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TW200809979A - Device for treating a plate-shaped substrate in a bath - Google Patents

Device for treating a plate-shaped substrate in a bath Download PDF

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TW200809979A
TW200809979A TW96122928A TW96122928A TW200809979A TW 200809979 A TW200809979 A TW 200809979A TW 96122928 A TW96122928 A TW 96122928A TW 96122928 A TW96122928 A TW 96122928A TW 200809979 A TW200809979 A TW 200809979A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
substrate
processing container
bath
processing
container
Prior art date
Application number
TW96122928A
Other languages
English (en)
Inventor
Ronald Langereis
Hintum Gerardus Johannes Van
Original Assignee
Meco Equip Eng
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Meco Equip Eng filed Critical Meco Equip Eng
Publication of TW200809979A publication Critical patent/TW200809979A/zh

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Description

200809979 " (1) " 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種用來處理在浴池中之板形基材的 裝置，其包含一用於至少一基材的處理容器，轉送機構用 於從一用於一列的數個基材之收集容器送至該處理室的自 動化轉送，放置機構用來放置該收集容器，運送機構用來 將其內裝有該至少一基材的處理容器運送進/出該浴池， • 及控制機構用來控制該裝置。 【先前技術】 上述的處理可以包含，例如，電鍍，其中一塗層藉由 一電極-位置處理（electrode- position process)而被施加到 一基材上，譬如一晶圓。另一種形式的處理爲金屬電鍍， 其中一金屬膜被電解地沉澱在一基材上，譬如一晶圓上， 或至少在該基材的一部分上。在電解處理的例子中，使用 • 到一電解浴池，該基材即被浸泡於該浴池中。本發明亦可 被使用在其它種類的處理中，譬如在化學浴池中的基材清 潔或蝕刻，或基材上之膜層的無電流沉積。 國際專利申請案WO-A1 -99/0441 6號描述一種裝置， 晶圓在該裝置中從該收集容器被垂直地向上移動至一固定 不動的斜的軌道，該等晶圓在該軌道上向下翻滾通過數個 站，在這些站中翻滾的晶圓被可操作的擋件所攔阻且晶圓 被清潔。 歐洲專利申請案EP-A2-846790號描述了一種系統， 200809979 ’ (2) ^ 晶圓在該系統中一起從該收集容器被向上壓擠，該等晶圓 被支撐在一固持件上，該固持件上設有供每一晶圓用的溝 槽。一機械人依序地將該等晶圓一片一片地送至在一陽極 浴內之各自的固定不動的處理容器中。 一種依據前言段落所述的裝置係見於國際專利申請案 WO-A2-2005/042804。該文獻描述一種製造系統，工件透 過該系統可從一自動化的裝載站被送至一工件固持件。該 • 工件固持件接著被一輸送系統載運至一或數個處理模組， 工件在這些處理模組內可接受電解處理。該專利申請案提 到一示範性的製造系統，即由設在美國麻州Billerica的 NEXX System 公司的 Stratus System。在該 Stratus system 中，其與一自動化的裝載站一起使用，一水平地放置的基 材被一三軸機械人從一收集容器處被取出並放置在一處理 固持件內。該處理固持其器接著從水平被轉成爲垂直且被 一三軸機械人送至一處理模組。從處理技術的觀點來看， ® 以垂直的基材姿態來處理基材具有數項優點除此之外， 如果基材係以垂直的而非水平姿態被處理的話，則所需之 樓板面積可被大幅地減小。 【發明內容】 本發明的目的是要提供一種如前言段落中所述的裝置 藉以獲得前述的優點，且儘管依據本發明的裝置包含用於 基材從一收集容器至一處理容器的自動化轉送的機構，但 本發明的裝置更具有低成本優點。爲了要達到該目的，依 -5- 200809979 • (3) ^ 據本發明的裝置其特徵在於該放置機構被安排來將一收集 容器放置在該處理容器底下使得在該收集容器內的基材至 少大致直立地被設置，及在於該轉送機構被安排來攜載一 基材向上於從該收集容器至該處理容器的運動方向上，通 過該收集容器的一開放的上側。這所達成的優點爲，一方 面將基材從該收集容器轉送至該處理容器所需之操控量可 被最小化，另一方面將其內裝有該至少一基材的處理容器 • 運送進/出該浴池所需之操控量亦可被最小化，使得依據 本發明的裝置在設計上可相對簡單，同時又只佔用很小的 樓板面積。 如果該轉送機構包含一支撐臂的話，則該結構上的簡 單性就特別有用，在該支撐臂的上端可支撐一基材且該支 撐臂被安排來在其運動於該運動方向的向上運動期間透過 在該收集容器的底部上的一開口來承接一基材。 爲了要能夠以一可靠的方式來支撐一基材，該支撐臂 ® 較佳地在其上端設有一溝槽用來將該基材的圓周邊緣的下 部容納於其內。