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TW200917943A - Low-profile heat-spreading liquid chamber using boiling - Google Patents

Low-profile heat-spreading liquid chamber using boiling Download PDF

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TW200917943A
TW200917943A TW097110843A TW97110843A TW200917943A TW 200917943 A TW200917943 A TW 200917943A TW 097110843 A TW097110843 A TW 097110843A TW 97110843 A TW97110843 A TW 97110843A TW 200917943 A TW200917943 A TW 200917943A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
heat sink
heat
plate
liquid
item
Prior art date
Application number
TW097110843A
Other languages
English (en)
Inventor
Seung Mun You
Sang-Muk Kwark
Joo Han Kim
Jesse Kim
Original Assignee
Vapro Inc
Univ Texas Arlington
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vapro Inc, Univ Texas Arlington filed Critical Vapro Inc
Publication of TW200917943A publication Critical patent/TW200917943A/zh

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • H01L23/427Cooling by change of state, e.g. use of heat pipes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
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Description

200917943 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於具有沸騰以提供熱轉移之液體之散熱器。 【先前技術】 ° 半導體技術之持續前進已推動處理器及其他電子組件可 操作的密度以及速度之顯著增加。此等技術前進之副效應 為業界領先處理器及其他積體電路在正常操作期間比其前 身產生顯著更多的熱。
南熱通量&高功率微電子I置要求開發可在較大平坦表 :上提供均句溫度分散的創新且有效之散熱器。習知地, 散熱器用於有效地耗散由半導體裝置產生之熱。習知散熱 器通常使用高熱導率之實心塊(諸如,銅、紹及石墨)。散 熱器熱連接至充當釋熱部件之散熱片。 種冷卻技術為熱管。熱管包括界定含有 i、湖T心及丄 作机體之内部腔室之密封機殼,該卫作流體能夠在操作溫 度之所要範圍内具有液相及氣相。當腔室之—個部分暴露 於相對高溫度時其充當蒸發器部分。卫作流體在蒸發器部 分内被蒸發’進而導致略微之壓力升高,㈣將該蒸氣推 動至充當冷凝器部分的腔室之相對較低溫度部分。因為弗 騰作為熱管中之大多數之限制因素而為人熟知,所以熱其 經认相療發且不沸騰。蒸氣在冷凝器部分中冷凝且藉由 毛細管幫浦動作通過毛細管芯返回至蒸發器部分。因^ 管根據相改變原理而非傳導或對流原理操作,所歧管理 論上能夠以低於傳導熱轉移系統之熱阻的熱阻轉移熱。因 129734.doc 200917943 此,已利用熱管以冷卻各種類型之高熱產生設備,諸如電 子裝備(例如,參見美國專利第3,613,778號;第4,(M6,190 號;第 4,058,299號;第 4,109,709號;第 4,116,266號;第 4,118,756 號 ;第 4,186,796 號 ;第 4,231,423 號 第 4,274,479 號 ;第 4,366,526 號 ;第 4,503,483 號 第 4,697,205 號 ;第 4,777,561 號 ;第 4,880,052 號 第 4,912,548 號 ;第 4,921,041 號 ;第 4,931,905 號 第 4,982,274 號 ;第 5,219,020 號 ;第 5,253,702 號 第 5,268,812 號 ;第 5,283,729 號 ;第 5,331,510 號 第 5,333,470 號 ;第 5,349,237 號 ;第 5,409,055 號 第 5,880,524 號 ;第 5,884,693 號 ;第 5,890,371 號 第 6,055,297 號 ;第 6,076,595 號; 及第 6,148,906 號 及 第 7,124,809號。) 由壓力梯度產生在熱管内之蒸氣之流動及液體之毛細管 流動’壓力梯度由在熱管内自然出現的壓力差之間的相互 作用產生。此等壓力梯度消除對系統流體之外部幫浦作用 之需要。另外,在不具有非可冷凝氣體之情形下的平衡之 液體及蒸氣之存在導致較高熱效率。為了提高熱管之效 率’在先前技術中已開發各種芯結構以促進在冷凝器盘墓 發器部分之間的液體轉移且增強在芯與其周圍環境之間的 熱轉移效能。其已包括縱向安置之平行溝槽及内部管表面 之隨機刮痕。另外,先前技術亦揭示使用固定地附著至内 «Ρ ί壁之心、構。此荨芯之組成及幾何形狀已包括均勻精 細線網及燒結金屬。燒結金屬芯通常包含已被加熱至足以 129734.doc 200917943 導致相鄰粒子在其各別接觸點處融合或熔接之溫度的金屬 粒子之混合物。燒結金屬粉末接者形成具有毛細管特性之 孔結構。儘管在先θ技術中燒結心已展現充分熱轉移特 性,但是在粒子之間的微小金屬對金屬融合界面傾向於約 束經由芯之熱能傳導。在此項技術中此情形已限制燒結芯 之有用性。 簡言之,此芯為用於產生毛細管壓力之部件,且因此較 佳的是芯與工作流體有極好親水性,且較佳的是其毛細管 之有效半徑在液相工作流體之液體表面上形成之彎液面處 儘可能小。因此’多孔燒結之複合物或一束極細之線通常 可用作芯。在根據先前技術之彼等芯部件中,多孔燒結之 複合物由於其空腔之開口尺寸小於其他芯之空腔開口尺寸 而可產生大毛細管壓力(亦即,對液相工作流體之幫浦 力)。同樣,多孔燒結之複合物可形成為薄片形狀以使得 其可在被稱作蒸氣腔室的平板型熱管上容易地使用,近年 來蒸氣腔室已吸引注意。因此,多孔燒結之複合物為根據 彼等觀點之較佳之芯材料。 如在美國專利第7,137,442號C442專利)中所論述,若多 孔體用作待建置於熱管中之芯,則有可能增大毛細管壓力 以用於使液相卫作液體回流。此情形對縮小蒸氣腔室大小 係有利的。,由作為多孔體之材料之精細粉末中產生 之空腔形成流動路徑,使得流路徑之流動橫截面區域必須 小且與迷陣—樣複雜。因此,有可能増強充當用於使液相 工作流體回流至其蒸發處之部分的幫浦力之毛細管壓力。 129734.doc 200917943 ( Ο 然而,另一方面,因為對液相工作流體之流動阻力相對 高’所以存在缺點。出於此原因,舉例而言,若來自外部 之熱之輪入量突然且急劇地增加,則芯可能歸因於缺乏饋 入發生工作流體之蒸發之部分的液相工作流體而蒸乾。 •442專利揭示一種蒸氣腔室,其中取決於熱之輸入及輻射 之狀態而蒸發及冷凝的可冷凝流體作為液相卫作流體而封 裝於中空且平坦之密封容器且其中用於藉由用工作流 體來潤濕而產生毛細管壓力之芯配置於該密封容器中,其 包含:用於藉由用該工作流體來潤濕而產生大毛細管壓力 之芯’其配置於自外部輪人熱之蒸發部分側;及具有對潤 濕工作流體之小流動阻六夕奸 力之心’其配置於將熱輻射至外部 之冷凝部分側。 【發明内容】 在一態樣中,提供—t 々 種政熱益以冷卻一裝置。散熱器具 有:第—及第二最接近之對詈 .^ 丄 5了置之表面,其界定一中間具有 液體之外殼、腔室、客另'充 令為或裔皿;及一或多個結構,其安 裝於腔室中以在液體沸睹^β々 弗騰’月間誘發液體流型來分散熱。 以上態樣之實施例可句括 J巴栝以下各者中之一或多者。最接 近之對置之表面在第—表面盥笛 + 衣面/、弟二表面之間具有在〇 J毫 米與3.5毫米之間的間隙。 ^ 表面可為一板之一表面或 一面。板可為硬質的。— 1U表面可為板之一面且另一表面 可與各種熱產生農置執接網 …接觸。敦置可為覆晶晶粒,一板與 覆晶晶粒對置而定位,且直 八甲覆晶晶粒及板界定腔室。裝 置亦可為具有延伸晶粒 十面之圓周板的覆晶晶粒,其中 129734.doc 200917943 第-板與覆晶晶粒及隨附圓周板對置而定位 結構可安袭於對置之表面中之至卜者 矣 乂'Γ女裝於對置 二第-表面將裝置與安裝於腔室内部之第一表 == 構熱接觸。或者,該-或多個結構可安 ,於^接與裝置接觸之第二表面上。第_及第 表面由小間隙間隔。第一及第二對置之表面具有在裝置上 之預疋區上方之第一間隔距離及圍繞 離且其中第二間隔距離大於第一間隔距離。或:了 = ΐ:::,表面可具有均勻間隔距離。由氣泡幫浦作用誘 放 ά纟—實施例中’氣泡幫浦作用可在被水平置 /表面在-預定位置處因而加熱表面面向腔室内部之基 氣空間時經由冷凝物之泰勒不穩定性而形成。施 例:,氣泡係在無泰勒不穩定性之辅助下激發且為較= 作能力。包括以内部結構導引之氣泡之液體流型 文^㈣騰熱轉移效率且亦藉由供應液體及自加熱區域移 除蒸氣而減少局都藏杉· & 卩i:乾仃為。一表面可自裝置 液體彿騰。液體可為水、丙嗣、乙醇、甲醇、致冷劑及Ϊ 混合物’或具有諸如沸點及氣化熱的合適性質之任一宜他 體。液體可含有奈米粒子。液體可經選擇以在預定 力及溫度下沸騰以與裝置之預定熱要求相配。其中,社 構可為翼片結構或肋結構(以及其他結構)。每—結様可: :長桿且該一或多個結構鄰近於局部加熱區域而:放。每 -結構可為伸長桿且該_或多個結構可經間隔 加熱區域。局部加熱區域中心地定位至該-或多個= I29734.doc 200917943 熱區域被定位成距-結構更接近於另-結構。 了形成塗層。該表面可為燒結表面、 名虫刻表面、與了丨本 肖丨表面、 層與對置之表面熱傳導微孔塗層(TCMC)。可在塗 隙。J 之間提供在0·1毫米與3.5毫米之間的間 、塗層可形成於以下各者中之一者中:凹入區祕、亚 =之麼出區域。可使_來形成表面。可使用以下: 步肋;者來形成該—或多個結構:置放線、置放肋、成 刻肋、衝塵肋或切削肋。在第一表面與第二表面 的=隙可小於:3.5毫米。…表面與第二表面之間 ’、了在ο·1*米與3.5毫米之間。在第-表面與第二 表面之間的間隙可為約(Mmm、lmm、15mm、2mm 3 mm散熱片或冷板可附著至表面中之一者。戋 者散熱益可附著至散熱片單元之底#⑲ 元之底部中。在此狀況下,散熱片之底表面可充當、:: 面。 ,在第二態樣t,揭示用於散熱器之系統及製造方法以冷 部裝置。散熱器具有··第_板,其熱耗接至裝置;及第 一:其耦接至第一板以形成用於容納液體的腔室、容器 或“’第二板具有在其上安裴之一或多個結構以誘發液 體流型。 以下各者中之一或多者。該一 、第二板或者可懸置於第一板 第二態樣之實施例可包括 或多個結構可附著至第一板 與第二板之間。由氣泡幫浦作用誘發液體流型。氣泡幫浦 作用係經由歸因於在麻说声 中口瓦在底板處之成核沸騰而產生之氣泡形 129734.doc 200917943 成/、中熱自熱產生袭置傳輸。氣泡幫浦之液體流提供強 j展運動,其促進核沸騰熱轉移且亦防止在沸騰表面形 成局部蒸氣蒸乾區。第一板提供熱以使液體沸騰。液體可 針對特定要求而加以選擇且可為(例如)水、乙醇、碳氣化 合物液體、甲醇、丙酮、致冷劑或具有諸如彿點及氣化熱 口適!·生貝之任-其他工作液體。亦可使用兩種或多種液 體之混合物。結構可為翼片結構或肋結構。每-結構可為 2長桿且結構可鄰近於(中心地或自中心偏置)局部加熱區 芝、而置放。結構可經間隔以圍繞(中心地或自中心偏置)局 部加熱區域。局部加熱區域可被中心地定位至該一或多個 結構,或者可被定位成距—結構更接近於另—結構。可在 第一板上形成塗層,且塗層可為微孔塗層,或可為丁⑽ 或其他沸騰增強表面。可在第—板與第二板之間形成在 °,1宅米至3.5毫米之間的間隙。第-板可具有凹入區域或 平坦區域。可使用衝塵來形成第一板,同時可使用衝壓或 切削而在第一板或第二板上形 小成結構。結構亦可與兩個 脫離且簡單地插入且固定於兩個 兩個板 中間。可使用任何形狀 二、矩形、工字標、u形樑等),只要其可產生間隙。可 在弟-板與第二板之間形成約01毫米至約35毫米之間 隙了開發除缚平坦板之外之形狀因素,包括3D形狀及體 積。另外,舉例而言,板可為諸如翼片之總成之部分。 本發明之優點可包括以下各者中之—或多 有液體之薄型腔室代替習知實心塊散熱單元。在摔作: 間’正被冷卻之裝置使液體沸騰,且沸騰液體與薄腔室或 129734.doc 200917943 間隙組合以產生氣泡幫浦動作來誘發增強冷卻效應之流線 型流型。另外,薄間隙允許關於重力之定向之自由度、系 統以薄圓形、方形或矩形形式將成核彿騰及冷凝:於散 熱。内部結構促進由成核滞騰誘發之流線型流型。結構亦 提供防止板及其上建置之任何總成或零料曲之機械強 度。可藉由使用用於沸騰熱轉移之不同表面處理來達成散 熱器效能之進-步增強。中空散熱器之總厚度可低達約 毫米’進而提供自習知實心散熱器之重量減少。散熱 器經由液體之沸騰且經由所誘發之液體流型而冷卻農置, 且在不要求外部幫浦之情形下達成冷卻。幫浦動力來自氣 泡在脫離沸騰表面之後歸因於浮力之運動,其提供強液體 幫浦動力及散熱能力且因此提供對散熱器之方向及定向相 對不敏感之極好全向效能。 【實施方式】 現參看圖1,展示根據本發明之一態樣之散熱器。散敎 :具有喃合頂部或第二板20之底部或第一板1〇。舉例而 吕’第-板難調適以與諸如處理器或圖形裝置熱產生裝 :熱接觸。在一個實施例中,第一板為具有與熱產生裝置 :、、接觸的局部加熱區之薄板。第一板可具有凹入區域或可 為完全平坦的。 :組合中’第-板1〇及第二板20形成儲存液體之外殼或 =至。當由熱產生襄置加熱第一板1〇時可使液體沸騰,且 /騰動作在熱產生裝置操作期間對其進行冷卻。 第二板20具有朝向第一板1〇凸出之複㈣結構24。結構 I29734.doc 200917943 24可為可在腔室内導引液體流運動之一系列障壁、肋或翼 片。藉由在下文中關於圖3A及圖3B較詳細論述之氣泡幫 浦動作來增強液體流。 為提高亦在當前散熱器中使用之沸騰熱轉移效能,研究 者已研究表面增強技術以增大成核沸騰熱轉移係數且擴大 臨界熱通量(CHF,或者可在不將表面暴露至薄膜沸騰之情 形下移除的最高熱通量),且技術已加以商業化以最大化 濟騰熱轉移效能。用於沸騰增強之商用表面包括諸如
