TARIFNAME YUKSEK SEçIciLIGE SAHIP LOW-E KAPLAMALI MIMARI CAM TEK NIK ALAN Bulus, gün isigi geçirgen ve isi yalitim cami olarak kullanilan, isil islem dayanimi yüksek ve içeriginde kizilötesi yansitici katmanlar olan bir düsük yayinimli (low-e) kaplama ile ilgilidir. ONCEKI TEKNIK Camlarin optik özelliklerini farklilastiran etmenlerden biri cam yüzeyine yapilan kaplama uygulamalaridir. Kaplama uygulamalarindan biri de vakum ortaminda manyetik alan destekli siçratma yöntemidir. Bu yöntem low-e özelligine sahip mimari ve otomotiv sektöründe kullanilabilecek kaplamali camlarin üretiminde sik basvurulan bir yöntemdir. Bahsedilen yöntemle kaplanan camlarin görünür, yakin kizilötesi ve kizilötesi bölgedeki geçirgenlik ve yansitma degerleri hedeflenen seviyelerde elde edilebilmektedir. Görünür bölge geçirgenlik ve yansitma degerleri disinda, mimari ve otomotiv sektörlerinde kullanilabilecek kaplamali camlarda toplam günes enerjisi geçirgenligi (g) degeri de önemli bir parametredir. Kaplamalar, toplam günes enerjisi geçirgenligi (g) degerinin yüksek olmasi sayesinde soguk iklim cografyalarinda isinma yüklerinin azaltilmasi için tercih edilebilir. Kaplamalarin toplam günes enerjisi geçirgenligi (g) degerleri de içerdigi Ag katmani sayisi, kullanilan çekirdeklestirici katman türü ve katmanlarin parametrik optimizasyonlari ile hedeflenen seviyelerde tutulabilmektedir. low-e kaplama ile ilgildir. Kaplama, her biri gümüsü içeren üç kizilötesi yansima filmi bölgesini içerir. Bazi durumlarda kaplama, bir lamine cam olarak da kullanilmaktadir. Bulus konusu kaplamada gümüs içeren katmanlarin toplam kalinligi en fazla 300 A°"dir. Üçüncü gümüs içeren kizilötesi katman ikinci kizilötesi katmandan daha incedir. Birinci gümüs içeren kizilötesi katman kalinligi da üçüncü kizilötesi katmandan daha azdir. BULUSUN KISA AÇIKLAMASI Mevcut bulus ilgili teknik alana yeni avantajlar getirmek üzere, low-e kaplamali cam ile ilgilidir. Bulusun bir amaci, cam tarafi ve kaplama tarafindan bakildiginda her ikisinde de nötral görünüm saglayan low-e kaplama ortaya koymaktir. Bulusun bir diger amaci, tüm bakis açilarinda cam tarafi yansima a* degerinin negatif bölgede kaldigi bir low-e kaplama ortaya koymaktir. Bulusun bir diger amaci, isil isleme dayanikli bir low-e kaplamali cam ortaya koymaktir. Yukarida bahsedilen ve asagidaki detayli anlatimdan ortaya çikacak tüm amaçlari gerçeklestirmek üzere mevcut bulus, otomotiv ve mimari camlarda içeriden ve disaridan bakista nötr görünüm saglamak üzere, bir cam üzerine uygulanan bir low-e kaplamadir. Buna göre söz konusu kaplamali renksiz camin özelligi, isil islem sonrasi görünür bölge geçirgenlik degerinin % 60-75 arasinda oldugu, günes isigi geçirgenlik degerinin 0/0 23-35 arasinda oldugu low-e kaplamali camdan disari dogru sirasiyla; - SIxNy, SIAINx. SIAIOxNy, SiOxNy, ZnSnOx, TIOx. TINx, ZrNx, NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAIOx, ZnOx" den en az birini içeren birinci dielektrik yapi; - Bahsedilen birinci dielektrik yapinin üzerinde konumlanan birinci fonksiyonel katman, - Bahsedilen birinci fonksiyonel katmanin üzerinde konumlanan NiCr, NiCrOX, TiOx, ZnAIOx' den en az birini içeren bir birinci bariyer katman, - Bahsedilen birinci bariyer katman üzerinde konumlanan SIXNyi SiAINx, SiAIOxNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx, NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAIOX, ZnOx' den en az birini içeren ikinci dielektrik yapi, - Bahsedilen ikinci dielektrik yapinin üzerinde konumlanan ikinci fonksiyonel