出各種替代性的實施形態、實施例及運用技術乃很明確。
實施形態中,主要係說明香味基材為固體狀的構件或含浸於固體之液體之情況。然而,實施形態並 不限定於此。具體而言,香味基材亦可為捕集溶劑本身。如此之捕集溶劑,如上述般,例如可為容納於電子香菸用的匣之捕集溶劑。
實施形態中,步驟S21B(添加處理)係在步驟S20(遷移處理)前進行,但實施形態並不限定於此。如上述香味源的製造方法的第3例般,步驟S20(遷移處理)中,在未加熱捕集溶劑之樣態,亦即未產生添加於捕集溶劑之添加物(羧酸等之酸性物質、水、或丙二醇)的揮發之樣態中,添加添加物的時機並無特別限定。惟如第2實驗所示,於步驟S20(遷移處理)中,從維持香吸嚐味成分(在此為菸鹼成分)之觀點來看,羧酸等之酸性物質的添加處理,較佳係在步驟S20(遷移處理)前進行。另一方面,步驟S20(遷移處理)中,在加熱捕集溶劑之樣態中,為了抑制添加於捕集溶劑之添加物(羧酸等之酸性物質、水、或丙二醇)的揮發,步驟S21B(添加處理)較佳係在步驟S20(遷移處理)後進行。惟應留意的是,當添加於捕集溶劑之酸性物質為不易揮發之物質(例如檸檬酸、蘋果酸、酒石酸)時,即使即使在加熱捕集溶劑之樣態中,酸性物質的添加處理亦可在步驟S20(遷移處理)前進行。
實施形態中,步驟S21B(添加處理)係在步驟S20(遷移處理)前進行,但實施形態並不限定於此。在將水或羧酸等之酸性物質添加於捕集溶劑中作為添加處理之樣態中,應留意的是在步驟S20(遷移處理)中,菸草原料所含有之水分或羧酸等之酸性物質(例如菸草原料所含有之 甲酸或乙酸等)被遷移至捕集溶劑之現象,亦包含於步驟S21B(添加處理)的概念。此外,步驟S21B(添加處理)中,除了從菸草原料遷移至捕集溶劑之水或羧酸等之酸性物質之外,當然更可進一步添加水或羧酸。
實施形態中,應留意的是將捕集香吸嚐味成分後之捕集溶劑稱為捕集溶液。因此,在藉由捕集溶劑來捕集香吸嚐味成分後,進行於捕集溶劑添加羧酸、水或丙二醇等之添加物時,將添加物添加於捕集溶劑之處理,可改稱為將添加物添加於捕集溶液之處理。
[產業上之可應用性]
根據實施形態,可提供一種能夠簡便且低成本地抑制夾雜成分的遷移,並將菸草原料所含有之香吸嚐味成分載持於香味基材之香味源的製造方法及包裝體。
10‧‧‧處理裝置
11‧‧‧容器
12‧‧‧噴霧器
50‧‧‧菸草原料

Claims (18)

  1. 一種香味源的製造方法,其係載持菸草原料所含有之香吸嚐味成分之香味源的製造方法,具備:對前述菸草原料施予鹼處理之步驟A;以及以使前述施予鹼處理後之菸草原料及由非菸草原料所構成之香味基材維持非接觸的狀態之方式,將前述施予鹼處理後之菸草原料及前述香味基材配置在同一空間內,藉此,使從前述菸草原料以氣相所釋出之前述香吸嚐味成分載持於前述香味基材之步驟B。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之香味源的製造方法,其中前述香味基材為固體狀的構件或含浸於固體之液體。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之香味源的製造方法,其中前述香味基材為捕集溶劑;並且該製造方法具備:將羧酸添加於前述捕集溶劑之步驟E。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之香味源的製造方法,其中添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率,大於0.5且小於1.0。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之香味源的製造方法,其中在添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率為1.0以上之情況下,將至少含有前述香吸嚐味成分、前述羧酸及前述捕集溶劑之捕集溶液設為100重量 %時,前述捕集溶液含有10重量%以上的水。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之香味源的製造方法,其中前述步驟B係包含:對配置在前述同一空間內之前述施予鹼處理後之菸草原料進行加熱之步驟;並且前述製造方法具備:在添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率為1.0以上之情況下,將水添加於前述捕集溶劑或前述捕集溶液之步驟F;前述步驟F為,將前述捕集溶液設為100重量%時,以使前述捕集溶液含有10重量%以上的水之方式添加水之步驟。
