TW200805437A - Semiconductor processing system with wireless sensor network monitoring system incorporated therewith - Google Patents

Description

200805437 九、發明說明： 【交叉參考之相關申請案】 本發明係關於與本案同日申請之同在審理中之美國專利申請 t11/277,448 ^ rMethod 〇f Monitoring a Semiconductor

Processing System Using a Wireless Sensor Network」的中請案，特 將其整體揭露内容包含於此作為參考。 Λ 【發明所屬之技術領域】 本电明之貫施例係大致上關於一種監測系統及半導體製造中 用之處理祕的非侵人式❹认監測方法。财法及系統^偵 測及診飛處理系統中的漂移及錯誤並採取適當的修正手段。、 【先前技術】 半導體製造中所甩之處理(製造)系統的處理條件改變可 因報廢或非生產純之停工所造成的巨額收人損失。在此ζ L里：監ί製造系統之操作且在發生不礙 ♦偏私或遇到其他錯疾條件時能夠產生警報的系統軟體。 /、、、:而真正為要的疋一種持續或即時決處 「 firrf置㈣者者皆依賴處理系統的排程預防性唯该 然而，使用排程獅性維護的方法係簡基 =====喝，此槪法n 倚署意味著可對多數的處理系統 測器所收_訊_ 了^ 200805437 即時監测及分析能力 系統之處理條件之綜合瞭解所需的所欲 【發明内容】 發^實關提供了㈣雜人式制及監解導體製造 中所用之處理系統的一種監測系統及—種監方法。 偵測統ΐ的偏ϊ及故障，並採取適當的修正措ΐ 、'匕含··將複數非侵入式之感測器設置到半導體處理系 ==系統元件中的一或多者的各個外表面 流追《統元件中二 感測器網路操取該感測器訊號’並對該 一貫施例中’非侵入式之感測器可為加速計我測哭，而兮 热線感測器網路可為微塵系(motes如sed)。巧“αι而該 半導ίίΞΐ，統=:複數系統元件，用以使處理氣體流過 外複數非侵人式感測器。感以獲 —i多個系^ 1感ί為如虎在處理氣體流過處理系統期間追縱 包含：-系巧理狀態的逐漸或改變。該處理系統更 儲存及處理感號用以自無線—_頡取感測器訊號並 【實施方式】 在半ίϊΐίΐϊϋ提供了工業自動化中的無線感測器網路，以 可監測參ί如^中=預防維護及條件監測。無線感測器網路 前攝、即度及負載，且可辅助處理系統元件層次的 機時間。鱗“監測’亚可降低未排程之維護與停 、'、4川如可错由降低為了使貧訊同步化而使用連接裝 200805437 用以Jt:供-種無線感測器網路平台，以在處理 i 置之基板的期間，即時監控半導體處理系統之士 裝ί二;。複數個無線感測器係非侵入性地安

ΞίΞ Ξ H氣體於系統内流動之半導體製造用的任S 卢+丄心处理糸統、蝕刻系統、單晶圓沈積系统、抵； 處理糸統或光阻處理系統。 Μ、、元批次 之氣件之處理狀態可由於與系統元物 的践或漂移而改變，而其個材料 觸 ^ 7斤f成。隨著時間經過，材料沈積物會限制氣‘产過:歹系3 驟然的災難事件。 移，但部不會造成 ，發日月之實施例可應驗半導體處理系統 氣▲相關之一或多個(例如兩個或多個）系 、二/曰L、 =系統，可為:氣體供應管路，用以 至中或多塊基板(晶圓)係於此處理室中受到声、理·祕二^地 用以自該處理室移除處理副產物；流量 例]處^，^管， 器(聰))，用以控制流入處理室之處理^^流量控制 控制器(例如可變閥，如閘閥或蝶形閥）二二=’或自動壓力 塵力。 ’巾以控制處理室中之氣體 在一實施例中，提供了一種在半導體處理系 判斷與預_統元狀衰贼漂移雜的方^tttfi、監控、 漂移狀態採取適當行動，則可能會導致錯誤狀能右禾對該哀減或 在另-實施例中’提供了-種在半導體處 控、判斷、與預測的方法，若未對該衰減或壯:中感測、-動，則可能會導致-或多片基板的錯誤處採取適當行 現將參照議來减本_之實關。圖丨输據本發明一 200805437 貫施例之半導體熱處理系統的等視角圖。熱處理系統100包含： 外殼101，當熱處理系.統被用於潔淨室時，此外殼形成熱處理系統 的外壁。外殼101的内部被分隔件(隔牆)105分隔為載具傳送區107 及裝載區124，載具102係載入及載出該載具傳送區107並滯留於 該載具傳送區107 ’而位於載具1〇2中之待處理基板(未圖示)如半 導體晶圓W係在載入區處被傳送至晶舟103。晶舟103係载入或 載出垂直式熱處理爐管(室)1〇4。 。如圖1中所示，入口 106係設置在外殼1〇1的前端中，用以 使操作者或自動傳送機器人(未圖示)能夠載入及卸載載具1〇2。入

