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TW200533716A - Water resistant permanent antistatic thermoplastic composition - Google Patents

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TW200533716A
TW200533716A TW093139879A TW93139879A TW200533716A TW 200533716 A TW200533716 A TW 200533716A TW 093139879 A TW093139879 A TW 093139879A TW 93139879 A TW93139879 A TW 93139879A TW 200533716 A TW200533716 A TW 200533716A
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TW
Taiwan
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alkyl
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weight
parts
aryl
Prior art date
Application number
TW093139879A
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English (en)
Inventor
Jennifer Dean
Dibakar Dhara
Johannes Martinus Dina Goossens
Theodorus Lambertus Hoeks
Original Assignee
Gen Electric
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Publication date
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Description

200533716 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種防水持久抗靜電熱塑性組合物，其包 含熱塑性聚合物、抗靜電劑及聚矽氧烷-聚醚共聚物，以 使組合物持久抗靜電。 【先前技術】 以聚碳酸酯為基之組合物（聚碳酸酯在以下也 /IT術 ，fpc")己因彼等透明度、耐熱性及機械強度之優異性質而 著稱。因此，一彼等用於廣大種類之用途，例如，照明用途 如汽車頭燈透鏡、各種照明裝置之蓋及透鏡、透明膜及 片、光碟及光碟匣、辦公室設備及家庭用具所用各種組 件、及貯存與運輸等等所用之箱盒材料。 寸疋U之，在塑膠組件之光學性質或美麗外觀很重要的 :迷4 ’ PC表面之抗靜電本質—般會產生問題。靜電荷在 t合組件上之蓄積會造成環境中之灰塵及髒物被吸到聚合 表面上。因為PC係電絕緣體材料，故會在表面發生不規則 2面電荷分佈。結果會產生干擾視覺之灰塵及辦物吸引圖 案’例如，蕨類狀標記，特 用途靜電充電後。㈣疋在㈣間曝露後或在最後 /、克服以上問題’己有二種方法被提出。第一種包含 粑加外抗靜電添加劑，例如， 細杜十, 貫土柷静電塗料配方於最後 、、且件或將組件浸入塗料中。第二 t λ 法係將内抗靜電添加 d直接加至熱塑性聚合物組合 在於最後組件之表面。 w添加劑必須存 98151.doc 200533716 此等組合物所用之抗靜電添加劑可使電表面電荷消散。 最常見的是，添加劑會將水吸到聚合表面，因而形成導電 表面層。就光學品質pc應用而言，已有建議使用支鏈脂: 酸與多經基化合物之_及料鱗。特別是，縣苯基續酸 鳞鹽因其抗靜電效率而令人激賞。 烷基苯基磺酸鎮鹽作為抗靜電劑之缺點是，理想抗靜電 行為及持久性所需的濃度水準很高。實務上，其高過吾I 所想要的，因而其他所欲性質會受到不利影響。美國專利 案第6, i 94,机號（頒+ Wlllems)所揭示之經取代烧基笨基石黃 酉文鑷鹽，特別是全氟化之烷基苯基磺酸鱗鹽，是在低含量 下有效之抗靜電劑。美國中請案2GG3_65(mA(Sehc)iten)揭 =包含抗靜電劑及小量石夕油之組合物，其㈣油作為抗靜 ^，增_ ^油之增強功能為其可改進熱老化時抗靜 電特徵之持久性。然而，卻無有關曝露於水時抗靜電特性 之耐性及持久性。 本技藝尚需要-種㈣是曝露於水時之防水持久抗靜電 組合物。 【發明内容】 一般而言，本發明適用於抗靜電劑，特別是碏酸趟，^ 與聚合聚石夕氧院-聚嶋物一起加入以使聚合物防水』 抗靜電之高性能工程塑膠。 二具體例中，熱塑性組合物包含約100重量份聚碳酸 匕方知來敛酸酯，（共）聚酯碳酸酯，芳族（共）聚酯碳酸 3曰’其摻混物或包含至少一種前述聚合物之組合m 9815 l.doc 200533716 至約i 〇重量份抗靜電杳，丨· θ ，及約0.1至約1〇重量份聚矽氧烷- 聚鱗共聚物。 在另^具體例中，一插制、4 種衣造持久抗靜電物件之方法包含 將約100重量份聚碳酸舻，#二 •曰方私聚碳酸酯，（共）聚酯碳酸 S旨，芳族（共）聚S旨碳酸炉 # e反馼i曰，其摻混物或包含至少一種前述 聚合物之組合，約0 1 $的彳Λ ^ θ •至、力10重1份抗靜電劑，及約〇 · J至 約10重量份聚石夕盞p Λ, 兀-來鱗共聚物熔融混合以形成摻混 物；及將摻混物模製以形成物件。 在又-具ϋ例中，熱塑性樹脂組合物之片或膜包含約 晴量份聚碳酸醋，芳族聚碳酸醋，(共)聚龜碳酸醋，芳 族（共）聚㈣酸醋，其摻混物或包含至少—種前述聚合物 :組合；約0.1至約10重量份抗靜電劑；及約(Μ至約10重 S份聚矽氧烷-聚醚共聚物。 【實施方式】 上本發明之目的為提供_種在表面洗料仍保留優異持久 抗靜電性質之熱塑性樹脂組合物。 此處所揭示全部範圍皆為包括及可組合。 1基”或素”一詞係意指氟、氣、溴及碘。 、基 闲係思指直鏈、支鏈或環狀院基。 