Furukawa之 ECR-40、Wieland 之 GEWA、Union Carbide 之 High-Flux、Hitachi之 Thermoexcel及 Wolverine之 Turbo-B 的 不同類型之空腔或溝槽《表面增強技術將增大蒸氣/氣體 俘獲體積且因此增大有效成核點密度。 在實施例中’第一板具有諸如微孔表面結構之增強之 沸騰表面微結構。微孔塗層(MC)在減少初期壁過熱遲滯之 同時提供成核沸騰熱轉移及CHF之顯著增強。微孔塗層之 一選擇為由丫〇11及0’(:〇1111〇1'(1998)(美國專利第5814392號) 開發之ABM塗層技術。塗層由其三個組份(鋁 (AlUminum)/DevC〇n可塗式陶瓷修補劑(Devc〇n Brushable Ceramic)/ 甲基乙基酮(Methyl-Ethyl-Keytone))之首字母命 名。在載劑(M.E.K.)蒸發之後,所得塗佈層由具有鋁粒子 (1 μιη至20 μιη)之微孔結構及具有厚度=5〇 μηι(其被展示為 針對FC-72之最佳厚度)之膠劑(〇megab〇nd 1〇1或Devc〇n可 塗式陶瓷修補劑)組成。非傳導微孔塗層方法之沸騰熱轉 移優點可藉由以熱傳導黏合劑代替熱非傳導膠劑而改良。 129734.doc -14· 200917943 MC之其他細節揭示於第美國專利5,814 392號中,其内容 以引用之方式併入本文中。 在另一實施例中,第一板具有熱傳導微孔塗層 (TCMC)。TCMC或任何合適塗層用於增強成核沸騰熱轉移 效能且擴大成核沸騰能力之熱通量限制(臨界熱通量)。微 孔塗層之增強之效能產生於有效成核點數目之增加。來自 彿點之較高氣泡脫離頻率降低過熱液體層之厚度,進而誘 發微對流熱轉移之增加。在共同讓渡、同在申請中之專利 申请案第11/272,332號中較詳細地描述TCMC,其内容以 引用的方式併入本文中。 現參看圖2A及圖2B,詳述用於在散熱器之腔室内導引 液體流運動之例示性結構。圖2A展示具有鐘狀配置之第二 板40,其中部件42在局部加熱區44周圍中心地定位。部件 42以如由氣泡幫浦動作誘發之型式46八至46D導引液體 流。相應地,圖2B展示具有翼片配置之第二板5〇,其中翼 片52在局部加熱區54周圍中心地定位。部件52以由氣泡幫 浦動作誘發之型式56A至⑽及細至祕導引液體流。液 體流之方向在最大化經由液體流之熱移除方面係重要的, 且圖2A及圖2B說明液體運動經引導以確保用於分別自局 部加熱區44及54移除熱之最大效能。 之散熱器的效能
散熱器提供在整個表面上均勾溫 溫度(〜1 之差 圖3為說明獨立於關於重力之定向的圖^ 之圖表。散 放,在面向一 中所展示, 129734.doc 15 200917943 別)之極好之熱移除能力而無關於定向。目此,散熱器之 效能獨立於定向。當被水平地置放時,面向上(液體在塗 層上方)及面向下(液體在塗層下方)組態展示相同之效能。 水平組態展示高達約180 w之較佳效能,而垂直組態歸因 於由重力輔助的較快之重新潤濕而在約⑽w後效能變優 越0
圖4A至圖4时描繪在兩個水平測試組態中散熱器之獨 立於定向之效能。在圖4种,塗層水平地面向上,而在圖 4B中’塗層水平地面向下。在任—狀況下,在施加熱之前 存在液柱82之相同型式。因為腔室保持於熱力飽和狀態 中’所以在腔室内部繼續發生蒸發及冷凝。冷凝物必須在 形成液滴之後由重力返回至較低位置。歸因於冷凝液體之 表面張力及泰勒不穩定性,形成水之液柱1兩個板之間 的間隙在0.1毫米至3.5毫米之間時,此效應尤其顯著。一 旦因在水平向下組態中加熱而發生㈣,在液體或在微孔 結構中吸收的液體之柱中便發生初始成核,其中施加熱, 繼之以氣泡幫浦作用。此獨特成核沸騰起始使得大部分液 體沸騰而無關於方向。持續且穩定之大量流體成核沸騰導 致強得多且確定之氣泡幫浦之流循環型式,進而促進散熱 效率。因Λ ’在水平狀況下,無關於面向上還是面向下, 無論塗層面向上還是面向上而^位,氣泡幫浦之成核沸騰 熱轉移皆為熱轉移之主要形式。 圖5Α至圖5Β及圖5C展示額外例示性散熱器實施例。在 圖5Α中,底板1〇〇在102之另一平坦面上具有塗層,諸如在 129734.doc -16- 200917943 局β加熱區上方之TCMC塗I。可作為有助於將熱自熱源 散布至塗層的一片金屬(或在同一板上之較厚金屬)來提供 底部102。此情形在熱源小時尤其有_,因為此情形將會 將熱自熱源”散布"至由散熱器界定之較廣區域以提供作為 成核點而作用且有助於氣泡幫浦動作之較廣有效塗層區 域。 個孔疋位於底板100上以將底板緊固至散熱片(未圖 示)。圖5B展示對應頂板1]〇,其具有在塗層i〇2a正上方之 區112同樣,翼片114在區112周圍定位以激發氣泡幫浦 動作H泡幫浦動作在當底板i 〇〇响合頂板i i 〇時形成之腔 室内在一或多個預定方向上激勵液體。在此實施例中,因 為翼片未同心地(或中心地)置放於區112周圍所以翼片 114不與加熱區112等距離。然而,在諸如圖至圖a之 實施例之其他實施例中,|片42及52對稱地形成且在中心 處具有加熱區44及54。 圖5C展示藉由附著在頂板m上定位之翼片⑽而建構之 例不性散熱片。翼片14〇以包括(但不限於)焊接、硬焊、機 械壓縮及化學鍵結之各種方式緊固至頂板ιι〇之總成。翼 片刚使ώ圖5A至圖5B中之散熱器捕獲之熱能夠耗散入周 圍空氣中。 圖6為說明在各種操作溫度下之散熱器t效能的圖表。 如圖表中所展示,具有TCMC之散熱器之效能隨著操作溫 度上升而略微增強。此係歸因於對成核沸騰熱轉移之壓力 效應。如圖6中所展示,在較高溫度下促進有效沸 129734.doc 17 200917943 圖7為說明具有及不具有TCMC塗層之散熱器之效能的圖 表。如圖表中所展示’由於成核沸騰增強效應,微孔塗層 顯著地增大(以約三之因數)薄散熱器之熱效能。 圖8為說明在腔室中具有各種量之液體之散熱器的效能 之圖表。圖8展示在使用水作為填充液體時,在具有15 mm之内部腔室間隙之9 cmX9 cm之給定幾何形狀下,最佳 液體填充比為約65%。比率可隨不同定向、幾何形狀及加 熱元件大小而變化且因此可使用迭代過程來達到最佳化。 圖9 A、9B及9C分別展示結構可能位於第一板上、第二 板上或兩者之間的各種實施例。現參看圖9A,展示結構 924形成於第一板910上之散熱器。第一板91〇經由塗佈區 912而熱耦接至熱產生裝置。第二板92〇接著緊固至第一板 910且向由板910及920形成之腔室中引入液體。 圖9B展示結構定位於第二板934上之實施例,其中結構 936(諸如,肋或桿)圍繞加熱區938。相應地,第一板93〇經 由塗佈區932而與裝置熱接觸。 圖9C展示結構954懸置於第一板95〇與第二板96〇之間的 實施例。第一板950經由可為TCMC(以及其他塗層)之塗佈 區952而熱搞接至裝置。 二板或者可懸置於 該一或多個結構可附著至第一板、第 第—板與第H °液體流型係、由氣泡幫浦作用誘發。 氣泡幫浦作料經由歸,在自熱產生U傳輪熱之底板 處之成核沸騰產生之氣'泡而形成。氣泡幫浦之液體流提供 促進成核沸騰熱轉移且亦防止在沸騰表面處形成局部蒸氣 129734.doc -18- 200917943 ;乾:之強循裱流運動。第一板提供熱以使液體彿騰。舉 :而二’液體可針對特定要求而加以選擇且可為水、乙 反鼠化合物液體、甲醇、丙嗣、致冷劑 點及氣化埶之入、态陴拼 ’邊如'弗 之5適性質之任一其他工作液體。亦可使用兩 種=種液體之混合物。結構可為翼片結構或肋結構。每 部r口熱I為伸長桿且結構可鄰近(中心地或自中心偏置)局 偏置)、^而置放。結構可經間隔以圍繞(中心地或自中心 偏置)局部加敎區蝻 …坺局部加熱區域可中心地定位至# 一 構或可被定位成距一結構更接近於另—結;該塗 曰-、於第-板上’且塗層可為微孔