二106係設有可垂直移動以開啟及關閉入口 1〇6的門(未圖示）。座 堂1〇8係設置在載具傳送區107中之入口 1〇6近，用以 放置於其上。 才戰-、 如圖1中所示，感測器機構1〇9係設置於該座臺1〇8的後部 二以開啟載具102之罩蓋（未圖示）並偵測載具1〇2中半導 ；〇rh ? 108 .呈間隔部分中設置兩载具放置部(傳送座臺)m，作為將 t ^ 傳送半導體晶圓W的桌臺。由於在—载具放 半^體晶並同時在另—載具放置部111處將 產率。曰曰、專达至另一载具102,因此可改善熱處理系統100的生 102 轉係設置在載具傳送區107中，用以將載具 具;r 舉升二3ϊί1 二安 _ 可藉由—罩”=2_^5封閉式，其可容納13或25片晶圓且其 膠容器，以^曰圖封地加以關閉。載具搬可包含可攜式璧 、曰曰Η 谷、、内及存放於具有預定間隔垂直隔開關係g 200805437 3式^ίΓ貫施例中，晶® w的直徑可為3。〇111111。 m3 °11 ^ 口 i t曰4圓尺寸。該罩蓋(未圖示)係以俾使其可密封地 的方式’柯移时朗定麵姐賴前方的晶 送未圖示)的潔淨的環境空氣提供至載具傳 S二=rf!f _充滿潔淨的環境空氣。此外，潔淨 Μ俾使裝載區124充滿潔淨的 裝載^ = ^=|_氣__倾124，俾使 載呈所τΤ/分隔件105具有上及下之兩開口 113以傳送 .2 。竭口 13可與載具放置部hi對準。每一開口 113俜設 ==閉，113的—罩蓋(未圖二;上：= ΚΓΐΐ係實質上與载具102之晶圓入口之尺寸相同的ί ⑶ =導體晶，可經由開口 113及晶圓— 沿著 W之圓周處的槽口 (切口 匕槽口對準機構115係對準自載具 到傳迗機構122傳送之半導體晶圓w槽口。 /、又 =對準機構115具有在垂朗隔位置上的兩裝置，且每一 準，W的槽口。由於一裝置可將已對準之晶圓W傳 的I產率二裝ΐ可對準其他晶圓w，因此熱處理系統100 曰η ί可x恨4。母—裝置—次可用崎準複數如三或五片 日日Η，因此可實質上減少傳送晶圓|的時間。 _ϊΐΛΐΐ管104係設置在裝載區124中的後上部。孰處理系 其底部具有爐1G4a。罩蓋117係設置在^ °罩蓋117係用以藉由舉升機構(未圖示 將日日舟103载入及載出爐管1〇4及開啟及關閉爐管開口 i〇4a。 200805437 可在垂直分隔多梯級件中容納大量如100或15〇丰導 晶舟ΠΒ係適合放置在罩蓋117上。晶舟103係的 熱處理爐官104在爐管開口 i〇4a處設有擋件118，以/理/ 罩盍117脫離且卸載晶舟1〇3時關閉爐管開口 1〇如。< 合水平地旋轉以開啟及關閉爐管開口购。擋 ^ΐ8^ 設置以使擋件118旋轉。. 職稱U8a係 圖.：！，晶舟放置部(晶舟臺)119係設置在裝 中，以在半導體晶圓傳送出、人晶舟⑽時將晶舟: 放置於，、上。晶舟放置部119具有第一放置部119丑及設 篦一 放置部119a與罩蓋117間的第二放置部11%。換氣通風元『 圖不)係與晶舟放置部119相鄰設置，以使用過濾、器來清理壯恭戸 I24中的循環氣體(環境氣體或惰性氣體）。、’衣品 晶舟傳送機構121係設置於裝載區124 理爐管1M之間，以在晶舟放置 二言’晶舟傳送機構121係設置用以在第- 放詈ΐ ma1t—放置部11%與經降低之罩蓋117之間及在第一 放置部11%之間傳送晶舟103。 晶圓w，更具體119上之晶舟間傳送半導體 準機構115與第—放置％119、置部111上之載具112與槽口對 部119a置 上之晶舟103之間以及在第一放置 :上之熱處戦的日日摘賴具放置部⑴上之在空弟載具^ 直地送機構⑵具有臂123，此臂123可垂 轉臂in及支#臂(夫罔水^也—移動(擴張與收縮）。例如，同步地旋 (水平線性方向)上相對於臂123之旋轉轴的徑向方向 可最小化，且熱處的寬因产此及用；^晶舟⑽的區域 晶舟傳送_121^—=及冰度可減少。 自弟置# U9a將載有未處理之晶圓w的 10 200805437 晶舟103傳送至第二放置部11%。， 或===自载有已處理晶圓w之晶舟ι〇3之粒子 當載具102經由入口 I%访罢“ 士 109 102 0 nlf 1 具1G2中之半導_ w =以目。i 且載請軸具移轉娜2 在適當的時間處，被儲存在儲存部則載 送至載具放置部111上。在=放置1= όΪΪ盡以及分隔件1〇5之開口 113的門開啟後，轉 if 22自載具1〇2取出半導體晶圓W。接著，轉移麵122 二準機構115而連續地將該些晶圓轉移至晶舟放置部U9 曰，力置部119a上的空晶舟1〇3巾。當晶圓w受到轉移時， 冓121下降以自轉移機構122排空轉移機構122,因此 避免b曰舟傳送機構121及轉移機構122的干擾。在此方式下， =轉移轉體晶圓w的轉移時間，因此可實質上改 統100的生產率。 ”、处王示 在完成晶圓W的轉移後，轉移機構122可自開啟位置橫向地 私動至外殼101之另一侧區域中的支撐位置。 在熱處理完成後，罩蓋117下降，晶舟期及已經過熱處理 的晶圓移出爐管104而移至裝載區124中。在罩蓋117已移出曰 舟103後，擋件118立即密封地關閉爐管的開口 1〇4&。此&小『匕 了傳出爐管104而進入裝載區124中的熱，且最小化了傳 载區124中之裝置的熱。 ' 在容納已經過處理之晶圓W的晶舟1〇3被傳出爐管1〇4後， 晶舟傳送機構121將載有未處理之晶圓貿的另一晶舟自第一放置 口p 119a傳送至第一放置部n9b。接著，晶舟傳送機構I〕】將载有 11 200805437 未處理曰曰圓W之晶舟1〇3自第二置部η%傳送至罩蓋117上。 因此，避免晶舟103中之未處理半導體晶圓w受到當^舟1〇3移 動枯來自載有已處理晶圓w之晶舟103之粒子或氣體的污染。 在載有未處理晶圓W之晶舟1〇3被傳送至罩蓋上後，於 ，m，啟後，晶舟107及罩蓋117係經由開口皿馳而載入至 接著可熱處理晶舟1G3中之未處理日日日®。此外，在 载有已處理晶圓w之晶舟1()3被傳送至第—放置部n9a上後， 之^處理半導體晶圓w#藉由轉移機構122而自晶舟 循ϊ 放置部m上的空載具102中。接著，重覆上述 ^=去ΐί及/或操作資訊可藉由熱處理系統igg加以儲存， 或自知作者或另-糸統如工薇系統可加以獲得 來具體指定正常處理所採取的行動以及對里 =二 加以儲存及更新。可艿配方可依所需而 來提供使用說明及協i螢t打產生疋我、分派及維護處理配方 包含ί; 理系統100可包含:系統控制器_，可 器配置。此二可 1 口90 理系統100輕合至另一系統(未圖示）。又，抑制哭 190可包3輸入及/或輸出裝置(未Ί 處理系統_的其他元件。