基"—詞係意指如前所述包含一或多個鹵素原子取 斤有氫原子達全_化取代之烧基。 ”約詞與數字結合時係意指該量可隨特定具體 "且热諳本技藝者或許必須進行一些有限實畛以a ψ η 適量。 a k貝、馱以找出最 98l5l.d〇< 200533716 熱塑性樹脂較佳為聚碳酸酯，包括芳族聚碳酸酯、聚 酯、（共）聚酯聚碳酸酯、芳族聚碳酸酯之共聚物，或其摻 合物，包括與其他熱塑性樹脂之摻混物。 聚碳酸醋包括具化學式⑴結構單元之組合物： 0 (I) —R'—Ο—II—〇— 其中大於或等於R’總數之約60%為芳族有機基而其餘額為 脂族或脂環^。R，較佳為芳族有機基，更佳為具化學式 (II)之基：一 -A1—Y1 (Π) 其中A及A2係單環二價芳基，及γΐ為分開Αι及A2、具〇、^ 或2個原子之架橋基。在一代表性具體例中，一個原子分 開A1及A2。此種類型之基之例証性實例為s— _s(〇)_ 、-s(o)2-、-c(o)-、亞甲基、環己基-亞甲基、2_[2,2，1；1_亞 雙環戊基、亞乙基、亞異丙基、亞前戊基、亞環己基、亞 環十五烷基、亞環十二烷基、亞金剛戊烷基或類似物。架 橋基Υ1可為烴基或飽和烴基如亞甲基、亞環己基或亞異丙 基。在另一具體例中，零原子分開Α1及Α2，而非共價鍵連 接Α1及Α2。 聚碳酸酯，一般而言，可用己知方法製造，包括界面反 應及熔融聚合作用。例如，聚碳酸酯可由其中只有一個原 子分開Α1及Α2之二羥基化合物之界面反應製造。如此處所 98151.doc 200533716 用，”一备基化合物”包括， 之雙酚化合物··
其中Ra及Rb各自獨立代表氫 烴基；p及q各自獨立為〇至 (IV)之基： 例如’具以下一般化學式（III) (III) 、鹵素原子較佳為溴、或單價 .之整數；及代表具化學式
Rc Re 〇 II s—
0 , II 或 —s— II I ii ·〇 ——C—，一c一
Rd 〇 (IV) 八中R及R各自代表氫原子或單價直鏈或環狀烴基，及Re 為二價烴基，氧或硫。 可由化子式（III)代表之雙盼化合物之類型之實例包括雙 (二羥基芳基）鏈烷系列如^-雙^ —羥基苯基）曱烷；m-雙 (4-羥基苯基）乙烷；2,2-雙（4-羥基苯基）丙烷（或雙酚A); 2,2-雙（3,5-二溴基-4_羥基苯基）丙烷；2,2-雙（3,5_二甲基 羥基笨基）丙烷；2,2_雙（4-羥基苯基）丁烷；2,2-雙（4-羥基 苯基）辛烷；1，1-雙（4-羥基苯基）丙烷；ι,ΐ-雙（4-羥基苯基） 丁烷，雙（4-羥基苯基）苯基曱烷；2,2-雙（4-羥基-1-甲基苯 基）丙烷；1，1-雙（4-羥基-第三丁基苯基）丙烷；2,2-雙（4-羥 基-3-溴基苯基）丙烧；1，1_雙（4-經基-苯基）癸燒；4，4-二經 基三苯基醚；4,4-二硫二酚；4,4-二羥基-3,3-二氣基二笨 98151.doc -10- 200533716 基醚；4,4-二羥基-2,5-二烴基二苯基醚；或類似物；雙（烴 基芳基）環鏈烧系列如:^卜雙（4_羥基苯基）環戊烷；丨，^雙 (4-羥基苯基）環己烷；u_雙（3,5_二甲基_4_羥基苯基）環己 k，1,1-雙（4-經基苯基）環十二烧；1，！·雙（3,5_二甲基經 基苯基）環十二烷；1，1_雙（4-羥基笨基）_3,3,5_三甲基環己 烧，或類似物，或包含至少一種前述雙酚化合物之組合。 可由化學式（ΠΙ)代表之雙酚化合物之其他實例包括以 下·其中 -0-、-S-、-S(O)-或-S(0)2，如 4,4，-二羥基二 苯基醚、4,4,二二羥基-3,3，_二甲基苯基醚或類似物；雙羥基 一芳基）硫，如4,4’-二羥基二苯硫、4,4，-二羥基_3,3，-二甲 基二笨硫，或類似物；雙（經基二芳基）亞砜、4,4，-二經基 二苯基亞颯、4,4，_二羥基-3,3，-二甲基二苯基亞颯或類似 物；雙（羥基二芳基）颯，4,4，-二羥基二苯基砜，4,4，_二羥 基-3，3、二甲基二苯碾或類似物；或包含至少一種前述雙 盼化合物之組合。 可用於聚碳酸酯縮聚作用之其他二羥基化合物可由化學 式（V)代表：
其中Rf係鹵素原子、具1至ίο個碳原子之烴基或經鹵素取 代之烴基；η為〇至4之值。鹵素較佳為溴。當n為至少2 時，Rf可為相同或锍同。可由化學式（V)代表之化合物之 實例為間苯二笋、經取代間苯二酚化合物如5-曱基間笨一 98151.doc -11 - 200533716 酚、5-乙基間苯二酚、5-丙基間苯二酚、5•丁基間苯二 酚、5-第三-丁基間苯二酚、5-戊基間苯二酚、5-異苯丙基 間苯二酚、2,4,5,6·四氟間苯二酚、2,4,5,6_四溴間苯二酚 或類似物；苯隣二酚；氫醌；取代氫醌，如孓甲基氫醌、 2-二基氫醌、2-丙基氫醌、2- 丁基氫醌、2-第三—丁基氫 醌、2-苯基氫醌、2_異丙苯基氫醌、2,3,5,6•四曱基氫醌、 2,3,5,6-四-第三丁基氫醌、2,3,5,6-四氟氫醌、2,3,5,6_四溴 氫醌、或類似物；或包含至少一種前述化合物之組合。 雙酚化合椒如以下化學式（VI)代表之2,2,2，，2，_四氫基_ 3,3,3’，3’_四曱基-ΐ，ι’_螺二_[1Ηι]-6,6,二醇也可作為二羥 基化合物使用：
典型破酸S旨前驅物包括碳醯鹵，例如，碳醯氯（光氣）、 及峻驢 >臭；雙-鹵曱酸酯，例如，二羥酚如双酚A、氫醌或 類似物之i甲酸酯，及二醇如乙二醇及新戊二醇之雙-鹵 甲酸酯’及二芳基碳酸酯，如碳酸二苯酯、碳酸二（曱苯） 酯及碳酸二（萘）酯。界面反應用之較佳碳酸酯前驅物為碳 醯氯。 支鏈聚碳酸酯，以及直鏈聚碳酸酯與支鏈聚碳酸酯之摻 混物也可使用。支鏈聚碳酸酯可在聚合作用時添加支化劑 而製備。這些支化劑可包含含有至少三官能基，其可為羥 98151.doc -12- 200533716 基、叛基、竣酸酉于、鹵甲酸基之多官能有機化合物，及包 含至少一種前述支化劑之組合。特定實例包括苯偏三酸、 苯偏三酸酑、苯偏三酸三氯、参-P-羥基苯基甲烷、靛紅-雙酚、三酚TC(1，3,5-參（(P-羥基苯基）異丙基）苯、三酚 PA(4(4(1，1-雙（p-羥基苯基）-乙基）α，α -二甲基苄基）酚）、 4-鹵基甲醯基苯二酸酑、苯均三酸、二苯甲酮四羧酸或類 似物，或包含至少一種前述支鍵劑之組合。