katman, - Bahsedilen ikinci fonksiyonel katmanin üzerinde konumlanan ve NiCr, NiCrOX, TiOx, ZnAIOx' den en az birini içeren ikinci bariyer katman, - Bahsedilen ikinci bariyer katman üzerinde konumlanan SixNy, SiAINx, SiAIOxNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx, NiCr, NiCrOX, TiOx, ZnSnOx, ZnAIOx, ZnOx' den en az birini içeren üçüncü dielektrik yapi, - Bahsedilen üçüncü dielektrik yapinin üzerinde konumlanan üçüncü fonksiyonel katman, - Bahsedilen üçüncü fonksiyonel katmanin üzerinde konumlanan ve NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOX' den en az birini içeren üçüncü bariyer katman, - Bahsedilen üçüncü bariyer katmanin üzerinde konumlanan ve SixNy, SiAINx, SiAIOxNy, SiOX, SiOxNy_ ZnSnOX, ZnAIOX, TiOx, TiNx, ZrNx katmanlarindan en az birini veya birkaçini içeren üst dielektrik yapi içermesidir. Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, birinci dielektrik yapinin; cam ile temas eden ve SixNy, SiAINx, SiAIOxNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren bir birinci dielektrik katman içermesidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, birinci dielektrik yapinin; SixNy, SiAINx, SiAIOxNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx"den en az birini içeren bir ikinci Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, birinci dielektrik yapi, ikinci dielektrik yapi ve üçüncü dielektrik yapidan en az birinin NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAIOx, ZnOx' den en az birini içeren bir çekirdeklestirici katman içermesidir. Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, bahsedilen çekirdeklestirici katmanin birinci fonksiyonel katman, ikinci fonksiyonel katman ve üçüncü fonksiyonel katmandan en az birine temas ediyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, bahsedilen çekirdeklestirici katmanin çoklu sayida olup, birinci fonksiyonel katman, ikinci fonksiyonel katman ve üçüncü fonksiyonel katmandan her birine temas ediyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, birinci fonksiyonel katmana, ikinci fonksiyonel katmana ve üçüncü fonksiyonel katmana temas eden çekirdeklestirici katmanlarin her birinin ayni malzemeleri içeriyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, birinci bariyer katmanin, ikinci bariyer katmanin ve üçüncü bariyer katmanin her birinin oksit formda ve ayni malzemeden imal edilmis olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, ikinci dielektrik yapi, üçüncü dielektrik yapi ve üst dielektrik yapinin oksit formda en az bir dielektrik katman içeriyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, üst dielektrik yapinin oksit formda en az iki dielektrik katman içeriyor olmasidir. Bulusun tercih edilen bir yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla; - birinci dielektrik katman kalinliginin 15 nm ile 50 nm arasinda olmasi; -ikinci dielektrik katman kalinliginin 1,3 nm ile 4,5 nm arasinda olmasi; - birinci çekirdeklestirici katman kalinliginin 10 nm ile 30 nm arasinda olmasi; - birinci fonksiyonel katman kalinliginin 5 nm ile 22 nm arasinda olmasi; - birinci bariyer katman kalinliginin 0,8 nm ile 2,8 nm arasinda olmasi; - üçüncü dielektrik katman kalinliginin 40 nm ile 70 nm arasinda olmasi; -ikinci çekirdeklestirici katman kalinliginin 15 nm ile 35 nm arasinda olmasi; - ikinci fonksiyonel katman kalinliginin 5 nm ile 22 nm arasinda olmasi; -ikinci bariyer katman kalinliginin 0,8 nm ile 2,8 nm arasinda olmasi; - dördüncü dielektrik katman kalinliginin 35 nm ile 65 nm arasinda olmasi; - üçüncü çekirdeklestirici katman