此一溝槽較佳地設有定位邊緣。 該支撐臂被極其有利地使用，如果該支撐臂被安排來 在其向上運動期間從該收集容器至該處理容器從頭到尾攜 載該基材用以將該基材轉送至該處理容器，及/或如果該 支撐臂被安排來在其向下運動期間從該處理容器至該收集 容器從頭到尾攜載該基材用以將該基材轉送至該收集容器 中的話。 爲了要用結構上簡單的方式來對該轉送機構呈現該收 -6 - 200809979 ^ (4) " 集容器內的數片基材或在該收集容器內空的位置，一較佳 的實施例的特徵在於該放置機構包含平移機構用來將該收 集容器平移於該收集容器內基材列的縱長方向上。 依據一極有利的較佳實施例，該運動方向包括與垂直 線成0-30度，較佳地1-10度的角度，因此該運動方向並 非一真正的垂直方向的運動，但此可能性並未被排除在本 發明的範圍之外。該運動方向的傾斜可讓該轉送機構在一 # 被明確地界定的位置與方位上，亦即，任何時間都傾斜於 相同方向上的位置，搬運該基材。 詳言之，在上述的較佳實施例中，更佳的是如果該處 理容器與該收集容器都可樞轉於一傾斜的位置（在此位置 時該處理容器與該收集容器內的基材包括一相對於垂直線 成0-30度，較佳地爲1-10度的角度）與一垂直位置（在此 位置時該處理容器與該收集容器內的基材垂直地延伸）之 間。因此，該轉送機構可在該傾斜的位置實施到該處理容 ® 器或到該收集容器之可靠的轉送，同時在該真正垂直的位 置上其內裝有一基材的處理容器可以一有利的方式被呈現 給該運送機構。 該運送機構較佳地包含一水平的縱長向導件用來運送 一其內裝有基材的處理容器於一朝向/遠離一在該浴池上 方的位置的水平方向上，及/或一垂直導件用來運送一其 內裝有基材的處理容器於一垂直方向上。後者可用簡單的 方法來將一裝滿的處理容器浸沒於一浴池中及/或提出一 處理容器來運送或接受一基材。 200809979 • (5) 該裝置更佳地設有可切換的連接機構用來暫時地將該 處理容器連接至該運送機構。這可以一有效率的方式來使 ’ 用該運送機構用以操控數個處理容器。因此可想見的是， 該運送機構將一第一處理容器放置在一第一浴池中，接著 再將該第一處理容器撿起，最後將位在該處理容器內的基 材再送回到一收集容器內。 爲了要讓一基材能夠轉送於該轉送機構與該處理容器 φ 之間，該處理容器較佳地包含一第一處理容器部分其包括 一具有一支撐表面的支撐件，而該控制機構被安排來連續 地控制該轉送機構用以將一基材向上攜載於該運動方向上 到達一最上面的位置，使得該基材從該運動方向看時至少 完全超過該支撐表面，控制該第一處理容器部分用以朝向 該基材移動，使得該基材從該運動方向觀看時是位在該基 材底下，及控制該轉送機構用以將該基材從該最上面的位 置降下來，使得該基材可被支撐在該支撐表面上。以此方 ©式，介於該收集容器與該處理容器之間的基材轉送可用技 術上簡單的機構來實施。可明顯地注意到的是，此較佳實 施例不僅僅與該第一處理容器部分被移動至該基材的情況 相關，而且還與該基材被移動至該第一處理容器部分的情 況相關。重要的是，最終將得到情況，即從該運動方向觀 看，該支撐表面將被放置在該基材底下。 特別是用於圓盤形基材上時，較佳地如果該支撐表面 是由一條形部件的內彎曲形脅腹構成且其曲率半徑與該基 材相同的話，則該條形部件的上端被連接至該第一處理容 -8· 200809979 • (6) " 器部分且其下端設有一面向該基材的擋止表面，該基材可 緊靠在該擋止表面，其中更佳的是，在該條形部件被放置 在該基材的外圓周處時，當該處理容器部分在打開的狀態 下時該條形部件從該上端被彎曲於一遠離該第一處理容器 部分的方向上，及當該處理容器部分在關閉的狀態下時該 條形部件被壓擠成一扁平的形狀。該條形部件對於在該處 理容器關閉的狀態下將一基材明確地放置於該處理容器內 φ 有所貢獻，因爲該基材被該彎曲的條形部件部分地維持在 其自身的平面上。 後者的效果在該第一處理容器部分包含兩個以鏡面對 稱方式設置的支撐元件時可被強化，其可進一步實施應更 加穩定的支撐。 爲了要將一基材穩定地維持在一處理容器中，較佳的 是該處理容器包含一第二處理容器部分且該第一處理容器 部分與該第二容器部分可分別朝向彼此/遠離彼此移動於 ® 該處理容器的一關閉位置（在此位置時一基材存在該處理 容器內）與該處理容器的一打開的位置（在此位置時一基材 可被放入該處理容器及/或從該處理容器中取出）之間。 爲了要用該轉送機構將一基材轉送於該處理容器與該 收集容器之間，該第二處理容器部分較佳地包含一保持機 構用來將一基材的圓周邊緣的一部分保持在該基材之在垂. 直於該基材的平面的方向上之最上面的位置處。該保持機 構可以至少大致上與該支撐件的結構相同，例如，包含一 條狀部件其具有一彎曲的脅腹其曲率半徑與該基材相同， -9 - 200809979 • (7) 及一位在該條狀部件的一端之面向該基材擋止表面。 爲了要在該浴池中實施所想要的處理，該處理容器較 佳地包含接觸機構用來與在該處理容器內之基材形成導電 接觸用以在該處理容器內的基材浸沒於該浴池內時施加電 壓至該基材。 當使用於一電鍍處理中時，該處理容器較佳地包含密 封機構用來實施一液密密封於該接觸機構與處理容器的環 _ 境之間。 當使用在一電沉積處理中時，該處理容器較佳地包含 數個沿著一基材的圓周設置之夾持件用來與該基材夾持地 嚙合。此較佳實施例在結構上是一極爲簡單的設計。 該夾持機構較佳地被安排來與在該處理容器內之基材 形成導電接觸用以在該處理容器內的基材浸沒於該電解浴 內時施加電壓至該基材。這意謂著該等夾持件亦至少部分 被電塗覆（除非該等部件被遮罩，這將會使得該處理容器 • 的結構再次變得複雜，該基材可被部分地遮罩），這是較 不會引起反對的，因爲此塗覆層相對易於去除掉。 本發明亦有關於使用在本發明的裝置中之處理容器。 本發明將參照附圖於下文中以依據本發明的兩個較佳 實施例的描述來加以詳細說明。 【實施方式】 圖〗顯示依據本發明的第一較佳實施例之用於電解地 處理板形基材的裝置1的第一部分。在圖2中，該裝置1 -10 - 200809979 (8) 係以垂直縱長剖面圖來顯示，圖2所示的狀況可被視爲一 初始狀況。圖26顯示該裝置1的第二部分。 