支化劑加入量 可為約0.05至約2.0重量％，以聚碳酸酯之總重為準。製造 支鏈聚碳酸醛之支化劑及程序美國專利案第3,635,895及 4,001，184號己有說明。 全部類型之聚碳酸酯終端基都被認為可用於聚碳酸酯組 合物。普通聚碳酸酯終端基之一些實例為酚、ρ-異丙苯基 酚（PCP)及第三-丁基酚。 在一具體例中，聚碳酸酯可由羥基化合物與碳酸二酯間 之熔融縮聚反應而製造。可用於製造聚碳酸酯之碳酸二酯 之實例為碳酸二苯酯、雙（2,4-二氯基苯基）碳酸酯、雙 (2,4,6-三氣基苯基）碳酸酯、雙（2-氟基苯基）碳酸酯、雙（〇-硝基苯基）碳酸酯、碳酸二甲苯酯、碳酸m-甲苯酚酯、碳 酸二萘酯、碳酸二苯酯、碳酸二乙酯、碳酸二甲酯、碳酸 二丁酯、雙（〇-甲氧基苯基）碳酸酯（碳酸雙甲基水揚酸酯， B M S C)或類似物，或包含至少一種前述碳酸二S旨之組合。 較佳碳酸二酯為碳酸二苯酯或BMSC。 也適合的為（共）聚酯碳酸酯，又稱為（共）聚酯-聚碳酸酯 或聚酯聚碳酸酯，亦即，化學式（VII)之重複聚酯碳酸酯單 98151.doc -13- 200533716 元除外： —O-D-o-c— (VII) 其中D為聚合反應中所用二羥基化合物之二僧 丨貝I，含有前 述二羥基化合物之樹脂；重複羧酸酯單元，例如，具化學 式(VIII): ^ 0 0
II II —0-C-T-C-0-D— (VIII) - 其中D定義如上及T為芳族基如伸苯基、伸萘基、伸聯笨 基、經取代伸苯基及類似物；二價脂族-芳族煙基如烧芳 基；二或多個經由本技藝所知芳族連結連接之芳族美。 共聚酯-聚碳酸酯樹脂也可由熟諳本技術者所熟知界面 聚合技術製備（見，例如，美國專利案第3，169，121及 4,487,869號）。 二羧酸之實例包括異苯二酸、對苯二酸及具6_18個碳原 子之α，ω_脂族二酸。較佳（共）聚酯碳酸酯為含或不含BpA 之異本一酸、對苯二酸及間苯二酸。一般而言，製備直鏈 聚酯所用之任何二羧酸皆可用於製備聚酯碳酸酯樹脂。一 般而言，可使用之二羧酸包括脂族二羧酸、芳族二叛酸及 脂族芳族二羧酸。這些酸皆為熟知者且揭示於例如美國專 利案第3，1 69,121號。可使用二羧酸之混合物。較佳芳族二 羧酸為異苯二酸、對苯二酸及其混合物。特別有用三官能 \ 包g異本一酸及對本一酸之混合物，其對苯二酸與異 98151.do, -14- 200533716 苯二酸之比為在約1 〇 :$的 1至約〇·2 : 9·8之範圍内。 不使用二緩酸本身，士 了且有日守較佳使用酸之 物。這些反應衍生物之例眚 久應何生 €貫例為基^。較佳 醯基二氯及醯基二溴。（^ + ^ f I鹵為 因此，例如，不用異笨 二酸或其混合物，可用里两士 -狀斤 文對本 物。 "酞一^軋、對酞二醯氯及其混合 PC與可相容聚合物之撿、、3^ m 初之摻此物也可用於本組合物 合物之實例包括對苯二酸丁二醋、丁二浠 ：： MBS橡膠。卷他相容聚合物與pc之比可高達5。:=: 上。 〆 適當抗靜電劑包括磺酸鹽， 者： 卜化予式所代表 R1-SOq V R5 R4 (IX) 其中Q表示氮《，碟為較佳；Rl表示以4说基、LG 函烷基、c6-c40芳基、（C6_Ci2芳基）Ci_C4〇烧基或（Ci_‘姨 基）c6-Cl2芳基；及^尺^及以各自獨立表示自氫原 子、CVC20烧基、c6_Cl2芳基、（CVCi2芳基）C1_C2。烧基或 q-CM烷基C6_C12芳基所組成之族群中所選出之基◊此處 ，基-詞包括直鏈、支鏈及環狀烧基。再者，此等院基及 方基可由可遠用基所取代’如美國專利案第6,謂，術號 (頒予Saito等人）所述。 可存在為R1-之烷基之實例包括 例如 烷基、今' 98i51.doc -15- 200533716 基、丁基及乙基，及類似物。芳基、（烧基）芳基或（芳基） 烷基之貫例包括十二烷基苯基、笨基、苄基、苯乙基、甲 苯基及二甲苯基及類似物。R 1較佳為芳基。 可存在為R2至R5之烷基之實例獨自包括Ci_C2G烷基，例 如甲基、乙基、丙基及丁基，及類似物。芳基之實例包 括苯基、f基、苯乙基、甲苯基及二甲苯基及類似物。 所欲磺酸鐡鹽之實例包括十二磺酸之四烷基鱗鹽、十二 烷基苯磺酸之四烷基鎸鹽、前述之組合、及類似物。 中及短鏈碟，酸之經取代鎸鹽，如美國專利案第 號所揭示，係適當抗靜電劑之進一步實例。也可使用類似 取代之叙鹽，雖然鱗鹽為較佳。這些取代録及鱗鹽具以下 一般化學式： CX3(CX2)nY(CX2)m(CX2)pS03'
(X)
其中Q為氮或磷，X係獨立選自鹵素或氫，前提是至少一 個X為鹵素，n，m& p為〇至12之整數；及丫為單鍵或氮、 乳、硫、硒、磷或砷；R6、R7及R8各自獨立為烷基 或C6 Cq芳基，及R9為Ci_Ci8烷基。鹵素可獨立選自溴、 氯、氟及碘。鹵素較佳為氟。 較it取代〜g文鱗係氟化之績酸鐫，且由含有有機磺酸根 陰離子及有機鱗陽離子之氟碳化物所組成。此等有機磺酸 根陰離子之實例包括全氟甲烷磺酸根、全氟乙烷磺酸根、 王氟丙烷磺酸根、全氟丁烷磺酸根、全氟己烷磺酸根、全 9815 l.doc -16 - 200533716 氟庚烷磺酸根、全氟辛烷磺酸根及類似物。上述鱗陽離子 之實例包括脂族鱗如四甲基鳞、四乙基鳞、四丁基鱗、二 乙基甲基鱗、三丁基甲基鱗、三丁基乙基鱗、三辛基甲基 鱗、三甲基丁基鱗'三甲基辛基鱗、三甲基十二烷^鱗〇 三甲基十八烷基鱗、三乙基辛基鱗、及類似物；及芳族鱗 如四苯基鱗、三苯基甲基鱗、三苯基苄基鱗、三丁基苄基 鱗、及類似物。 抗靜電劑在組合物中之存在量可為總組合物之約〇·丨至 、、、勺5重1伤，〜較佳約〇 · $至約4重量份，更佳約1至約$重量 份’又更佳約1.5至約2重量份。 本組合物也可包含高達約〇· 1重量份之磺酸鹼金屬鹽， 視情況高達約〇·75重量份或高達約〇·5重量份。此等化合物 可作為抗靜電劑之增效劑。 可使用之續酸鹼金屬鹽之績酸根陰離子，其代表性實例 有具ci<36烷基之磺酸根、具C^C24烯基之磺酸根、苯磺 酸根（其可由Ci-Ci8烷基取代）、二苯磺酸根、萘基磺酸根 (其可由Cl_Cu烷基取代，如EP 1 000 969A1所揭示）。鉀鹽 為較佳。 作為聚石夕氧烷-聚醚組份，任何與熱塑性樹脂可相容之 有枝；χΚ石夕氧燒（共）聚醚皆可使用。一般而言，該共聚物可 被^述為石夕氧烷主鏈附有一或多個聚醚基。聚矽氧烷可用 一或多個氫；CrC6烷基如甲基、乙基、丙基及類似物； $基’乙烯基；&Cl-C6烷氧基取代基取代。聚矽氧烷主 鍵可為含有一或多個取代基包括氫、Cl_c6烷基、苯基、 98151.doc 17 200533716 乙烯基 物0 或Ci-C6烧氧基取代基 取代之無規或嵌 段共聚 週富聚矽氧烷 ♦ a物之非限制性實例 石夕氧垸、苯基取切氧垸之均聚物 1 院之無規共聚物，甲基及笨基取代”二 ^及，基取代魏院之支鏈共聚物，甲基及笨基取代石夕 ==聚，及類似物，可鍵結至聚發氧 之一鳊或接枝於聚矽氧燒。 <
