SU724606A1 - Silver plating electrolyte - Google Patents
Silver plating electrolyte Download PDFInfo
- Publication number
- SU724606A1 SU724606A1 SU782591944A SU2591944A SU724606A1 SU 724606 A1 SU724606 A1 SU 724606A1 SU 782591944 A SU782591944 A SU 782591944A SU 2591944 A SU2591944 A SU 2591944A SU 724606 A1 SU724606 A1 SU 724606A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- silver
- electrolyte
- iodide
- silver plating
- plating electrolyte
- Prior art date
Links
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims description 21
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 15
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 15
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 14
- 238000007747 plating Methods 0.000 title 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical class [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 6
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 claims description 6
- 235000007715 potassium iodide Nutrition 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- -1 silver ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100188972 Caenorhabditis elegans ddo-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000613810 Homo sapiens Osteocrin Proteins 0.000 description 1
- 102100040556 Osteocrin Human genes 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYROLOSUUAGTR-UHFFFAOYSA-N [Ag].[I] Chemical compound [Ag].[I] VAYROLOSUUAGTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- CBEQRNSPHCCXSH-UHFFFAOYSA-N iodine monobromide Chemical compound IBr CBEQRNSPHCCXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Изобретение относитс к гальваностегии в частности к электрапитическому осаж- дению серебра на издели из меди и ее сплавов (латунь бронза). Известен электролит серебрени , содержащий иодиды серебра и кали и глицерин . Электролит содержит также жела« тин и воду в качестве растворител ij, Основным преп тствием дл промышлен ного использовани известного электрол та вл етс адсорбци иода серебр5шыми осадками, котора ухудшает их качество: повышает переходное сопротивление (О,ООО815 Ом), ухудшает па емость (коэффициент растекаемости Кр ) и придает желтизну. В ардных растворах иодидов комплексные соли серебра устойчивы лишь в концентрированных растворах. Однако водные концентрированные раство ры иодидов подвержены разложению кисло родом воздуха с образованием комплексного аниона Jj, благодар чему в электр литс накапливаетс большое количество иода, который адсорбируетс серебр ными осадками. По мере накоплени в электролите растворенный иод начинает восстанавл ватьс на катчзде, вследствие чего снижаетс катодный выход но току. Несоответствие катодного и анодного выходов по току приводит к повышенному расходу серебр ных анодов, а также к нарушению состава электролита,. Цель изобретени - улучшение па екюо ти по1фытий и снижение их переходного сопротивлени . Цель достигаетс тем, что электролит дополнительно содержит бромид кали при следующем соотношении компонентов: Иодид серебра, г25-80 Иодид кали , г15О-ЗОО Бромид кали , г12-40 Глицерин, лДо 1 Использование глицерина в качестве раствс ител и введение бром кап привод т к образованию смешанных бромоиодидных комплексных ионов серебра вThe invention relates to electroplating, in particular, to electrolytic deposition of silver on copper products and its alloys (brass bronze). A silver electrolyte is known that contains silver and potassium iodides and glycerin. The electrolyte also contains desirable tin and water as a solvent ij. The main obstacle for industrial use of the known electrolyte is the adsorption of iodine by silver precipitation, which degrades their quality: it increases the transient resistance (Oh, OOO815 Ohm), impairs the capacity (coefficient spreadability Cr) and gives yellowness. In the ard solutions of iodides, complex silver salts are stable only in concentrated solutions. However, aqueous concentrated solutions of iodides are susceptible to decomposition of air by oxygen with the formation of the complex anion Jj, due to which large amounts of iodine accumulate in electrolytes, which is adsorbed by silver precipitates. As the electrolyte accumulates, the