該裝置1包含一機架2其被支撐在腳4上，——桌台3 其可相對於該機架被操控（這將於下文中更詳細地說明）， 一機械手臂5及一轉送件6其可被轉送於該機械手臂5與 該桌台3之間。該裝置1更包含數個位在該裝置1左邊（ 以圖1所示方位而言）的電解浴池7(圖26)。各式的板子8 # 被安裝在該機架2上，這些板子將該裝置1的內部遮起來 讓人看不到。該內部在其它件之外還包含該桌台的一部分 ，該部分至少可在圖2 - 2 1中被區別出來。 桌台3包含一桌頂1 1。安裝在該桌頂1 1的上側的是 兩個平行的縱長向導引件1 2，一用於收集容器1 4的載具 13可沿著該二導引件被往復地運動，如雙向箭頭15所示 。在該運動期間，在該載具1 3的底側上的導引鞋形件1 6 導引性地與該導引件1 2互動。爲了讓該載具1 3及在其上 ® 的收集容器1 4如雙向箭頭1 5所示地一起往復移動，該載 具1 3的底側透過一連接件1 7連接至一被建構爲一電驅動 的球形循環螺桿1 8的致動器，其被連接至該桌頂1 1。該 連接件1 7延伸穿過在該桌頂1 1內的通路，該通路未示於 圖1中。 該收集容器14爲一種用於晶圓21的容器，其各式的 態樣封於熟習此技藝者係屬習知的。在本發明的範圍內， 該收集容器1 4的確切形態並不是關鍵的特徵。重要的是 ，至少大致圓盤形的板狀晶圓2 1以彼此不接觸之並排的 -11- 200809979 • Ο) " 方式被放置在該收集容器14內，及該收集容器14具有一 開放的上側，以及一開口被設置在該收集容器1 4的底側 的中心順著該列晶圓2 1的整個長度，因而得以從下面接 近該收集容器14內的每一片基材21。在此架構內很重要 的是應注意到，該載具1 3亦設有一位在中心的垂直通道 ，其大大小至少大致上與位在該收集容器1 4的底側上的 開口的大小相同。 • 帶著與裝置1相關的部分的該桌頂11其一側藉由樞 銷22被可樞轉地安裝在該機架2上。在該桌頂1 1的一相 反側上則設有一氣壓缸23，其可操作於該機架2與該桌頂 1 1之間用以將該桌頂1 1繞著該樞銷22樞轉（參見圖7)。 一間隙狀的通道3 1被設置在該桌頂1 1內的縱長向導 引件12之間的中央位置（亦參見圖21)，一臂32延伸穿過 該通道。在圖2中，該臂32是位在最底下的位置。在該 最底下的位置時，該臂32的上側33仍位在該晶圓21的 ©底側的水平之下。因而，可藉由將其上載有該收集容器14 的載具13往圖2所示的方位的左邊移動來將任何所想要 的晶圓21直接放置在該臂32的上側33的正上方，這係 透過該氣壓缸18的適當操作來達成的。爲此，該載具13 的一大部分是中空的，其包含一能夠容納該臂3 2的空穴 3 4。該空穴3 4被一位在圖2中遠離該臂3 2的一端處之關 閉板3 5所關閉。因此，該載具1 3從其高度的較大部分的 水平剖面來看是U形的，如同圖2 1中所示之載具的底板 1 3 A。 -12- 200809979 (10) ，丨 該臂32的底側透過一連接伴41連接至至一致動器42 的下端，該致動器可被建構爲一氣壓缸，——帶齒的皮帶區 動器或心軸，且其本身可透過一連接件43被剛性地連接 至該桌頂1 1的底側。該臂可藉由適當地驅動該致動器42 而如雙向箭頭44所示地被上/下移動。 該臂32的上側33上設有一溝槽3 6其在該上側處具 有傾斜的定位緣（圖22)。該溝槽3 6的寬度比晶圓2 1的厚 • 度稍微大了一很有限的程度，使得晶圓2 1的底側可以一 很小的餘隙被容納於該溝槽3 6中。該溝槽3 6的深度係經 過選擇使得臂32能夠獨立地攜載一晶圓21，其中該晶圓 2 1延伸成與該臂3 2 —致。 在該等縱長向導引件1 2之與該通道3 1的細長形相一 致的外側處，該桌台3包含兩根圓柱5 1 (參見圖2 1 )。一根 橫樑52被支撐在圓柱5 1的上端上，該橫樑形成該轉送件 6的一部分。定位銷5 6被設置在圓柱5 1的上端用以將該 ® 橫樑52相對於圓柱5 1以及相對於桌台3正確地放置，該 等定位銷56插入到設在該橫樑52的底側上的凹部內。該 轉送件6更包含一連接件5 3該轉送件6藉由該連件可被（ 暫時地）連接至該機械手臂5，一從該橫樑52向下延伸的 連接臂54，及一處理容器55其透過該連接臂54連接至該 轉送件6的橫樑5 2。該處理容器5 5的進一步詳細說明將 於下文中參照圖22-25加以說明。現階段只要知道該處理 容器5 5適合攜載一晶圓2 1 (該晶圓2 1係從該收集容器1 4 被取出），及該晶圓2 1介於該收集容器1 4與該處理容器 -13 - 200809979 ^ (11) 5 5之間轉送係透過該臂3 2來實施即可，如圖2 1中下 置所不。 兩個銷件6 1延伸穿過圓柱5 1，這兩根銷件能夠 柱5 1滑移運動於其縱長方向上，爲此，圓柱5 1包含滑 軸承62。 該桌台3更包含一十字形元件63其具有兩水平臂 ，一向上延伸的臂65及一向下延伸的臂66。水平臂64 端部被固定不動地連接至銷件6 1的端部。壓縮彈簧67 設置在銷件6 1的周圍介於圓柱5 1與水平臂64之間。 銷件6 1之與壓縮彈簧67相對的側邊處設有垂直的穿槽 。該等溝槽58之遠離圓柱51的端部處，可繞著水平的 動軸旋轉的凸輪69被設置在該溝槽68內。在圖21中 具有凸輪輪廓71 (其包含三個向上傾斜程度）之凸輪板 的上端延伸於溝槽3 8內。因爲壓縮彈簧67的作用，凸 69壓抵住凸輪板70的凸輪輪廓71。凸輪板70被安裝 導引件72上，每個導引件都被安排來引導與各自的縱 向導引件73的相互作用，其係沿著圓柱5 1的長度的中 部分被設置在圓柱51上。導引件72被進一步連接至氣 缸74，氣壓缸透過連接件75被連接至圓柱51的下端。 由圖2 1所示的情況開始，氣壓缸74的伸展可導致 引件72沿著縱長向導引件73被向上移動，其中銷件 被向外移動以抵抗壓縮彈簧67導因於凸輪69與凸輪輪 7 1之間的接觸與凸輪輪廓從圓柱51之向下的斜度的作 ，其結果爲該十字形元件63將移動更靠近該處理容器 位 圓 動 64 的 被 在 68 轉 ， 70 輪 在 長 心 壓 導 61 廓 用 -14 - 55 200809979 • (12) 在該十字形元件63面向該處理容器5 5的一側的中心 處設有一旋轉式氣壓缸81，藉由該旋轉式氣壓缸可讓一致 動臂82繞著一垂直於該十字形元件63延伸穿過該處理容 器55的中心的轉動軸線被往復地轉動（參件圖22)。