在一具體你^中，聚矽氧烷-聚醚具以下一般化學式
Rio R12 R9 [SiO]n-Si-R14 (Xi) R11 r13 其中n為約3至测，較佳約3至約1〇〇，更佳 R9、R10、R"、R12、Rn、Rl4 各㈠“… R各自獨立為虱、Ci-c2〇
基、C6-C12芳基、（Ci_c2〇烧基）c6_Ci2芳基、 基）C1-C20：J：元基、CVC20烷氧基、或聚醚基，其中r9、Rl0 R R 、R或11為聚醚基。η大於1時，各個rio&ru 獨立選自氫、Cl-c20燒基、C6_Ci2芳基、（Ci_C2〇烧基）C6_( 芳9基、（C6-C12芳基）Cl_C2〇縣、Ci_C2〇燒氧基或聚鍵基 R9至R14之非限制性實例為曱基、乙基、丙基、丁基、 基i 2-笨基丙基、乙烯基、曱氧基、乙氧基、丙氧基、 聚氧伸乙基/聚氧伸丙基。聚醚基可為環氧乙烷或環氧 烧或其組合，且可為甲基、第三-丁基或經基封端。 98151.doc -18- 200533716 14、夕氧來醚化合物可為嵌段共聚物（亦即，R9及/或 為來醚）或接枝共聚物（亦即，R1G、R11、R12&Rn任一 或全部為聚_)。 聚之分早旦叮达 里可為約1〇〇至約10000，較佳約4〇〇至約 5_，更佳約400至約2_克/莫耳（g/mol)。 石夕氧燒主鏈通常可為經甲基、苯基、2_苯基丙基、氯及 烷氧基取代之無規或嵌段(共)聚物。 較佳者為芳族基濃度約7重量％至約8 0重量❶/。（以矽氧烷 水合物總重象準）之矽氧烷聚合物。熟諳本技藝者應了解 的疋，芳私基愈高，就折射率而言，愈可與聚合物基質相 合因而改進透明度。較佳實例包括聚醚與甲基苯基矽氧 烷、甲基（2-苯基丙基）矽氧烷及二甲基矽氧烷之嵌段及接 枝/、水物為了 I奴酸S旨組合物有良好透明度，可使用二 甲基矽氧烷與甲基苯基矽氧烷或甲基“，^苯基丙基矽氧烷 之2 · 1無規共聚物。在此石夕氧烧聚合物中，環氧乙烧及/ 或環氧丙烧可接枝於或附著於二端。一般而言，這些化合 物可根據美國專利案第6，133,370號（頒予Gutek)、 5,620,485號（頒予卩6丫）及4,690,688號（頒予八(1&1118等人）所揭 不方法，由有機氫聚矽氧烷與烯丙基烷二醇之反應合成。 其他適當聚矽氧烷-聚醚具以下一般化學式：
[SiO]^-Si-R16 I I R24 R26
R17 R19 R21
R15—Si——[Si〇】x——[Si〇]Y
I I I R18 R20 R22 98151.doc -19· (XII) 200533716 其中又及2可獨自0至50 ; y可自1至5〇 ; Ri5、Rn R18、Rl9、r20、r21 R1
R 22
R 23 、R24、R25及R26係獨立為 氫，q-Ca院基、c6_Ci2芳基、（Ci_c2〇烧基）C6_CQ芳基γ (=-c12芳基）Cl_c20烷基、Ci_C2〇烷氧基、或聚醚基2中
R R16、R17、r18、r19
R 20
R21、R 22
R 23
R 24 及R至少一個為聚醚基。在一具體例中，及/或r22為 聚醚基。在另一具體例中，尺^至尺以、R23及尺25至汉26為甲 基。在一具體例中，R15、r16、r17、尺18
R
R R21 % R22 > P23 Λ p24 p25 TL 〇26 s , ^ 、 R R及汉至少一個為（(VC20烷基）cvCi2 方基或（C^Cu芳基）c^Czo烷基。較佳聚醚基包括環氧乙 烧；環氧丙烧；環氧乙烧與環氧丙烧之組合；及類似物。 根據本發明之熱塑性組合物也可包含各種可選用組份， 包括UV吸收劑、碟型穩定劑作為氧化抑制劑、位阻盼型 氧化抑制劑、環氧型穩定劑及硫型穩定劑及類似物。 匕PC樹脂組合物中常用之任何紫外線吸收劑可用作為上述 糸卜線及收d。例如，可使用苯並三σ坐型紫外線吸收劑、 二苯甲酮型紫外線吸收劑或水楊酸酯型紫外線吸收劑及類 似物本並二唾型紫外線吸收劑包括2-(2，-經基-5，-甲基苯 基）苯並三唑、2_(2，-羥基-5’-第三丁基苯基）苯並三唑、2_ (2、羥基-5’-辛基苯基）並三唑、2-(2、羥基_3，，5，-二_第三丁 基苯基）苯並三唑、2_(2，_羥基-3，，5’_二-戊基苯基）苯並三 唑、2-(2，-羥基-3’-十二烷基-5’-二-戊基苯基）苯並三唑、2-(2美工基-3，5 - 一 _異丙苯基）苯並三峻、及2,2’_亞甲基雙[4_ (1，1，3,3-四甲綦丁基）_6-(2Η-苯並三唑-2-基）酚]及類似物。 98151.doc -20- 200533716 例如，苯並三唑型紫外線吸收劑係由美國氰胺公司以 UV5411出售。再者，二苯甲酮型紫外線吸收劑係由美國 氰胺公司以UV 5 3 1出售。水揚酸酯型紫外線吸收劑包括水 楊酸本S旨、水楊酸p -第三丁基苯酯及水楊酸p ·辛基苯g旨， 及類似物。 磷型穩定劑之實例包含亞磷酸三苯酯、亞磷酸二苯基壬 酯、亞磷酸參（2,4-二-第三丁基苯酯）、亞磷酸三壬基苯 酯、亞磷酸二苯基異辛酯、亞磷酸2,2，-亞甲基雙（4,6雙二-第三丁基苯基〇辛酯、亞磷酸二苯基異癸酯、亞磷酸二苯 基單（三癸酯）、亞磷酸2,2,；-亞乙基雙（4,6_二-第三丁基 酚）、亞磷酸苯基二異癸基、亞磷酸苯基二（三癸酯）、亞磷 酸參（2-乙基己酯）、亞磷酸參（異癸酯）、亞填酸參（三癸 酯）、氫亞磷酸二丁酯、三硫亞磷酸三月桂酯、二亞磷酸 肆（2,4-二-第三丁基苯基）4,4，-聯苯、亞磷酸4,4，-亞異丙基 二酚烷酯（C^-C^)、亞磷酸4,4’-亞丁基雙（3 -甲基-6-第三-丁基苯基）二-十三烷酯、二亞磷酸雙（2,4-二-第三-丁基笨 基）異戊四醇、二亞磷酸雙（2,6_二-第三-丁基-4甲基苯基） 異戊四醇、二亞磷酸雙（壬基苯基）異戊四醇、二亞磷酸二 十八烷酯、二亞磷酸苯基雙酚A異戊四醇、二亞磷酸四苯 基二丙二醇、1，1，3_參（2-甲基-4-二-三癸基亞磷酸酯-5-第 二-丁基）丁烧及 3,4,5,6-二苯並-1，2-〇\&9]1〇80]1311-2-氧化物 及類似物。市售產物包括Adekastab PEP-36、PEP-24、 卩£卩_4(!!及？£?-8(全部是八5 311丨〇6111<:&工業公司製造之商 標）、Irgafos 168 (Ciba特殊化學品公司製造之商標）、 98151.doc 21 200533716