或其他沸騰增強表面。可在第—板盘第T:TCMC °,1毫米至3.5毫米之間的間隙。第—板可且有^成在 壓出區域或平坦區域。可使 -有凹入區域、 使用衝麼或切削在第一板或第|门時了 你二把< 上 攸上形成結構。結構亦可 與兩個板脫離且簡單地插入且固定於兩個 任何形狀(線、矩形、工字# J使用 門隙m 4 M'u形樑等)’只要其可產生 間隙。可在第-板與第二板之間形成約〇〗毫米至約 未之。可開發除薄平坦板之外之形狀 狀及體積。另外,舉例而言 。括3邮 分。 了4诸如翼片之總成之部 圖9A至圖9C之系統以含有液 心塊散熱單元。在操作期間,正::型腔室代替習知實 騰,且沸騰液體與薄腔室或間隙組合裝置使液體席 來誘發增強冷卻效應之再㈣ 乳泡幫湳動作 土。另外,薄間隙允許闕 129734.doc •19· 200917943 於重力之疋向自由操作。系統 將成核沸騰及冷凝用於㈣^或矩形形式 發之产_、^ 部結構促進由成核沸騰誘 結構亦提供防止板及其上建置之任何物 之機械強度。可藉由使用用於沸騰熱轉移: 成散熱器效能之進-步增強。中空散熱 «之t厚度可低達約01毫米,進而提供 器”量減少。散熱器經由液體之彿騰且經由:誘:= 體流型而冷卻裝置,且在不要求外部幫浦之情形下達成冷 =來:在沸騰表面上之氣泡形成及氣泡脫離及浮力之強
4力提供對散熱器之方向及定向相對不敏感之極好全 效能。 J 圖1〇展示以熱源裝置自身代㈣—板咖或第-板1000 =部分之又一態樣。此尤其與以下情形相關:腔室成為滞 騰:曰強件置放於IC晶粒1()12之背面正上方的半導體封裝之 一 P刀且由晶粒1012與具有在上面形成之結構1〇24之第 二板咖形成空腔以界定腔室自身。第二板具有加熱區 1022以最佳化液體流型來移除熱。 圖10之配置為薄的且可用於冷卻覆晶晶粒。已開發覆晶 =滿足電位業降低成本、增大封裝密度且改良效能且同 時維持或甚至改良電路之可靠性之持續推動。在覆晶製造 過程中’半導體晶片面向下組裝至電路板上。因為不需要 用於在組件之面上接觸的額外區域,所以出於大小考慮此 情形為理想的(對於TAB而言亦如此)。因為連接路徑之長 度被最小化,所以高頻率應用之效能優於其他互連方法。 129734.doc -20- 200917943 因為同時發生所有連接之接合(而對於線接合,一次進行 -個連接),所以覆晶技術比線結合便宜(對於而言: 如此)。存在用於覆晶接合的許多不同替代過程。接a姓 構之共同特徵在於晶月面向下定位至基板且使用電傳= 料之凸塊來形成晶片與基板之間的連接。 雖然覆晶具有特定大小及成本優點,但歸因於其緊密大 J其具有限制之熱耗散能力。諸如微處理器⑽⑺及圖 形處理單元(GPU)之積體電路在其操作時產生熱且此熱必 須頻繁地自積體電路耗散或移除以防止過熱。圖ι〇之系統 確保熱吸收表面或塗層接觸液體冷卻劑以確保熱自故源至 液體及至模組之其餘處之有效轉移。系統允許積體電路以 最南效能運轉同時最小化歸因於過熱之故障之風險。系統 廉價非金屬材料或低成本液體冷卻劑以及沸騰增強表 面或塗層以簡化设計提供具有器皿之彿騰冷卻器。 雖然已參考特定圖式及實施例來描述本發明但是應理 解“述僅出於說a月目的且不應被認為限制本發明之範鳴。 在不背離本發明之精神及範.之情形下,熟習此項技術者 :對本毛明作出§午多改變及修改。舉例而言,可添加額外 ^熱片或翼片 < 丨他耗散層卩增強積體電路裝置之熱耗 放另外可使用各種封裝類型及1C安裝組態,例如,球 柵格陣列、接腳栅格陣列等等。此外,雖然已以特定組 態及定向描述本發明,但諸如"在上方”、"在·下方、 下覆、以下”向上"、"向下"、"高度"等之詞不應被 解釋為要求任—絕對組態或定向。根據上文教示,其他變 129734.doc -21 - 200917943 化及實施例係可能的,且因 限制,而曰I μ欲本發明之範疇不受描述 丨艮制’而疋由以下申喑直 τ π导利範圍限制。 【圖式簡單說明】 圖1展示例示性散熱器。 圖2Α及圖2Β展示用於在散敎。。 敢熱益之腔室内導引液體流運 動之例示性結構。 圖3為說明對於關於重力 <不冋疋向而言的圖1之散熱器 之接近均勻效能的圖表。 圖4Α至圖4Β描繪散献写料關 伸晋狀热态對關於重力之定向之獨立性。 圖5 A至圖5C展示另一例示性散熱器。 圖6說明在各種操作溫度下之散熱器之效能的圖表。 圖7為況明具有及不具有熱傳導微孔塗層(tcmc)塗層之 散熱器之例示性效能的圖表。 圖8為說明在腔室中具有各種液位之散熱器的例示性效 能的圖表。
圖9A、圖9B及圖9C分別展示結構可位於第一板上、第 二板上或懸置於兩個板之間的各種實施例。 圖10展示第一板由熱源表面自身代替之又一態樣。 【主要元件符號說明】 1〇 第一板 20 第二板 24 結構 4〇 第二板 42 部件 129734.doc ^ 200917943 44 局部加熱區 46A-46D 型式 50 第二板 52 部件/翼片 54 局部加熱區 56A-56F 型式 82 液柱 100 底板 102 底部 102A 塗層 110 頂板 112 加熱區 114 翼片 140 翼片 910 第一板 912 塗佈區 920 第二板 924 結構 930 第一板 932 塗佈區 934 第二板 936 結構 938 加熱區 950 第一板 129734.doc -23 - 200917943 952 塗佈區 954 結構 960 第二板 1000 第一板 1012 1C晶粒 1020 第二板 1022 加熱區 1024 結構 i 129734.doc •24

Claims (1)

  1. 200917943 、申請專利範圍: 一種冷卻-裝置之散熱器,其包含: 第一及第二對置之畏 接近之表面,其界定一中間含有 一液體之腔室;及 C j 期間 誘發一液體流型 2. 如請 求項1之散熱器, 3. 如請求項2之散熱器, 4. 如請 求項1之散熱器 一表 面接觸該裝置。 5. 如請 求項1之散熱器 包含 —與該覆晶晶粒 及該板界定該腔室。 6. 如請 求項5之散熱器 之覆 晶晶粒,其包含 而定 位之板,其中具 板界定該腔室。 7. 如請 求項5之散熱器 之覆 晶晶粒,其包含 板 覆 晶晶粒 其 鄰接板 而定彳立之板’其中具有鄰接板之該覆晶晶粒及該對置之 板界定該腔室。 8 士叫求項1之散熱器,其中該一或多個結構安裝於該等 對置之表面中之至少—者上。 ’ 印衣項1之散熱器,其中該一或多個結構安裝於該等 129734.doc 200917943 對置之表面之間。 苴3长項1之散熱器,其中該第一表面熱接觸該裝置且 其中該—或多個結構安裝於該第一表面上。 U.如請求項1之散熱器’纟中該第一纟面熱接觸該裝置且 其中該一或多個結構安裝於該第二表面上。 12’如請求項1之散熱器,其中該第-對置之表面及該第二 對置之表面係由一小間隙間隔。 广 13’如叫求項1之散熱器,其中該第-對置之表面及該第二 對置之表面具有一在裝置上之一預定區上方之第一間隔 距離及一圍繞該預定區之第二間隔距 間隔距離大於該第一間隔距離。 …第- 14. :請求項!之散熱器’其中該第一對置之表面及該第二 置之表面具有一均勻間隔距離。 15. 如請求項1之散熱器,其 用誘發。 由氣泡幫浦作 16. 如請求項15之散熱器, 、T忒虱泡幫浦作用係在被水平 成該表面在-預定位置處因而—加熱表面面向該腔 2内部之蒸氣空間時經由冷凝物之泰勒不穩定性而形 Η :::項1之散熱器,其中該液體流型改善核沸騰熱轉 18如4 一加熱區域局部地產生之蒸氣蒸乾區。 1«.如叫未項}之散熱器,其中— 騰。 表面轉移熱以使該液體沸 19.如請求項1之散熱器,其中 汉髖包含以下各者中之一 129734.doc 200917943 2〇·=Γ丙酮、乙醇、甲醇、致冷劑及其混合物。 項1之散熱器’其中該液體含有奈米粒子。 •如5月求項1之散熱器,其中該液體 度下、龙酿 、、1璉擇以在一預定溫 度^騰以與該裝置之-預定熱要求相配。 22. 如請求項丨之散熱器,其 〇構包含以下各者中之一 翼片結構、一肋結構。 23. 