TW201131801A - Process for the production of a mwt silicon solar cell - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims abstract 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 125
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 125
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 59
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 59
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims abstract description 25
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 33
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010344 co-firing Methods 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 claims 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 10
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 8
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- -1 poly(methyl) Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 2-cyanobenzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1C#N TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRMGNMHZNFVAE-UHFFFAOYSA-N C(CCC)[Ru] Chemical compound C(CCC)[Ru] YMRMGNMHZNFVAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N Linoleic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021360 Myristic acid Nutrition 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- DRVLHCMOXCBPHN-UHFFFAOYSA-N aluminum ruthenium Chemical compound [Al].[Ru] DRVLHCMOXCBPHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000002583 angiography Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004067 bulking agent Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N linoleic acid Natural products CCCCC\C=C/C\C=C\CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N 0.000 description 1
- 235000020778 linoleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus hexaoxide Chemical compound O1P(O2)OP3OP1OP2O3 VSAISIQCTGDGPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
201131801 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於製造MWT(金屬貫穿孔)矽太陽能 電池的方法。本發明亦關於個別的MWT矽太陽能電.、也。 【先前技術】 目前生產的大多數太陽能電池係以結晶矽為基礎。 具有P型(P摻雜)矽基底的一習知太陽能電池在其前側上 具有η型擴散層形式的一η型(η摻雜)射極。這類習知的矽太 陽能電池結構使用一負電極來接觸電池的前側或日光側, 且在其背側上為一正電極。眾所周知,落在一半導體主體 的P-η接面上並具有適當波長的輻射係作為一外部能量來 源’以便在該主體中產生電子電洞對。存在於ρ_η接面的 電位差導致電洞和電子以相反方向橫跨該接面移動,從而 引發能夠輸送電力至一外部電路的電流流動。大部分的太 陽能電池具有已經金屬化的矽晶圓之形式,亦即,其設有 導電的金屬接點。典型地,前側金屬化為所謂㈣圖案形 式,亦即,為銀柵陰極形式,其包括薄平行指狀線(集極 線)及與指狀線以直角相交的匯流排棒,而背側金屬化為 一鋁陽極,其與銀或銀/鋁匯流排棒或耳片電連接。光電 流係從前側匯流排棒與背側匯流排棒或耳片收集得到。 MWT矽太陽能電池為矽太陽能電池的實例,其具有有 別於前段所述之習知石夕太陽能電池的另一電池設計。對那 些熟悉此技術者而言,MWT矽太陽能電池已為眾所周知 (例如’參見網站「http://wwws〇Uands〇larc〇m/iM瞻㈣/ 152745.doc 201131801
