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TW200907110A - Etching solution and plastic surface metalizing method - Google Patents

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Publication number
TW200907110A
TW200907110A TW097113670A TW97113670A TW200907110A TW 200907110 A TW200907110 A TW 200907110A TW 097113670 A TW097113670 A TW 097113670A TW 97113670 A TW97113670 A TW 97113670A TW 200907110 A TW200907110 A TW 200907110A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
mol
plastic
catalyst
minutes
immersed
Prior art date
Application number
TW097113670A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuyuki Kuramochi
Kaori Nakayama
Original Assignee
Ebara Udylite Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Udylite Kk filed Critical Ebara Udylite Kk
Publication of TW200907110A publication Critical patent/TW200907110A/zh

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00Etching, surface-brightening or pickling compositions
    • C09K13/04Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/22Roughening, e.g. by etching
    • C23C18/24Roughening, e.g. by etching using acid aqueous solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
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    • C25D5/56Electroplating of non-metallic surfaces of plastics

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Description

200907110 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關鈾刻液,更詳細者係有關具有改質良好 的塑膠效果,浴中穩定性高之蝕刻液,及使用其之塑膠表 面的金屬化方法。 【先前技術】 先行技術中,於塑膠表面藉由鍍敷進行金屬化處理時 ,爲提高塑膠表面與鍍敷被膜之密合性,公知者於鍍敷處 理前使塑膠表面經由鉻酸與硫酸之混合液進行粗化之蝕刻 處理。 惟,該蝕刻處理中,使用有害的 6價鉻,因於6〇 °C 以上之高溫下作業,其作業環境差,且務必注意廢水處理 之問題存在。 又,亦可使用過錳酸,進行表面蝕刻,藉由使用條件 ,過錳酸出現快速分解,工業上使用存在問題點。 [專利文獻l]WO 2005/094394號文獻 【發明內容】 因此,本發明之課題係提供一種,具有強烈改良各種 塑膠的改質效果,同時浴中穩定性亦高,可用於工業上塑 膠表面的金屬化之蝕刻液。 本發明者,爲解決該課題,進行精密硏討後結果發現 ,含有過錳酸鹽與過碘酸或其鹽,.更調整其pH之蝕刻液 -4 - 200907110 爲具有強烈改質塑膠之效果,且浴中穩定性亦高,進而完 成本發明。 亦即,本發明之特徵爲含有過錳酸鹽及過碘酸或其鹽 pH爲2.0以下之蝕刻液。 又,本發明之特徵係使塑膠以上述蝕刻液進行處理, 於所蝕刻處理之塑膠上,以賦予觸媒處理液進行處理後, 賦予觸媒,之後,於賦予該觸媒之塑膠上,進行金屬鍍敷 之塑膠表面之金屬化方法。 本發明之蝕刻液係具有強烈改良各種塑膠之改質效果 ,同時,浴中穩定性亦高之蝕刻液。 因此,本發明之蝕刻液適用於工業上進行塑膠表面之 金屬化。 【實施方式】 [發明實施之最佳形態] 作爲含於本發明蝕刻液中之過錳酸者,並未特別限定 ,一般如:過錳酸鉀、過錳酸鈉等之過錳酸之金屬鹽例。 該過錳酸鹽之蝕刻液中之濃度爲0.0005 mol/L以上者宜, 較佳者爲0.005〜0.5mol/L,更佳者爲0.07〜0.5mol/L。 又,作爲含於本發明蝕刻液中之過碘酸或其鹽者,並 未特別限定,一般如:過碘酸二水合物、過碘酸鉀、過碘 酸鈉等例。該過碘酸或其鹽之蝕刻液中濃度爲0.0 1 mo 1 /L 以上者宜,較佳者爲0.05〜1.0 mol/L。 本發明之蝕刻液係將該過錳酸鹽與過碘酸或其鹽溶於 -5- 200907110 水等之溶媒,之後調成蝕刻液之pH爲2 _ 0以下者宜’較 佳者爲1.0以下。pH之調製,可藉由添加無機酸或有機 酸,或調製過碘酸或其鹽之含量後’進行之。作爲用於此 pH之調製之無機酸者,如:磷酸、硫酸、硝酸等例,作 爲有機酸之例者如:乙酸、有機磺酸等例。 該取得之本發明蝕刻液爲具有強烈改良塑膠表面之改 質效果,且浴中穩定性亦高,因此,此可適用於先行技術 公知之塑膠表面的金屬化。利用本發明蝕刻液之塑膠表面 之金屬化方法如:使塑膠以本發明蝕刻液進行處理後,於 所蝕刻處理之塑膠上,更以賦予觸媒處理液處理,而賦予 觸媒,之後,於賦予該觸媒之塑膠上施予金屬鍍敷後,進 行之。 作爲可以本發明蝕刻液處理之塑膠者,並未特別限定 ,一般如:丙烯腈•丁二烯·苯乙烯(ABS)、聚碳酸酯/丙 烯腈•丁二烯.苯乙烯(PC/ABS)、丙烯腈.苯乙烯·丙烯 酸酯(ASA)、矽酮系複合橡膠-丙烯腈-苯乙烯(SAS)、noril 、聚丙烯、聚碳酸酯(PC)、丙烯腈•苯乙烯、聚乙酸酯、 聚苯乙烯、聚醯胺、芳香族聚醯胺、聚乙烯、聚醚酮、聚 對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚颯、聚 醚醚碾、聚醚醯亞胺、改性聚苯醚、聚苯硫化物、聚醯胺 、聚醯亞胺、環氧樹脂、液晶聚合物等,上述各聚合物之 共聚物等例。此等塑膠中又以ABS及PC/ABC爲特別理 想。 以本發明之蝕刻液處理上述之塑膠時,將液溫作成〇 -6- 200907110 〜100 °c,較佳者爲35〜55 °C,再將塑膠浸漬1〜30分鐘 ,較佳者爲5〜15分鐘。 又,該蝕刻處理之後,亦可藉由中和.還原處理,進 行中和•還原處理。此中和·還原處理液只要適用於一般 鍍敷步驟之中和·還原處理即可,未特別限定,而以含有 還原劑者宜。