dissolved iodine begins to recover on the cathode, as a result of which the cathodic output decreases to the current. A mismatch between the cathode and anode current outputs leads to an increased consumption of silver anodes, as well as to a violation of the electrolyte composition. The purpose of the invention is to improve the packet filtering path and reduce their transient resistance. The goal is achieved by the fact that the electrolyte additionally contains potassium bromide in the following ratio of components: silver iodide, g25-80 potassium iodide, g15O-ZOO potassium bromide, g12-40 Glycerol, dDo 1 Using glycerol as a solvent and introducing bromine drip leads to the formation of mixed bromoiodide complex silver ions in
глидергаювом растворе, отличающихс повышенной устбйчивостью, по срйвнбнию с ойнородн1ыми иодидными комплексными ионами в водных растворах. В предлагаемомglydergual solution, characterized by increased stability, by contrast with homogeneous iodide complex ions in aqueous solutions. In the proposed
ёЛектр олйте; Ш cpaiBHeHiBO с Швестным, снижаетс активность иодидных ионов, что делает его устойчййКМй: раапоженйкГс вьщелением иода и, тем самым, устран ет адсорбцию иодида серебр ными осадШмй , что приводит к получению светлых серебр ных осадков, снижению переходного сопротивлени и улучшению йа емости.Lectra Olte; C cpaiBHeHiBO with Known, decreases the activity of iodide ions, which makes it resistant to CMM: reducing the iodine and thus eliminating the adsorption of iodide by silver precipitates, which results in bright silver precipitation, reducing transient resistance and improving heat absorption.
Кроме того в предлагаемом электроПйтё при электроосаждении серебра isbaникают дополнительные, по сравнен ию с известным электролитом, энергетические затруднени при разр де комплексных ионов сервера, что способствует осаждению более мелко1ф1к;таллическйх бсадков, В результате предлагаемый электролит позвол ет псхлучать серебр йШтокрйти , близкие по качеству к покрыти м из iOfeHncTbix электролитов, а по тйкйм ;: свойствам, как переходное сопротивление и па емость, - превосход щие их.In addition, in the proposed electropower when electroplating silver is additional, compared with the known electrolyte, energy difficulties in discharging the complex ions of the server, which contributes to the deposition of more small electrons, as a result coatings of iOfeHncTbix electrolytes, and in terms of their length: properties, such as transient resistance and absorption, are superior to them.
При выборе составов электролита необход и МО; чтобы мрльное отношение тапог нидов кали к иодиду серебра составл ло: дл бромида - 1, дл иодида - не менее 5 дл образовани устойчивыхWhen choosing the composition of the electrolyte is necessary and MO; so that the ratio of tapogides of potassium to silver iodide is: 1 for bromide, not less than 5 for iodide to form stable
комплексных ионов cepeiSpa, попутевй . мелкокристаллических осадков и стабиль ной работы ванны. Мольное соотношение иодида кали к иодиду серебра поддер- complex ions cepeiSpa, along the way. fine crystalline precipitation and stable operation of the bath. The molar ratio of potassium iodide to silver iodide is supported by
WnMlTClTTB npieflenax 5-@.WnMlTClTTB npieflenax 5- @.
Элёктр1олит готов т след5тощйм образом . .Electricity is prepared in the following way. .
Глицерин нагревают до 6О-10О С, раствор ют в нем бромид и иодид кали , затем иод ид серебра. Растворение солей проШд т при перемешивании, KopifeK-rigx)-i ванйё состйва электролита провод rfOiGlycerin is heated to 6 ° -10 ° C, bromide and potassium iodide are dissolved in it, then silver iodine is added. Dissolving the salts with stirring, KopifeK-rigx) -i Vanyo sobyva electrolyte wire rfOi
баэлением соответствующих солей согласно анализу, , .;according to the analysis,,.;
Рассеивающа способность электролита составл ет 41-53%. Процесс осаждени провод т при 60-100 О, плотности тока 0,1-0,3 А/дм с использованием серебРЯНЫХ анодов,,-.The dispersing capacity of the electrolyte is 41-53%. The deposition process is carried out at 60-100 O, the current density of 0.1-0.3 A / dm using silver anodes, -.