Content/4680/qfl7/mtl53 7/mi3 0994/mul254913665/mv2341 」與可從s亥網站下載的單張「Sunweb初步數據表單 (Preliminary Datasheet)」及 F. Clement等人的「效率超過 160/。之工業上可行的多晶金屬貫穿孔(MWT)矽太陽能電 池」,太%能材料&太陽能電池93(2009),第1〇51至1055 頁)。MWT石夕太陽能電池代表一特殊類型的石夕太陽能電 池,其為背接點電池,容許比標準石夕太陽能電池更少的前 側造影。MWT矽太陽能電池的ρ型矽晶圓在電池前側與背 側之間設有形成通孔的小孔。MWT矽太陽能電池具有一η 型射極’其延伸在整個前側上方與孔的内側。η型射極覆 以一介電質鈍化層,其作為一 ArC(抗反射塗覆)層,這一 點為矽太陽能電池所習知者。而η型射極不僅在整個前側 上方,且亦在孔内側上方延伸,介電質鈍化層則不是這 樣’其排除孔内側,且可選擇地亦排除環繞孔之前邊緣的 一狹窄外緣。孔内側與環繞孔之前邊緣的窄外緣(若存在 的話),亦即,未覆以介電質鈍化層的η型擴散層,設有一 金屬化,其為導電金屬層(開孔)形式或導電金屬栓(填有導 電金屬的孔)形式的任一種。孔的金屬化典型從一或兩個 導電金屬膏施加並進行燒製《為了避免誤解,若使用兩種 不同的導電金屬膏,則其兩者並未施加而形成一雙層金屬 化;倒不如說,一導電金屬膏係從其前側施加至孔,而另 一者則從背側施加。孔的金屬化係作為射極接觸,並形成 MWT石夕太知·此電池的陰極背接點。此外,mwt石夕太陽能 電池的前側設有薄導電金屬集極線形式的一前側金屬化, 152745.doc 201131801 其係以典型用於MWT矽太陽能電池的圖案(例如,柵狀或 網狀圖案或如薄平行指狀線)安排。「典型用於MWT石夕太陽 能電池的圖案」-詞意指集極線的終端與孔的金屬化重 疊,且因此與之電連接。集極線係從一具有燒穿能力的導 電金屬膏施加。在使如此施加的集極線乾燥之後,其燒穿 前側介電質鈍化層,從而與矽基材的正面達成接觸。 在說明書與中請專利範圍t所用的「具有燒穿能力的金 屬膏」一詞意指一金屬膏在燒製期間蝕刻並穿透(燒穿 鈍化層或厦層’ &而與矽基材的表面達成電接觸。同樣 為真的是具有貧乏燒穿能力或甚至不具有燒穿能力的一金 屬膏呈相反的表現;-旦經過燒製,其既不會燒穿一純化 層或ARC層,亦不會㈣基材達成任何電接觸。為了避免 誤解;在此上下文巾,「|電接觸」—詞不應理解為絕對 ,又有,倒不如說,其必須意指經燒製的金屬膏與矽表面間 的接觸電阻率超過!〜cm2,而在電接觸的情況下,經燒 製的金屬膏與妙表面間的接觸電阻率係位於⑴。涛咖2 的範圍内。 接觸電阻率可藉由TLM(遷移長度法)來測量。為此目 的可使用下列的樣本製備及測量程序:具有arc或鈍化 層(例如,75 nm厚的SiNj )的一矽晶圓係網版印刷在具有 从測-式銀膏的該層i ’而印刷出平行線圖案⑼如,⑺ μΐΏ寬與6 _厚的線’線間間隔為2·2 mm);之後,再進行 燒製’且晶圓達到例如8〇〇t的峰值溫度。經燒製的晶圓 以雷射切割為1() _乘28麵的長條,在其中平行線不會 152745.doc 201131801 彼此觸碰,且包括至少6條線。該條之後在黑暗中於赃 下受到習知的TLM測量。TLM測量可使用來自Gp mm的 GP 4-Test Pro裝置實行。 如同習知矽太陽能電池的背側,MWT矽太陽能電池的 背側亦設有銘陽極形式的背側金屬化。此鋁陽極係與導電 金屬集極背接點產生電連接,藉此使㈣極和導電金屬集 極背接點無論如何都與孔的金屬化絕緣。光電流係從 M W T矽太陽能電池的陰極背接點與陽極導電金屬集極= 接點收集得到。 類似於習知矽太陽能電池的製造,MWT矽太陽能電池 的製造始於一矽晶圓形式的p型矽基材。典型地,矽晶圓 所具有的厚度位於例如140至220 μπι的範圍内,且其面積 位於例如150至400 cm2的範圍内。典型藉由雷射鑽孔而 在晶圓前側與背側間產生孔成形通孔。如此產生之孔的直 徑為例如30至250 μπι,且其平均地分佈在晶圓上方。其數 目位於例如每一晶圓10至1〇〇個的範圍内。之後,具有相 反導電型的η型擴散層係藉由磷(Ρ)之類的熱擴散來形成。 氧氣化磷(POCh) —般是用作氣態的磷擴散源,其他液體 源則是磷酸之類。η型擴散層係形成在整個矽基材的正面 上方’包括孔内側。ρ-η接面形成在ρ型摻質濃度等於η型 摻質濃度之處。具有接近日光側之ρ-η接面的電池具有介 於0.05和〇,5 μπι之間的接面深度。 在形成擴散層之後’藉由例如氫氟酸之酸液蝕刻而從其 餘的表面移除過量的表面玻璃。典型地,例如Ti〇x、
152745.doc S 201131801
SiOx、ΤΊΟχ/SiOx、SiNx的一介電層或特別是 siNx/si〇x 的一 介電質堆疊接著形成在前側n型擴散層上,然而卻排除孔 内側’且可選擇地亦排除環繞孔之前側邊緣的窄外緣。例 如,介電質的沈積可使用一例如存在氫之電漿CVD(化學 氣相沈積)或濺射的程序來執行。介電層作為用於mwt矽 太陽能電池之前側的ARC層與鈍化層兩者。 正如具有p型基底的一習知太陽能電池結構,MWT矽太 陽旎電池典型在其前側上具有一負電極,而在其背側上則 具有一正電極。負前電極採取薄導電集極線的形式,其係 以典型用於MWT矽太陽能電池的圖案安排。薄導電集極 線典型藉由下列方式施加:網版印刷、在電池前側上的 ARC層上乾燥並燒製一前側導電金屬膏(形成前電極的導 電金屬膏),藉此使集極線的終端與孔的金屬化重疊,以 產生兩者之間的電連接。典型地,在一帶爐中實行1至5分 鐘期間的燒製,而使該晶圓達到700至90〇t範圍内的峰值 溫度。 