以此等中和•還原處理液’處理塑膠表面時 ,使中和•還原處理液之液溫作成ίο〜80 °c,較佳者爲 30〜60 °C,而使塑膠浸漬1〜20分鐘,較佳者2〜5分鐘 進行處理即可。 又,本發明中,藉由經上述蝕刻液之處理後爲於塑膠 表面露出官能基,具體例如:羥基、羧基等之親水性官能 基,以上述中和•還原處理後,以下述賦予觸媒處理液而 賦予觸媒之前,以含有於塑膠表面所露出之官能基中具選 擇吸附性之化合物(以下,此稱爲「選擇吸附性化合物」) 之賦予觸媒增強液進行處者宜。以此賦予觸媒增強液進行 處理後,藉由之後的賦予觸媒處理,選擇性使觸媒賦予於 塑膠表面,故不會析出機架之鍍敷。作爲含於此賦予觸媒 增強液之選擇性吸附性化合物者,只要於上述之官能基具 有選擇性吸附性之化合物即可,未特別限定,一般如:含 有氮原子之化合物,含有3個以上氮原子之化合物或分子 量爲100以上之化合物,較佳者爲含有3個以上氮原子, 分子量爲1 〇〇以上之化合物例。作爲該選擇性吸附性化合 物之具體例者如:乙烯三胺、三乙烯四胺等之乙烯二胺系 化合物(惟,除乙燒二胺之外);epomine SP-003,epomine 200907110 SP-012’ epomine SP_2〇〇(均爲日本觸媒股份公司製)等之 乙嫌亞胺系高分子化合物;PAA-03,PAA-D41-HC1(均爲 曰東紡紗股份公司製)等之烯丙胺系高分子化合物;pAS_ 92、PAS_M-1、PAS-880(均爲日東紡紗股份公司製)等之 一嫌丙胺系高分子化合物;PVAM-〇570-B(三菱化學股份 公司製)等之乙烯胺系高分子化合物例。此等選擇吸附性 化合物中又特別以乙烯亞胺系高分子化合物、烯丙胺系高 分子化合物及二烯丙胺系高分子化合物爲最佳。此等選擇 吸附性化合物之賦予觸媒增強液中之濃度爲丨〇 mg/L以上 ,較佳者爲100〜1000 mg/L。又,該賦予觸媒增強液係 藉由如:氫氧化鈉、硫酸等將其pH調整爲5〜12、較佳 者爲8〜10。以該賦予觸媒增強液處理上述之塑膠表面時 ,作成液溫爲0〜70°C,較佳者爲25〜35°C,再將塑膠浸 漬1〜20分鐘,較佳者2〜3分鐘處理即可。 如上述被蝕刻處理之塑膠,進一步以賦予觸媒處理液 處理後’賦予觸媒。該賦予觸媒處理液只要用於一般鍍敷 步驟之賦予觸媒即可,未特別限定,通常爲含有貴金屬者 宜’更佳者爲含有鈀,特別以鈀/錫混合膠質觸媒溶液爲 最佳。使此等觸媒賦予於塑膠表面時,作成賦予觸媒處理 液之液溫爲1 0〜6 0 °c,較佳者爲2 0〜5 0 °c,再將塑膠浸 漬1〜20分鐘,較佳者爲2〜5分鐘處理即可。 如上述賦予觸媒之塑膠表面,之後藉由無電解金屬鍍 敷、電氣金屬鍍敷(直接噴鍍)等之金屬鍍敷後,進行塑膠 表面之金屬化。 -8 * 200907110 於塑膠表面之金屬化使用無電解金屬鍍敷時,以賦予 觸媒處理液賦予觸媒後,更以含有鹽酸或硫酸之活化處理 液進行處理亦可。此活化處理液中之鹽酸或硫酸濃度爲 0.5 mol/L以上,較佳者爲1〜4 mol/L。以此等活化處理 液處理塑膠表面時,使活化處理液之液溫作成〇〜6 0 °C, 較佳者爲3 0〜4 5 °C,再將塑膠進行1〜2 0分鐘,較佳者 爲2〜5分鐘之浸漬處理即可。 如上述之賦予觸媒、活化處理等之塑膠,如下進行無 電解金屬鍍敷處理。無電解金屬鍍敷處理可使用公知之無 電解鍍鎳液、無電解鍍銅液、無電解鍍鈷液等之無電解金 屬鍍敷,依常法進行之。具體而言,以無電解鑛鎳液於塑 膠表面進行鍍敷處理時,於P Η 8〜1 0,3 0 °C〜5 0 °C之液溫 之無電解鍍鎳液中使塑膠進行5〜1 5分鐘之浸漬處理即可 〇 又,塑膠表面之金屬化使用直接電氣金屬鍍敷(直接 噴鑛)時,以賦予觸媒處理液,賦予觸媒後,更以含有銅 離子之pH7以上,較佳者爲pH12以上之活化處理液進行 處理亦可。