該致 動臂82是U型的，其具有該U形的兩隻腳84其延伸於 該處理容器55的兩個相對的外側上在處理容器55的寬度 內，該十字形元件63稍微被朝向該處理容器55移動（如 圖22所示）。溝槽85被形成在腳84上，形成該處理容器 55的一部分的凸輪銷可落入到該等溝槽內。因此，該處理 室5 5連接至該等凸輪銷86的部分可以與該致動臂82的（ 有限程度的）轉動一起轉動用以操作該處理容器55，這將 於下文中參照圖22-26在描述處理容器55時再加以詳細 說明。 朝向該處理容器55延伸之中空的固定銷87被固定到 該十字形元件63的直立臂65與懸臂66上。該等固定銷 87如圖22所示，但它們並未示於圖21中。圖21有顯示 出在該直立臂65上的固定孔88，一固定銷87可透過該固 定孔被固定到該直立臂65上。 圖24顯示處理容器55的分解圖（與圖21的處理容器 55的視角相反的立體圖），其內包括一晶圓21。該處理容 器55主要是用不導電材質製成的，譬如像是適當的塑膠 。當使用到導電部件的情形時’將於下文中明確的指出。 該處理容器55包含一基環及兩個外環102，103 -15- 200809979 ， (13) * 。該基環101是被提供在上述的凸輪銷86的兩相反側的 外部。在該基環1 〇 1的內側上有一對以等間距設置之相對 立的朝向延伸的邊緣104,在該對邊緣104之間延伸有一 卡銷槽105。卡銷槽105是用來與在外環102及123上的 卡銷緣106(其只在圖24的外環1〇3上有示出）相匹配的。 導電接觸環110，111被設置在該基環101與各外環 1 02，1 03之間。接觸環1 1 0，1 1 1的內徑比一晶圓2 1的外 • 徑稍大。 接觸環1 1 1具有三個圓盤狀的接觸表面1 1 2它們被均 勻地分布在該接觸環1 1 1的圓周上，該接觸表面1 1 2延伸 在該接觸環η 1的內徑的內側上達一有限的程度。接觸表 面1 1 2被設置在該接觸環1 1 1之面向該晶圓21的一側上 ，使得在接觸表面112與晶圓21之間在該處理容器55關 閉狀態下時有（導電）接觸。該接觸環111藉由螺栓（在圖 24中只有三個被示出）而被固定在該外環103上，而一橡 ©膠密封環Π 3被夾在該接觸環1 1 1與該外環1 〇3之間。該 接觸環1 1 1可透過設置在該接觸環11 1的上側上的接觸螺 栓1 1 4而被放置成與支撐該處理容器5 5的結構導電地接 觸。接觸螺栓1 14的端部延伸到連接件121 (見圖22)上的 一塗覆了塑膠的金屬核心，該金屬核心與該連接臂5 4內 的之塗覆了塑膠的金屬核心導電地接觸。因此，進一步的 導電接觸可藉由橫樑52與連接器（未示出）（其在該橫樑52 的底側上的凹部內的位置處是可操作的）而被建立起來， 用以根據該裝置1是應用在何種電解處理中而陽極地，中 -16- 200809979 ♦ (14) 性地或陰極地連接該接觸環1 1 1。爲此’與定位銷5 6相似 的定位銷被提供在使用浴池7的位置處’該等定位銷是用 來實施轉送件6與一電壓源之間的導電連接。 該接觸環Π 〇藉由螺栓（在圖24中有八個被部分地示 出）而被固定在該外環102上，而一與橡膠密封環113類 似的密封環1 1 5被夾在該接觸環11 〇與該外環1 02之間。 該接觸環110與接觸環111不同之處在於它包含均勻間隔 • 開來之切線地延伸的外接觸唇Η 6，及徑向朝內延伸的內 接觸唇1 1 7。內接觸唇1 1 7的端部位在該接觸環1 1 0的內 圓周的內側，用以在該處理容器55的關閉狀態下時與晶 圓2 1接觸，同時該等接觸唇1 1 7在使用時可被稍微彈性 地被彎折於該晶圓2 1的方向上用以獲得一良好的接觸。 位在晶圓2 1的外徑外部的外接觸唇1 1 6無論如何都被彈 性地彎折於該接觸環111的方向上，因而實現一導電接觸 於外接觸唇1 1 6與接觸環1 1 1之間。 • 又，密封件121，122被圓周地設置在各外環102及 1〇3上。在該處理容器55的關閉狀態下時，該等密封件緊 抵基環1 01的相對側。在該裝置1的使用期間，當其內裝 了 一晶圓21之關閉的處理容器55被浸沒到一電解浴池7 內時，密封件1 2 1，1 22及1 1 3，1 1 5可防止接觸環1 1 〇， 1Π與電解浴直接導電的接觸，使得接處環110，111不會 被污染。 爲了要在處理容器5 5的打開與關閉期間將晶圓2 1保 持在正確的位置上，該外環103包含兩個上定位機構131 -17- 200809979 • (15) ' ，1 3 2其以鏡面對稱的方式被安排在上側，在該接觸環 1 1 1面向該晶圓的一側上，及該外環1 〇2包含兩個下定位 機構1 3 3，1 3 4於該接觸環1 1 0之面向該晶圓2 1的一側上 。下定位機構133，134是用來支撐晶圓21的。在它們的 上端處，下定位機構133，134被牢牢地連接至該外環102 。條形彈性部件1 3 5，1 3 6從該連接處向下延伸，但在該 處理容器55的打開狀態下時稍爲朝向該晶圓21。條形部 φ 件135，136具有彎曲的形狀且其內脅側137，13 8(參見圖 23)可支撐晶圓21(參見圖25)。面向中心的擋止表面139 ，140被設置在條形部件134，135的下端部上，這些擋止 表面延伸至該晶圓2 1的圓周內。條形部件1 3 5，1 3 6的曲 率需加以選擇使得它與在該處理容器55的關閉狀態下的 晶圓2 1的直徑相對應，處理容器5 5關閉時條形部件1 3 5 ，1 3 6被壓平抵住該接觸環1 1 0。當條形部件1 3 5，1 3 6被 壓平抵住該接觸環1 1 〇時，晶圓21會順著脅側1 3 7，1 3 8 # 被稍微往下移動直到晶圓被支撐在由條形部件135，136 的下端部及擋止表面139，140所形成的角落上爲止。 與外環103相關連的上定位機構131，132具有大致 相同的形狀與形態，因爲下定位機構133，134包含條形 且朝內彎折的彈性部件141，142與擋止表面143，144。 