如同在前段中已提及’孔設有金屬化。為此目的,孔本 身係藉由施加導電金屬膏至孔而產生金屬化,其為一導電 金屬層(開孔)形式或導電金屬栓(填有導電金屬的孔)形式 的任一種。金屬化可僅覆蓋孔内側或亦覆蓋環繞孔邊緣的 窄外緣,藉此窄外緣可存在於孔的前側邊緣上、孔的背側 邊緣上或兩者之上。金屬化可從單一導電金屬膏施加。亦 可從兩個不同的導電金屬膏施加金屬化,亦即,可將—導 電金屬膏施加至孔的前側’而另一個則施加至其背側。在 152745.doc 201131801 或兩個導電金屬膏之後,使一或兩個金屬膏乾燥並 進行燒製,以形成MWT石夕太陽能電池之射極 ,極背接點。典型地,在一帶爐中實行⑴分鐘: 燒製,而使該晶圓達到700至9〇(rc之範圍内的峰值溫度。 孔之經燒製的金屬化係與薄前側導電集極線的終端產生電 連接。 此外,典型地以網版印刷方式施加一背側銀或銀/鋁膏 及一鋁膏,並接連在p型矽基材的背側上進行乾燥,同時 避免與孔的金屬化有任何接觸。換言之’在燒製之前與燒 製之後,施加背側金屬膏,同時確保其保持與孔之金屬化 的電絕緣。將背側銀或銀/鋁膏施加至背側上,以作為陽 極背集極接觸,其可採取匯流排棒、耳片或平均分佈之接 觸的形式。接著將背側鋁膏施加在裸區,且稍微與銀或銀/ 鋁背集極接觸重疊。在一些情況下,背側銀或銀/鋁膏係 在背側紹膏施加之後再行施加。然後’典型地在—帶爐中 實行1至5分鐘期間的燒製’而使該晶圓達到位於7〇〇至 9〇〇°C之範圍内的峰值溫度。前陰極、孔之金屬化、及背 陽極可循序燒製或共同燒製。 背側鋁膏通常網版印刷在該矽晶圓背側上,並在其上乾 燥。晶圓係以高於鋁熔點的溫度燒製,以在矽晶圓背面形 成一鋁_矽熔體。如此形成的p+層通常稱為BSF(背面場) 層。背側鋁膏係藉由燒製而從一乾燥狀態轉為一鋁背陽 極,反之,背側銀或銀/鋁膏—旦燒製後則變為陽極銀或 銀/鋁背集極接點。典型地,背側鋁膏及背側銀或銀/鋁膏 152745.doc 201131801 係共同燒製,然而循序燒製亦為可行。在燒製期間,背側 鋁和貪側銀或銀/鋁間的邊界呈現一合金狀態,且亦電連 接。鋁電極佔據背陽極的大部分面積;如上所述,銀或銀/ 鋁背集極接點僅佔據背陽極的一小面積。此外,施加為薄 集極線的前側導電金屬膏在燒製期間燒穿ARC層,且因此 能夠電接觸前側η型射極。 【發明内容】 本發明係關於一種用於製造MWT矽太陽能電池的方 法。同時,該方法為一種用於製造MWT矽太陽能電池之 陰極背接點的方法。該方法包含以下步驟: (1) 供P型石夕Ba圓,其具有⑴孔成形通孔,其介於該晶 圓的前側與背側之間;以及n型射極,其延伸在 整個前侧上方及該孔内側; (2) 將一導電金屬膏施加至該矽晶圓的該孔,以使至少該 孔内側設有一金屬化; (3) 乾燥該施加的導電金屬膏;以及 (4) 燒製該乾燥的導電金屬膏,藉此使該晶圓達到7〇〇至 900 °C的一峰值溫度, 其中s亥導電金屬膏不具有燒穿能力或僅具有貧乏的燒穿能 力’並包括(a)至少一微粒導電金屬,其選自由銀、銅及鎳 所構成的群組;以及一有機媒劑。因此,本發明亦關於 如此製成的MWT矽太陽能電池,且分別關於如此製成的 其陰極背接點。 【實施方式】 152745.doc 201131801 已發現本發明的方法容許製造出具有改善電效率的 MWT石夕太陽能電池。經燒製的導電金屬膏良好地黏附至 孔’亦即’矽晶圓之孔内側的〇型射極表面。&好的黏附 力對MWT石夕太陽能電池的長時間使用壽命而言是重要 的。 在不又理’約束的情況下,咸信當實行本發明之方法的 步驟(3)及(4)時,充其量只具有貧乏燒穿能力的導電金屬 膏不會或不顯著地損壞„型射極。重要的是要避免或減少η 型射極的損壞,以避免分流特性。 在本發明之方法的步驟⑴中,提供一 p型矽晶圓其具 有(1)孔成形4孔,其介於晶圓前側與背側之間;以及⑻ - η型射極,其延伸在整個前側上方與孔内側。矽晶圓為 -單晶或多晶矽晶W,誠如習知用於製造矽太陽能電池的 矽晶圓’其具有一p型區域、_n型區域和一 ρ·η接面。典 型地,石夕晶圓在其前側上具有例如Ti(x、、
Ti〇x/si〇x、SiNx的一 ARC層或特別是smx/s队的-介電質 堆疊。倘若這類ARC層存在,則其排除孔内側,且可選擇 地,亦排除-環繞孔邊緣的窄外緣。這類石夕晶圓已為熟悉 此項技術者所熟知;為了簡潔之故,詳情請參照「先前技 術」一節。石夕晶圓可已設有前側導電金屬集極線及/或背 側金屬化,亦即,與銀或銀/奴共# > I 鋁者集極接點電連接的鋁背 陽極,如上文在「先前技術」—節中所述。 在本發明之方法的步驟(2)中,將不具有燒穿能力或僅 具有貧乏燒穿能力的一導電金屬膏施加至石夕晶圓的孔,以 152745.doc 201131801 至少使孔内側設有金屬化,該導電金屬膏包括(^至少一微 粒導電金屬,其選自由銀、銅及鎳所構成的群組及(b)一有 機媒劑。 在本發明之方法的一特定實施例中該導電金屬膏包括 例如成分(C)至少一玻璃熔塊,其選自由下列所構成的群 組:⑴無鉛玻璃熔塊,其所具有的軟化點溫度位於550至 611°C的範圍内,並含有"至^重量百分比的Si〇2、>〇至7 重罝百分比,特別是5至6重量百分比的A丨ah及2至1〇重量 百分比的1〇3 ;以及(ii)含鉛玻璃熔塊,其所具有的軟化 點溫度位於571至636。(:的範圍内,並含有53至57重量百分 比的Pb〇、25至29重量百分比的Si〇2、2至6重量百分比的 Al2〇3及6至9重量百分比的b2〇3。 在說明書與申請專利範圍中,使用「軟化點溫度」一 詞。其應意指由微差熱分析DTA以丨〇 K/min的加熱速率下 所測定的玻璃轉移溫度。 導電金屬膏包括至少一微粒導電金屬,其選自由銀、銅 及鎳構成的群組。較佳地,微粒導電金屬為銀。微粒銀可 由銀或具有一或多個其他例如銅之金屬的銀合金所構成。 