Sandostab P-EPQ (Clariant 公司製造之商標）、Chelex L (Sakai化學工業公司製造之商標）、3P2S (Ihara化學工業公 司製造之商標）、Mark 329K及Mark P(二者皆為Asahi Denka工業公司製造之商標）、及West〇n 618 (Sanko化學工 業公司製造之商標）。 位阻g分型氧化抑制劑之實例包括丙酸正-十八烷基_3_ (3’，5、二-第三丁基_羥基苯基）醋、2,6_二-第三-丁基_4羥基 甲基酚、2,2’-亞甲基雙（4-甲基第三_丁基酚）及丙酸異戊 四酉子-肆[3-(3^-二-第三丁基羥基苯酯）及類似物。 環氧型穩定劑之實例包括環氧化大豆油、環氧化亞麻子 油苯基縮水甘油醚、烯丙基縮水甘油醚及羧酸3,4_環氧 基環己基甲基_3，，4，_環氧基環己烷及類似物。 /、 $用添加劑可在樹脂混合及成形時以對物理性質無 不利影響所需之量加至全部樹脂組合物中。例如，著色劑 (s色料或染料）、加強劑（玻璃纖維、碳纖維等等）、填料（碳 :氧匕夕氧化鈦等等）、耐熱劑、氧化抑制劑、耐候 '，潤’月劑、釋模劑、增塑劑、阻燃劑及流體性增強劑、 及類似物皆4 λ —., ^ 了加入。再者，可加入染料以改善藍色方向之 黄度。 於衣備本組合物之方法，可使用標準設備之習知 ^無任何特職制，例如，使料量溶魏融混合。 °之邊組份可以任何順序混合。擠壓機、班伯利、3 機、鈕爲如< ^ ^ % 1日刊混 :之=捏和機及類似物，批式或連續式操作皆為適當 98l5l.doc -22- 200533716 x本發明之組合物可利用普通熱塑性方法，如膜及片擠 壓^射出成形、氣體輔助射出成形、擠壓成形、壓縮成形 ^吹塑成形轉變成物件。膜及片擠壓方法可包括而不限於 熔融澆鑄、吹膜擠壓及軋光。共擠壓及膠合方法可用於形 成複合多層膜及片。可在單或多層基材上施加單或多層之 塗層以賦予額外性質如耐刮傷性、耐紫外光性、美觀等 等。塗層可用標準塗敷技術，如輥塗、噴塗、浸塗、刷涂 或流：施塗。本發明之膜及片也可藉將組合物在適當溶劑 中之&液或_液錢於基材帶或輥上，接著移除溶 製備。 定向膜可㈣吹膜擠壓或利用習知拉伸技術在熱變形溫 度附近拉伸經澆鑄或軋光之膜而製備。例如，可利用徑向 拉伸縮放儀(Pantograph)進行多軸同時拉伸；可利用”向 拉伸縮放儀同時或依序在平面x_y向拉伸。也可利用具有 依序单軸拉伸段之設備達成單軸及雙轴拉伸，如裝配供機 "直向拉伸之差速減及供橫向拉伸之㈣機段之機器。 本發明之組合物可轉變成包含具有第一面及第二面之第 一片及具有第一面及第二面第— 弟一片之多層片；其中第一 片包含熱塑性聚合物及其中 片之弟一面配置在有許多 肋條之弟一面，並中繁-y Ay人上 — /、弟一片包含熱塑性聚合物，其中第二 片之第一面配置在有許多肋條 „ ^ 77悚之弟—面，及其中有許多肋 條之弟一面配置在有許多肋條之第二面。 上述膜及片可經由成形及模製方法，包括，但不限於孰 真空成形、加麼成形、射出成形及塵縮模塑進-步 98151.doc >23- 200533716 熱塑性加工變成異形物件。多層異形物件也可藉熱塑性樹 脂射出成形於單或多層膜或片基材上而形成，如下述： 1·:用絹網印刷或轉移染料，提供表面具有視情況一或 夕種顏色之單或多層熱塑性基材。 2.將基材順合模具㈣構像，如將基材形成及修整成三 維形狀並將基材裝入具有與基材三維形狀配合之表面 之模具中。
將熱塑性樹脂注入基材後面之模腔中，以⑴製造單片 永久黏各三維產物或（11)將圖案或美觀效果自經印刷 之基材轉移至經射出之樹脂並移除經印刷之基材，因 此賦予經模製之樹脂美觀效果。 熟諳本技藝者也將了解，可在以上物件進一步施加普$ 硬化及表面修改方法，包括及不限於熱固、質地改變、屬 紋、電暈處理、火焰處理、電漿處理及真空沉積，以改^ 表面外貌並賦予物件額外功能。 $
因此，本發明之另一具體例係有關自上述組合物製備之 物件、片及膜。根據本發明之熱塑性組合物之較佳應用為 在車頭燈之透鏡或經播壓之片。 … 此處所引述全部專利案、專利中請案及其他資料皆以其 全部以參考方式併於此。 /、 實例 所用PC係GE塑膠公司製造，商標名LEXAN pci45。银 例中所用三種抗靜電添加劑包括全氟丁烷磺酸四丁基鱗= (CJdCV+PCC4—H9)4)，自杜邦公司購得，商標名做 98151.doc -24- 200533716 CF3S03~+P(C4H9)4)係根據美國專利案第6，194,497號所揭示 程序合成；及（C4H9)4N+-N(S02CF3)2係自3M購得，商標名 L-18364 。 聚矽氧-聚醚共聚物之諸細節列表於表1。聚矽氧-聚醚 共聚物SF11 88A及SF1288係自通用電聚矽氧烷公司購得。 為比較，聚（苯基甲基-二甲基矽氧烷）TSF 437 (Toshiba聚 矽氧烷公司製造）、及聚（二甲基矽氧烷）SF 96-5(自通用電 聚矽氧烷公司購得），二者皆不含聚醚官能度，皆包括在 内。 一 表1.諸實例中所用聚（二甲基矽氧烷）-聚醚共聚物之諸細節