kalinliginin 10 nm ile 35 nm arasinda olmasi; - üçüncü fonksiyonel katman kalinliginin 5 nm ile 22 nm arasinda olmasi; - üçüncü bariyer katman kalinliginin 0,8 nm ile 2,8 nm arasinda olmasi; - dördüncü dielektrik katman kalinliginin 10 nm ile 35 nm arasinda olmasi; - üst dielektrik katman kalinliginin 10 nm ile 35 nm arasinda olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru SixNy/TiOx/ZnAIOx/Ag/NiCrOX/ZnSnOx/ZnAIOx/Ag/NiCrOx/ZnSnOx/ZnAIOx/Ag/Ni CrOx/ZnSnOxi' SiOxNy katmanlarini içermesidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamali camin isil islem sonrasi renk performans degerlerinden cam tarafi yansima a* degerinin -3,8 ile -2,2 arasinda, kaplama tarafi yansima a* degeri 1,5 ile 2,8 arasinda olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamali camin isil islem sonrasi renk performans degerlerinden cam tarafi yansima b* degerinin -5,0 ile -3,5 arasinda, Tb* degeri 0,8 ile 2,3 arasinda olmasidir. Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, low-e kaplamali camin, cam tarafi yansima a* degerinin tüm bakis açilarinda negatif bölgede kaliyor olmasidir. SEKILIN KISA AÇIKLAMASI Sekil 1' de low-e kaplamali camin temsili bir görünümü verilmistir. SEKILDE VERILEN REFERANS NUMARALARI Cam Low-e kaplama 21 Birinci dielektrik yapi 211 Birinci dielektrik katman 212 Ikinci dielektrik katman 213 Birinci çekirdeklestirici katman 22 Birinci fonksiyonel katman 23 Birinci bariyer katman 24 Ikinci dielektrik yapi 241 Uçüncü dielektrik katman 242 Ikinci çekirdeklestirici katman Ikinci fonksiyonel katman 26 Ikinci bariyer katman 2? Üçüncü dielektrik yapi 272 Uçüncü çekirdeklestirici katman 28 Uçüncü fonksiyonel katman 29 Uçüncü bariyer katman Ust dielektrik yapi 301 Besinci dielektrik katman 302 Ust dielektrik katman BULUSUN DETAYLI AÇIKLAMASI Bu detayli açiklamada bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) sadece konunun daha iyi anlasilmasina yönelik hiçbir sinirlayici etki olusturmayacak örneklerle açiklanmaktadir. Mimari ve otomotiv sektörüne yönelik low-e kaplamali (20) camlarin (10) üretimi siçratma yöntemi (teknikte sputter olarak bilinmektedir) ile gerçeklestirilmektedir. Bu bulus genel olarak; gün isigi geçirgen ve isi yalitim cami (10) olarak kullanilan, lamine edilebilir, isitilabilir ve isil islem dayanimi yüksek olan üç gümüslü low-e kaplamali (20) camlar (10), bahsedilen low-e kaplamanin (20) içerigi ve uygulamasi ile ilgilidir. Bu bulusta; bir camin (10) yüzeyine uygulanmak üzere yüksek seviyede görünür isik geçirgenligine sahip, lamine edilebilir, isil islenebilir ve açisal renk degisimi kabul edilebilir seviyede olacak sekilde tasarlanmis olan bir low-e kaplamali (20) cam (10) elde edebilmek amaci ile siçratma yöntemi kullanilarak, cam (10) yüzeyinde konumlanan çoklu sayida metal, metal oksit ve metal nitrür/oksinitrür katmanlarindan olusan bir low-e kaplama (20) gelistirilmistir. Söz konusu katmanlar sirasi ile birbiri üzerine vakum ortaminda biriktirilmektedir. Isil islem olarak temperleme, kismi temperleme, tavlama ve bükme islemlerinden en az biri ve/veya birkaçi birlikte kullanilabilmektedir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) mimari ve otomotiv cami (10) olarak kullanilabilmektedir. Gerek Üretim kolayligi açisindan, gerekse optik özellikleri açisindan tercih edilen bir low-e kaplama (20) dizilimini gelistirmek üzere deneysel çalismalar sonucunda asagidaki veriler tespit edilmistir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) camda (10) tüm katmanlarin kirma indisleri alinan tek katman