在銀合金的情況下,銀含量為例如99 7至低於1〇〇重量百 分比。微粒導電金屬或銀可為未經塗覆或至少部分以一界 面活性劑塗覆。該界面活性劑可選自下列,但不受限於 此.硬脂酸、軟酯酸、月桂酸、油酸、癸酸、肉豆蔻酸和 亞麻油酸與其鹽類(舉例來說,銨、鈉或鉀鹽)。 微粒導電金屬或銀的平均粒度位於例如〇 5至5 μπι的範 152745.doc 201131801 圍内。微粒導電金屬或銀可存在於導電金屬膏,以總導電 金屬膏組成物為基礎,其比例為50至92重量百分比;或者 在一實施例中,為65至84重量百分比。 在本說明書及申請專利範圍中,使用「平均粒度」一 詞。其應意指以雷射散射所測定的平均粒度(平均粒子直 徑,d50)。 在本文說明及申請專利範圍中涉及平均粒度的所有陳述 係關於存在導電金屬膏組成物中之相關材料的平均粒度。 可以一或多個其他微粒金屬取代一小部分選自由銀、銅 和鎳所構成之群組的導電金屬。舉例來說,以該導電金屬 膏所含有的微粒金屬總量為基礎,這類其他微粒金屬的比 例為0至10重量百分比。 導電金屬膏包括-有機媒劑。多種惰性黏性材料可用作 有機媒劑。有機媒劑可為其中之微粒組分(微粒金屬、玻 璃溶塊、另外就是選擇性存在的無機微粒組分)可以足夠 的穩定度分散者。有機媒劑的性質,特別是流變性質,可 致使其提供良好的塗敷性質給導電金屬膏組成物,這此性 質包括:穩、定的不溶固體分散性、用於施加之適當的黏性 及流動減凝性(thixotropy)、f固體的適當可濕性、良好的 P速率及良好的燒製性質。用在導電金屬膏中的有機媒 劑非水㈣性液體。該有機關可為—有機溶劑或 容劑的混合物;在一實施例中,該有機媒劑可為-機聚合物在—或多種有機溶劑中的溶液。在一實 ’用於此目的的聚合物可為乙基纖維素。其他可單 152745.doc 201131801 獨或結合使用的聚合物之實例包括:乙基經乙基纖維素、 木松香、㈣樹脂和低級醇的聚(甲基)丙稀酸醋。適當的 =機溶劑的實例包括:醋醇㈣稀(例如,α•或卜松脂醇或 其與其他溶劑(例如,煤油、鄰苯二曱酸二丁酯、二乙二 醇丁基醚、一乙二醇丁基醚醋酸酯、己二醇和高沸點醇) 見。物此外’在導電金屬膏於本發明之方法的步驟⑺ 中施加後,用於促進快速硬化的揮發性有機溶劑可包括在 有機媒劑中。可配製這些和其他溶劑的不同組合,以獲得 所需的黏度和揮發性需求。 導電金屬膏中的有機媒劑含量可取決於施加膏的方法及 所用之有機媒劑的種類,且其可改變。以總導電金 成物為基礎,在一實施例中,其可從1〇至45重量百分比或 在一實施例中,其可位於12至35重量百分比的範圍内。1〇 至45重里百分比的數目包括一或多個有機溶劑、一或多個 可行的有機聚合物(s)及一或多個可行的有機添加劑。 以總導電金屬膏組成物為基礎,導電金屬膏中的有機溶 劑含量可位於5至25重量百分比的範圍内或在一實施例 中’其範圍為10至20重量百分比。 一或多個有機聚合物可存在有機媒劑中,以總導電金屬 膏組成物為基礎,其比例位於〇至20重量百分比的範圍 内’或者在一實施例中為5至1 〇重量百分比。 在本發明之方法的特定實施例中,導電金屬膏包括至少 一玻璃熔塊,其選自由下列所構成的群組:⑴無鉛玻璃熔 塊’其所具有的軟化點溫度位於55〇至611〇c的範圍内,並 152745.doc •14· 201131801 含有11至33重量百分比的Si〇2、>〇至7重量百分比,特別 疋5至6重量百分比的Al2〇3及2至ίο重量百分比的b2o3及 (n)含絡玻璃熔塊’其所具有的軟化點溫度位於571至 63 6C的範圍内,並含有53至57重量百分比的Pb〇、25至29 重畺百分比的Si〇2、2至6重量百分比的Al2〇3及6至9重量 百分比的B2〇3。 在類型⑴之無鉛玻璃熔塊的情況下,Si〇2、Ai2〇3及 B2〇3的重量百分比總和不等於1〇〇重量百分比,且缺少的 重1百分比特別是由一或多個其他氧化物(例如,如 的鹼金屬氧化物、如MgO的鹼土金屬氧化物及如Bi2〇3、 Τι〇2及ZnO的金屬氧化物)所貢獻。 類型⑴的無鉛玻璃熔塊可含有40至73重量百分比,特別 是48至73重量百分比的則2〇3。出2〇3、Si〇2、八12〇3及1〇3 的重;E百分比總和可等於或不等於1〇〇重量百分比。在其 總和不等於100重量百分比的情況下,缺少的重量百分比 尤可由一或多個其他氧化物(例如,如Ν&2〇的鹼金屬氧化 物、如MgO的驗土金屬氧化物及如丁丨〇2及Ζη〇的金屬氧化 物)所貢獻。 在類型(Π)之含鉛玻璃熔塊的情況下,pb〇、si〇2、 Ah〇3及ΙΟ;的重量百分比總和可等於或不等於1〇〇重量百 分比。在其總和不等於100重量百分比的情況下,缺少的 重量百分比尤可由一或多個其他氧化物(例如,如Na2〇的 鹼金屬氧化物、如MgO的鹼土金屬氧化物及如Ti〇2及Zn〇 的金屬氧化物)所貢獻。 I52745.doc 201131801 在導電金屬膏包括類型⑴之無鉛玻璃熔塊及類型(ii)之 含鉛玻璃熔塊的情況下,兩種玻璃熔塊類型之間的比可為 任意值,或換言之’可位於從>0至無限的範圍内。較佳 地,如在本發明之方法之特定實施例中所用的導電金屬膏 不包括除了類型⑴及/或類型(π)之玻璃熔塊以外的玻璃熔 塊。 或多個選自⑴及/或(π)之群組的玻璃熔塊係作為無機 黏5劑。一或多個玻璃熔塊的平均粒度位於例如0.5至4 μπι的範圍内。如在本發明之方法之特定實施例中所用的 導電金屬膏中選自⑴及/或(Η)的群組之玻璃熔塊的總含量 為例如0.25至8重量百分比,或在一實施例中為〇 8至3 5重 量百分比。 玻璃熔塊的製備已為眾所周知,舉例來說,其在於將玻 璃組分特以組分的氧化物形式熔化在一起,並將這類熔化 的、’、成物澆左至水中,以形成炼塊。如在此技藝中眾所周 知,可實施加熱以達到位於諸如1〇5〇至125〇5>(:之範圍内的 峰值度’並維持一段㈣,以至夂熔體完全變成液體且均 質,典型為0.5至1 · 5小時。 