該輸入及合至熱 此外，熱處理。 打及/或儲存資訊及待執行之指令的處理以執 例如，記憶體可用以儲存在系統中之各種處理圖示）。. 臨時變數或其他悄f訊。—或多令期間的 可讀媒體讀取數據及，或指令繼。此外=戈 12 200805437 包含入電腦可讀媒體的裝置。 的數據，以產生及/或執㈣斜勒=^自j可項媒體記憶體 行本發明之綠㈣分<全~ V。☆、處理祕⑽可施 •納於記憶體中之-或^電耀控，⑽執行被容 ^之孰ίϊ^Γ包含儲存於電腦可讀者姐人上 或其他系统如工蔚糸絲處系、统100與人類使用者及/ 驅動軟體、摔作fur 軟體可包含但不限制為，裝置 用之施行本發明實施例時所使 介面二 :二元件Γ，元件並 ίίϊί析應用雜之組態；檢視歷史數據；檢查目ί “ 22郵件警告，執行多變數模型；及觀看診斷螢幕。 的部施導體熱處理系統細的一部份 執處i f统ιΓΛ /、:统及控制器29G。爐管系統205可為 j理糸統100中之爐管系統104，且系統1〇〇可 : 件。爐管系統205包含垂直位向 管'、充 形的金屬歧管221，處理室202具有包含例如至 === 13 200805437 ^1卜官2f2b的雙重結構，而歧管221係設置在處理 ^ 、了邛上:内管202a係藉由歧管221所支撐且具有開放之 邛。Λ官^^下端以氣密方式密封至歧管221之上端的封閉上部。 鬥^室202中，大量(例如，15G)晶圓W係輯至晶舟223(晶 =支暑件)上，晶圓水平地在特定間隔下以架狀方式逐一向上堆 豐。晶舟經由熱絕緣圓柱(熱絕緣體)225受支撐於一罩蓋224 上’而罩盍224係連接至移動裝置226。 ί ί統205亦包含圍繞處理室202設置的加熱器2()3，例如 态形式之加熱器。加熱器2〇3可包含五階層加熱器231_235。 或^，可使用不同的加熱器配置。各個加熱器階層231·235彼此獨 ，地自相關的電源控制器23卜24〇受到電能供給。加熱器階層 31-235-可用以將處理室202的内部分割為五個區域=、、 所示:之氣體供給系統260係連接至控制器290及爐管系統 205。歧管221具有複數氣體饋送線路241_243， £氣體 =^以處理晶圓w之内管202a中。處理氣體可、 气雜其可為質量流量控制器，娜⑶而饋送至各個 乱體饋运表路24卜242、243。在另一或更進一步之實施例中，系 統260可為液體供給系統26〇。來自液體供給系、统26〇的液體可被 瘵發:以形成流經流量調整件244、245、246的處理氣體。 ^氣體排放線路227係連接至歧管221，以經由内管202a與外 f 202b之間的間隙來進行氣體排放。氣體排放線路以7係連接至 ίΐίΐΐ浦的排放系統21°。包含可變位置閥件如閘閥或蝶形閥 、動堊力控制器228係插入至氣體排放線路227之中，以自動 地控制處理室202中之氣體壓力。 … 夺在圖、2所示之實施例中，半導體熱處理系統2〇〇包含複數非 钕入式^ 測器 247a-247d、248a-248b、249a_249b 及 250a-250c，以 感f及監f處理系統2GG之元件的處理狀態及熱處理系統200的 ，巧態。如此處之處理系_元件代表：包含氣體饋送 線路或氣體排放線路的氣體線路；自動壓力控·;質量流量押 14 200805437 ，器；真空泵浦等。感測器可用以施行連續、週期性或觸發性的 =。此外，感測器可用於空間或時間的感測。本發明之實施= ίί使ίϊ同或不同ΐ測器的陣列，包含用以量測光發射/吸收 二又、振動、壓力、濕度、氣流、電壓或傾斜的感測哭多 易ΪΪ裝設而對熱處理系統的現有系統树產2 二g響’或者，可在熱處理系統·之設計及建構期間被包^ •川施例中’複數感測器係位於—系統树的外表面上， ，如感測$ 247a_247d係位於氣體排放線路2 一每 器係位於複數系統元件之每—者的‘面在上另，芯例: 25〇a 227 ί, 上。Γ〇之真空系浦及氣體饋送線路242 者的===中IS感她 此文中所用之處理系統2 〇 〇之元件 對於基準_餅_編齡。在牛相 線路的傳導性。在另一實例中，包令― 』又义心虱體 =======弔 r 壓力控制器的處理狀態可為閥件動作的 匕3—閥件之自動 或閥件的相對開啟或關閉 的方向(即，開啟或關閉閥件） 可大才幅器形成無線感測器網路，其 件、整個處地監測其系統元 路特別有利於不方便、有困難、有危，^力。無線感測器網 測器的應用。使用無線感測器網路來& 本佈署有線感 度可促進系統元件層級之系統處理\^此==如振動及/或溫 並能夠減少未排程之維護及停機時間。康」的雨攝、即時監測’ 15 200805437 知的狀況下，來自系統元件如氣體線路、真空泵浦系統、 -杜f ΐΪΪ11及流量調整件等之感測據係受限於此些系統 來，ΐ,ΐϋίΐ安裝及擴展條件系維護解決方案所涉 理 網 訊 兮：5製ίί所提供為何。此外，數據速率為固定的，且解析度 5咸、則化許多的系統層級事件。根據本發明之實施例，ί 雷低為2資訊同步化而使用連接裝置用之適當 _ 、，無線網路感測器促進了製造資產的更佳、^人其 速呼根ft發日狀—實施例，無線❹m網路之感測ii可包含加 體i產則速計中，-質量係固i在壓電晶 =;===欲 口此壓縮及伸展壓電晶體。此力佬得帝 、准持裙 定律，m*a)，故此力會與加 二、。^著^敕^於牛頓 I將電荷輸峻換為恤抗^整「合電子元件 劂為變動電壓。桐攄太 j示此包各會被偵 分析物谢⑽糊㈣振動特徵 ，的統計分 =„數據可使用傅 至:感：所收集的 已收集到的振動數據與利用相同組感測器所= 16 200805437 數據。因此，對於校正標準而言，可重複性可比準確性更有用。 將加速計裝設至系統元件(例如，氣體線路242戋自壓 制器2圳上的方法會影響其頻率響應。安裝的自然頻率係 ^ 決於安裝_性。剛性愈高，裝自_率倾近其最 =如，使㈣性安裝可獲得加速計的侧性安裝，而使用鎖 •=衣於硬平坦表面上之杈正轉矩的高抗拉固定螺絲可獲得高剛性 安裝。 λ貝例·在處理至中之壓力控制期間自動壓力控制器的振動特 徵 • 目3為根據本發明一實施例之具有無線感測器網路之自動壓 力控制器228的示意圖。在所示實例巾，加速計感測器24如、248卜 248c係設置用以監測自動壓力控制器级的振動訊號，以回應在 處理氣體255流動通過自動壓力控制器228期間增加或減少自“自 動壓力控制器228上游之氣體壓力的指令。例如.，氣體壓力可介 ，自1.5Torr至9Torr之範圍中。例如，加速計感測器248&、2働、 248c可用以感測及量測X、y、z振動。 例如，自動壓力控制器228可為來自德州Huffman之&