含於此活化處理液之銅離子來源並未特別受限 ,如:硫酸銅等例。以活化處理液進行塑膠表面之處理時 ,將活化處理液之液溫作成〇〜6 0 °C,較佳者爲3 0〜5 0 °C ,再將塑膠進行浸漬處理1〜20分鐘,較佳者爲2〜5分 鐘即可。 如上述之賦予觸媒,被活化處理之塑膠,接著浸漬於 硫酸銅浴等之泛用的電鍍銅浴,一般的條件如:以1〜5 -9- 200907110 A/dm2、2〜10分鐘之處理良P可。 又,於上述之塑膠表面進行無電解鍍敷電氣金屬鍍敷 等之金屬鍍敷,金屬化之塑膠表面更依其目的,進行各種 電鍍銅、電鍍鎳亦可。 [實施例] 以下以實施例爲例,進行本發明之詳細說明’惟本發 明並未受限於此等實施例。 [實施例1 ] 蝕刻液之調製(1): 將各成份作成以下表1所載之量於水中混合後,調製 蝕刻液。使此等蝕刻液各自加溫爲7 0 °C後,測定浴分解 爲止之時間。另外,藉由目測依色調(由紫色轉變爲茶色) 判疋浴的分解。其結果亦合倂示於表1。 -10- 200907110 過錳酸鉀 磷酸 硫酸 硝酸 L 你 甲烷磺酸 —--- 過碑酸 pH 浴分解爲止 所要時間 比較物1 0.06 10 - 1.0以下 於3小時分解 實施物1 0 06 10 0.2 1.0以下 於15小時以上無變化 比較物2 0,06 S 1.0以下 於30分鐘分解 實施物2 0.06 5 0.2 1.0以下 於15小時以上無變化 比較物3 0.06 8.5 - 1.0以下 於30分鐘分解 實施物3 0.06 8 5 0.2 1.0以下 於15小時以上無變化 比較物4 0.06 . 5 一 —---- 1.0以下 建浴後立刻分解 實施物4 0.06 5 0.2 1.0以下 於15小時以上無變化 比較物5 0.003 - 1.0以下 於3小時分解 實施物5 0.003 3 0.2 1.0以下 於15小時以上無變化 比較物6 0.12 • 5 L-- 1.0以下 於30分鐘分解 實施物6 0.12 5 0.2 1.0以下 於15小時以上無變化 比較物7 0.24 5 _ * -----' 1.0以下 於30分鐘分解 實施物7 0.24 5 • - 0.2 — 一圓 1.0以下 於15小時以上無變化
數値單位均爲mol/L
[實施例2] 無電解鍍敷被膜之製作: 使用50x100x3mm之ABS樹脂(UMGABS股份公司製) 爲試料,以上述實施例1所調製之各蝕刻液(實施物1〜7 及比較物1〜7)之加溫至3 5。(:者中浸漬該試料1 0分鐘。 接著,將此浸漬於3 5 r之中和•還原處理溶液D s - 3 5 0 (荏 原U-dilyte股份公司製)3分鐘後,使表面進行中和•還 原。 將中和.還原之試料浸漬於以氫氧化鈉調整200 -11 - 200907110 mg/L之PAA-03(聚嫌丙胺:日東紡紗股份公司製)爲ρΗ1〇 之30 °C之賦予觸媒增強液中2分鐘,進一步將此於室溫 下浸漬於1.2 mo 1/L之鹽酸中1分鐘。將此試料於含有1〇 ml/L之CT-5 80(荏原U-dilyte股份公司製)及2.5 mol/L之 鹽酸之3 5 °C鈀/錫混合膠質觸媒溶液中浸漬4分鐘後,於 ABS樹脂上賦予觸媒。 將賦予觸媒之試料於由1 . 2 mo 1/L鹽酸所成之3 5 X:活 化處理液中浸漬4分鐘,使觸媒活化,接著,於ρ η 8.8、 35°C之無電解鍍鎳液ENILEX ΝΙ-5(荏原U-dilyte股份公 司製)中浸漬1 0分鐘,於A B S樹脂上進行無電解鍍鎳使 膜厚爲0.5 μηι。 