玻璃可在-球磨機中與水或惰性低黏度、低沸點的有機 液體一起碾磨,以縮小該玻璃熔塊的粒度,並獲得具有本 質上句勻尺寸的玻璃’⑥塊。接著’其可在水或該有機液體 中沉降以分離細料,並可移除含有該細料的上清流體。亦 可使用其他的類析法。 導電金屬膏可包括-或多個有機添加劑(例如,界面活 152745.doc 201131801 f生劑、增稠劑、流變改質劑及穩定劑)。一或多個有機添 加齊丨可為有機媒劑的一部分。不過,當製備導電金屬膏 夺亦可分別添加一或多個有機添加劑。一或多個有機添 加劑可存在於導電金屬膏中,以總導電金屬膏組成物為基 礎’其總比例為例如〇至丨〇重量百分比。 。2在本發明之方法中的導電金屬膏為一黏度組成物,其 可藉由機械混合微粒金屬及一或多個玻璃熔塊與有機媒劑 來製備。在一貫施例中,可使用粉末混合的製造方法,其 為等效於傳統輥磨的分散技術;亦可使用輥磨或其他混 合技術。 導電金屬膏可照這樣使用,或可藉由諸如添加一或多個 額外的有機溶劑進行稀釋;因此,導電金屬膏之所有其他 組分的重量百分比可因而減少。 當以10 rprn的主軸速度及25t下藉由一多用途杯使用
Bf〇〇kfle】d HB 丁黏度計及#14主軸進行測量時,導電金屬膏 的施加黏度可為20至350 Pa.s。 導電金屬膏係施加至碎晶圓的孔,以使至少孔内側設有 金屬化’亦即’形成至少孔内側的金屬化。導電金屬膏可 以導電金屬層(開孔)的形式或以導電金屬栓(填有導電金屬 的孔)的形式施加。導電金屬f的施加方法可為例如網版 印刷的印刷。施加可從孔的前側及/或從背側執行。將導 電金屬膏施加因此至少能使孔内側覆以金屬化;亦即可 將導電金屬膏施加成僅覆蓋孔内側或亦覆蓋—環繞孔邊緣 的窄外緣’藉此,窄外緣可環繞孔的前側邊緣、環繞孔的 I52745.doc 201131801 背側邊緣或環繞兩者而存在。可施加有別於在本發明方法 之步驟(2)中所施加之導電金屬膏之額外的第二導電金屬 膏;在這類情況下’孔的金屬化係藉由從孔的前側施加一 導電金屬f ’並從孔的背側施加另一金屬膏來形成,其中 孔内側的金屬化係從在本發明方法之步驟(2)中所用之不具 有燒穿能力或僅具有貧乏燒穿能力的導電金屬膏施 得。 在本發明之方法的步驟(3)中,使步驟⑺中所施加的導 電金屬膏乾燥例如⑴⑽分鐘的週期,而使矽晶圓達到位 於100至3啊之範圍内的♦值溫度。舉例來說乾燥可使 、旋轉式或固定式乾燥器,尤其是叫紅外線)帶式 乾燥益,來實行。 在本發明之方法的步驟⑷十,燒製經乾燥的導電金屬 及:太完二的::屬化。這些金屬化係作為射極_ 的燒製可執陰極背接點。舉例來說,步驟⑷ 700至90(rc仃分鐘的週期’而使該矽晶圓達到位於 C之範圍内的一峰值,θ许 1·在制-r戌 或多區式帶爐,尤兑曰^ 燒製可使用例如單區 在惰性氣體大^2式紅外線帶爐來實行。燒製可 境中發生。在燒製期二(舉例來說,存在空氣)的環 其是燃心紅 可移除,亦即燃燒及/或碳化(尤 乾烨期門二非揮發性有機材料的有機物質以及不會在 乾琮期間4發掉的有 I隹 括一或多個有_#卜燒製期間移除的有機物包 及選擇性存在的一。、、擇生存在的一或多個有機聚合物 或多個有機添加劑。至少在本發明之方 I52745.doc 201131801 法之特定實施例的情況下,有另一程序在燒製期間發生, 即是玻璃熔塊與微粒導電金屬的燒結。 燒製可以所謂的共同燒製執行,其係與薄導電金屬集極 線形式之前側金屬化及/或從背側鋁膏施加的鋁背陽極及/ 或從背側銀或銀/銘膏施加的銀或銀/鋁背集極接點一起執 仃,其中薄導電金屬集極線形式的前側金屬化係以典型用 於MWT矽太陽能電池的圖案安排,並從一導電金屬膏施 加而得。 下列實例說明銀膏之燒穿能力的測定。該等實例亦顯示 如何測試經燒製之銀膏及p型矽基材表面間的黏附力,藉 此使用習知的樣本P型矽晶圓實行黏附力測試,因為不可 能測試經燒製之銀膏及M w τ矽太陽能電池晶圓之孔内側 間的黏附力。 實例 (1)製造測試樣本 ⑴實例銀膏1至3 : 銀膏1至3的組成物顯示在表1中。膏由銀粉末(平均粒度 2 μηι)有機媒劑(聚合樹脂及有機溶劑)及玻璃熔塊(平均 粒度8 μηι)所構成。表2提供所用之玻璃溶塊類型的組成物 數據。 152745.doc 19 201131801 表1 銀膏 組成物(重量百分比) 銀粉末 有機媒劑 玻璃熔塊類型 1 85.0 14.5 類型1的0.5 2 81.0 17.0 類型1的2.0 3 86.0 9.3 類型2的4.7 表2 玻璃 類型 軟化點 溫度(°C) 玻璃成分(重量百分比) Si02 AI2O3 b2o 3 PbO Ti〇2 Zr02 Li20 1 573 28 4.7 8.1 55.9 3.3 _ 2 438 17.8 0.2 1.9 79.5 - 0.5 0.1 (ii)形成TLM樣本: 在具有30 μηι厚之鋁電極(從商業上可購自杜邦公司的 PV38 1鋁組成物網版印刷得到)之矽基材(具有243 面積 之200 μηι厚的多晶矽晶圓、p型(硼)大塊矽、具有—n型擴 散POCI3射極、以酸將表面紋理化、藉由CVD在晶圓射極 上施加75 nm厚的SiNx ARC層)的正面上,將銀膏1至3網版 印刷成1 27 μηι寬及6 μηι厚的平行指狀線,其彼此之間具有 2.2 mm的距離。鋁膏及銀膏係在共同燒製前進行乾燥。 經印刷的晶圓接著在Despatch爐中以3000 mm/分鐘的帶 速度與定義如區域1=500°C 、區域2 = 525°C 、區域 3 = 550°C、區域4=600°C、區域5=925°C及最終域設定為 890°C的區域溫度燒製’從而使晶圓達到8〇(rc的峰值溫 I52745.doc •20· 201131801 度。 