Me Me Me Me ^-Si-O-Si-O---Si-0 -Si-R! Me Me R2 Μθ -1 x L y Ri Ri 聚醚組合物，MW ’onset， °c x:y SF1188A Me EO/PO 50% EO? 1700 g/mole 228 20:3 SF1288 Me EO 100% EO, 550 g/mole 196 15:5 SF96-5 Me - - 132 8:0 TSF 437 Me Ph - 164 * BYK LP G 6234 EO - 100% EO, 1100 g/mole 361 * Aldrich 48,257-9 Me EO/PO 50% EO, 1 364 * TSF 4452 Me EO/PO 50% EO? 1500 g/mole 228 40:4 PEO - - 50% EO, 1700 g/mol 無 無 98151.doc -25- 1 未知 EO :聚（環氧乙_烷）；PO :聚（環氧丙烷）；Me :甲基；Ph :苯 200533716 基。 PEO係具Mw 1700 g/mol之均聚物及含有50%E〇單元。
Tonset係熱降發生温度，藉熱重量分析方法以1〇艺/分測量。 典型聚碳酸醋添加劑，如釋模劑異戊四醇四硬脂酸酉旨 (0.3重量％，商標名PETS G，Faci出品）；熱穩定劑亞填酸 爹（2,4-二-第三丁基苯酯χ0 036重量％ ;商標名irgaf〇s 16 8 ’ a巴特殊化學品公司出品）及位阻紛型之氧化抑制劑 丙酸十八烷基-3(3’，5，-二_第三-丁基-4，-羥基苯酯（0〇2重量 % ;商標名Iqafos 1076，汽巴特殊化學品公司出品），每 一調配物均有加入。在295 °C利用射出速度15及35秒，將 母5周配物射出成形為板狀物。在成形後，將用於靜電衰 減測量之板狀物以鋁箔包繞以保護表面直至測量為止。 在全部實例中，將各個組份（以表2總組合物之重量％表 示）加至聚碳酸酯樹脂中。然後，利用雙螺旋擠壓機，設 定在300°C、300 rpm及25 kg/心下，將丸粒擠出。將如此 所得丸粒在模塑温度295它及模具温度9〇t下射出成形。 將如此所得物件用於靜電衰減試驗。利用Honestometer 型S5109 (Shishido靜電公司）以7〇χ6〇χ2 55 mm之平板射出 成形樣本測量靜電衰減半時值。充電電壓為 ^。結果 :靜電㈣半時值（tl/2;秒為單位），亦即，所得電荷消散 -半之時間呈現。在測量初成形樣本之靜電衰減時間後， 將板狀物以流動去離子水（DI)洗滌，每面。秒，然後令其 在23 C及50/〇相對濕度下乾燥一天。如以上測量經洗務樣 本之靜電衰減時間。對實例8 (5重量％SF118A及〇·75重量 98151.doc -26- 200533716 %FC-1調配物）進行6天之長期泡水。靜電衰減試驗結果提 供於表2。 表2.各種組合物之靜衰減值 實例 聚矽氧烷-聚醚共聚物 鹽 wt% 共聚物 Wt% 鹽 tl/2 (δ) 初成形 tl/2 (δ) 洗滌後 Ex.l SF1188A FC-1 2 0.75 28 279 Ex.2** SF1188A FC-1 2 0.75 65 292 Ex.3*** SF1188A FC-1 2 0.75 380 無限 Ex.4*** SF1188A FC-1 5 0.75 115 220 Ex.5 SF1188A FC-1 3 0.75 86 96 Ex.6 SF1188A 一 FC-1 4 0.75 37 35 Ex.7 SF1188A FC-1 5 0.75 44 43 Ex.8 SF1188A FC-1 5 0.75 47 43* Ex.9 SF1288 FC-1 2 0.75 29 1250 Ex. 10 BYK 6234 FC-1 2 0.75 194 319 Ex. 11 SF1188A (C4H9)4N+"N(S〇2CF3)2 2 0.75 131 164 Ex.12 SF1188A cf3so3-+p(c4h9)4 2 0.75 246 346 Ex. 13 Aldrich 48,257-9 FC-1 2 0.75 81 369 Ex. 14 TSF 4452 FC-1 2 0.75 75 155 C. Ex.l SF1188A 無 2 0 無限 無限 C. Ex 2 無 FC-1 - 0.75 30 無限 C. Ex.3 SF96-5 FC-1 2 0.75 無限 無限 C. Ex.4 TSF 437 FC-1 2 0.75 12.7 無限 C. Ex.5 無 CF3S03-+P(C4H9)4 - 0.75 無限 無限 C. Ex.4 無 - 0.75 無限 無限 C. Ex 6 SF96-5/PEO 混 合物1:1 FC-1 2 0.75 40 無限 C.Ex7 PEG Μη 1000 無 1 - 無限 無限 C.Ex8 PEG Μη 200 無 2.5 - 無限 無限 98151.doc -27- 200533716 C.Ex9 PEG Mn 1000 FC-1 1 0。75 2.3 無限 C. Ex 10 PEG Mn 200 FC-1 1 0.75 40 無限 C. Ex 11 PEG Mn 2000 FC-1 4.1 0.75 無限 無限 C. Ex 12 TSF 437/PEO 混 合物1:1 FC-1 2 0.75 123 無限 C. Ex 13 PEO FC-1 1.5 0.75 63 無限 C. Ex 14 PEO FC-1 5 0.75 108 無限 *水洗滌6天後 **重複樣本
***使用經由融酯基轉移作用所得之PC 結果清楚顯示，抗靜電鹽結合聚矽氧烷-聚醚共聚物在 水洗滌後可維持抗靜電特性。令人意外的是，己發現製造 聚碳酸酯之方法（熔融或界面）會影響獲得所欲結果（實例 1，2,3及4)所需聚矽氧烷-聚醚共聚物之最適量。實例3顯 示，若使用熔融PC，其效果唯有在高濃度聚矽氧烷-聚醚 共聚物下始可測量。 也可得以下結論，即：各別聚醚與聚矽氧烷之混合物不 會顯示所欲效果，唯有共聚物才會，如實例1-14及比較實 例6及12(C.Ex.6及12)所示。 此處所揭示化合物、組合物及方法可作其他變化而不偏 離本發明之基本特徵。此處明確所示本發明之諸具體例僅 係例證性，且不對彼等範圍有所限制，除隨附申請專利範 圍所界定外。 98151.doc -28-

Claims (1)