  7. 如申請專利範圍第3項所述之香味源的製造方法,其中在添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前述香吸嚐味成分的莫耳量之比率為0.5以下之情況下,將至少含有前述香吸嚐味成分、前述羧酸及前述捕集溶劑之捕集溶液設為100重量%時,前述捕集溶液係含有10重量%以上的丙二醇、10重量%以上的水、或合計為10重量%以上之丙二醇及水的混合液。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之香味源的製造方法,其中前述步驟B係包含:對配置在前述同一空間內之前述施予鹼處理後之菸草原料進行加熱之步驟;並且前述製造方法具備:在添加於前述捕集溶劑之前述羧酸的莫耳量相對於被前述捕集溶劑所捕集之前 述香吸嚐味成分的莫耳量之比率為0.5以下之情況下,將丙二醇、水、或丙二醇及水的混合液添加於前述捕集溶劑或前述捕集溶液之步驟F;前述步驟F為,將前述捕集溶液設為100重量%時,以使前述捕集溶液含有10重量%以上的丙二醇、10重量%以上的水、或合計為10重量%以上的前述混合液之方式,添加丙二醇、水、或前述混合液之步驟。
  9. 如申請專利範圍第6或8項所述之香味源的製造方法,其中於前述步驟B中,前述施予鹼處理後之菸草原料與前述捕集溶劑一起被加熱時,前述步驟F係在前述步驟B後進行。
  10. 如申請專利範圍第1至9項中任一項所述之香味源的製造方法,其中前述步驟B係包含至少對前述施予鹼處理後之菸草原料進行加熱之步驟。
  11. 如申請專利範圍第1、2及10項中任一項所述之香味源的製造方法,其中前述香味基材為固體狀的構件;並且前述製造方法具備:混練前述香味基材之步驟C。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之香味源的製造方法,其具備:於前述步驟C之後,使前述香味基材成形之步驟D。
  13. 一種包裝體,其係可攜帶之包裝體,其具備:具有藉由非菸草原料所構成之香味基材之香吸嚐味製品、 施予鹼處理並以氣相來釋出香吸嚐味成分之菸草原料、以及容納前述菸草原料及前述香味基材之容納部;前述容納部係以使前述菸草原料及前述香味基材維持非接觸的狀態之方式,限制前述菸草原料及前述香味基材之至少一方的移動;前述菸草原料及前述香味基材係配置在藉由前述容納部所構成之同一空間內。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之包裝體,其中前述香吸嚐味製品係使用在前述香吸嚐味成分的抽吸之香味抽吸器;前述香味抽吸器係包含:前述香味基材、及保持前述香味基材之保持具;前述保持具係於前述香味抽吸器的使用前,作為前述容納部的一部分發揮功能。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之包裝體,其係具備:形成用以容納前述菸草原料及前述香吸嚐味製品之空間之盒體;前述香味基材為在口腔內使用之口腔用基材;前述香吸嚐味製品係藉由前述口腔用基材本身所構成之口腔用製品;前述容納部係藉由前述盒體所構成。
  16. 如申請專利範圍第14項所述之包裝體,其中前述香味基材為含有至少一種多元醇之構件。
  17. 如申請專利範圍第15項所述之包裝體,其中前述口腔用基材為膠基質、錠劑、膜片及糖果基材的至少任一種。
  18. 如申請專利範圍第13至17項中任一項所述之包裝體,其中前述同一空間為密閉空間。
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