之後,於室溫下,浸漬於含有150g/L之V-345(荏原 U-dilyte股份公司製)之酸活性溶液中1分鐘,接著,於 含有 0.75 mol/L之硫酸鎳,0.4 mol/L之氯化鎳及 0.55 mol/L之硼酸之45°C之瓦特浴中,以2V/dm2浸漬3分鐘 。更將此浸漬於含有10 ml/L之PDC(荏原U-dilyte股份 公司製)及0.5 mol/L之硫酸之室溫的銅取溶液中,浸漬1 分鐘,進行銅取代。 最後,將此於含有0.9 mol/L硫酸銅,0.55 mol/L硫 酸及0.0017 mol/L氯之25 °C的硫酸銅鍍敷液EP-30(荏原 U-dilyte股份公司製)中,以3A/dm2,40分鐘,使膜厚作 成20μπι之電鍍銅。之後,將此於70°C下進行锻燒1小時 -12- 200907110 [試驗例1 ] 密合強度測定: 依JIS H8 63 0附屬書6,利用張力強度試驗機AGS-H500N(股份公司島津製作所製),測定實施例2取得之無 電解鍍敷被膜之密合強度。其結果示於表2。 [表2] 密合強度(kgf/cm) 比較物1 1.4 實施物1 1.4 比較物2 1.4 實施物2 1.4 比較物3 1.8 實施物3 1.8 比較物4 實施物4 1.0 比較物5 0.4 實施物5 0.4 比較物6 1.8 實施物6 1.8 比較物7 __L9___ 實施物7 1.9 -:不能測定 即使於蝕刻液中添加過碘酸,其最後取得之無電解^ 敷被膜之密合強度仍等同於未添加。 [實施例3] -13- 200907110 蝕刻液之調製: 將下表3所載量之各成份混合於水中後,調製蝕刻液 。將此等蝕刻液分別加溫至7 〇 °C後,與實施例1同法, 測定浴分解爲止之時間。其結果示於表3。 [表3] 過錳酸鉀 硫酸 過碘酸 PH 浴分解爲止 所要時間 比較物2 0.06 5 0 1.0以下 於30分鐘分解 實施物8 0.06 5 0.01 1.0以下 於1小時分解 實施物9 0.06 5 0.02 1.0以下 於2小時分解 實施物10 0.06 5 0.1 1.0以下 ——. 於15小時以上無變化 實施物2 0.06 5 0.2 1.0以下 於15小時以上無變化 實施物11 0.06 5 0.4 1.0以下 於15小時以上無變化
數値單位均爲mol/L 全部添加過碘酸者,相較於來添加者,其較可取得高 度浴穩定性。 [實施例4 ] 無電解鍍敷被膜之製作: 使用50x100x3 mm之ABS樹脂(UM GABS股份公司製) 爲試料。於含有0.06 mol/L之過錳酸,0.2 mol/L之過換 酸及5 mol/L之硫酸,PH1.0以下之35。(:的蝕刻液中,浸 漬該試料1 0分鐘,接著,於3 5 °C下之中和•還原處理溶 液DS-350(径原U-dilyte股份公司製)中浸漬3分鐘,使 表面進行中和•還原。 -14 - 200907110 於50°C之賦予離子性觸媒處理液PC_65H(荏原U-dilyte股份公司製)中浸漬該中和•還原之試料4分鐘, 於ABS樹脂上賦予鈀觸媒後,更於35。(:之活化處理液 PC-66H中浸漬4分鐘,使觸媒活化。 接著,於pH8_8、35°C之無電解鍍鎳液ENILEXNI-5( 荏原U-dilyte股份公司製)中浸漬該試料1 〇分鐘,於ABS 樹脂上進行使膜厚爲0 · 5 μιη之無電解鍍鎳。 之後,於含有150g/L之V-3 45 (荏原u-dilyte股份公 司製)之鹼活性溶液中,室溫下浸漬1分鐘,接著,將此 ,於含有 0.75 mol/L之硫酸鎳,0.4 mol/L之氯化鎳及 0.5 5 mol/L之硼酸之45°C的瓦特浴中,以2V/dm2,浸漬 3分鐘。 