  1. 200533716 十、申請專利範圍： 1 · 一種熱塑性組合物，其包含： 匕約_重量份聚碳酸酉旨、芳族聚碳酸醋、（共）聚醋破酸 酯、芳族（共）聚酯碳酸酯、其摻混物或包含至少一種前 述聚合物之組合； 約0·1至約10重量份抗靜電劑；及 、、勺〇·ι至約ίο重量份聚矽氧烷-聚醚共聚物。 2·如明求項1之組合物，其中抗靜電劑係具以下化學式之 續酸鹽 R1
    R3 R4 :中Q為氮或磷；烷基、Ci_C4。鹵烷基、C6_C4〇 方基、（c6-c12芳基）Cl-C40烧基或（c丨_C4〇烧基）C6_C丨2芳 ! ; R2、R3、R4、W各自獨立為氫、Ci-C2。烷基、C6_Ci2 方基、（C6-C12芳基）C丨-C20烧基、或（Ci_c2〇院基）c6_Ci2芳 基。 3.如請求項i之組合物，其中抗靜電劑係具以下化學式之 項酸鹽 CX3(CX2)nY(cx2)m(CX2)pS〇3
    /、中Q為氮或石粦，X係獨立選自鹵素或氫，但前提是至少 一個X為氫；n、m及p為0至12之整數；γ為單鍵或氮、 98151.doc 200533716 氧、硫、硒、磷或砷；R6、R7及R8各自獨立為CVCs烷基 或C6-C12芳基；及烷基。 4. 如請求項1之組合物，其中聚矽氧烷-聚醚共聚物包含以 下結構： R10 R12 9 I I 14 R9——[SiO]n—Si—R14 I I R11 R13 其中 n為約 3 至約 5000 ; R9、R10、R11、R12、R13、R14各 ·- 自獨立為氫、CVC20烷基、C6-C12芳基、（CVC20烷基）c6-c12 芳基、（C6-C12芳基）CVC20烷基、CVC20烷氧基，或聚醚 基，其中至少R9、R1G、R11、R12、R13或R14之一為聚醚 基。 5. 如請求項1之組合物，其中聚矽氧烷-聚醚共聚物為 R17 R19 R21 R23 R25 15 I I I I I 16 III II j^18 j^20 R22 R24 j^26 其中X及z獨立為0至約50 ; y為約1至50 ; R15、R16、 R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25及 R26各自 獨立為氫、CVC20烷基、C6-C12芳基、（Ci-Cw烷基）c6-c12* 基、（c6-c12芳基）CVC20烷基、Ci-CM烷氧基，或聚醚 基，其中至少 R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、 R22、R23、R24、R25及 R26之一為聚醚基。 98151.doc 200533716 6. 如請求項1之組合物，其進一步包含磺酸鹼金屬鹽。 7. 一種製造持久抗靜電物件之方法，其包含： 將約100重量份聚碳酸酯、芳族聚碳酸酯、（共）聚酯碳 Sg、芳敎（共）聚酯碳酸酯、其摻混物或包含至少一種 前述聚合物之組合；約〇.丨至約1〇重量份抗靜電劑；及約 0.1至約10重量份聚矽氧烷_聚醚共聚物熔融混合以形成 摻混物；及 將摻混物模塑成一物件。 8 · 一種熱塑十生肩'脂組合物之片及膜，其包含： 約100重量份聚碳酸酯、芳族聚碳酸酯、⑷聚酯碳酸 酯、芳族(共)聚顆碳酸醋、其摻混物或包含至少一種前 述聚合物之組合； 約0.1至約10重量份抗磺酸鹽靜電劑；及 約0.1至約1〇重量份聚矽氧烷· 丘 9. -種自如請求項8之片及膜製成之物；：物。 10. 一種自如請求項1之組合物製得之物件。 98151.doc 200533716 七、指定代表圖·· (一) 本案指定代表圖為：（無）。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無）一 98151.doc
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070203271A1 (en) * 2006-01-27 2007-08-30 Alms Gregory R Coating process for thermoplastics
JP5592046B2 (ja) * 2006-05-16 2014-09-17 帝人株式会社 帯電防止性に優れた難燃性ポリカーボネート樹脂組成物
JP5592047B2 (ja) * 2006-05-30 2014-09-17 帝人株式会社 帯電防止性に優れた難燃性ポリカーボネート樹脂組成物
KR100955995B1 (ko) 2006-12-28 2010-05-04 주식회사 삼양사 대전방지용 수지 조성물
CN101434743B (zh) * 2007-11-14 2013-08-14 帝人化成株式会社 抗静电性优异的阻燃性聚碳酸酯树脂组合物
US9570211B2 (en) * 2008-08-27 2017-02-14 Covestro Llc Transparent thermoplastic composition with improved electrical conductivity in the melt
GB201300539D0 (en) * 2013-01-11 2013-02-27 Norner As Polycarbonates
JP6026946B2 (ja) * 2013-04-19 2016-11-16 出光興産株式会社 ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体
CN104312128B (zh) * 2014-10-31 2016-07-06 苏州润佳工程塑料股份有限公司 一种抗静电pc/abs合金材料及其制备方法
WO2017076856A1 (en) * 2015-11-05 2017-05-11 Basf Se Process for preparing polyalkylene ether-modified polysiloxanes and use thereof
BR112018008470A2 (pt) * 2015-11-05 2018-11-06 Basf Se processo para preparar polissiloxanos, e, usos de polidimetilsiloxanos lineares e de polissiloxanos.
