TW201313817A - 用於光學薄膜之樹脂組成物及使用其之光學薄膜 - Google Patents
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Abstract
本發明係有關於一種用於光學薄膜之樹脂組成物以及使用其之光學薄膜，其中光學薄膜之樹脂組成物包括由一(甲基)丙烯酸烷基酯單元、一具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、以及一(甲基)丙烯酸單元所組成之共聚物，其中，樹脂組成物中殘留單體之含量係少於2000ppm。
Description
本發明係關於一種用於光學薄膜之樹脂組成物，以及使用其之光學薄膜以及一種使用其之光學薄膜，更具體的說，係一種用於光學薄膜之樹脂組成物具有優良的光學性質、耐熱性、以及對於溫度變化具有低維度的尺寸變化。
近年來，由於光學技術的發展，各種顯示裝置技術如電漿顯示面板(plasma display panels,PDPs)、液晶顯示器(liquid crystal displays,LCDs)、以及有機有機電致發光顯示器(organic electroluminescence displays,OLEDs)皆能夠取代陰極射線管(cathode-ray tubes,CRTs)並且已進入市場。此外，各式各樣的高分子薄膜被使用於該些顯示設備中，如做為偏振膜、偏振膜保護膜、相位差膜、光導板、以及塑膠基板，而對於能夠改善性能的高分子材料的需求日漸增加。
三乙醯纖維素(Triacetyl cellulose,TAC)薄膜係最常用於顯示面板之偏振膜保護膜，然而，TAC薄膜於高溫或高濕度下具有偏振度惡化、偏振膜以及保護膜的分離、或是光學性質的惡化的問題。為了解決這些的問題，作為代替TAC薄膜的材料係包括具有良好耐熱性之聚苯乙烯、丙烯酸樹酯如甲基丙烯酸甲酯、或聚碳酸酯系列等已被提出。這些高分子薄膜具有優良的耐熱性質，然而，雙折射的現象會於此些薄膜形成時產生，因此，顯示面板的光學性質
可能會因為將此些薄膜應用於顯示面板上時所產生的雙折射現象而劣化。
為了解決因雙折射現象所產生的問題，故提出一種藉由共聚或混合一具有正雙折射性質之單體或高分子與一具有負雙折射性質之單體或高分子的方法，以得到一種具有低相位差且具有良好耐熱性質之材料，以做為高分子薄膜。這些方法當中，具有代表性的方法係為製作包含甲基丙烯酸芐基酯與甲基丙烯酸甲酯之共聚物。由於甲基丙烯酸芐基酯以及甲基丙烯酸甲酯之相位差值皆接近0，因此具有優異的光學性質，然而，層壓偏振膜之後，由於大的溫度改變引起大的尺寸變化，例如高熱膨脹係數，造成偏振膜嚴重的彎曲以及扭曲的捲曲現象。如此的捲曲現象會導致偏振膜的漏光現象，致使顯示面板品質的劣化，並導致顯示面板中的液晶的破壞，因此，這是迫切需要解決的問題。
為了解決如上述先前技術中所提及的問題，本發明提供一種用於光學膜之樹脂組成物，其對於溫度的變化具有較低尺寸的變化，並具有優異的光學性質以及耐熱性質。本發明並提供一種使用其樹脂組成物之光學薄膜。
根據本發明之目的，提供一種用於光學薄膜之樹脂組成物，包括一共聚物，該共聚物包括一(甲基)丙烯酸烷基酯單元、一具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、以及一(甲基)丙烯酸單元作為基本要素，且可選擇性的可包括如下列化
學式1所示之單元，其中，該樹脂組成物中殘餘單體的含量係2000 ppm或以下，
其中，X係氮(N)或氧(O)；以及R1和R2係分別獨立為氫(H)、C1到C10之烷基、C3到C20之環烷基、或C3到C20之芳基。
根據本發明的另一目的，提供了使用一種使用該樹脂組成物之光學薄膜，以及包括做為保護膜之該光學薄膜之偏振片。
根據本發明，用於光學薄膜之樹脂組成物所製成的光學薄膜可作為偏振片之保護膜，係由於該光學薄膜具有低的熱膨脹係數，以及優異的光學特性及耐熱性。
本發明將在此進行詳細的描述。