更於含有l〇ml/L之PDC(荏原U-dilyte股份公司製) 及0.5 mol/L之硫酸之室溫的銅取代溶液中,將此浸漬1 分鐘,進行銅取代後,以含有 〇.9 mol/L硫酸銅,0.55 m〇l/L硫酸及0.0017 mol/L氯之25 °C硫酸鍍銅液EP_30( 荏原U-dilyte股份公司製),以3A/dm2,40分鐘,進行使 膜厚爲20 μηι之電氣鍍銅。之後,將此於70 °C下進行锻燒 1小時。 與試驗例1同法測定上述取得之無電解鍍敷被膜之密 合強度後結果,該密合強度爲i.Ugf/cm。 [比較例1 ] 無電解鍍敷被膜的製作: -15- 200907110 使用5 0x 1 00x3mm之ABS樹脂(UMGABS之股份公司 製)爲試料’將此浸潰於由35 m〇l/L之鉻酸酐及3.6 mol/L之硫酸所成之6 8 °C的触刻液中1 0分鐘。接著,將 此浸漬於35°C之中和•還原處理溶液DS-350(荏原U-dilyte股份公司製)中3分鐘,使表面進行中和.還原。 將中和•還原之試料,於室溫下浸漬於1 · 2 m ο 1 / L之 鹽酸中1分鐘。將此試料浸漬於含有lOml/L之CT-5 80( 荏原U-dilyte股份公司製)及2.5 m〇l/L鹽酸之35°C的鈀/ 錫混合膠質觸媒溶液中4分鐘,於ABS樹脂上賦予觸媒 〇 將賦予觸媒之試料浸漬於由1.2 mol/L鹽酸所成之35 °C之活化處理液中4分鐘,使觸媒活化,接著,浸漬於 pH8.8 ' 35°C 之無電解鍍鎳液 ENILEX NI-5(荏原 U-dilyte 股份公司製)中1〇分鐘,於ABS樹脂上進行使膜厚爲 0.5μιη之無電解鍍鎳。 之後’室溫下含有150g/L之V-345 (荏原U-dilyte股 份公司製)之酸活性溶液中,浸漬1分鐘,接著,於含有 0_75 mol/L硫酸鎳,0.4 mol/L氯化鎳及0.55 mol/L硼酸 之45°C的瓦特浴中,以2V/dm2浸漬3分鐘。更於含有10 ml/L之PDC(荏原U-dilyte股份公司製)及0.5 mol/L硫酸 之室溫的銅取代溶液中將此浸漬1分鐘,進行銅取代。 最後,將此於含有0.9 mol/L硫酸銅,0.55 mol/L硫 酸及0.0017 mol/L氯之25°C的硫酸鍍銅液EP-30(荏原U-dilyte股份公司製)中,以3 A/dm2,40分鐘,進行使膜厚 -16- 200907110 爲20μηι之電氣鍍銅。之後,將此於7〇。(:下進行锻燒1小 時。 與試驗例1同法測定上述取得之無電解鍍敷被膜之密 合強度,結果’其密合強度爲1.2 k g f / c m。 [實施例5] 無電解鍍敷被膜的製作: 使蝕刻液所處理之塑膠由A B S變更爲以下表4所載 之外’與實施例2同法製作無電解鍍敷被膜。以目測評定 取得無電解鍍敷被膜之鍍敷析出性。另外,與試驗例1同 法測定取得無電解鑛敷被膜之密合強度。此等結果亦合倂 不於表4。 [表4] 塑膠種類 鍍敷析出性 剝離強度(kgf/cm) ABS 良好 1.4 PC/ABS(PC65%) 良好 1.0 ASA 良好 1.0 SAS 良好 1.2 noril 良好 1.0 聚丙烯 良好 1.0 ABS、PC/ABS、ASA、SAS、PC: UMGABS 股份公司製 noril : General Electric 製 聚丙燒:日本polychem股份公司 先行技術方法中,即使不易鍍敷析出之基材仍可機架 -17- 200907110 未析出進行鍍敷,亦可取得密合強度同等以上之値。 [比較例2] 無電解鍍敷被膜之製作: 將鈾刻液所處理之塑膠由A B S變更爲以下表5所載 之外’與比較例1同法’製作無電解鍍敷被膜。以目測評 定取得無電解鍍敷被膜之鍍敷析出性。又,與試驗例1同 法’測定取得無電解鍍敷被膜之密合強度。