擋止表面143被稍微彎折於遠離該晶圓21的方向上，而 擋止表面1 44則被稍微彎折於朝向晶圓2 1的方向上。以 此方式，擋止表面143，144可界定出一（倒）V型的形狀（ 以側平面圖來看），該晶圓2 1的頂側可被容納於其內。 -18- 200809979 ’ (16) ι 又，兩個板片彈簧件1 5 1，1 5 2被設置在接觸環1 1 1 的內側上，其可確保在關閉的處理容器55內於該電解浴 池7中接受電解處理的晶圓21在該處理容器被打開來時 將會從該密封環1 1 3被釋出。 兩個同心的固定蓋153，154進一步被設置在該外環 102的外側上的下與上位置處，這兩個固定蓋是用來在固 定銷87運動於處理容器55的方向上時接受固定銷87。 • 該裝置1係如下文所述地作用。從圖2所示的初始狀 態開始，在此狀態下，其上攜載了一空的處理容器55的 轉送件6被連接至該機械手臂5，該機械手臂5移動於箭 頭201所示的方向上直到處理容器55被放置在臂32的正 上方爲止（圖3)。然後該載具13因啓動該致動器18而被 移動於箭頭202所示的方向上，直到一晶圓21 (在此例子 中爲最前面的晶圓）被放置在該臂32的正上方爲止。在此 情況下臂32的上部延伸在該載具13的空穴34內（圖4)。 β 圖5顯示機械手臂5是如何被降低（如箭頭2 0 3所示）直到 固定蓋153，154與中空的固定銷87對齊且凸輪銷86被 放置在溝槽8 5的開口端正對面處爲止。在此情況下，橫 樑52被支撐在圓柱51的上側。然後，在該機械手臂5及 與該轉送件6相關的連接件53彼此脫離之後，該機械手 臂5如箭頭204所示再次向上移動（圖6)。 該轉送件6與該機械手臂5的脫離讓該桌台3以及與 其相關的部件能夠藉由適當地啓動該氣壓缸23而繞著樞 銷22樞轉一有限的角度（箭頭205)，藉以到達圖7所示的 -19- 200809979 (17) *w 狀態。然後，該空的處理容器5 5被打開，爲此，該凸輪 板7藉由適當地啓動該氣壓缸74而被整個向上移動（箭頭 206)，該凸論69因而與凸輪輪廓71接觸且該十字形件63 整個朝向該處理容器55移動（箭頭2 07)抵抗該壓縮彈簧67 的作用。在此運動期間，在中空的固定銷87內的固定蓋 153，154落入到該中空的固定銷87中，且固定銷86進入 到溝槽85中。然後，從凸輪板70的一側觀看時該致動臂 Φ 82藉由適當地啓動該旋轉氣缸81而被順時鐘地樞轉一約 20度的角度（箭頭208)。因此，該基環10 1因爲該致動臂 82的腳84上的溝槽85的邊緣的一部分與該凸輪銷86之 間的嚙合而被轉動。該外環102並未隨之轉動，因爲它被 固定銷87透過固定蓋153，154固定在定位處，同時該外 環103亦未隨著基環101轉動因爲它經由連接件54及橫 樑52被連接至圓柱51。該基環101轉動的結果是，介於 基環101與外環102，103之間的卡銷嚙合被鬆脫（圖9)， • 造成該十字形元件63移動回到它原始的位置（箭頭210)， 只是現在攜載了該基環1 0 1與外環1 02。以此方式，在該 外環103與該基環101之間形成有一開口（圖10)。 當臂32因爲該致動器42被適當地啓動而被向上移動 於箭頭2 Π所示的方向上時，在收集容器1 4內之最前面 的晶圓21的底側即被容納在該臂3 2的上側的溝槽3 6內 且接著被移動至一個讓該晶圓21被放置在該外環與該基 環1 〇 1 /外環1 02組合之間的位置處。在此狀態下，該晶圓 21的上緣延伸至由上定位機構131及132的擋止表面143 -20- 200809979 ' (18)
W ，144所界定的倒v形內。該臂3 2因爲前述之桌台3的 有限度的轉動所造成的傾斜可確保被支撐在該臂32上的 該晶圓2 1可獲得一正確的位置（圖1 1 )。 接著，該處理容器5 5在其內裝了該晶圓2 1之下必需 再對被關閉。爲此，該十字形件63和該基環101與該外 環102 —起藉由適當地啓動該氣壓缸74將凸輪板70向上 移動至其高度的一半（箭頭213)而開始被移動於該外環1〇3 馨的方向上達一有限的程度（箭頭212)。這會導致下定位機 構133，134的脅側137，138緊靠著該晶圓21的圓形下 緣（圖12及圖25)。這可將該臂32再次收回於向下的方向 上（箭頭2 1 4)，其中該晶圓2 1順著脅側1 3 7，1 3 8稍微向 下移用以被完全支撐在介於前述脅側1 3 7，1 3 8與擋止表 面139，140之間的空間內。在該狀態下，該晶圓21仍維 持著被上定位機構1 3 1，1 32固定在上側，藉以防止晶圓 21往前或往後傾斜（圖13，22及23)。爲了將該處理容器 ® 55整個關閉，該基環101與該外環102 —起藉由適當地啓 動該氣壓缸74把凸輪板70整個向上移動（箭頭2 16)而被 移動抵住外環103 (箭頭215)。各定位機構131，132，133 ，1 3 4的彎曲的條形部件1 4 1，1 42，1 3 5，1 3 6在該狀態下 被壓平，沿著晶圓21的圓周延伸（圖14)。該處理容器55 然後藉由該卡銷閉合而被再次被關閉，這是藉由將該致動 臂82再次往回轉（如圖15中的箭頭217所示）來達成的。 藉由適當地啓動該氣壓缸將桌台3繞著樞銷22樞轉（ 箭頭218)並將該致動臂82移離開（箭頭219)用以讓該致動 200809979 * (19) 臂8 2與該處理容器5 5之間的嚙合脫離（爲此’凸輪板7 0 藉由適當地啓動氣壓缸7 4(圖〗6)而被整個向下移動（箭頭 2 2 0))，該轉送件6又變成可被該機械手臂5撿取。爲此’ 該機械手臂5向下移動（箭頭221)用以與連接件53嚙合（ 圖16)，接著再度與該轉送件6 —起向上（箭頭222)。該機 械手臂5然後與該轉送件6 —起側向移動直到該轉送件6 被放置在該電解浴池7的正上方爲止。 這在圖26中是以最右邊的電解浴池7來表示，其中 該機械手臂5已經被稍微地降低了。當機械手臂5被進一 步降低時，該轉送件6被該電解浴池7的相對緣所支撐’ 其支撐方式與轉送件6被支撐在圓柱51上的方式相當。 在此狀態中，該處理容器55被完全地浸沒在該電解浴中 ，如在圖26的浴池7”內的處理容器55”所示。接觸環1 10 ，1 1 1因爲使用了密封件121，122及1 13與1 15而沒有預 該浴池的液體接觸。