TH53668A - ขบวนการสำหรับการเตรียมไซโคลเฮกซาโนออกซีม - Google Patents

Abstract

DC60 (27/08/44) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับขบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมที่ซึ่งตัวกลางของ ปฎฏิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟตอยู่ด้วยถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอนโมเนียมไปยัง โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมและกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเนียม ซึ่ง ในโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูกทำให้เกิดขึ้น โดยการรีดิวซ์ ไนเตรทด้วยไฮโดรเจนที่มีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งในโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมจะถูกทำปฏิกิริยากับไซโคลเฮกซาโนนเพื่อให้เกิดเป็นไซโคลเฮกซาโนน ออกซีม ซึ่งไซโคลเฮกซาโนนและตัวทำละลายอินทรีย์จะถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล ฮกซาโนนออกซีม ซึ่งตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์และไซโคลเฮกซาโนน ออกซีมจะถูกเอาออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่า อัตราส่วนของ fh/fc น้อยกว่า 1.00 ที่ซึ่ง fh แสดงแทนปริมาณเป็นโมลาร์ของไฮดรอกซิลแอมโมเนียมที่ถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมต่อหน่วยของเวลา(ในหน่วยโมล/วินาที) และ fc แสดงแทนปริมาณเป็นโมลาร์ของไซโคลเฮกซาโนนที่ถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมต่อหน่วยของเวลา (ในหน่วยโมล/วินาที) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับขบวนการสำหรับผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมที่ซึ่งตัวกลางของ ปฎิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟตอยู่ด้วยถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอนโมเนียมไปยัง โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมและกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเนียม ซึ่ง ในโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมถูกทำให้เกิดขึ้น โดยการรีคิวซ์ ไนเตรทด้วยไฮโดรเจนที่มีการเร่งปฏิกิริยา และซึ่งในโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้น ไฮดรอกซิลแอมโมเนียมจะถูกทำปฏิกิริยากับไซโคลเฮกซาโนนเพื่อให้เกิดเป็นไซโคลเฮกซาโนน ออกซีม ซึ่งไซโคลเฮกซาโนนและตัวทำละลายอินทรีย์จะถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล ฮกซาโนนออกซีม ซึ่งตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์และไซโคลเฮกซาโนน ออกซีมจะถูกเอาออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ซึ่งถูกแสดงลักษณะเฉพาะว่า อัตราส่วนของ fh/fc < 1.00 ที่ซึ่ง fh แสดงแทนปริมาณเป็นโมลาร์ของไฮดรอกซิลแอมโมเนียมที่ถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมต่อหน่วยของเวลา(ในหน่วยโมล/วินาที) และ fc แสดงแทนปริมาณเป็นโมลาร์ของไซโคลเฮกซาโนนที่ถูกป้อนเข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมต่อหน่วยของเวลา (ในหน่วยโมล/วินาที)