如請求項丨之散熱器,其中 一 可、、,α構包含一伸長桿且該 ί 3夕個結構鄰近一局部加熱區域而置放。 24. 如請求項丨之散熱器, 一 Τ ^ 、、.σ構包含一伸長桿且該 2夕個結構經間㉟以圍繞一局部加熱區域。 25·如請求項24之散熱器,其中該月 ^ τ茨局邛加熱區域中心地定位 至該—或多個結構。 26. 如請求項24之散熱器复 一 /、Τ 5亥局邛加熱區域被定位成距 一,·、。構更接近於另一結構。 27. 如請求項丨之散熱器一 声。 、匕3 —在该表面上形成之塗 28. 如請求項丨之散熱 ,、肀5亥表面包含以下各者中之— 者· 燒結表面、—士77私丨* 料$ 、冷底 刀則表面、一微孔塗層、一熱傳導 微孔塗層(TCMC)。 守 29. 如請求項ί之散熱哭, ° "匕δ在該塗層與面向該塗層夕 该表面之間的一在〇 ^ ^ ^ 、 1毛水與三毫米之間的間隙。 30. 如請求項〗之散熱器发 之-者中形成之塗声·表包含一在以下各者中 出區域。 …凹入區域、-平坦區域、—屋 129734.doc 200917943 31 32 33. 34. 35. 36. 37. 38. 39. 如睛求項1之散熱器’其中該表面係使用衝壓來形成。 月长項1之散熱器’其中該一或多個結構係使用以下 各者中之一者來形成:置放線、置放肋、成形肋、衝壓 肋、切削肋。 如请求項1之散熱器,其包含一在該第一表面與該第二 表面之間的小於3.5毫米之間隙。 如叫求項1之散熱器,其包含一在該第一表面與該第二 表面之間的在0.1毫米與3 5毫米之間的間隙。 如請求項1之散熱器’其包含一在該第一表面與該第二 表面之間的選自一由約01 mm、丨 15 mm、2 mm、3 〇1111及3 5mm組成之群的間隙。 月求項1之散熱器’其包含一耦接至該等表 者之散熱片或冷板。 〒之— θ求項1之散熱器’其包含耦接至該等表面 之—或多個翼片 如請求項1之散熱器 室之機械支持。 如請求項1之散熱器 積。 其中該-或多個結構提供對該腔 其中該等表面包含_狀或體 129734.doc
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI423015B (zh) * 2010-07-21 2014-01-11 奇鋐科技股份有限公司 Pressure gradient driven thin plate type low pressure heat siphon plate
TWI785938B (zh) * 2021-12-20 2022-12-01 艾姆勒科技股份有限公司 液冷式散熱結構

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010196912A (ja) * 2009-02-23 2010-09-09 Toyota Industries Corp 沸騰冷却装置
JP5714836B2 (ja) * 2010-04-17 2015-05-07 モレックス インコーポレイテドMolex Incorporated 熱輸送ユニット、電子基板、電子機器
WO2011145618A1 (ja) * 2010-05-19 2011-11-24 日本電気株式会社 沸騰冷却器
JP5757194B2 (ja) * 2011-08-23 2015-07-29 トヨタ自動車株式会社 平型ヒートパイプ
JP6024665B2 (ja) * 2011-10-04 2016-11-16 日本電気株式会社 平板型冷却装置及びその使用方法
KR102099255B1 (ko) 2014-05-07 2020-04-10 삼성전자주식회사 방열장치 및 이를 구비한 전자장치
JP5960758B2 (ja) * 2014-07-24 2016-08-02 東京エレクトロン株式会社 基板処理システムおよび基板処理装置
US20170273169A1 (en) * 2014-09-24 2017-09-21 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Heat sink with a load spreading bar
US11397057B2 (en) * 2014-09-26 2022-07-26 Asia Vital Components Co., Ltd. Vapor chamber structure
CN104964579B (zh) * 2015-06-24 2017-02-01 苏州柏德纳科技有限公司 一种基于波浪形导向板的散热器
US10502498B2 (en) * 2015-07-20 2019-12-10 Delta Electronics, Inc. Slim vapor chamber
US9646935B1 (en) * 2015-10-16 2017-05-09 Celsia Technologies Taiwan, Inc. Heat sink of a metallic shielding structure
CA2956668A1 (en) * 2016-01-29 2017-07-29 Systemex Energies International Inc. Apparatus and methods for cooling of an integrated circuit
US9880595B2 (en) 2016-06-08 2018-01-30 International Business Machines Corporation Cooling device with nested chambers for computer hardware
US9894801B1 (en) * 2016-10-31 2018-02-13 International Business Machines Corporation Cold plate
AT522831B1 (de) * 2019-08-08 2023-05-15 Dau Gmbh & Co Kg Luftwärmetauscher sowie Verfahren zu dessen Herstellung und damit ausgestatteter Elektronikaufbau
US11602077B2 (en) * 2021-01-19 2023-03-07 GM Global Technology Operations LLC Heat dissipation device with sorbent material immersed in liquid
US11800684B2 (en) * 2021-01-19 2023-10-24 GM Global Technology Operations LLC Heat pipe with multiple stages of cooling
CN117121189A (zh) * 2021-03-29 2023-11-24 华为技术有限公司 用于将热量从电子热源传递到散热片的散热器
US12394690B2 (en) * 2022-01-04 2025-08-19 Corning Research & Development Corporation Systems and methods of nano-particle bonding for electronics cooling
WO2023225092A1 (en) 2022-05-20 2023-11-23 Seguente, Inc. Manifold systems, devices, and methods for thermal management of hardware components