本發明經過刻苦鑽研，反覆研究以開發出具有低熱膨脹係數，優異的光學性質以及耐熱性之光學薄膜，其結果發現，經由控制(甲基)丙烯酸烷基酯單元、具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、以及(甲基)丙烯酸單元共聚後共聚物中殘留單體的含量於一特定的數值內，即可形成一具有相位
差接近0，並具有優異的耐熱性質及低熱膨脹係數之光學薄膜。
本發明之用於光學薄膜之樹脂組成物包括一由(甲基)丙烯酸烷基酯單元、具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、以及(甲基)丙烯酸單元所組成之共聚物做為基本要素，且可選擇性的包括由以下化學式1所示之單元。
其中，X係氮(N)或氧(O)；以及R1和R2係分別獨立為氫(H)、C1到C10之烷基、C3到C20之環烷基、或C3到C20之芳基。
根據本發明之樹脂組成物，其中(甲基)丙烯酸烷基酯係指丙烯酸烷基酯、以及甲基丙烯酸烷基酯，但該樹脂組成物並不特別受限於此。(甲基)丙烯酸烷基酯所包含之烷基係具有1到10個碳原子為較佳，具有1到5個碳原子為更佳，而最佳為甲基或乙基，而考慮透光性、相容性、可加工性、以及生產性方面，則(甲基)丙烯酸烷基酯係包含甲基或乙基為最佳。
同時，根據本發明，具有苯環之(甲基)丙烯酸酯可使光學薄膜具有適當的相位差值，且具有(甲基)丙烯酸烷基酯以及(甲基)丙烯酸之間之相容性。舉例來說，(甲基)丙烯酸烷基酯單元係至少一選自由：甲基丙烯酸芐基酯、丙烯酸
芐基酯、1-甲基丙烯酸苯基乙基酯、2-甲基丙烯酸苯氧基乙基酯、2-甲基丙烯酸苯基乙基酯、3-甲基丙烯酸苯基丙基酯、3-丙烯酸苯基丙基酯、以及2-丙烯酸苯氧基乙基酯所組成之群組，但並無特別限制。而其中以甲基丙烯酸芐基酯以及丙烯酸芐基酯為較佳，甲基丙烯酸為最佳。
此外，該(甲基)丙烯酸的功能係透過引入一個極性官能基，進而改善耐熱性以及降低熱膨脹係數，並且可為丙烯酸、甲基丙烯酸(methacrylic acid)、甲基丙烯酸(methylacrylic acid)、甲基甲基丙烯酸、乙基丙烯酸、乙基甲基丙烯酸、丁基丙烯酸、或丁基甲基丙烯酸，其中以甲基丙烯酸為較佳。
由化學式1所示之單元的功能係為了提高相位差以及熱膨脹係數之性質，且可為戊二酸酐、及戊二酸醯亞胺等，其中以戊二酸酐為較佳。在一般情況下，當一可以抑制具高分子鏈構型變化之較龐大之官能基被引入到高分子的主鏈上時，熱膨脹係數可被降低。然而，舉例來說，當高分子包括如苯乙烯之龐大的官能基、或聚碳酸酯被使用時，熱膨脹係數可能會降低，但雙折射現象可能會因為拉伸而產生，從而導致光學特性的劣化。從本發明之結果，可發現當聚合物包括如化學式1所示之單元時，能有效地降低熱膨脹係數，並且不影響其光學特性。
同時，根據本發明之樹脂組成物，其係為一種三元共聚物，包括(甲基)丙烯酸烷基酯單元、具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、以及一(甲基)丙烯酸，而該三元共聚物中，(甲
基)丙烯酸烷基酯單元、具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、以及一(甲基)丙烯酸之含量係為70-95：2-10：3-20重量比為較佳。這是因為當個成分之含量落於此範圍之間時，即可能得到較佳之相位差值、玻璃轉移溫度以及熱膨脹係數。
當根據本發明之樹脂組成物係為一四元共聚物樹脂時，即包括一(甲基)丙烯酸烷基酯單元、一具苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、一(甲基)丙烯酸單元、以及一由化學式1所示之單元時，該四元共聚物樹脂中，(甲基)丙烯酸烷基酯單元、具苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、(甲基)丙烯酸單元、以及由化學式1所示之單元之含量係以60-90：2-10：3-10：5-20重量比為較佳。這是因為當各個成分之含量落於此範圍之間時，即可能得到較佳的相位差、玻璃轉移溫度、以及熱膨脹係數。