ölçümlerinden elde edilen optik sabitler üzerinden hesaplamali yöntemler kullanilarak belirlenmistir. Söz konusu kirma indisleri 550 nm" deki kirma indisi verileridir. Bulus konusu low-e kaplamada (20) görünür bölgeyi hedeflenen düzeyde geçirip, kizilötesi spektrumda isil radyasyonu yansitmayi (daha az geçirerek) saglayan, bir birinci fonksiyonel katman (22), bir ikinci fonksiyonel katman (25) ve bir üçüncü fonksiyonel katmandir (28). Birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) Ag içermektedir ve isi yayinimi düsüktür. Hedeflenen performans degerine ulasabilmek için birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi oldukça önemlidir. Ag içeren birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi tercih edilen uygulamada 5 nm - 22 nm araligindadir. Daha tercih edilen uygulamada Ag içeren birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi 8 nm - 19 nm araligindadir. En tercihen Ag içeren birinci fonksiyonel katman (22), ikinci fonksiyonel katman (25) ve üçüncü fonksiyonel katman (28) kalinligi 11 nm - 17 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada üçüncü fonksiyonel katman (28), birinci fonksiyonel katman (22) ve ikinci fonksiyonel katmandan (25) daha kalindir. Birinci fonksiyonel katmanin (22), ikinci fonksiyonel katmana (25) orani O,9-1,1 arasindadir. Bulus konusu kaplamada cam (10) ile birinci fonksiyonel katmana (22) temas edecek sekilde aralarinda konumlanan bir birinci dielektrik yapi (21) mevcuttur. Bahsedilen birinci dielektrik yapi (21) en az bir adet dielektrik katman ve en az bir adet çekirdeklestirci katman içermektedir. Tercihen birinci dielektrik yapi (21); bir birinci dielektrik katman (211) ve bir ikinci dielektrik katman (212) ve bir birinci çekirdeklestirici katman (213) içermektedir. Bahsedilen birinci dielektrik katman (211) ve ikinci dielektrik katman (212) SixNy, SiAINx, SiAIOXNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx katmanlarindan en az birini veya birkaçini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci dielektrik katman (211) olarak SIXNy içeren bir katman kullanilmaktadir. SiXNy içeren birinci dielektrik katman (211) difüzyon bariyeri olarak davranarak, yüksek sicaklikta kolaylasan alkali iyon göçünü engelleme amacina hizmet etmektedir. Böylece SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) low-e kaplamanin (20) isil islem süreçlerine dayanimina destek vermektedir. SIXNy içeren birinci dielektrik katmaninin (211) kirma indisi için degisim araligi 2,00 ile 2,10 arasindadir. Tercih edilen yapida SixNy içeren birinci dielektrik katmaninin (211) kirma indisi için degisim araligi 2,02 ile 2,07' dir. SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) kalinligi 15 nm - 50 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) kalinligi 20 nm - 45 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) kalinligi 25 nm - 40 nm arasindadir. SixNy içeren birinci dielektrik katmani (211) ile birinci fonksiyonel katman (22) olan Ag katmani arasinda en az bir birinci çekirdeklestirici katman (213) konumlanmaktadir. Bulusun bir uygulamasinda birinci çekirdeklestirici katman (213), SixNy içeren birinci dielektrik katmani (211) ile dogrudan temas etmektedir. Birinci çekirdeklestirici katman (213) NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnSnOx, ZnAlOx, ZnOx' den en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman ( kalinligi 10 nm - 30 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman (213) kalinligi 13 nm - 25 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici katman (213) kalinligi 15 nm - 21 nm arasindadir. Bulusun bir diger uygulamasinda birinci cekirdeklestirici katman (213) ile SIXNy içeren birinci dielektrik katmani (211) arasinda bir ikinci dielektrik katman (212) konumlanmaktadir. Bahsedilen ikinci dielektrik katman (212) TiOx, ZrOx, NbOX katmanlarindan en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada ikinci dielektrik katman (212) olarak TiOX kullanilmaktadir. TiOx, kirilma indisi yüksek bir malzeme oldugu için, daha az toplam fiziksel kalinlik ile ayni optik performansin elde edilmesini saglamakta, low-e kaplamanin (20) %TviS degerini artirici rol oynamaktadir. TiOX katmaninin kirilma indisi 2,40 ile 2,60 arasindadir. Tercih edilen uygulamada 2,45 - 2,55 olarak belirlenmistir. Ikinci dielektrik katman (212) olan TiOX katmani kalinligi 1,3 nm - 4,5 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada TiOX katmani kalinligi 1,6 nm - 4 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada TiOX katmani kalinligi 1,8 nm - 3,4 nm arasindadir. Ag içeren birinci fonksiyonel katmana (22) temas edecek sekilde üzerinde konumlanan bir birinci bariyer katman (23); ikinci fonksiyonel katmana (25) temas edecek sekilde üzerinde konumlanan bir ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü fonksiyonel katmana (28) temas edecek sekilde üzerinde konumlanan bir üçüncü bariyer katman (29) bulunmaktadir. Birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (29) NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOX malzemelerinden en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (29) olarak NiCrOx kullanilmaktadir. NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (29) kalinliklari 0,8 nm - 2,8 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (29) kalinliklari 1,0 nm - 2,5 nm araligindadir. Daha da tercih edilen uygulamada NiCrOx içeren birinci bariyer katman (23), ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (29) kalinliklari 1,5 nm - 2,2 nm arasindadir. Bulusun bir uygulamasinda ikinci bariyer katman (26) ve üçüncü bariyer katman (29) kalinliklari birbirleri ile esittir. Birinci fonkiyonel katman (22) ile ikinci fonksiyonel katman (25) arasinda ikinci dielektrik yapi (24); ikinci fonksiyonel katman (25) ile üçüncü fonksiyonel katman (28) arasinda üçüncü dielektrik yapi (27) konumlanmaktadir. Ikinci dielektrik yapi (24) ve üçüncü dielektrik yapinin (27) her biri; SixNy, SiAINx, SiAIOxNy, SiOxNy' ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx katmanlarindan en az birini içeren en az bir dielektrik özellikte ve NiCr, NiCrOX, TiOx, ZnSnOx, ZnAIOx, ZnOx" den en az birini içeren en az bir çekirdeklestirici özellikte katman içermektedir. Ikinci dielektik yapi (24) bir üçüncü dielektrik katman (241) ve bir ikinci çekirdeklestirici katman (242) içermektedir. Uçüncü dielektrik katman (241) tercihen ZnSnOX içermektedir. ZnSnOX içeren üçüncü dielektrik katman (241) kalinligi 40 nm - 70 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnSnOx içeren üçüncü dielektrik katman (241) kalinligi 45 nm - 65 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnSnOx içeren üçüncü dielektrik katman (241) kalinligi 50 nm - 60 nm arasindadir. Ikinci çekirdeklestirici katman (242) tercihen ZnAIOx içermektedir. ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (242) kalinligi 15 nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnAlOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (242) kalinligi 17 nm - 33 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katman (242) kalinligi 20 nm - 30 nm arasindadir. Uçüncü dielektik yapi (27) bir dördüncü dielektrik katman (271) ve bir üçüncü çekirdeklestirici katman (272) içermektedir. Dördüncü dielektrik katman (271) tercihen ZnSnOX içermektedir. ZnSnOx içeren dördüncü dielektrik katman (271) kalinligi 35 nm - 65 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnSnOX içeren dördüncü dielektrik katman (271) kalinligi 40 nm - 60 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnSnOx içeren dördüncü dielektrik katman (271) kalinligi 45 nm - 57 nm arasindadir. Uçüncü çekirdeklestirici katman (272) tercihen ZnAIOx içermektedir. ZnAIOx içeren üçüncü çekirdeklestirici katman (272) kalinligi 10 nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnAIOx içeren üçüncü çekirdeklestirici katman (272) kalinligi 15 nm - 30 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnAIOx içeren üçüncü çekirdeklestirici katman (272) kalinligi 18 nm - 25 nm arasindadir. Üçüncü bariyer katman (29) üzerinde bir üst dielektrik yapi (30) vardir. Bahsedilen dielektrik yapi (30) SixNy, SiAle, SiAIOxNy, SiOx, SiOxNy, ZnSnOx, ZnAlOx, TiOx, TiNx, ZrNX katmanlarindan en az birini veya birkaçini içeren en az bir dielektrik katman içermektedir. Ust dielektrik yapi (30) tercihen bir dördüncü dielektrik katman (301); bahsedilen dördüncü dielektrik katman üzerinde (302) biriktirilen, bir üst dielektrik katman (302) içermektedir. Besinci dielektrik katman (301) tercihen ZnSnOX içermektedir. ZnSnOx içeren besinci dielektrik katman (301) kalinligi 10 nm - 35 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnSnOx içeren besinci dielektrik katman (301) kalinligi 13 nm - 30 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada ZnSnOX içeren besinci dielektrik katman (301) kalinligi 15 nm - 25 nm arasindadir. Ust dielektrik katman (302) tercihen SIOXNy veya SixNyiden en az birini içermektedir. Tercihen SIOXNy içeren üst dielektrik katman (302) kalinligi 10 nm - nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada SIOXNy içeren üst dielektrik katman (302) kalinligi 15 nm - 28 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SIOXNy içeren üst dielektrik katman (302) kalinligi 17 nm - 25 nm arasindadir. Low-e kaplamanin (20) en üst dielektrik katmaninin (302) özellikleri, kaplamali camin (10) isil islem esnasindaki karakterini belirlemesinden dolayi low-e kaplamali (20) camin (10) depolama ömrü, isil islenebilirligi, dayanimi ve görsel estetigi açisindan oldukça önemlidir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) camin (10) isil islem sonrasi görünür bölge geçirgenlik degeri % 60-75 arasinda, günes isigi geçirgenlik degeri % 23-35 arasindadir. Tercih edilen uygulamada low-e kaplamali (20) camin (10) isil islem sonrasi görünür bölge geçirgenlik degeri % 63-73 arasinda, solar geçirgenlik degeri (10) isil islem sonrasi görünür bölge geçirgenlik degeri % 65-70 arasinda, solar geçirgenlik degeri %27 - %31 araligindadir. Katmanlarin sirasiyla yukarida anlatilan sekilde cam (10) üzerine kaplanmasi ile elde edilen low-e kaplamali (20) camin (10) renk performans degerlerinden cam tarafi yansima a* degeri -3,8 ile -2,2 arasinda degismektedir. Tercih edilen uygulamada cam tarafi yansima a* degeri -3,5 ile -2,4 arasinda degismektedir. Daha da tercihen cam tarafi yansima a* degeri -32 ile -2,6 arasinda degismektedir. Low-e kaplamali (20) camin (10) renk degerlerinden isil islem sonrasi cam tarafi yansima b* degeri -5,0 ile -3,5 arasinda degismektedir. Tercih edilen uygulamada renk degerlerinden cam tarafi yansima