CN115451750B (zh) * 2022-09-22 2024-06-28 安徽工业大学 一种用于强化沸腾传热的被动式格栅微结构
WO2024210775A1 (en) * 2023-04-03 2024-10-10 Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) Heat sink
US20250081405A1 (en) * 2023-09-06 2025-03-06 Seguente, Inc. Implementation of Two-Phase Cold Plate Loops with Design Features to Optimize Thermofluidic Performance in Space Constrained Computer Architectures

Family Cites Families (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3331435A (en) * 1965-10-11 1967-07-18 Olin Mathieson Heat exchanger with sintered metal matrix
US3435283A (en) * 1966-04-28 1969-03-25 Thomson Houston Comp Francaise Thermosyphonic heat exchange device for stabilizing the frequency of cavity resonators
US3613778A (en) * 1969-03-03 1971-10-19 Northrop Corp Flat plate heat pipe with structural wicks
US4109709A (en) * 1973-09-12 1978-08-29 Suzuki Metal Industrial Co, Ltd. Heat pipes, process and apparatus for manufacturing same
US4116266A (en) * 1974-08-02 1978-09-26 Agency Of Industrial Science & Technology Apparatus for heat transfer
GB1484831A (en) * 1975-03-17 1977-09-08 Hughes Aircraft Co Heat pipe thermal mounting plate for cooling circuit card-mounted electronic components
US4046190A (en) * 1975-05-22 1977-09-06 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Flat-plate heat pipe
SE396567C (sv) * 1975-08-07 1979-12-27 Lindkvist Konsultbyra Ab A Anordning for bortskaffande av vid gasskerning och liknande alstrande fororeningar
US4186796A (en) * 1977-05-17 1980-02-05 Usui International Industry, Ltd. Heat pipe element
US4231423A (en) * 1977-12-09 1980-11-04 Grumman Aerospace Corporation Heat pipe panel and method of fabrication
US4176796A (en) * 1978-02-27 1979-12-04 Leesona Corporation Feed device for sheet granulator and method of feeding same
US4274479A (en) * 1978-09-21 1981-06-23 Thermacore, Inc. Sintered grooved wicks
US4366526A (en) * 1980-10-03 1982-12-28 Grumman Aerospace Corporation Heat-pipe cooled electronic circuit card
KR860000253B1 (ko) * 1981-04-07 1986-03-21 카다야마 히도하지로 비등 냉각장치(沸騰冷却裝置)
US4503483A (en) * 1982-05-03 1985-03-05 Hughes Aircraft Company Heat pipe cooling module for high power circuit boards
US4663243A (en) * 1982-10-28 1987-05-05 Union Carbide Corporation Flame-sprayed ferrous alloy enhanced boiling surface
US4777561A (en) * 1985-03-26 1988-10-11 Hughes Aircraft Company Electronic module with self-activated heat pipe
US4669243A (en) * 1985-11-06 1987-06-02 Truswal Systems Corporation Fire protective system and method for a support structure
US4697205A (en) * 1986-03-13 1987-09-29 Thermacore, Inc. Heat pipe
US4912548A (en) * 1987-01-28 1990-03-27 National Semiconductor Corporation Use of a heat pipe integrated with the IC package for improving thermal performance
JPH063354B2 (ja) * 1987-06-23 1994-01-12 アクトロニクス株式会社 ル−プ型細管ヒ−トパイプ
US4982274A (en) * 1988-12-14 1991-01-01 The Furukawa Electric Co., Ltd. Heat pipe type cooling apparatus for semiconductor
US4931905A (en) * 1989-01-17 1990-06-05 Grumman Aerospace Corporation Heat pipe cooled electronic circuit card
US4880052A (en) * 1989-02-27 1989-11-14 Thermacore, Inc. Heat pipe cooling plate
US5219020A (en) * 1990-11-22 1993-06-15 Actronics Kabushiki Kaisha Structure of micro-heat pipe
US5333470A (en) * 1991-05-09 1994-08-02 Heat Pipe Technology, Inc. Booster heat pipe for air-conditioning systems