因此，該裝置1特別適合電鍍，因爲 當使用此處理時由於接觸環1 1 〇 ’ 1 1 1篩選的關係而不會 有金屬物質被沉積在處理晶圓2 1以外的部分上的風險。 透過該連接件54，該連接件1 2 1及接觸螺栓1 1 4，一陽極 或陰極電壓（端視該電解處理的本質而定）被施加在該接觸 環111上，該電壓經由外接觸唇116被傳遞至該接觸環 1 1 0及經由內接觸唇π 7與接觸表面1 1 2而被傳遞至晶圓 2 1的兩側。 在該機械手臂5已運送並留下其內裝有晶圓的處理容 器5 5於一電解浴池7內之後，該機械手臂5可在另一地 -22- 200809979 (20) 點（未示出）收集帶著一空的處理容器5 5 ’的下一個轉送 件6’，然後回到桌台3。藉由移動帶著該收集容器14的 載具13於箭頭224所示的方向上（圖20)的一段有限的距 離，使得下一個晶圓2 1被放置在該臂3 2的正上方，該晶 圓21因而可用上文中描述的方式被轉送至該處理容器55, 〇 從圖26所示的狀態開始，該機械手臂5在其留下內 • 裝了晶圓的處理容器55於一電解浴池7內之後，該機械 手臂5可撿取形成另一轉送件6”的另一個內裝晶圓的處理 容器55”（該處理容器55”已在該電解浴池7”內一段時間且 已在電解池內接受電解處理）並將其送回到桌台3。來自處 理容器55”的晶圓21”再度被轉送至該收集容器14。此程 序與將一晶圓21從該收集容器14轉送至一處理容器55 的程序相同只是實施的順序則是剛好相反。 圖27-30係有關於依據本發明的第二實施例的裝置 5 0 1，該裝置5 0 1可被視爲在上文中參照圖1 - 2 6所描述之 裝置1的一變化例。裝置5 0 1與裝置1相同的部件將於下 文中被標以相同的標號。爲了簡潔起見，這些相同的部件 將不會再被說明一次。 裝置501與裝置1主要的不同之處係在於轉送件502 的實施例，更明確地係在於轉送件的處理容器503，而且 亦有關於該處理容器503的操作用來將晶圓21放置於其 內或將一晶圓21由其內運送出來的準備。 爲了要固持該晶圓2 1，該轉送件502上設有三個線簧 •23- 200809979 ‘ (21) 夾511，512，513，它們分別被設在9點鐘’ 12點鐘及3 點鐘的位置，圖中所示爲它們夾持一晶圓2 1的狀態° 等線簧夾51 1，512，513係附在一從該橫樑52懸吊下來 連桿5 1 4上。該連桿5 1 4包含一垂直桿5 1 5其延伸於該橫 樑52的底側的中心與一個與該十字形元件63的中心正對 面的位置之間。該連桿514更包含一水平桿其在其長度的 一半的位置處被連接至該垂直桿5 1 5的下端。該水平桿的 φ 兩端被彎折90度，使得該水平桿從上面看時呈U形’其 包含腳5 1 6，腳的自由端延伸離開該十字形元件63。該水 平桿的U形輻寬（其在圖2 7 - 3 0中未被清楚地示出）落入到 形成在一強化塊體5 1 8的上側上的溝槽5 1 7內。該強化塊 體5 1 8被牢牢地連接至一水平地延伸的彎角區5 1 9，其延 伸在該線簧夾5 1 1，5 1 3底下且其端部被牢牢地連接至圓 柱51。該連桿514更包含一第三水平腳520，其從該垂直 桿5 1 5延伸與腳5 1 6相同的距離且在腳5 1 6的上方且與腳 ® 5 1 6平行。 線簧夾5 1 1，5 1 2，5 1 3彼此相同且包含一固定不動的 塊體件531其牢牢地連接至相關連的角516，520，及一鐵 線部分532。該鐵線部分532爲一彎折的金屬簧線。該簧 線包含在垂直平面上之彎折處54-5 45(其以鏡像對稱成對 地被安排）。在彎折處541，542的位置，鐵線部分532被 牢牢地連接至該連桿5 1 4。該塊體件5 3 1具有一導引功能 用來導引該鐵線部分5 3 2之延伸於彎折處5 43與544之間 的縱長方向上的部分。除此之外，每一塊體件都包含一與 -24- 200809979 • (22) 該彎折處545相對之擋止銷546，該擋止銷能夠與基材21 形成導電接觸以及電絕緣接觸。擋止銷5 4 6的作用如與一 彎折處545相對的擋止件用以彈性地將一晶圓2 1夾鉗於 該鐵線部分532的彎折處545與該擋止銷546之間。此狀 態被示於圖29中。 爲了要將一晶圓2 1容納在各線簧夾5 1 1 - 5 1 3的塊體 件531的彎折處545與擋止銷546之間，有必要在臂504 用與上文中所描述之裝置1相同的方式將晶圓21向上移 動之前先在彎折處545與擋止銷546之間清出一些空間。 推塊5 5 0即爲了此目的而被提供在水平臂6 4與垂直地延 伸的臂65上，在該十字形元件63面向該連桿5 1 4的一側 上，該等推塊延伸與彎折處543相對。在線簧夾511-513 的夾持狀態時，推塊550與彎折處543相距一端距離（圖 2 9)。當十字形元件63因氣壓缸74的適當啓動（如參照圖 1所說明的）而被移動於圓柱5 1的方向上時，推塊5 5 0將 會被推動抵住彎折處543。因此，在彎折處542處的彎折 角度將會減小且位在彎折處543與544之間的鐵線部分 532將被塊體件531引導而移動於其縱長方向上。因此， 彎折處545與擋止銷546將分開一段距離，因而產生用來 容納一晶圓21的空間。 臂5 04在其上端處設有一水平的C形支撐部件5 05， 一溝槽形成在該支撐部件的上縱長向端部，該溝槽具有一 與該晶圓2 1相同的曲率。一晶圓藉由該臂5 04從一收集 容器14被向上推（這可發生或不發生在桌台5 05的傾斜位 -25- 200809979 - (23) 置）直到該晶圓2 1的中心被放置在正對該十字 的中心的位置爲止。 接著藉由將該十字形元件6 3再次移離開圓 折處545將夾住晶圓21抵住擋止銷546，之後臂 度被降低。 由於鐵線部分5 3 2的導電特性的關係，在晶 線簧夾51 1-513 —起被浸沒在一電解浴池7中的 處理期間，一所想要的電壓可透過鐵線部分5 3 2 銷5 4 6被施加在晶圓21的兩側上。該裝置5 0 1 電解塗覆。熟習此技藝者將可瞭解到，與裝置1 反的是，在裝置5 0 1中介於與晶圓2 1接觸用以 至晶圓2 1的接觸元件（鐵線部分5 3 2及可能的擋 之間沒有發生篩選（s c r e e n i n g)。