Equipment Consultants，Inc·的CKD VEC氣動驅動閘閥。自動壓力 鲁 控制器228通常在自動壓力控制下操作以到達設定點之壓力，但 、ΐ亦可Ϊ全開/全關控制下操作。藉由在壓力控制期間監測自動壓 者工制為228的振動訊號，可高準確性地判斷出自動壓力控制器 ^的條件改變，包含_作方向(即，關之開啟或關閉）、閑& 的相對開啟及閘閥之開啟/關閉動作（包含全開啟及全關閉動 需的時間。 、旦在一貫例中，自動壓力控制器228之振動訊號的監測可用以 測里自所欲開啟/關閉設定點的偏移。若所欲之閥開啟/關閉位置不 正確，則可產生誤差訊號並採取適當的動作。換言之，振動訊號 可用以測自動壓力控制器228之期望位置及自動壓力控制器 228之真實位置間的誤差。此測量方法可較藉由自動壓力控制器 17 200805437 之電子元件對自動壓力控制器位置的習知控制更靈敏，且誤差 訊號及自動壓力控制器228的真實位置可被中繼至操作者以採取 適當的動作。 、 在另一實例中，材料沈積物及/或粒子形成在自動壓力控制器 =8士的内表面上可能會使自動壓力控制器228「濕黏」」，此現象隨 者纣，的推移可能會因此摩擦力增加而改變全面或部分關閉或開 ，所需的時間。自動壓力控制器228之處理狀態的此改變可藉由 然線感測裔網路所感測及監測到。 為了模擬圖2中之氣體排放線路227之堵塞的各種程度，將 二==孔(通孔)數目（因此具有不同的傳導)的固體凸緣插入至氣 與自動壓力控制器228之間。接著在固定氣體流 /增加自動壓力時自動壓力控制器228的操作綱，針對 緣測量自動壓力控制器228的振動訊號。接著比較測量 或孔’其中具有2孔之凸緣模擬最嚴重的堵塞， 中了有孔之凸緣模擬最輕微的堵塞等。結果係顯示於圖4a仍 哭顯示了根據本發明之壓力控制期間自自動壓力㈣ 228的振動訊號。振動訊號係在自6 τ〇订至3 丁听 二 線加速計感測器所測量。振動赠丄顯 數s娜_力如，㈣過時間之計 修L4A顯示了使用包含2孔之固體凸緣自6細至3 Torr之懕 $制期_振動訊號41〇。在時間記號412處 二， 2=在時間記號414處，由已不存在來自自動壓力 南於雜訊位準的振動來看，壓力已穩^。介於時間^ϋ28之 srs振41G，係與自動壓力控制步驟期間‘ ίι力押二4 之1皁的作動相關。振動概410,具有約17.5秒的時間H。 18 200805437 在圖4A中’時間記號412與414的位置可笋由靜淮* 來決定。在-實例中，在振動訊號41㈣開始處'二f學技術 號410中之雜訊的標準差，在時間記號412處之 動訊 開始判斷振動訊號410的振動振幅在何時會是雜訊的 倍。類似地，自振動訊號410的末端可及時反向^ 的三 又’在振動特徵4K)，内之子部可被識別出並用==4!4。 例如，子部之時間長度及振幅可被用來決定子部二。 ， 唬包絡(signal envelope)的形狀。若取樣頻率夠古 =a及適石訊 内的子波可用以識別她於基準圖動特徵卿 及子波數目。 Q Patterns) 圖4B-4D顯示了分別使用具有4孔之 J凸緣(圖4Q及「全開」凸緣(圖糊= , 制』間之振動訊號430、450、470。在圖4B中，介於時^•力控 間的振動特徵伽，具有約2·5秒之時間長度。在』ί 3 己滅452與454之間的振動特徵，具有約1.7秒之時門 ί 2 ^ 474 "" • •心之守間長度。振動特徵410,、430,、450,、470,之士 ίυ低的傳導(增加堵塞)導致了振動特徵的較長長产。因 包含頻率及振動強度。 杨具有不同的結構， 自動發明另—實施例之壓力控制期間來自 之自=t 的振動訊號。振動訊號係於自3 To订至9 Torr 5A顧^田^制期間所量測。實驗設定係與圖4A_4D中相同。圖 510’:、^時間孔^凸緣在自動壓力测期間的振動訊號 穩i It 士繼至自動壓力控制器。在時間記號514處，壓力已 ^時間;長度日:間魏512與514之間的振動特徵510’具有約13秒 19 200805437 圖5B-5D顯示了分別使用具有4孔之凸緣(圖 ，凸緣(圖5C)及「全開」凸緣(圖5D)於壓力控制門來白、^孔 力控制器的振動訊號530、550、570。在圖5B 12自士自動塵 532與534之間的振動特徵53G，具有約11.4秒之8±/丨=間記號 ^ 長度。在圖5D中，介於時間記號572盘574 >ϋ12.5 -57〇,具有約12.5秒之時間長度。圖5A-5D^干了m振動 .10、530,、550,、別，之長度相對地對凸緣孔數特徵 振動特徵510,、530,、550,、570,呈古兀F1AA4不敏感。然而， 及振動強谇甘570具有不同的振動結構’包含相皇 絲巧度’其可肋❹樣體線路料的變化。w頻率 動特Γ:在全間開啟及全閥關閉步驟期間自動壓力控制器的振 圖6A_6B顯示了根據本發明實施例分別-門5卩 開啟期間(目6A)及自全健 _自_軌置之全閥 壓力控制器228之閥關閉期間(_)來自自動 使用取樣_ 5 係』 61〇、620係顯示為來自無線加^測^ = ^ °振動訊號 .經過時間之計數(計數=1秒)的=:。2儀之龍輪出，其為 W 6A顯示了包含振動接彳數 •號612 —Μ間之振動特徵2 =訊，610 ’介於時間記 -示了包含振動特徵咖之振動間長度。圖紐顯 於靠近時=號動特徵， 之特徵在於靠近時間記號 一 X :色然而’振動特徵62〇， 似之尖銳振動特色。城622之見廣振動特色及靠近時間記號 以決定貫施例’振動特徵610,與620,間的差田 乂戌疋自動壓力控制器22 _間的是異可用 或是正在自全開位置進行閉。=在自關閉位置進行全開 間與基準持續時間 ^ )，可比較振動特徵的持續 决疋振動特徵的持續時間是否由於例^ 20 200805437 自動壓力控制n巾之材料沈積物而增* 在一實例中，在閥開啟或閥關閉 而&者時間改變。 變，會影響其中快速閥開啟或閥二寺間的改 1當重要的處理。此外，若振動特徵之持續^ ^體流動而言 時間存在著變化，職實處轉目較於基準持續 件。例如，自全開啟位置之不完望的處理條 .其可影響處理室中的氣體濃度。”、氣體的小量滲漏， . =:，處理氣體流動期間之氣體 在某些氣體條件下，在半導體赞造系尉H勤4寸被 理系統200)中經由氣體線路所建立^理氣(體^ ^之熱處 準之雜訊及鶴。例如，經由驗發展出高位 227之處理氣體流可引起導致氣體線路°中之振動體排放線路 ϊϊ:構ΐΐ則可被大幅地增強。潔淨的氣體 改變可代絲體祕及整 氣體線路中形成了材料沈積物)。該改變可;皮;=== 徵比，=診斷處理系統中的漂移或故障俾採取的特 圖7A-7B為根據本發明之一實施例 二*曰施 線路242的示意透視圖。例如，氣體饋^^ ，且可具有飾形狀。如參照圖 為 測器施_2他可設置在氣體饋送線路242的外部Γ，、ΐ ί f 5流至内官施時監測來自氣體饋送線路242的振 ϋ纟處理氣體255流過圖7A中之潔淨氣體饋送線路242 ϋ、線加速計感測器25〇a_25〇c的振動訊號測量來決定基準振 巧破。由每—感測器25Ga_25()e所測量的振動特徵可由彼此及由 存=氣_送線路242上的其他振動(例如，來自於熱處理系統 20 、之真工泵浦及其他機械I置的振動)來解輕合。雖然顯示加 速計感測器250a-250c係裝設至氣體饋送線路2似之線性部分上， 但此並非為必須，加速計感測器250a_25〇c之一或多者可被裝設在 21 200805437 氣體饋送線路242之一赤夕加a a 數目及/或夕個非線性部分上。或者，可使用不同 於氣遇__ ’由於材料沈積物累積 路的堵塞。在線路中材料沈積 及遠離處理室20^Ιί角!、ΪΓ加熱較少或未加熱的區域、 •生_動、#由直理氣體流經氣體饋送線路所虞 動引發的麵，自或自_力控繼所產生雜動、或夺 •中的^料。Χ β被感測、監測及判斷出累積在氣體饋送線路242 ,成之，不了藉由處理氣體流經氣體饋送線路242所造 如，材料沈積 125^=2i2j内f面上的材料沈積物252。例 所迕成。名自化予虱相沈積(CVD)處理之處理氣體流動 ίϋΛ—= 處理氣體255可包含金屬前驅物如 (OBu h ’且材料沈積物况 ;==顺分解丄沈 4Ιί ίί!ΐ 252 故ϋ ^有直徑且增加了氣體饋送線路的總質量，藉此 255义所線f 242之氣流255的特性及由處理氣體流 徵。又，气力;^十感測器25〇a—25〇C所量測到的振動特 的長度作變化，藉此導致了加速計感測器、2*德 材料ίif^同振動特徵。可比較振動特徵與基準值及所決定的 ”+=貝位準。例如’絲值可包含閾值(包含歷史闊值）。