Claims (3)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : 1. ขบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ที่ซึ่งตัวกลางของปฏิกิริยาแอคเควียสที่มีฟอสเฟต ถูกหมุนเวียนจากโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลเเอมโมเนียม (A) ไปยังโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม เเละกลับไปสู่โซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลเเอมโมเนียม (A) ซึ่งโซนสังเคราะห์ไฮดรอกซิลเเอมโมเนียม ไฮดรอกซิล เเอมโมเนียมถูกสร้างโดยการรีดิวซ์ของไนเตรทด้วยไฮโดรเจนที่ใช้การเร่งปฏิกิริยา ซึ่งโซนสังเคราะห์ไซโคล เฮกซาโนนออกซีมประกอบด้วยโซนปฏิกิริยา (B) เเละโซนการสกัด (C) ขบวนการดังกล่าวประกอบด้วย (i) ป้อนตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสไปโซนปฏิกิริยา (B) เเละจากโซนปฏิกิริยา (B) ไปโซนการสกัด (C) (ii) ป้อนไซโคลเฮกซาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีระหว่างโซนปฏิกิริยา (B) เเละ โซนการสกัด (C) (iii) ป้อนไซโคลเฮกศาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมระหว่างโซนปฏิกิริยา (B) เเละ โซนการสกัด (C) (iiii) ในโซนปฏิกิริยา (B) ดังกล่าวทำปฏิริยาไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมกัยไซโคลเฮกซาโนน เพื่อสร้าง ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมโดยสัมผัสตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสกับกระเเสทีมีไซโคล เฮกซาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์ (iv) ในโซนการสกัด (C) ดังกล่าวสัมผัสกับตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสเเละตัวทำละลายอินทรีย์ (v) ถอนตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบด้วยตัวทำละลายอินทรีย์เเละไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม เเละที่ซึ่งอัตราส่วนของ ที่ซึ่ง fn เเทนปริมาณโมลาร์ของไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมที่ป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ต่อหน่วยเวลา (โมล/วินาที) เเละ fc เเทนปริมาณโมลาร์ของไซโคลเฮกซาโดนนที่ป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม หน่วยเวลา (โมล/วินาที) 2. ขบวนการสำหรับการผลิตไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมดังกล่าวประกอบด้วยโซนปฏิกิริยา (B) เเละโซนการสกัด (C) ขบวนการ ดังกล่าวประกอบด้วย (i) ป้อนตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสที่มีไฮดรอกซิลเเอมโมเนียม ฟอสเฟตเเละไนเตรท ไป โซนปฏิกิริยา (B) เเละจากโซนปฏิกิริยา (B) ไปโซนการสกัด (C) (ii) ป้อนไซโคลเฮกซาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีระหว่างโซนปฏิกิริยา (B) เเละ โซนการสกัด (C) (iii) ป้อนไซโคลเฮกศาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ไซโคลเฮกซาโนนถูกป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมระหว่างโซนปฏิกิริยา (B) เเละ โซนการสกัด (C) (iiii) ในโซนปฏิกิริยา (B) ดังกล่าวทำปฏิริยาไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมกัยไซโคลเฮกซาโนน เพื่อสร้าง ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมโดยสัมผัสตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสกับกระเเสทีมีไซโคล (iv) ในโซนการสกัด (C) ดังกล่าวสัมผัสกับตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสเเละตัวทำละลายอินทรีย์ (v) ถอนตัวกลางอินทรีย์ที่ประกอบด้วยตัวทำละลายอินทรีย์เเละไซโคลเฮกซาโนนออกซีมจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม เเละที่ซึ่งอัตราส่วนของ ที่ซึ่ง fn เเทนปริมาณโมลาร์ของไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมที่ป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม ต่อหน่วยเวลา (โมล/วินาที) เเละ fc เเทนปริมาณโมลาร์ของไซโคลเฮกซาโดนนที่ป้อนสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีม หน่วยเวลา (โมล/วินาที) 3. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งอัตราส่วนของ fn/fc<0.99 4. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 3 ที่ซึ่งอัตราส่วนของ fn/fc<0.98 5. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์ที่ออกจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้นสูงกว่า 25% โดยน้ำหนัก 6. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 5 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์ที่ออกจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมนั้นสูงกว่า 30% โดยน้ำหนัก 7. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 5 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไซโคลเฮกซาโนนออกซีมในตัวกลางอินทรีย์ที่ออกจาก โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกโนนออกซีมนั้นสูงกว่า 35% โดยน้ำหนัก 8. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมในตัวกลางของปฏิกิริยา เเอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมสูงกว่า 0.7 โมล/ลิตร 9. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 8 ที่ซึ่งความเข้มข้นของไฮดรอกซิลเเอมโมเนียมในตัวกลางของปฏิกิริยา เเอคเควียสที่เข้าสู่โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมสูงกว่า 1.0 โมล/ลิตร 1 0. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสเเละการกระเเสที่ประกอบด้วยไซโคล เฮกซาโนนเเละตัวทำละลายอินทรีย์ถูกทำให้สัมผัสกันในกระเเสที่ไหลย้อยทิศทาง 1

1. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งตัวทำละลายอินทรีย์ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเบนซีน โทลูอีน ไซลีน เมทิลไซโคลเพนเทน ไซโคลเฮกเซน เเละของผสมของมัน 1

2. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งความเข้มข้นของฟอสเฟตในตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสเข้าสู่ โซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมสูงกว่า 2.0 โมล/ลิตร 1

3. ขบวนการตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งปริมาณรวมกันของไซโคลเฮกซาโนนเเละไซโคลเฮกซาโนนซีม ในตัวกลางของปฏิกิริยาเเอคเควียสออกจากโซนสังเคราะห์ไซโคลเฮกซาโนนออกซีมต่ำกว่า 0.2% โดยน้ำหนัก