這意謂著鐵線部j 可能的擋止銷5 46會接受到一定程度的電解處理 到的是，連桿5 1 4以及塊體件5 3 1是用絕緣材質 少被塗覆上絕緣材質。因爲除了在晶圓2 1上的 長之外，電解質生長亦會發生在鐵線部分5 3 3及 止銷546上，裝置501較不適合電鍍，而卻極爲 積，該塗層終究能用極爲簡單的方式從鐵線部分 能從擋止銷546上被清除掉。 雖然本發明已於上文中以用於電解處理一板 裝置的兩個較佳實施例來說明，但應瞭解的是， 明的裝置原則上亦可被使用在用一浴池來清潔或 的非電解處理中。 杉元件63 柱51，彎 504可再 ϊ圓21與 最終電解 將由擋止 特別適合 的情況相 施加電壓 止銷546) 子532及 。應注意 製成或至 電解質生 可能在擋 適合電沉 532及可 形基材的 依據本發 蝕刻基材 -26- 200809979 - (24) 【圖式簡單說明】 圖1爲依據本發明的裝置的第一較佳實施例的一部分 的立體圖； 圖2-20爲部分垂直縱剖面圖，其顯示在依據本發明 的第一較佳實施例的裝置的使用期間的1 9個連續的步驟 9 圖21爲構成該裝置的一部分的桌台與處理室在圖16 中之步驟期間的立體圖； 圖22爲該處理容器與其部分周圍物件的側視圖； 圖23爲該處理容器的垂直剖面圖； 圖24爲該處理容器的分解圖； 圖25爲具有一晶圓之處理容器的外環的立體圖； 圖26爲依據本發明的裝置的第一較佳實施例的另一 部分的部分垂直縱剖面圖； 圖27爲依據本發明的裝置的第二較佳實施例的圖式 9 圖28爲圖27的一部分的詳細視圖；及 圖29爲圖28的處理容器以及其周圍物件的側視圖。 【主要元件符號說明】 1 :裝置 2 :機架 3 :桌台 4 :腳 -27- 200809979 ^ (25) 5 :機械手臂 6 :轉送件 7 :電解浴池 8 :板子 1 1 :桌頂 12 :導引件 13 :載具 _ 1 4 :收集容器 1 5 :雙向箭頭 1 6 :鞋形件 1 7 :連接件 1 8 :球形循環螺桿 21 :晶圓 22 :樞銷 2 3 :氣壓缸 ® 3 1 :通道 32 :臂 3 3 :上側 34 :空穴 1 3 a :底板 41 :連接件 42 :致動器 43 :連接件 44 :雙向箭頭 -28- 200809979 ‘ (26) 3 6 :溝槽 3 7 :定位緣 51 :圓柱 52 :橫樑 5 3 :連接件 5 4 :連接臂 55 :處理容器 _ 56 :定位銷 61 :銷件 6 2 :滑動軸承 63 :十字形元件 6 4 :水平臂 65 :向上延伸的臂 66 :向下延伸的臂 67 :壓縮彈簧 # 68 :溝槽 69 :凸輪 70 :凸輪板 7 1 :凸輪輪廓 72 :導引件 73 :縱長向導引件 74 :氣壓缸 75 :連接件 8 1 :旋轉式氣壓缸 -29- 200809979 _ (27) 82 :致動臂 84 :腳 85 :溝槽 8 6 :凸輪銷 8 7 :中空固定銷 8 8 :固定孔 101 :基環 ⑩ 102 :外環 1 0 3 :外環 104 :邊緣 105 :卡銷槽 106 :卡銷緣 1 1 0 :接觸環 1 1 1 :接觸環 1 1 2 :接觸表面 H 1 1 3 :密封環 1 1 4 :接觸螺栓 1 2 1 :連接件 1 1 5 :密封環 1 1 6 :外接觸唇 1 1 7 :內接觸唇 1 2 1 :密封件 1 2 2 :密封件 1 3 1 :上定位機構 -30- 200809979 ^ (28) 1 3 2 :上定位機構 1 3 3 :下定位機構 1 3 4 :下定位機構 1 3 5 :條形彈性部件 1 3 6 :條形彈性部件 1 3 7 :內脅側 1 3 8 :內脅側 _ 1 3 9 :擋止表面 140 ：擋止表面 1 4 1 :條形彈性部件 142 :條形彈性部件 143 :擋止表面 144 :擋止表面 151 :板片彈簧件 152 :板片彈簧件 # 1 5 3 :同心固定蓋 154 ：同心固定蓋 2 0 1 :箭頭 202 :箭頭 203 :箭頭 2 04 :箭頭 2 0 5 :箭頭 2 0 6 :箭頭 2 0 7 :箭頭 200809979 ▲ (29) 208 :箭頭 2 1 0 :箭頭 2 1 2 :箭頭 2 1 3 :箭頭 2 1 4 :箭頭 2 1 5 :箭頭 2 16： mm
217 :箭頭 2 1 8 :箭頭 2 1 9 :箭頭 220 :箭頭 221 :箭頭 2 2 2 :箭頭 223 :箭頭 7” ：浴池 5 5 ” ：處理容器 6’ ：轉送件 5 5，：處理容器 224 :箭頭 6” ：轉送件 2 1 ” ：晶圓 501 :裝置 5 02 :轉送件 5 0 3 :處理容器 200809979 ^ (30) 5 1 1 :線簧夾 5 1 2 :線簧夾 5 1 3 :線簧夾 514 :連桿 515 :垂直桿 5 16： m 5 1 7 :溝槽 _ 5 1 8 :強化塊體 5 1 9 :彎角區 520 :第三水平腳 5 3 1 :塊體件 5 3 2 :鐵線部分 541 :彎折處 542 :彎折處 5 4 3 :彎折處 • 544 :彎折處 5 4 5 :彎折處 546 :擋止銷 5 04 ：臂 5 05 :支撐部件（桌台）

Claims (1)