氣、8^ΐί根ί本發明另一實施例之具有無線感測器網路之 的示意透視圖。在圖δΑ_δΒ中’氣體饋送線路242 在氣體館送線路242之外表面上的振動源256 L 可為超音波振動源’用以在氣體饋送線路242中產生 月一破热線加速計感測器250a_250c感測及監測到 22 200805437 積，252的存在可改變振動源所產生且由加速感測器25〇心25此 測，監_的振動特徵。由振動源256及氣流况所產生的 振動可利用標準數學分析方法來解搞合。 2，在另—或更—實施例中，四個❹m 247a-247d ^排鱗路227之外部上。例如，感測器241247d •目及線^ 227的溫度及/或振動。或者，可使用不同數 227 測器247a_則可對應至氣體排放_ •干，在气—圖1末加以设置。類似地，如參照圖7A_7B所 積物形成及/或粒子带忐次路227之内邛表面上的材料沈 =之-實施例，氣體:：二=入含處^體= n卜部表面ΐ的超音波振動源(2¾ 用來較佳地管理處理系統的维謹^ 度的估計可接著被 彳觀線路或氣體 統元件處理狀態或—事件處理糸統之處理室中的系 =可用以偵測包含晶圓的“支斤測量到的振動 及存在多少片晶圓。此類偵測夺^^否存在於處理室中，以 根據本發明之另一實施例，卢二^、卜私度的安全及處理控制。 體排放線路上或真空泵浦上^施路如氣體饋送線路或氣 粟浦的處理狀態以及真空栗浦的^健n讀測真空 23 200805437 根據本發明之另一實施例，氣體饋送線路及触 者的振動特徵可相關於處理室的行為及/或處理欠、、泉路兩 示出應採取的適當動作。為了比較，若僅測量里括且可顯 體排放線路之振動特徵，可採取不同的動作。/、體饋运、'泉路或氣 ϋ本發明之-實施例’在圖2_8中所示之例 ，（m。㈣’其可作為建立無㈣測器網路的 二感測器 -_es)為感測應用之開放硬體/軟體平臺。平-^感測器 的元件所構成：電源、計算器、、感_=塵本 治及與其他微塵系感測器(motes)内部連^微^m〇te便能夠自 為具有無線電連結且自己自足、’由器㈣ 彼此通訊及交換數據、將數據傳輸】所欲：目=如=其，， 我組織成為特定網路。 細、及自 的基於處理系統之元件的處理系統知ί 處(實體重新定義組態二外番可在硬體層級 態地重新，義無線感·網路;^(物或虛挺重新定義組態)動 不同的感測器i ^上5無線感測器網路允許使用各種 於處理系統之效能或數據°已收集之數據可提供關 件的直接紅料/已處理情p 處理,㈣之效能或條 收集所獲得，且可自在ϋ士數據可藉由短、中或長期的數據 數據可自類似或不類似上分散的感·所獲得。此外， 樣所獲得。X，使用微之叢集在相同或不同速率下受到取 系統之識別及替換適’在需要時可提供處理 田凡件的新方法。此係由於相較於使用較普 24 200805437 無法精確指出問題的先前方法，本發明使用了數目較 關於半導體處理系統之效能或 之特性之監測及結果分析的細節。此可包含;理， 增加維護及服務處理系統的效率或條件除了 能或條件的更詳細瞭解可有助於選擇、添加及配置:二 器(m〇L)及無線七d: 統上使用微塵系感測 藉此關毛點處之相同或相似類型感測器收集數ί: ^快^ 款效能或條件或處理系統之元件在特定瞬間時 4制ίΐΐί器網路可包含複數微塵系感測器(喊)感測器，此此 i隹:嘯:ι有t網狀網路(meshnetwork)、星形網路(starn_^ ί Γ OTk)或其他網路組態。根據本發明之-實施 可形^新至量產的無線感如微麵感測器(酬e) 監