為了製造TLM樣本,經燒製的晶圓隨後以雷射劃線並使 之斷裂為10 mm X 28 mm的TLM樣本,其中平行的銀金屬 化線並未彼此碰觸。雷射劃線係使用由Optek提供之1 064 nm的紅外線雷射執行。 (in)形成用於黏附力測量的樣本: 在非鈍化矽基材(具有243 cm2面積之200 μιη厚的多晶石夕 晶圓、Ρ型(删)大塊矽、具有一 η型擴散p〇Ci3射極、以酸 將表面紋理化)的正面上,將銀膏1至3網版印刷並乾燥為2 mm寬及25 μηι厚的匯流排棒。 經印刷的晶圓接著在Despatch爐中以3000 mm/分鐘的帶 速度與定義如區域1=50(TC 、區域2 = 525°C 、區域 3 = 55〇C、區域4=6〇〇。(:、區域5=925°C及最終域設定為 890°C的區域溫度燒製,從而使晶圓達到8〇〇<t的峰值溫 度。 (2)測試程序與結果 (i) TLM涓丨J量: 為了測量接觸電阻率之目的,TLM樣本係藉由將其玫入 可購自GP Solar的GP 4-Test Pro器械中來進行測量。測量 係在20°C下執行,且樣本係位於黑暗之中。設備的測試探 針與TLM樣本之6個鄰接的細線銀電極相接觸,並記錄接 觸電阻率(pc)。 (Π)經燒製的黏附力測量: 為了黏附力測試,使用商業上可購自Semtek的自動化垾 152745.doc 201131801 接機器(PV焊接機器,型號SCB-160)。焊接程序包括塗覆 具有焊劑(Kester 952S)的一焊接帶及施加10個經加熱插銷 的力至經塗佈的焊接帶與匯流排棒,以誘發矽基材上經燒 製之銀表面的潤濕,導致匯流排棒及帶之間的黏附力。經 加熱的插銷係設定為260°C的溫度,且放置關注樣本的焊 接預熱板係設定為180°C。 黏附力的測量係在焊接帶上的多個點沿匯流排棒以100 mm/秒的速度與90°的角度拉動。欲移除匯流排棒的力係以 牛頓(N)測量。 表3呈現所測量的接觸電阻率及平均黏附力數據。 表3 實例 銀膏 接觸電阻率(Ω·οή2) 平均黏附力(N) 1(根據本發明) 1 >364 Ω-cm21) 5.1±1.6 2(根據本發明) 2 >364 Ω^ατι2^ 4.8±1.1 3(對照實例) 3 1.9 mQ»cm2 3.1±1.2 152745.doc 22- 1 接觸電阻率超過GP 4-Test Pro設備可測量的上限(>364 Ω·ογπ2)。
Claims (1)
- 201131801 七、申請專利範圍: 1. 一種用於製造MWT矽太陽能電池的方法,該方法包含以 下步驟: (1)提供一p型矽晶圓,其具有⑴孔成形通孔,其介於該 晶圓的前側與背側之間;以及(ii) 一 η型射極,其延 伸在整個前側上方及該孔内側; (2)將一導電金屬膏施加至該矽晶圓的該孔,以使至少 • 該孔内側設有一金屬化; (3) 乾燥該施加的導電金屬膏;以及 (4) 燒製該乾燥的導電金屬膏,藉此使該晶圓達到7〇〇至 900°C的峰值溫度, 其中該導電金屬膏不具有燒穿能力或僅具有貧乏的燒穿 能力,並包括(a)至少一微粒導電金屬,其選自由銀、銅 及鎳所構成的群組;以及(b)一有機媒劑。 2·如請求項丨之方法,其中該?型矽晶圓在其前側上具有一 ARC層’其排除該孔内側。 .3·如請求項1或2之方法,其中以總導電金屬膏組成物為基 ' 礎’该有機媒劑含量係從丨〇至45重量百分比。 4. 如請求項1或2之方法,其中該導電金屬係以5〇至92重量 百分比的比例存在於該導電金屬膏中。 5. 如請求項1或2之方法,其中該導電金屬為銀。 6_如明求項1或2之方法,其中該導電金屬膏包括至少一玻 璃熔塊作為成分⑷,其選自由下列所構成的群組:⑴無 乱玻璃炫塊’其所具有的軟化點溫度位於55〇至川。c的 152745.doc 201131801 $&圍内,並含有η至33重量百分比的Si〇2、>〇至7重量百 分比的Al2〇3及2至10重量百分比的B2〇3及(ii)含鉛玻璃熔 塊,其所具有的軟化點溫度位於5 7丨至63 6。〇的範圍内, 並含有53至57重量百分比的pb〇、25至29重量百分比的 Si〇2、2至6重量百分比的八丨2〇3及6至9重量百分比的 B 2〇3 0 7. 如請求項6之方法,其中一或多個該無鉛玻璃熔塊含有 40至73重量百分比的Bi2〇3。 8. 如請求項6之方法,其中選自由類型⑴及(u)所構成之群 組的玻璃熔塊在該導電金屬膏中的總含量為〇25至8重量 百分比。 9. 如請求項1或2之方法,其中將該導電金屬膏係施加成一 導電金屬層或一導電金屬栓。 10. 如請求項!或2之方法,其中該導電金屬膏係藉由印刷施 加。 11. 如請求項1或2之方法,其中燒製係與至少一金屬膏一起 以共同燒製執行,該至少一金屬膏係選自由下列所構成 的群組:(1)一導電金屬膏’其已施加至該前側,以形成 一薄導電金屬集極線形式的前側金屬化,其係以一典型 用於MWT石夕太陽能電池的圖案安排;(2)—背側|呂膏, 其已施加至該背側,以形成一鋁背陽極;以及(3) 一背側 銀或銀/鋁膏,其已施加至該背側’以形成銀或銀/鋁背 集極接觸。 12. —種MWT矽太陽能電池,其係藉由如請求項1至丨丨之方 法製成。 152745.doc 201131801 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:(無) (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: (無) 152745.doc
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US28652109P | 2009-12-15 | 2009-12-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201131801A true TW201131801A (en) | 2011-09-16 |