DE69211074T2 (de) * 1991-08-26 1996-10-02 Sun Microsystems Inc Verfahren und Apparat zum Kühlen von Mehrchip-Moduln durch die vollständige Wärmerohr-Technologie
JPH0563385A (ja) * 1991-08-30 1993-03-12 Hitachi Ltd ヒートパイプ付き電子機器及び計算機
US5283729A (en) * 1991-08-30 1994-02-01 Fisher-Rosemount Systems, Inc. Tuning arrangement for turning the control parameters of a controller
US5253702A (en) * 1992-01-14 1993-10-19 Sun Microsystems, Inc. Integral heat pipe, heat exchanger, and clamping plate
US5349237A (en) * 1992-03-20 1994-09-20 Vlsi Technology, Inc. Integrated circuit package including a heat pipe
JPH0629683A (ja) * 1992-03-31 1994-02-04 Furukawa Electric Co Ltd:The 電子機器用ヒートパイプ式放熱ユニット
US5289869A (en) * 1992-12-17 1994-03-01 Klein John F Closed loop feedback control variable conductance heat pipe
US5514906A (en) * 1993-11-10 1996-05-07 Fujitsu Limited Apparatus for cooling semiconductor chips in multichip modules
WO1995025603A1 (en) * 1994-03-23 1995-09-28 Board Of Regents, The University Of Texas System Boiling enhancement coating
US5390077A (en) * 1994-07-14 1995-02-14 At&T Global Information Solutions Company Integrated circuit cooling device having internal baffle
US6126723A (en) * 1994-07-29 2000-10-03 Battelle Memorial Institute Microcomponent assembly for efficient contacting of fluid
US5737923A (en) * 1995-10-17 1998-04-14 Marlow Industries, Inc. Thermoelectric device with evaporating/condensing heat exchanger
US6058712A (en) * 1996-07-12 2000-05-09 Thermotek, Inc. Hybrid air conditioning system and a method therefor
US6055297A (en) * 1996-08-02 2000-04-25 Northern Telecom Limited Reducing crosstalk between communications systems
US6167948B1 (en) * 1996-11-18 2001-01-02 Novel Concepts, Inc. Thin, planar heat spreader
US5880524A (en) * 1997-05-05 1999-03-09 Intel Corporation Heat pipe lid for electronic packages
TW407455B (en) * 1997-12-09 2000-10-01 Diamond Electric Mfg Heat pipe and its processing method
TW378267B (en) * 1997-12-25 2000-01-01 Furukawa Electric Co Ltd Heat sink
US5884693A (en) * 1997-12-31 1999-03-23 Dsc Telecom L.P. Integral heat pipe enclosure
US6148906A (en) * 1998-04-15 2000-11-21 Scientech Corporation Flat plate heat pipe cooling system for electronic equipment enclosure
US6227287B1 (en) * 1998-05-25 2001-05-08 Denso Corporation Cooling apparatus by boiling and cooling refrigerant
US6085831A (en) * 1999-03-03 2000-07-11 International Business Machines Corporation Direct chip-cooling through liquid vaporization heat exchange
TW452642B (en) * 1999-09-07 2001-09-01 Furukawa Electric Co Ltd Wick, plate type heat pipe and container
US6244331B1 (en) * 1999-10-22 2001-06-12 Intel Corporation Heatsink with integrated blower for improved heat transfer
US6820683B1 (en) * 2000-01-04 2004-11-23 Li Jia Hao Bubble cycling heat exchanger
US7556086B2 (en) * 2001-04-06 2009-07-07 University Of Maryland, College Park Orientation-independent thermosyphon heat spreader
US6871701B2 (en) * 2001-04-09 2005-03-29 The Furukawa Electric Co., Ltd. Plate-type heat pipe and method for manufacturing the same
US6631077B2 (en) * 2002-02-11 2003-10-07 Thermal Corp. Heat spreader with oscillating flow
US20030159806A1 (en) * 2002-02-28 2003-08-28 Sehmbey Maninder Singh Flat-plate heat-pipe with lanced-offset fin wick