此等結果合倂 未於表5。 [表5] 塑膠種類 鍍敷析出性 剝離強度(kgf/cm) ABS 良好 1.2 PC/ABS(PC65%) 良好 0.8 ASA 良好 0.7 SAS 良好 0.9 noril 良好 聚丙烯 良好 _ •:不能測定 [實施例6] 直接噴鍍於ABS樹脂上: 使用50xl00x3mm之ABS樹脂(UMGABS之股份公司 製)爲試料。將此試料於含有〇.〇6 mol/L之過錳酸鉀,0.2 mol/L之過碘酸及5 m〇i/L之硫酸之35t:蝕刻液中浸漬1〇 分鐘’接著於35。(:之中和.還原處理溶液dS-3 5 0 (荏原 -18- 200907110 U-dilyte股份公司製)中浸漬3分鐘,使表面進行中和。 將此中和·還原之試料浸漬於以氫氧化鈉調整 200mg/L之PAA-03(聚烯丙胺:日東紡紗股份公司製)爲 pHIO之30°C賦予觸媒增強液中,2分鐘,更於室溫下浸 漬於1.2mol/L之鹽酸中1分鐘。 接著’將此於含有25ml/L之D-POPACT(荏原U-dilyte股份公司製),1.2 mol/L之鹽酸及ι·7 mol/L之氯 化鈉之3 5 °C之活化劑中浸漬4分鐘,更於含有1 〇 〇 m 1 / l 之D-POPMEB(荏原U-dilyte股份公司製)之45°c之金屬化 中浸漬3分鐘。 最後,將此利用含有0.9 mol/L硫酸銅,0.55 mol/L 硫酸及0.017 mol/L鹽酸之25°CEP-30(硫酸銅液:桂原u-dilyte股份公司製)使通電初期作成soft start(最初之30 秒以0 · 5 V,再下來的3 0秒以1 _ 0 V進行),最後進行作成 3A/dm2 10分鐘直接噴鍍。 於ABS樹脂上進行直接噴鍍之結果,通電5分鐘下 ,未於機架被覆鍍敷析出,可於整體試料賦予鍍敷。另外 ,與試驗例1同法所測定之鍍敷被膜密合強度爲 1.0kgf/cm。 [比較例3] 直接噴鍍於A B S樹脂上: 使用50x 1 00x3mm之ABS樹脂(UMGABS之股份公司 製)爲試料。將此試料於由3.5 mol/L之鉻酸酐及3.6 -19- 200907110 m ο 1 / L之硫酸所成之6 8 °C餓刻液中,浸漬1 〇分鐘,接著 於3 5°C之中和•還原處理溶液DS-3 5 0(荏原U-dilyte股份 公司製)中浸漬3分鐘,使表面進行中和。 將此中和·還原之試料於室溫下浸漬於1.2 mo 1/L之 鹽酸中1分鐘。接著,將此浸漬於含有25 ml/L之D-POPACT(连原U-dilyte股份公司製),1.2 mol/L之鹽酸及 1.7 mol/L之氯化鈉的3 5 °C活化劑中4分鐘,更於含有 100 ml/L 之 D-POPMEA(荏原 U-dilyte 股份公司製)及 100 ml/L之D-POPMEB(桂原U - d i 1 y t e股份公司製)之4 5 °C之 金屬化中浸漬3分鐘。 最後,將此利用含有0.9 mol/L硫酸銅,0.55 mol/L 硫酸及0.017 mol/L鹽酸的25 °C之EP-30(硫酸銅鍍敷液: 荏原U-dilyte股份公司製),使通電初期作成soft Start(最 初之3 0秒以0.5 V,接下去3 0秒以1 . 0 V進行之),最後作 成3 A/dm2之直接噴鍍進行10分鐘。 與試驗例1同法所測定上述取得之鍍敷被膜的密合強 度結果,該密合強度爲l.Okgf/cm。 [實施例7] 無電解鍍敷被膜之製作: 將0.3 mol/L之過錳酸鉀及〇.2 mol/L之過碘酸所成 之蝕刻液p Η利用硫酸及氫氧化鈉變更爲以下表6所載之 pH。除使用此等蝕刻液之外,與實施例2同法製作無電 解鍍敷被膜。以目測評定取得無電解鍍敷被膜之析出性。 -20- 200907110 其結果合倂示於表6。 [表6] pH 鍍敷析出性 7.0 出現未析出部 6.0 ----出現未析出部 5.0 ---出現未析出部 4.0 出現未析出部 3.0 出現未析出部 2.0 於全面鍍敷析出 1.0 於全面鍍敷析出 餓刻液之pH爲2.0以下時,可得良好之鍍敷析出性 [實施例8:] 無電解鍍敷被膜之製作: 使用5 0x 1 00x3 mm之ABS樹脂(UmgABS之股份公司 製)爲試料。將此試料於含有〇_〇6 m〇1/L之過錳酸鉀,〇 2 mol/L之過碘酸及5 m〇1/L之硫酸,〇以下之55它蝕 刻液中浸漬10分鐘’接著於35t:之中和•還原處理溶液 DS-3 50(甚原U-dUyte股份公司製)中浸漬3分鐘,使表面 進行中和·還原。
將中和•還原之試M 成料於室溫下浸漬於1.2 mol/L之鹽 酸中1分鐘。將此試料 付恥含有l〇〇ml/L之CT-5 80(荏原U- dilyte股份公司製)及 Z·5 mol/L鹽酸之45°C之鈀/錫混合 -21 - 200907110 膠質觸媒溶液中4分鐘,於ABS樹脂上賦予觸媒。 將賦予觸媒之試料於由1.2 mol/L之鹽酸所成之35°C 活化處理液中浸漬2分鐘,使觸媒活化,接著於ρΗ8·8, 35°C之無電解鍍鎳液ENILEX ΝΙ-5(荏原U-dilyte股份公 司製)中浸漬1〇分鐘,於ABS樹脂上進行使膜厚爲0.5 μιη 之無電解鍍鎳。 之後,於含有150g/L之V345 (荏原U-dilyte股份公 司製)之酸活性溶液,室溫下進行浸漬1分鐘,接著,於 含有0.75 mol/L之硫酸鎳,0.4 mol/L之氯化鎳及 0.55 mol/L之硼酸的45 °C之瓦特浴中,以2V/dm2浸漬3分鐘 。更將此於含有10 ml/L之PDC(荏原U-dilyte股份公司 製)及0.5 mol/L硫酸之室溫的銅取代溶液中浸漬1分鐘, 進行銅取代。 最後,將此於含有0.9 mol/L之硫酸銅,0.55 mol/L 之硫酸及0.0017 mol/L之氯的25°C之硫酸銅鍍敷液EP-3〇(荏原U-dilyte股份公司製)中,以3A/dm2,40分鐘, 進行使膜厚爲20μιη之電氣鍍銅。之後,將此於70°C進行 锻燒1小時。 與試驗例1同法測定上述取得鍍敷被膜之密合強度結 果,其密合強度爲1.0 kgf/cm。 本發明蝕刻液係具有強烈改良各種塑膠之改質效果, 同時浴中穩定性亦高,因此可用於工業上塑膠表面之金屬 化。 -22-

Claims (1)

  1. 200907110 十、申請專利範圍 1. 一種蝕刻液,其特徵爲含有過錳酸鹽及過碘酸或其 鹽,pH爲2.0以下。 2 ·如申請專利範圍第丨項之蝕刻液,其中過碘酸或其 鹽之濃度爲0.01 mol/L以上。 3 .如申請專利範圍第1項或第2項之蝕刻液,其中過 錳酸鹽之濃度爲0.0005 mol/L以上。 4. 一種塑膠表面的金屬化方法,其特徵係使塑膠以申 請專利範圍第1項至第3項中任一項之蝕刻液進行處理, 於被鈾刻處理之塑膠中,以賦予觸媒處理液處理而賦予觸 媒,之後,於賦予該觸媒之塑膠上進行金屬鍍敷。 5 ·如申請專利範圍第4項之塑膠表面的金屬化方法, 其係於〇 °C〜1 0 0 °C之液溫下進行經由蝕刻液之處理。 -23- 200907110 明 說 單 無簡 •gu ··费 為符 圖件 表元 代之 定圖 :指表 圖案代 表本本 無 代 定一二 指c C 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:無
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