Family
ID=44141555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW099144088A TW201131801A (en) | 2009-12-15 | 2010-12-15 | Process for the production of a mwt silicon solar cell |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8227292B2 (zh) |
| EP (1) | EP2513980A2 (zh) |
| JP (1) | JP2013513974A (zh) |
| CN (1) | CN102725852B (zh) |
| TW (1) | TW201131801A (zh) |
| WO (1) | WO2011081808A2 (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI493736B (zh) * | 2011-11-14 | 2015-07-21 | Taiwan Semiconductor Mfg Co Ltd | 薄膜太陽能電池及其製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2013519243A (ja) * | 2010-02-08 | 2013-05-23 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | Mwtシリコン太陽電池の製造方法 |
| US8535971B2 (en) * | 2010-02-12 | 2013-09-17 | Heraeus Precious Metals North America Conshohocken Llc | Method for applying full back surface field and silver busbar to solar cell |
| US9065010B2 (en) * | 2011-06-28 | 2015-06-23 | Universal Display Corporation | Non-planar inorganic optoelectronic device fabrication |
| KR20140105847A (ko) * | 2011-12-22 | 2014-09-02 | 헤레우스 프레셔스 메탈즈 노스 아메리카 콘쇼호켄 엘엘씨 | 낮은 저항 접촉부를 위한 태양 전지 페이스트 |
| CN103311348A (zh) * | 2012-03-08 | 2013-09-18 | 茂迪股份有限公司 | 太阳能电池及其制造方法 |
| CN102831954B (zh) * | 2012-08-24 | 2015-04-15 | 合肥中南光电有限公司 | 晶体硅太阳能电池背场银浆及其制备方法 |
| CN102800762B (zh) * | 2012-08-31 | 2016-04-06 | 英利能源(中国)有限公司 | 一种mwt太阳能电池的制作方法 |
| GB2508792A (en) | 2012-09-11 | 2014-06-18 | Rec Modules Pte Ltd | Back contact solar cell cell interconnection arrangements |
| JP6006075B2 (ja) * | 2012-10-05 | 2016-10-12 | 株式会社フジクラ | 色素増感太陽電池および色素増感太陽電池モジュール |
| CN103117106B (zh) * | 2012-12-07 | 2016-03-02 | 蚌埠市智峰科技有限公司 | 一种含有锌粉的太阳能电池导电浆料 |
| CN103117105B (zh) * | 2012-12-07 | 2016-08-03 | 蚌埠市智峰科技有限公司 | 一种导电浆料 |
| CN103021570A (zh) * | 2012-12-18 | 2013-04-03 | 安徽金大仪器有限公司 | 一种含有松香树脂的导电浆料的制备方法 |
| EP2750139B1 (en) * | 2012-12-28 | 2019-02-27 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | An electro-conductive paste comprising a vanadium containing compound in the preparation of electrodes in MWT solar cells |
| EP2750141B1 (en) * | 2012-12-28 | 2018-02-07 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | An electro-conductive paste comprising coarse inorganic oxide particles in the preparation of electrodes in MWT solar cells |
| EP2750142B1 (en) * | 2012-12-28 | 2017-05-24 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | An electro-conductive paste comprising an inorganic reaction system with a high glass transition temperature in the preparation of electrodes in mwt solar cells |