另外，根據本發明之樹脂組成物，其中未反應殘留的單體含量係於2000 ppm或以下，較佳為1500 ppm或以下，更佳為1000 ppm或以下。本發明之發明人進行了研究後發現，當組成物中未反應殘留之單體含量超過2000 ppm，所述之樹脂組成物的玻璃轉離溫度可能會降低，且劣化其耐熱性，以及在薄膜的製備過程中，可能會因為殘留單體的吸附而產生汙染和/或產生氣泡，從而導致光學特性的劣化。更具體地說，若殘留的單體含量高，因由熔融射出過程製造的薄膜，其擠出機中真空排氣的部分容易被阻塞。
通常來說，殘留的單體可能以單體或是寡聚物的形式存在，其熱穩定性低將導致薄膜成形時產生氣泡，因而使
產品難以製造。當提升薄膜形成時的溫度，氣泡產生的現象將略有減少，然而，當薄膜於較低的溫度下形成時，由於擠出機中的高壓，有可能無法有效率的產出薄膜，生產率也將顯著的降低，並且由於殘留的單體無法順利地去除，可能會在膜的外部留下污漬。
因此，為了得到具有優異的光學特性，即得到接近0之相位差值、良好的耐熱性、以及低熱膨脹係數，殘留的單體含量應被維持在一特定或更少的含量，特別是當殘留的單體含量為1000 ppm或以下時，於薄膜行程過程中，氣泡產生的量可顯著的降低。
本發明中，殘留之單體含量低的樹脂組成物，可經由混合以及聚合各種成分，且於預定的時間內以及特定的溫度範圍下乾燥該混合物而得。根據本發明樹脂組成物之製備方法，更具體的包括：(1)共聚一甲基丙烯酸烷基酯單體、一具有苯環之甲基丙烯酸酯單體、以及一甲基丙烯酸單體；以及(2)於溫度240℃至270℃下乾燥所得之共聚產物30分鐘至2兩小時。共聚反應的操作可使用習知之共聚方法，如溶液聚合(solution polymerization)、塊狀聚合(bulk polymerization)、懸浮聚合(suspension polymerization)、以及乳液聚合(emulsion polymerization)，較佳的聚合方法為塊狀聚合。共聚反應完成後，為了控制樹脂產品中殘留的單體含量，需有進行乾燥的操作，乾燥的溫度較佳於大約240℃至大約270℃，而乾燥時間為0.5到2小時為較佳。當乾燥溫度低於240℃時，殘留之單體的揮發可能不夠完全，
因此難以控制殘留之單體的含量。相反地，當乾燥溫度高於270℃時，該樹脂組成物可能會因為高溫而產生熱變形的情況。此外，當乾燥時間小於0.5小時，殘留之單體的揮發可能不足夠而導致難以控制殘留之單體的含量，相反的，若乾燥時間多於2小時，生產率將因為熱變形以及熱分解現象而顯著的降低。
另一方面，於乾燥程序中，以20公升之測試反應爐為基準，其排出量係於3 kg/hr至6 kg/hr。若排出量小於3 kg/hr，由於樹脂的劣化透明度將會降低，而若排出量多於6 kg/hr時，乾燥程序可能無法充分地進行而導致許多殘基的殘留。
由上述方法所製備之本發明之樹脂組成物，其玻璃轉化溫度約為120℃至500℃，較佳為125℃至500℃，更佳為125℃至200℃，最佳為130℃至200℃。此外，根據本發明之樹脂組成物，考慮到可加工性、耐熱性、以及生產率，係可具有50,000至500,000之平均分子量，且更佳為大約100,000至大約500,000。
此外，根據本發明的樹脂組成物具有優異的光學性質，如約0.1至約3%之霧度值、90%或以上之透光率、以及3 mm厚度之注射樣品之黃色指數(yellow index)為4或以下。
本發明的另一方面係關於一種包含本發明之樹脂組成物之光學薄膜。
該光學薄膜可經由相關技術中習知的方法而形成薄膜的形式，例如溶液鑄模法(solution casting)或擠出成型
(extrusion)。當考慮到經濟上的可行性，擠出成形為較佳。而在一些情況下，於形成薄膜的過程中，可加入如改性劑(reformer)之添加物，其加入量以不會影響薄膜性質的量為基礎，且該方法可進一步包括薄膜於單軸或雙軸的拉伸。