BR112019002171B1 (pt) 2016-08-02 2023-01-17 Fitesa Simpsonville, Inc. Sistema e processo para preparar um tecido não tecido de ácido poliláctico (pla) por fiação contínua
US11441251B2 (en) 2016-08-16 2022-09-13 Fitesa Germany Gmbh Nonwoven fabrics comprising polylactic acid having improved strength and toughness
CN114630859A (zh) * 2019-10-31 2022-06-14 帝人株式会社 聚碳酸酯树脂组合物及其成型体

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT595468A (zh) 1957-08-22
US3635895A (en) 1965-09-01 1972-01-18 Gen Electric Process for preparing thermoplastic polycarbonates
US4001184A (en) 1975-03-31 1977-01-04 General Electric Company Process for preparing a branched polycarbonate
DE2854136A1 (de) 1977-12-28 1979-07-12 Gen Electric Zusammensetzung aus einem aromatischen polycarbonat und einem siloxy- oxyalkylen-blockcopolymeren
US4397973A (en) * 1977-12-28 1983-08-09 General Electric Company Composition comprising an aromatic polycarbonate and a siloxy-oxyalkylene block copolymer
DE2931172A1 (de) 1979-08-01 1981-02-19 Bayer Ag Verwendung von alkali- und erdalkalisalzen alkylsubstituierter aromatischer sulfonsaeuren, phosphonsaeuren und sauerer phosphonsaeureester als interne antistatika fuer polycarbonat, insbesondere fuer polycarbonatfolien
US4487896A (en) 1983-09-02 1984-12-11 General Electric Company Copolyester-carbonate compositions exhibiting improved processability
NO168054C (no) 1985-03-29 1992-01-08 Dow Corning Polysiloksan-polyoksyalkylen-kopolymer som antiskummiddeltil diesel og flybensin.
US4943380A (en) 1987-09-18 1990-07-24 Takemoto Yushi Kabushiki Kaisha Antistatic resin composition with transparency containing phosphonium sulphonate
US5187214A (en) 1988-11-08 1993-02-16 Ppg Industries, Inc. Quaternary ammonium antistatic polymer compositions
US4914150A (en) 1988-12-02 1990-04-03 The Dow Chemical Company Process for preparing anti-static polyisocyanate-based polymers via incorporating a polyalkylene carbonate-salt mixture
JPH068386B2 (ja) 1988-12-26 1994-02-02 出光石油化学株式会社 ポリカーボネート系樹脂組成物
US5071884A (en) 1990-06-25 1991-12-10 The Dow Chemical Company Antistatic polyolefin foams and films and method of making the foam and antistatic composition
DE4213321A1 (de) 1992-04-23 1993-10-28 Bayer Ag Thermostabilisierung von aromatischen Polycarbonaten
DE19514770A1 (de) 1995-04-21 1996-10-24 Bayer Ag Kurzglasfaserverstärkte Polycarbonate
US5620485A (en) 1995-12-15 1997-04-15 Dow Corning Corporation Silicone foam control agents for hydrocarbon liquids
DE19618741A1 (de) * 1996-05-09 1997-11-13 Basf Ag Flammwidrige thermoplastische Formmassen mit verbessertem Verarbeitungsverhalten
US6040053A (en) 1996-07-19 2000-03-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties
US6194497B1 (en) * 1997-07-23 2001-02-27 General Electric Company Anti-static resin composition containing fluorinated phosphonium sulfonates
EP1003815A1 (en) 1997-08-12 2000-05-31 E.I. Du Pont De Nemours And Company Reduced volatility precursors to anti-fog agents
JP3969609B2 (ja) 1997-09-17 2007-09-05 Ｈｏｙａ株式会社 プラスチックレンズ用注型成形材料およびプラスチックレンズの製造方法
JPH11106635A (ja) 1997-09-30 1999-04-20 Ge Plastics Japan Ltd ポリカーボネート樹脂組成物およびその成形品
JPH11335537A (ja) * 1998-05-26 1999-12-07 Dainippon Ink & Chem Inc 帯電防止剤及び帯電防止性樹脂組成物
JP2000204193A (ja) 1998-11-12 2000-07-25 Takemoto Oil & Fat Co Ltd 合成高分子材料用帯電防止剤及び合成高分子材料に帯電防止性を付与する方法
US6133370A (en) 1999-02-22 2000-10-17 Dow Corning Corporation Silicone polyethers with arylalkyl groups
US6372829B1 (en) 1999-10-06 2002-04-16 3M Innovative Properties Company Antistatic composition
US6592988B1 (en) 1999-12-29 2003-07-15 3M Innovative Properties Company Water-and oil-repellent, antistatic composition
EP1256600A1 (en) 2001-05-10 2002-11-13 General Electric Company Thermoplastic composition comprising an antistatic activity enhancer and use of such an enhancer
JP3865295B2 (ja) 2001-10-11 2007-01-10 旭化成ケミカルズ株式会社 難燃性樹脂組成物
US6740413B2 (en) 2001-11-05 2004-05-25 3M Innovative Properties Company Antistatic compositions
JP2004196950A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Mitsubishi Engineering Plastics Corp 光ディスク基板

Also Published As

Publication number Publication date
EP1702001A1 (en) 2006-09-20
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CN1902274A (zh) 2007-01-24

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