| EP2749546B1 (en) * | 2012-12-28 | 2018-04-11 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | An electro-conductive paste comprising elemental phosphorus in the preparation of electrodes in mwt solar cells |
| ES2649662T3 (es) * | 2013-07-09 | 2018-01-15 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Una pasta electroconductora que comprende partículas de Ag con una distribución multimodal del diámetro en la preparación de electrodos en células solares MWT |
| EP2966121A1 (en) * | 2014-07-09 | 2016-01-13 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Electro-conductive paste with characteristic weight loss for high temperature application |
| JP6688500B2 (ja) * | 2016-06-29 | 2020-04-28 | ナミックス株式会社 | 導電性ペースト及び太陽電池 |
| CN106653881B (zh) * | 2017-02-24 | 2018-12-25 | 泰州中来光电科技有限公司 | 一种背接触太阳能电池串及其制备方法和组件、系统 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US20050172996A1 (en) * | 2004-02-05 | 2005-08-11 | Advent Solar, Inc. | Contact fabrication of emitter wrap-through back contact silicon solar cells |
| US20060060238A1 (en) * | 2004-02-05 | 2006-03-23 | Advent Solar, Inc. | Process and fabrication methods for emitter wrap through back contact solar cells |
| US7335555B2 (en) * | 2004-02-05 | 2008-02-26 | Advent Solar, Inc. | Buried-contact solar cells with self-doping contacts |
| US7435361B2 (en) * | 2005-04-14 | 2008-10-14 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices |
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-
2010
- 2010-12-08 US US12/963,003 patent/US8227292B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-08 JP JP2012544619A patent/JP2013513974A/ja active Pending
- 2010-12-08 WO PCT/US2010/059433 patent/WO2011081808A2/en not_active Ceased
- 2010-12-08 EP EP10790819A patent/EP2513980A2/en not_active Withdrawn
- 2010-12-08 CN CN201080055578.7A patent/CN102725852B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-12-15 TW TW099144088A patent/TW201131801A/zh unknown
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2513980A2 (en) | 2012-10-24 |
| WO2011081808A3 (en) | 2012-06-21 |
| US8227292B2 (en) | 2012-07-24 |
| CN102725852B (zh) | 2015-11-25 |
| US20110139238A1 (en) | 2011-06-16 |
| CN102725852A (zh) | 2012-10-10 |
| JP2013513974A (ja) | 2013-04-22 |
| WO2011081808A2 (en) | 2011-07-07 |
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