TW530935U (en) * 2002-07-26 2003-05-01 Tai Sol Electronics Co Ltd Heat dissipation apparatus for lower-connect type integrated circuit
US6880626B2 (en) * 2002-08-28 2005-04-19 Thermal Corp. Vapor chamber with sintered grooved wick
JP2004274942A (ja) * 2003-03-11 2004-09-30 Ind Technol Res Inst 磁流発電と冷却の装置及び方法
US6945317B2 (en) * 2003-04-24 2005-09-20 Thermal Corp. Sintered grooved wick with particle web
US6782942B1 (en) * 2003-05-01 2004-08-31 Chin-Wen Wang Tabular heat pipe structure having support bodies
US6978827B2 (en) * 2003-05-23 2005-12-27 Tyco Electronics Canada Ltd. Active heat sink
US6820684B1 (en) * 2003-06-26 2004-11-23 International Business Machines Corporation Cooling system and cooled electronics assembly employing partially liquid filled thermal spreader
US6994152B2 (en) * 2003-06-26 2006-02-07 Thermal Corp. Brazed wick for a heat transfer device
US7269005B2 (en) * 2003-11-21 2007-09-11 Intel Corporation Pumped loop cooling with remote heat exchanger and display cooling
JP4354270B2 (ja) * 2003-12-22 2009-10-28 株式会社フジクラ ベーパーチャンバー
US7104313B2 (en) * 2003-12-31 2006-09-12 Intel Corporation Apparatus for using fluid laden with nanoparticles for application in electronic cooling
US7234513B2 (en) * 2004-02-24 2007-06-26 National Tsing Hua University Microchannel flat-plate heat pipe with parallel grooves for recycling coolant
US6889756B1 (en) * 2004-04-06 2005-05-10 Epos Inc. High efficiency isothermal heat sink
US20050274488A1 (en) * 2004-05-28 2005-12-15 A-Loops Thermal Solution Corporation Heat-pipe engine structure
CN100413061C (zh) * 2004-06-07 2008-08-20 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 一种热管及其制造方法
US7002247B2 (en) * 2004-06-18 2006-02-21 International Business Machines Corporation Thermal interposer for thermal management of semiconductor devices
EP1607707A1 (en) * 2004-06-18 2005-12-21 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Bubble generator and heat transfer assembly
US7032652B2 (en) * 2004-07-06 2006-04-25 Augux Co., Ltd. Structure of heat conductive plate
US6957692B1 (en) * 2004-08-31 2005-10-25 Inventec Corporation Heat-dissipating device
US20060090881A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 3M Innovative Properties Company Immersion cooling apparatus
US7677299B2 (en) * 2004-11-10 2010-03-16 Wen-Chun Zheng Nearly isothermal heat pipe heat sink
CN2762049Y (zh) * 2004-12-28 2006-03-01 北京广厦新源石化设备开发有限公司 金属多孔表面高通量换热管
WO2006072244A1 (en) * 2005-01-03 2006-07-13 Noise Limit Aps A multi-orientational cooling system with a bubble pump
CN100437005C (zh) * 2005-07-08 2008-11-26 富准精密工业(深圳)有限公司 扁平式热管
US20070119572A1 (en) * 2005-11-30 2007-05-31 Raytheon Company System and Method for Boiling Heat Transfer Using Self-Induced Coolant Transport and Impingements
US20070230128A1 (en) * 2006-04-04 2007-10-04 Vapro Inc. Cooling apparatus with surface enhancement boiling heat transfer
TW201040485A (en) * 2010-07-21 2010-11-16 Asia Vital Components Co Ltd Improved heat-dissipation structure

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI423015B (zh) * 2010-07-21 2014-01-11 奇鋐科技股份有限公司 Pressure gradient driven thin plate type low pressure heat siphon plate
TWI785938B (zh) * 2021-12-20 2022-12-01 艾姆勒科技股份有限公司 液冷式散熱結構

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