  1. 200809979 (1) ^ 胃 十、申請專利範圍 1. 一種用來處理在一浴池中之板形基材的裝置，其包 含一用於至少一基材的處理容器，轉送機構用於從一用於 一列的數個基材之收集容器轉送至該處理室的自動化轉送 ’放置機構用來放置該收集容器，運送機構用來將其內裝 有該至少一基材的處理容器運送進/出該浴池，及控制機 構用來控制該裝置，該裝置的特徵在於該放置機構被安排 Φ 來以一種可讓在該處理容器內的基材至少大致直立地設置 的方式將該收集容器放置在該處理容器底下，及在於該轉 送機構被安排來攜載一基材向上於從該收集容器至該處理 容器的運動方向上，通過該收集容器的一開放的上側。 2·如申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中之板形 基材的裝置，其中該轉送機構包含一支撐臂，在該支撐臂 的上端可支撐一基材，且該支撐臂被安排來在其運動於該 運動方向的向上運動期間經由在該收集容器的底部上的一 # 開口來承接一基材。 3·如申請專利範圍第2項之用來處理在浴池中之板形 基材的裝置，其中該支撐臂在其上端設有一溝槽用來將該 基材的圓周邊緣的下部容納於其內。 4.如申請專利範圍第2或3項之用來處理在浴池中之 板形基材的裝置，其中該支撐臂被安排來在其向上運動期 間從該收集容器到該處理容器從頭到尾攜載該基材，用以 將該基材轉送至該處理容器。 5·如申請專利範圍第2或3項之用來處理在浴池中之 -34- 200809979 (2) 板形基材的裝置，其中該支撐臂被安排來在其向下運動期 間從該處理容器到該收集容器從頭到尾攜載該基材，用以 將該基材轉送至該收集容器中。 6 ·如前述申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中之 板形基材的裝置，其中該放置機構包含平移機構用來將該 收集容器平移於該收集容器內基材列的縱長方向上。 7 ·如前述申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中之 # 板形基材的裝置，其中該運動方向包括與垂直線成0-30 度，較佳地1-10度的角度。 8 ·如前述申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中之 板形基材的裝置，其中該處理容器與該收集容器都可樞轉 於一傾斜的位置（在此位置時該處理容器與該收集容器內 的基材包括一相對於垂直線成0-30度，較佳地爲1-10度 的角度）與一垂直位置（在此位置時該處理容器與該收集容 器內的基材垂直地延伸）之間。 • 9.如前述申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中之 板形基材的裝置，其中該運送機構包含一水平的縱長向導 件用來將一其內裝有基材的處理容器運送於一朝向/遠離 一在該浴池上方的位置的水平方向上。 10.如前述申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中 之板形基材的裝置，其中該運送機構包含一垂直導件用來 運送一其內裝有基材的處理容器於一垂直方向上。 π.如前述申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中 之板形基材的裝置，其中該裝置設有可切換的連接機構用 -35- 200809979 ‘ (3) 來暫時地將該處理容器<連接至該運送機構。 12·如前述申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中 之板形基材的裝置，其中該處理容器包含一第一處理容器 部分其包括一具有一支撐表面的支撐件，而該控制機構被 安排來連續地控制該轉送機構用以將一基材向上攜載於該 運動方向上到達一最上面的位置，使得該基材從該運動方 向看時至少完全超過該支撐表面，控制該第一處理容器部 φ 分用以以一種從該運動方向觀看時該基材是位在該基材底 下的方式朝向該基材移動，及控制該轉送機構用以以一種 可讓該基材被支撐在該支撐表面上的方式將該基材從該最 上面的位置降下來。 1 3 ·如申請專利範圍第】2項之用來處理在浴池中之板 形基材的裝置，其中該支撐表面是由一條形部件的內彎曲 形脅腹構成的且其曲率半徑與該基材相同，該條形部件的 上端被連接至該第一處理容器部分且其下端設有一面向該 • 基材的擋止表面，該基材可緊靠該擋止表面。 14·如申請專利範圍第13項之用來處理在浴池中之板 形基材的裝置，其中在該條形部件被放置在該基材的外圓 周處時，當該處理容器是在打開的狀態下時該條形部件從 該上端被彎曲於一遠離該第一處理容器部分的方向上，及 當該處理容器是在關閉的狀態下時該條形部件被壓擠成一 扁平的形狀。 15.如申請專利範圍第12、13或14項中任一項之用 來處理在浴池中之板形基材的裝置，其中該第一處理容器 -36- 200809979 (4) 部分包含兩個以鏡面對稱方式設置的支撐元件。 1 6 ·如申請專利範圍第1 2、1 3或1 4項之用來處理在 浴池中之板形基材的裝置，其中該處理容器包含一第二處 理容器部分且該第一處理容器部分與該第二容器部分可分 別朝向彼此及遠離彼此移動於該處理容器的一關閉位置（ 在此位置時一基材存在該處理容器內）與該處理容器的一 打開的位置（在此位置時一基材可被放入該處理容器及/或 φ 從該處理容器中取出）之間。 17.如申請專利範圍第16項之用來處理在浴池中之板 形基材的裝置，其中該第二處理容器部分包含一保持機構 用來將一基材的圓周邊緣的一部分保持在該基材之在垂直 於該基材的平面的方向上之最上面的位置處。 18·如申請專利範圍第12項之用來處理在浴池中之板 形基材的裝置，其中該處理容器包含接觸機構用來與在該 處理容器內之基材形成導電接觸用以在存在於該處理容器 0 內的基材浸沒於該浴池內時施加電壓至該基材。 1 9 ·如申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中之板 形基材的裝置，其中該處理容器包含密封機構用來實施一 液密（liquid tight)密封於該接觸機構與處理容器的環境之 間。 20 .如申請專利範圍第1項之用來處理在浴池中之板 形基材的裝置，其中該處理容器包含數個沿著一基材的圓 周設置之夾持件用來與該基材夾持性地嚙合。 21.如申請專利範圍第20項之用來處理在浴池中之板 -37- 200809979 ‘ (5) 形基材的裝置，其中該夾持機構被安排來與在該處理容器 內之基材形成導電接觸用以在存在於該處理容器內的基材 浸沒於該竃解浴內時施加電壓至該基材。 22 . —種處理容器，用來使用在前述任何一項申請專 利範圍所界定的裝置中。 2 3.如申請專利範圍第22項之處理容器，其中該處理 容器係如申請專利範圍第1 2項所界定者。
    -38-
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