VnttnT^^ J 4 可不受控制器支配而藉由感測蒸網路來加“制 所f :iiries)特性、多跳(mu馳0P)網路能力能夠佈署以往 '、“ 々大里網路感測器。此提供了更接近物理現象的感測 25 200805437 亚伴隨著較以往所能達到者更高的粒化(granularity)。此外， =軟體致使域·所收制的原始數據即使是在離開網路前亦 旎受到各種方式的分析。 圖f為根據本發明一實施例之無線感測器網路配置的示音 ，。，示性之無線感測器網路(WSN)902為網狀網路，其包含“了 ： f無線酬|| %6，設置在處理祕的—❹個元件上，每個备 線感，痛包含感測器驗及腦㈣嶋。無線網路可;

父換感测裔訊號。由於微塵系感測器(mGtes)9()6b的婁i: 豕地理此力，在將感測g訊號(數據)擷取至伺服器（控制器)购 更進一步之處理及分析前，無線感測器網路9〇2可至少^感測哭 訊號作部分處理。❹旧織可㈣料及酬半導體處理系^ 之糸統兀件的處理絲及祕件，包含麵處理祕巾之任何;既 在的退化或漂移及任何驟然的故障。 /9 山至於車人體，议塵糸感測斋(motes)平臺可使用Tiny〇s，其為無 線鼓入式_ II網路狀源、小事件鶴式(event_driven、)操^ 系、·先支持有效率、模組化及同步強化(e〇ncurrency_i操 作。在其最基本的層級處，Tiny〇s為擁者，f理其各種模級化 凡件的活動並管理微塵系感測器(誠社的能量。網路層及選路声 (^outmglayer)屬於Tiny0S系的上部中以提供多跳功能。無線網^ 在起動上為自我組織型，且具有修復故障連結及繞過故障節 機制。 為了廣泛地佈署無線制⑸轉，必須姉簡單地利用網路 上的低帶寬貞載來自鹏齡數據。修，TinyDB為可用以榻取 數據的貧料庫緣。在其最基本的層級處，TinyDB可將不同類型 的無線感測II網路轉變為具有使用者親和力及處理系統之資訊的 資料庫。TinyDB藉由讓使用者只要藉由以SQL(一種常見的資料 庫語言)貼出簡單的詢問便能夠收集相同的資訊，而大幅地簡化了 數據擷取處理。經由圖型化使用者介面(GUI)，軟體敘述了可用的 感測裔讀數。同時，TinyDB的宣告式查詢語言讓使用者能夠描述 26 200805437 所欲之數據而毋需告訴軟體如何獲得該數據。接