當薄膜以單軸或雙軸拉伸時，拉伸過程中可執行機械方向(machine direction，MD)與橫向方向(transverse direction，TD)之任一方向或兩者。當拉伸於機械方向與橫向方向兩者進行時，可先於其中一方向拉伸後再於另一方向拉伸，或是同時進行兩種方向的拉伸。拉伸過程可經由單一的階段或是多個階段進行，當拉伸過程於機械方向進行時，可利用輥之間的數度差來進行拉伸。當拉伸過程於橫向方向進行時，可使用拉幅機(tenter)，拉幅機軌道的起始角度被設置為10°或更小，從而抑制橫向拉伸所產生的彎曲現象，並控制規律的光軸角度。即使在橫向拉伸的情況下，也可通過多個階段進行，且抑制彎曲現象的效果可被實現。
當樹脂組成物之玻璃轉移溫度為Tg時，拉伸過程可於(Tg-20℃)至(Tg+30℃)的溫度範圍內執行，此拉伸的溫度範圍係從樹脂組成物的儲存彈性模量(storage modulus)降低，以使損耗彈性模量(loss modulus)逐漸高於儲存彈性模量，到使高分子中鏈排列的方向性鬆開並消失的溫度為止。該樹脂組成物的玻璃轉移溫度可使用熱分析儀(differential scanning calorimeter，DSC)量測。拉伸溫度較佳為該樹脂組成物之玻璃轉移溫度。
當拉伸機為小型拉伸機的情況下(例如，萬能試驗機，Z喝Z010)，較佳於1至100 mm/min的條件下拉伸。若是使用前導拉伸機(pilot stretching machine)的情況下，拉伸率較佳為0.1至2 mm/min。此外，較佳的拉伸率係為大約5至大約300%。
本發明如上述之光學薄膜，如下列數學公式1所示，係具有約0 nm至10 nm之面內相位差值(in-plane retardation value，Rin)，且較佳為0 nm至5nm，以及由下列數學公式2所示，具有約-5 nm至10 nm之厚度相位差值(thickness retardation value)，較佳為約-5 nm至5 nm。
<數學公式1>Rin=(nx-ny)×d
<數學公式2>Rth=(nz-ny)×d
其中；nx係薄膜之一面內方向之折射率，該面內方向係當折射率為最大時之薄膜的面內方向，ny係薄膜之一垂直nx之面內方向之方向的折射率，nz係為厚度方向的折射率；以及d係為薄膜之厚度。
此外，根據本發明中，包括樹脂組成物光學薄膜的熱膨脹係數，係於約40至約80 ppm/K的範圍內，較佳為約50至約65 ppm/K。當根據本發明之光學薄膜係作為偏光膜之保護膜使用時，由於該光學薄膜具有低的熱膨脹係數，因此可最小化捲曲的現象。
此外，根據本發明之光學薄膜，其具有20至200μm之厚度，且較佳為40至120μm，透明度係約為0.1至3%，透光率係為90%或以上。當賅博模的厚度、透明度、以及透光率於係於此些範圍內，則該光學薄膜係適合使用於偏光膜之保護膜。
此外，殘留的單體的含量較佳為700 ppm或以下，若殘留的單底的含量高於700 ppm，如魚眼的缺陷則很容易產生，並且，偏光膜之貼附性質可能會因層壓過程中所需的相對較高的溫度(80至90℃)，使殘留的單體遷移而劣化，或是產生其他缺陷，如於偏光膜與光學薄膜之間產生氣泡。
本發明的另一目的係關於一種偏光板(polarizing plate)，包括偏光膜、以及設置於偏光膜上至少一表面作為保護膜之光學薄膜。根據本發明之光學薄膜可被設置於偏光膜之一側或兩側，若將光學薄膜設置於偏光膜之一側，則偏光膜之另一側可設置依相關技術中習知之偏光膜保護膜，例如，TAC膜、PET膜、COP膜、降冰片稀膜，例如，TAC膜係於經濟效應上特別優選。由於根據本發明知光學薄膜之熱膨脹係數與TAC膜相似，因此可經由形成TAC膜於偏光膜一側並根據本發明形成光學薄膜於另一側，而最小化因熱膨脹係數差所造成的捲曲現象。
同時，偏光膜，光學薄膜，及/或保護膜知層壓可由輥式塗布機(roll coater)、凹版塗布機(gravure coater)、刮刀塗布(knife coater)、或毛細管塗布(capillary coater)將黏著劑塗布於薄膜或偏光膜上，而後使用層壓輥(lamination roll)