b* degeri -4,7 ile -3,8 arasinda degismektedir. Daha da tercihen renk degerlerinden cam tarafi yansima b* degeri - 4,5 ile -4,0 arasinda degismektedir. Ikinci y'L'iz kullaniminda, cam (10) tarafi yansima a* ve b* degerleri 'Önemli olmakla birlikte camin (10) toplamda nötralligini saglamis olmak için kaplama tarafi yansima a* ve geçirgenlik b* degerlerinin de "0'"a yakin olmasi önemlidir. Bu sayede isi cam ünitesinde kullanilan low-e kaplamali (20) cam (10) sadece disaridan degil içeriden bakildiginda da nötral bir görünüm elde edilebilmektedir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) camin (10) isil islem sonrasi kaplama tarafi yansima a* degeri 1,5 ile 2,8 arasinda degismektedir. Tercih edilen uygulamada low-e kaplamali (20) camin (10) isil islem sonrasi kaplama tarafi yansima a* degeri 1,8 ile 2,6 arasinda degismektedir. Daha da tercihen low-e kaplamali (20) camin (10) isil islem sonrasi kaplama tarafi yansima a* degeri 2,0 ile 2,4 arasinda degismektedir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) camin (10) isil islem sonrasi kaplama tarafi geçirgenlik b* degeri 0,8 ile 2,3 arasinda degismektedir. Tercih edilen uygulamada low-e kaplamali (20) camin (10) isil islem sonrasi kaplama tarafi geçirgenlik b* degeri 1,1 ile 2,0 arasinda degismektedir. Daha da tercihen low-e kaplamali (20) camin (10) isil islem sonrasi kaplama tarafi geçirgenlik b* degeri 1,4 ile 1,8 arasinda degismektedir. Yukarida verilen kaplama tarafi ve cam tarafi açisal ve normal yansima degerleri, geçirgenlik b* degeri degerlendirildiginde bulus konusu low-e kaplamali (20) camda (10) kaplama tarafi ve cam tarafi her iki bakista da, low-e kaplamali (20) camda (10) sari ve kirmizi yansima renkler gözlemlenmemekte ve nötral bir görüntü sergilemektedir. Bahsedilen low-e kaplamayi (20) olusturan katmanlarin cam (10) üzerine belirtilen kalinliklarda kaplanmasi bilhassa kaplamali camin (10) cam tarafi açisal renk degisimi ve istenilen optik performanslarin elde edilmesi açisindan önem tasimaktadir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) camin (10) cam tarafi yansima a* degeri tüm bakis açilarinda negatif bölgede kalmakta, low-e kaplamali (20) cam (10) kirmizi yansima göstermemektedir. ZnSnOX içeren dördüncü dielektrik katman (271) kalinligi, bahsedilen performans, renk ve açisal renk degisiminin eldesinde kritiktir. Verilen deger araliklarindan daha kalin olmasi durumunda düsük açilarda, ince olmasi durumunda ise yüksek açilarda, low-e kaplamali (20) camin (10) cam tarafi yansima renk degerini pozitif bölgeye dogru çekmektedir. Günes enerjisi geçirgenligi aktif bir sekilde yansitilirken ayni zamanda isil islem sonrasi görünür bölge isik geçirgenliginin % 65-70 araliginda olmasi, fonksiyonel katmanlarin toplamdaki kalinliklari ile elde edilebilmektedir. Bu fonksiyonel katmanlarin kendi içerisindeki kalinlik dagilimi, bilhassa üçüncü fonksiyonel katmanin (28), birinci fonksiyonel katman (22) ve ikinci fonksiyonel katmandan (25) daha kalin olmasi, açisal renk degisimine etki etmektedir. Buna ilaveten yukarida verilen birinci fonksiyonel katman (22) ve ikinci fonksiyonel katman (25) kalinligi arasindaki oran da, renk degerleri üzerinde etki göstermektedir. Bulusun koruma kapsami ekte verilen istemlerde belirtilmis olup kesinlikle bu detayli anlatimda örnekleme amaciyla anlatilanlarla sinirli tutulamaz. Zira teknikte uzman bir kisinin, bulusun ana temasindan ayrilmadan yukarida anlatilanlar isiginda benzer yapilanmalar ortaya koyabilecegi açiktir. TR TR TR TR TR TR TR TR TR TR