ίTinyDB =右Μ塵〔糸感別态(m〇te)碰巧正在中繼與一陌生查詢相 其^單發送該信息的鄰近微塵系感測器(m㈣給^該 查_副本，故其亦可收餘據。—旦錢受職行，TinyD= ，地自網路練數據，並將其拋人習知的轉庫 j 準工具及形象化技術來分析該資訊。者』使用軚 器分辨正在 報口（ P。識财法可包含廣播 slot)采廣播、或以分配的頻率來廣播。 ^ίΐΐΐ ΐ之：實施例，微機電系統(MEMS)可用以形成各種 β為、+尺寸的制☆、’例如加速計_胃、 益 ίίί! ： 、、7參ί ’控/，29°可用以控制處理參數，如處理氣體的 室202中的壓力。控制器290可自感測 π 247a-247c、248a-248b、249a-249b、250a-250c 接收輸出訊號， ，可將輸出控觀號發送至自動壓力控彻η8及 整件b 244、=、246。此外，控制器29〇可接收爐管系、统2〇5中之^度 it t圖ΐ，出訊號，並可將輸出控制訊號發送至電能控制 1=3 ^2005年9月1日之美國專利申請案號 。/217,276 名為 Bmlt-In Self-Test(BIST) f0r a Temial Pr_^ Ϊ t，案中敛述了 一種使用爐管2〇5中之溫度感測聽即 U測熱處__方法，將其所有内容包含於此作為參考。 设定、組態及/或操作資訊可為控制器29〇所儲存，或自 ^另-控制器如控制器19〇(圖丨)所獲得。控制器携亦可使用 ，史數據來決定在正常處理期_採取的動作及在異常條件時應 採取的動作。 〜 27 200805437 控制器290可決定處理 及/或停止時已完轉為^ H物及/或停止，及當處理被暫停 處理及如何改_處^。又此f ’控制11 29G可決定何時改變一 動態狀態，定何時允許系“Si規則可基於處理系統之 S ^制器、290可包含：處理器292及記294。 ϊί處=292，且可用以儲存資訊及處理_ 制哭290可句人…技口使用不同的控制器配置。此外，系統控 295，其可用以將控制器謂連接至另一電 月自及/或、鹏(未圖不)。又，控制器四 及 圖示），以將控制器連接至擔萬“及/次輸出衣置(未 給系統260。 接至爐5糸統205、排放糸統210及氣體供 據本含至少—電腦可讀媒體或記憶體，以容納根 n i教不所程式化的電腦可執行指令，並以容納數 t ^則及其他此文中所述之數據。控制器290可使 々人二?，’媒體魏體之數據’以產生及/或執行電腦可執行 ^可f f ^日^、排放系統21G、氣體供給㈣及控制器 =中之-或多個電腦可執行指令之—或多個程序。此類指令可 由控制器自另一電腦、電腦可讀媒或網路連結所接收。 人儲存在電腦可讀媒體之任一者或組合上的本發明實施例包 二用.以控繼管系統205、排放系統210、氣體供給系統26〇及 才工制器290的軟體；用以驅動施行本發明用之單一 置；及用以致使系統元件中之—❹者與人類伽者及； ，互動。此類軟體可包含但不限制為：裝置驅動軟體、操作系統、 發展工具及應用軟體。此類電腦可讀媒體更包含本發明之電腦程 式產品，用以施行在施行本發明時所用之處理的全部或一部分(若 處理為離散的）。 一控制斋290可包含GUI元件(未圖示)及/或資料庫元件(未圖 示）。在其他實施例中，GUI元件及/或資料庫元件並非必須。系統 28 200805437 之使用者介面可經由網路使用，且可 # 顯示。例如，GUI元件(未圖示)可提供田、、狀怨及警報狀態的 夠：觀看狀態；產生並編輯圖；觀看^^介面，讓使用者能 檢查目前的數據;產生電子郵件盤主.的吾 >，檢視歷史數據； ;及_輯錄：&有效魏 件之處理狀態的監半導體處理系統之系統元 f步驟1002中，將複數(即非 ，處，統中欲監測之-或多個系統感;T設 為形成無線細網路的測 獲得 或多個糸統兀件接觸期間受監測系統元件中之二―之- 態的逐漸或驟然改變。在一實例中，氣 ^者之處理狀 ?'==線r氣體饋送_的=^^ 例中，包含-閥件的自動壓力控制器的處理狀 定其動作所需的時間’此動作係用以理‘壓;二：= 關r作的方向(即，閥件輸 μ 自無線感測器網路將感測器訊號擷取至， 行維護及;復、=他整處理參數、或基於歷史資料施 在-^巾’❹|]H域可代表鲜條件 積物時之自動壓力控制器的振動特徵。因此，自振動特徵 29 200805437 條件的改變，以診斷自動壓力控制器的處理狀態並 知取^自的動作。此類程序的自最後將改善維護方法。 本發斷及預測獨立系統元件的處理況態外， ϋ以: 在處理來自系統元件之處理狀態的期間診 於気雕;5r圓)的處理條件。例如，由於材料沈積物252形成 導體3 I所造成之氣體饋1^線路242的傳導改變將 的旦妓2體輸送至處理室202之前驅物(例如，Hf(OBA) 另ί杏二中因$在半導體晶® W上將會形成厚度較薄的膜層。在 之內μ，於材料沈積物及/或粒子形成在氣體排放線路227 理室观排放線路227轉導改變可相關於自處 的厚度。 的量以及形成在半導體晶圓％上之膜層 如，㈣實蘭，基板處雜件及基減理結果(例 或自處膜厚)可相關於至處理室202的前驅物輸送及/ r ί物移除。因此，基板處理條件可受到調整，以 為理結果，即，自無線感測器網路的資訊可用作 理^5^^^=椒彻柄統之基板處 欲監ί ，將複數之雜人式_器設置在處理系統中 器元件的外表面上。例如，非侵人式之感測 器/、…π感測為網路的微塵系加速計感測器及/或熱偶感測 訊號。ί 3 11G2之無器網路獲得感測器 驟然改變。ί中至》—者之處理狀態的逐漸或 線路上ί體實施例，該感測器訊號可為位於氣體 監測到的排放線路上之加速計感測器所感測及 振動^，且_理狀態可為氣體線路之内表面上之材 30 200805437 料沈，物的厚度。根據本發明之另—實施例，該感廳訊镜 位，乳體線路如自_力控_或流量調整件上之 哭 所感測及監測到的振動特徵。 τa幻 及處㉓祕將感船喊擷取至儲存 “ΐ步驟η中，使系統元件之處理狀態與處理系統之處理室 中所施行之製造處理中的基板處理條件相關聯。 條件在步驟mo中，持續、中斷或調整製造處理以回應基板處理 “ ? 1為1，本發明—貫施例之無線感測器網路結構圖。例示 f之热線感測器網路結構包含複數⑼無線感測器網路叢集 (WSNC) ’ 而此複數叢集包含 WSNC #1 12〇〇、wSNC #2 123〇 WSNC #N 1240。WSNC #1-WSNC #N 與 WSNC 伺服器常駐程式 據’此獅⑶服器常駐程式(daemon)‘ 依-人與各戶125G(例如’網際網路系之客戶端)交換 現將敘述WSNC #1 1200之子系統。子系統包含：系统元件 感产數感_);感測器訊號分析及分類 ΪΪ工莫組12% ;用以選擇感測器叢集模組之 ίΪ腕組m2據贿、_分難組121G ;及群組 明1:實施例考慮妹统元件1202上使用相同 或不=感如轉列，包含：啦光發射/魏、溫度、振動、壓 力、濕度、氣流、壓力或傾斜的感測器。測量振 感測器數據儲存、開採及分析模組1210可 模 1210互動，以收集及儲存賴及已處 手段，而衫重格式檢視及分減據及允衫魏^ 31 200805437 例中，感測器模la 1204可施行可在時域或頻 〇 ； ΐ Γίί；^ 收集到的歷史或基準g 數據與· _組感測器所 GUltiiii模組12%代表無線系統結構的使用者介面。 之組能：定^^!1圖，觀看警報數據；定義數據收集應用軟體 產生i子郵Τρί:應用产體之組態；檢視歷史數據及新數據； 二對感測器系統提供介面的功能。且施ί 的數據接著被發送至感測器數據儲存、開採 刀=、、、、10〇數據分析允許產生可儲存在模組 感測器規則。 T旧敢木 伙包含用以叢集感測器用之規覔及施行細 即。叢木的讀可手動或自動地基於來自感測器系統12〇2及感 益訊號分析模組簡的數據。叢制更進—步選擇可基於來’自模 =210及/或來自WSNCM司服器常駐程式122〇的歷史數據來加以 選擇。 群組控制器1212可用以經由WSNC伺服器常駐程式122〇將 WSNC #1 f合至其他無線感測器網路例如，WSNC椏、…ws沉 其中該接合可使用例如内部網路。WSNC伺服器常駐程式 3從」來自客戶端125G的要求、處理要求及將感測器訊 號的要未轉父給 WSNC#1 12〇〇、WSNC#2 1230、._.wsnc#n ϊ40 ί的一或多者:WSNC伺服器常駐程式1220可連續執行且 常在为影中執行。當接收到感測器訊號時，WSNC伺服器常駐程 式122〇可用以决定中繼至客戶端㈣檢視的、结果為何。客戶的 32 200805437 如應酿麵定義的來加以。 ㈣的結果域可包含感廳 & = ^ 1208及/或感測器系統12〇2 :棋:=3蕞木工具拉組 t一+ / 結果組態可在模組12〇2_1212之 ^者或所有者處產生產生更進一步的動作，及產决禮嫉ri WSNC伺服器常駐程式122〇的紝去生傳播回 呈w i f 此結果可_格式化資訊以 ，以偵測及吟斷户理可為直接數據*已處理之數據的組合， ii處錢中之漂移及故障，並採取適當的修正措施。 -技4::;僅二;:=，包例作詳細敘述，但熟知此項 嘗田瞭解.在貫質上不脫離本發明之 【圖式簡單說明】 解太ίϊΐΐίΐ是結合考慮了附圖之詳細敛述’將更完整地瞭 角午本务明及本發明的許多隨附優點。 =1為根據本發明實施例之半導體熱處理系統的等視角圖。 分戴本發财細之料體熱處理纽之―部份的部 圖3為根據本發明實施例之具有無線感測網路之自動壓护 flJ斋的示意圖。 .工

圖4A-4D顯示了根據本發明實施例之壓力控 力控制器的振動訊號。曰切I 圖5A-5D頒示了根據本發明另一實施例之壓力控制期間自自 墾力控制器的振動訊號。 圖0A-6B顯示了根據本發明實施例之自關閉閥件位置之全閥 ^開啟期間及自全開啟位置之全閥件關閉期間自自動壓力控制哭 .的振動訊號。 口口 、，圖7A-7B為根據本發明實施例之具有無線感測網路之氣體 迗線路的示意透視圖。 ·、 33 200805437 氣=的為;=另-實施例之具有無糊器網路之 ^ 10孽示明—貫施例之热線感測器網路配置的概圖。 件之處理絲Ιίί之料體絲^之系統元 之半輕峨之基板處 圖12為根據本發明一實施例之無線感测網路架構的示意圖。