或層壓機(press-laminating)熱層壓保護膜以及偏光膜，黏著劑可包括相關技術中習知之黏著劑，例如，聚乙烯醇(polyvinyl alcohol)黏著劑、聚氨酯(polyurethane)黏著劑、或芳香(aryl)黏著劑可作為黏著劑，且沒有任何限制。
本發明的另一方面係關於一種圖像顯示裝置，其包括根據本發明之偏光板。該圖像顯示裝置可例如為液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)、電漿顯示器(plasma display，PDP)、電致發光器(electroluminescence device，LED)、或其類似物。
在下文中，本發明將透過以下實施例更充分的描述本發明。下列之實施例僅為了方便說明而舉例，本發明的範圍不限於此。
本發明實施例的物理性質量測係由以下方法進行。
1.玻璃轉化溫度(Tg)：經由TA儀器公司(TA Instrument,Co.)之熱分析儀量測。
2.相位差值(Rin、Rth)：於玻璃轉化溫度下拉伸後，經Axometrics公司(Axometrics,Co.)之偏光測定儀量測。
3.熱膨脹係數(ppm/℃)：使用TMA量測，此為由TA儀器公司(TA Instrument,Co.)製作，量測經雙軸拉伸後的薄膜的熱膨脹係數。
4.黃色指數(ASTM D 1925)：使用比色計(colorimeter)量測3 mm厚度之注射樣品之黃色指數。
5.殘留的單體含量：使用GC/FID(EQC/0248型)測定使用丙酮溶解5克之樣品，再使用甲醇溶液沉澱該樣品。
以甲苯作為聚和溶劑，混和85重量份之甲基丙烯酸甲酯單體、10重量份之甲基丙烯酸單體、以及5重量份之甲基丙烯酸芐基酯單體，然後加入聚合起始劑、抗氧化劑、以及分子量調節劑，隨後透過連續的塊狀聚合行聚合反應。此後，使用乾燥機乾燥由聚合反應得到之產物，乾燥條件如乾燥溫度、乾燥時間、以及排出量如表1以及表2所示。製備之樹脂的玻璃轉化溫度、殘餘的單體含量、以及黃色指數量測的結果如表1及表2所示。
之後，由樹脂製備光學薄膜係使用T型擠出機製備，其後，量測光學薄膜之相位差值、熱膨脹係數、以及殘留的單體含量，量測結果如表1及表2所示。
以甲苯作為聚和溶劑，混和85重量份之甲基丙烯酸甲酯單體、10重量份之甲基丙烯酸單體、以及5重量份之甲基丙烯酸芐基酯單體，然後加入聚合起始劑、抗氧化劑、以及分子量調節劑，隨後透過連續的塊狀聚合行聚合反應。此後，使用乾燥機乾燥由聚合反應得到之產物，乾燥的條件如乾燥溫度、乾燥時間、以及排出量如表3所示。製備之樹脂的玻璃轉化溫度、殘餘的單體含量、以及黃色指數量測的結果如表3所示。
之後，由樹脂製備光學薄膜係使用T型擠出機製備，其後，量測光學薄膜之相位差值、熱膨脹係數、以及殘留的單體含量，量測結果如表3所示。
如表1到表3所示之結果，可以了解到當樹脂組成物中，若殘留的單體含量超過2000 ppm，則會劣化耐熱性、黃色指數、以及熱膨脹係數。
此外，可以了解到當乾燥溫度低於240℃時，或是停留時間短，殘留的單體含量會增加，而當乾燥溫度大於270℃時，玻璃轉移溫度、熱膨脹係數、以及黃色指數的性質皆會劣化。
Claims (20)
- 一種用於光學薄膜之樹脂組成物，包括一共聚物，而該共聚物包括：一(甲基)丙烯酸烷基酯單元；一具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元；以及一(甲基)丙烯酸單元；其中，該樹脂組成物中殘留之單體含量係為2000 ppm或以下。
- 如申請專利範圍第1項所述之樹脂組成物，其中，該共聚物更包括一由以下化學式1所示之單元，
- 如申請專利範圍第1項之樹脂組成物，其中，該共聚物中之該(甲基)丙烯酸烷基酯單元、該具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元、以及該(甲基)丙烯酸之含量係為70到95：2到10：3到20重量比。