【主要元件符號說明】 100 :熱處理系統 101 :外殼 102 :載具 103 .晶舟 104 :垂直式熱處理爐管(室） 104a ··爐管開口 105 ··分隔件(隔牆） 106 :入口 107 :載具傳送區 108 :座堂 109 ··感測器機構 110 :架狀儲存部 111 :載具放置部(傳送座臺) 112 :載具移轉機構 112a :舉升機構 112b :舉升臂 112c :傳送臂 113 ··開口 115 :槽口對準機構 200805437 m ··罩蓋 118 :擋件 119 :晶舟放置部(晶舟臺） 119a :第一放置部 119b :第二放置部 122 :轉移機構 123 :臂 124 :裝載區 190 :系統控制器 192:處理器 194 :記憶體 195 :接口 200 :半導體熱處理系統 202 :處理室(反應管) 203 :加熱器 202a ··内管 202b :外管 205 :爐管系統 210 :排放系統 221 :金屬歧管 223 :晶舟 224 :罩蓋 225 :熱絕緣圓柱(熱絕緣體) 226 :移動裝置 227 ··氣體排放線路 228 :自動壓力控制器 231-235 :加熱器 236-240 :電源控制器 241-243 :氣體饋送線路 35 200805437 244-246 :流量調整件 247a-247d :非侵入式感測器 248a-248b :非侵入式感測器 249a-249b ··非侵入式感測器 250a-250c ··非侵入式感測器 252 :材料沈積物 255 ·•處理氣體流 256 :振動源 260 :氣體供給系統/液體供給系統 290 :控制器 292 :處理器 294 :記憶體 295··接口 410 :振動訊號 410’ ：振動特徵 412 :時間記號 414 :時間記號 430 :振動訊號 430’ ：振動特徵 432 :時間記號 434 :時間記號 450 :振動訊號 、 450’ ：振動特徵 452 :時間記號 454 :時間記號 470 :振動訊號 470’ ：振動特徵 472 :時間記號 474··時間記號 36 200805437 510 :振動訊號 510’ ：振動特徵 512 :時間記號 514 :時間記號 530 :振動訊號 530’ ：振動特徵 • 532:時間記號 534 ••時間記號

A 550 ··振動訊號. 550’ ：振動特徵 * 552·•時間記號 454 ··時間記號 570 :振動訊號 570’ :振動特徵 572 :時間記號 574 :時間記號 610 :振動訊號 610’ ：振動特徵 612時間記號 ⑩ 614 :時間記號 . 620 :振動訊號 620’ ：振動特徵 622時間記號 624 :時間記號 902 :無線感測器網路(WSN) 904 :伺服器 906 :無線感测器 906a :感測器 906b · mote 37 200805437 1002 :步驟 1004 :步驟 1006 :步驟 1102 :步驟 1104 :步驟 1106 :步驟 1108 :步驟 1110 :步驟 1202 :系統元件 1204 :感測器訊號分析及分類模組 1206 : GUI及演算法模組 1208 :叢集工具 1210 :感測器數據儲存、開採及分析模組 1212 :群組控制器模組 1200 ： WSNC#1 1220 : WSNC伺服器常駐程式(daemon) 1230 ： WSNC #2 1240 ： WSNC #N 1240 1240 :客戶 W :半導體晶圓 38

Claims (1)

1. 200805437 申請專利範圍： 指令 ! -種電腦可讀媒體’包含用以執行下列步驟的電腦可執行 表面上；及 獲取感測器訊號，該感測器訊號在處理氣體於處理 動的期間追_處理祕之統元件之處理狀態的逐漸或驟^ 變，該感測斋汛號源自於包含複數非侵入式感測器的1感哭 網路，該複數非侵入式感測器係設置於該一或多個統忑'件 自該無線感測器網路擷取該感測器訊號以進行儲存及處理

   2. —種半導體處理系統，其内部包含非侵入式監 半導體處理系統包含·· | 測系統，此 複數系統元件，用以使處理氣體流過該半導體處理系統·， 無線感測器網路，包含設置在該複數系統元件中之一或多 之各個外表面上的複數非侵入式感測器，該感測器係用以獲^咸 測器訊號，該感測器訊號在該處理氣體於該處理系統中流^的^ 1追蹤該複數處理系統元件中之一者之處理狀態的逐漸或驟然改 系統控制器，用以自該無線感測器網路擷取該感測器訊穿， ⑩並贿及纽域測1碱。 ^3·如申請專利範圍第2項之半導體處，理系統，其中該—或夕 個系統元件係選自氣體饋送線路、氣體排放線路、自動壓力批^ 器、流量調整件、或真空泵浦，或其組合。 二 a 4·、如申請專利範圍第2項之半導體處理系統，其中該複數 铋入式感測器係用以感测振動、溫度、光發射、光吸收、壓力、 濕度、電流、壓力或傾斜中的至少一者。 39 200805437 5·如申請專利範圍第2項之半導體處理系、统，其中該複數非 侵入式感測器中的-者包含_系感測器(腦㈣。 6·如申請專利範_ 2項之半導體處理系統，其中該處理狀 態包含該一系統元件相對於基準條件的即時條件。 & 7·如申请專利範圍第2項之半導體處理系統，其中該處理狀 恶包含形成在该一系統元件之内表面上的材料沈積物的量。 a 8·，申請專利範圍第2項之半導體處理系統，其中該處理狀 悲包含氣體線路在該處理期間相對於基準傳導的傳導量。 —9·如申請專利範圍第2項之半導體處理系統，其中該複數感 測為中的至少一者包含加速計(acceler〇meter)感測器，而該感測器 訊號包含振動特徵(vibrational sigimtoe)。 10·如申請專利範圍第9項之半導體處理系統，其中該振動特 欲包含自動壓力控制器在壓力控制步驟期間的振動。 11·如申請專利範圍第10項之半導體處理系統，其中該壓力 控制步驟包含壓力增加步驟或壓力減少步驟。 '12·如申請專利範圍第9項之半導體處理系統，其中該振動特 徵包含自動壓力控制器在自關閉位置全開啟該自動壓力控制器的 步驟或自開啟位置關閉該自動壓力控制器的步驟期間的振動。 ^ 13、如申請專利範圍第9項之半導體處理系統，其中該振動特 欲包含氣體線路回應該處理氣體流動通過該氣體線路的振動。 40 200805437 Η·如申請專利範圍第2項之 路包含氣體排放祕或氣體饋送線路 =體處理系、统’其中該氣體線 15.如申請專利範圍第9項 .徵的時間長度係與形成在該—系^ 統，其中該振動特 的量成比例。 、，充凡件之内表面上之材料沈積物 ^ 16.如申請專利範圍第2項之 使該一系統元件的該處理狀能吁二地糸、、先，更包含： _相關聯；及 &狀恶_處理期間的基板處理條件 連績、中斷或調整該處理以回應該基板處理條件。 17·如申請專利範圍第2項之丰 測器中的每一者對該系統器共測1別f中該複數感 測器訊號。， 關錢別方法以揭取該感 18·如申請專利範圍第2項之半導體處理 甘 訊號在受到摘取前，至少部分受到該無線感测器、2處中^感測器 19. 如申請專利範圍帛2項之半導體處 含將該感測器訊號傳送至該系統控制器。、為其中該擷取包 20. 如申請專利範圍第2項之半導體處理 # 處理系統包含熱處理系統、侧_、單晶H f中辨導體 理系統或光阻處理系統。 *曰曰5141積系統、批次處 、21.如申請專利範圍第2項之半導體處理 式感測器之至少一者包含與無線電、處理器 '、研、=非侵入 MEMS感測器。 叹。己fe體整合的 41