- 如申請專利範圍第2項所述之樹脂組成物，其中，該共聚物中之該(甲基)丙烯酸烷基酯單元、該具有苯環之 (甲基)丙烯酸酯單元、該(甲基)丙烯酸、以及由化學式1所示之該單元之含量係為60到90：2到10：3到10：5到20重量比。
- 如申請專利範圍第1項所述之樹脂組成物，其中該(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基係為C1到C10之烷基。
- 如申請專利範圍第5項所述之樹脂組成物，其中該(甲基)丙烯酸烷基酯單元係為甲基丙烯酸甲酯。
- 如申請專利範圍第1項所述之樹脂組成物，其中該(甲基)丙烯酸烷基酯單元係至少一選自：甲基丙烯酸芐基酯、丙烯酸芐基酯、1-甲基丙烯酸苯基乙基酯、2-甲基丙烯酸苯氧基乙基酯、2-甲基丙烯酸苯基乙基酯、3-甲基丙烯酸苯基丙基酯、3-丙烯酸苯基丙基酯、以及2-丙烯酸苯氧基乙基酯所組成之群組。
- 如申請專利範圍第1項之樹脂組成物，其中，該(甲基)丙烯酸係選自由：丙烯酸、甲基丙烯酸(methacrylic acid)、甲基丙烯酸(methylacrylic acid)、甲基甲基丙烯酸、乙基丙烯酸、乙基甲基丙烯酸、丁基丙烯酸、以及丁基甲基丙烯酸所組成之群組。
- 如申請專利範圍第2項之樹脂組成物，其中，化學式1所示之化合物係為戊二酸酐。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於光學薄膜之樹脂組成物，其中，該用於光學薄膜之玻璃轉化樹脂係於120℃至500℃的範圍之內。
- 如申請專利範圍第1項所述之樹脂組成戊，其中，該用於光學薄膜之樹脂組成物之平均分子量係為100,000至500,000。
- 如申請專利範圍第1項所述之樹脂組成物，其中，3 mm厚度之注射樣品之黃色指數係4或以下。
- 一種光學薄膜，包括申請專利範圍第1至第12項任一項所述之樹脂組成物。
- 如申請專利範圍第13項所述之光學薄膜，其中，該光學薄膜於波長為580 nm的情況下，由下列數學公式1所示，具有0 nm至5 nm之面內相位差值，由下列數學公式2所示，且具有-5 nm至5 nm之厚度相位差值，<數學公式1>Rin=(nx-ny)×d <數學公式2>Rth=(nz-ny)×d其中；nx係薄膜之一面內方向之折射率，該面內方向係當折射率為最大時之薄膜的面內方向；ny係薄膜之一垂直nx之面內方向之方向的折射率；nz係為厚度方向的折射率；以及d係薄膜之厚度。
- 如申請專利範圍第13項所述之光學薄膜，其中，線性熱膨脹係數係為40至80 ppm/℃。
- 如申請專利範圍第13項所述之光學薄膜，其中，光學薄膜中殘留之單體的含量係為700 ppm或以下。
- 如申請專利範圍第13項所述之光學薄膜，其中，該光學薄膜於波長為580 nm的情況下，由下列數學公式1所示，具有0 nm至5 nm之面內相位差值，由下列數學公式2所示，且具有-5 nm至5 nm之厚度相位差值，且具有50至65 ppm/℃之熱膨脹係數以及700 ppm以下之殘留單體的含量，<數學公式1>Rin=(nx-ny)×d <數學公式2>Rth=(nz-ny)×d其中；nx係薄膜之面內方向之折射率，該面內方向係當折射率為最大時之薄膜的面內方向；ny係薄膜之垂直nx之面內方向之方向的折射率；nz係為厚度方向之折射率；以及d係薄膜之厚度。
- 一種偏光板，包括：一偏光片；以及如申請專利範圍第13項所述之光學薄膜，其係設置於該偏光器之至少一表面以作為一保護膜。
- 一種光學薄膜之製備方法，包括： (1)共聚一(甲基)丙烯酸烷基酯單體、一具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單體、以及一(甲基)丙烯酸單體；以及(2)於溫度240℃至270℃下乾燥所得之共聚產物30分鐘至2兩小時。
- 如申請專利範圍第19項所述之方法，其中，於乾燥程序中，以20公升之測試反應爐為基準，其排出量係於3 kg/hr至6 kg/hr。
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