Катодный к анодный выходы По току близки к 100% и не измен ютс в ходе электролиза, что. обеспечивает высокую , стабильность работы ванны, .Электролит отличаетс прЬс-Ьугой и стабильностью В работе и йозЁол ет получать светлые мелкокристаллические осадки серебра непосредствевдо на меди и ее сплавах. При этом срок службы электролита сосTaJOTfleT не менее двух лет и определ етс накоплением ионов меди, олова и цинка, допустимые концентрации которых составл ют , г/л: 1,0, 0,3 0,4о Регенераци электролита производитс еГо проработ кой при Высокой плотности посто нным током с применением случайного катода, у Электролит нетоксичен, в св зи с отсутствием профессионально вредных вьщелений нет необходимости в бортовой вентил5щии ванн,Cathodic to anodic outputs The current is close to 100% and does not change during electrolysis, which. provides a high, stable operation of the bath. The electrolyte is characterized by high stability and stability. In operation, it is possible to obtain light crystalline silver deposits directly on copper and its alloys. At the same time, the lifetime of the CoJOTfleT electrolyte is at least two years and is determined by the accumulation of copper, tin and zinc ions, the permissible concentrations of which are, g / l: 1.0, 0.3 0.4 °. The electrolyte regeneration is performed at High Density. by direct current using a random cathode, the Electrolyte is non-toxic, due to the absence of professionally harmful exposures, there is no need for an on-board fan bath,
Допустимое содержание воды в электролите составл ет ке более 50 г/л, Игэбыточное количество воды легко удал етс при нагревании электролита.The permissible water content in the electrolyte is ke more than 50 g / l, and an excess amount of water is easily removed when the electrolyte is heated.
Из предлагаемого электролита осаждают хорошЪ сцепленные с основой покрь ти (вздутий и отслаивани не наблюдаетс ) тогациной 15-30 мкм, практически беспористые, коррозионностойкие, переходное сопротивление составл ет 0,ООР583-0 000726 Ом, стойкость к потемнению составл ет 1 балл (по 4-х бальной системе ОСТ 4ГО,054,076), From the proposed electrolyte, good adherence to the substrate is observed (no swelling and exfoliation is observed) with 15-30 µm togacine, practically porous, corrosion-resistant, the resistance is 0, OOP583-0 000726 Ohm, darkening resistance is 1 point -yt system OST 4GO, 054.076),
Изобретение может быть проиллюстрировано несколькими примерами, предЬтавленными в таблице.The invention can be illustrated by several examples presented in the table.
Т о. о л и ц аT about. about l and c
Продолжение таблицыTable continuation
Глицерин, л Режим осаждени Температура, С80 Плотность тока, ,2 Рассеивающа способность, %53 Выход по току, %100 Толщина покрыти мкм15 Переходное сопротивление. Ом0,000588 О,ООО Экспериментальные данные Паз емость по1фыти коэф|фициент растекани по ОСТН ГО 033 000 / в трех точках измерени , Кр 71 0,О00583 О,О00578 0,00057 5Glycerin, l Deposition mode Temperature, C80 Current density,, 2 Diffusing power,% 53 Current output,% 100 Coating thickness mkm15 Transient resistance. Om0,000588 O, Ltd. Experimental data Ratio capacity 1% coefficient of spreading by OSTN GO 033 000 / at three measuring points, Cr 71 0, O00583 O, O00578 0,00057 5
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU782591944A SU724606A1 (en) | 1978-03-20 | 1978-03-20 | Silver plating electrolyte |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SU782591944A SU724606A1 (en) | 1978-03-20 | 1978-03-20 | Silver plating electrolyte |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SU724606A1 true SU724606A1 (en) | 1980-03-30 |
Family
ID=20754163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SU782591944A SU724606A1 (en) | 1978-03-20 | 1978-03-20 | Silver plating electrolyte |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| SU (1) | SU724606A1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008043528A3 (en) * | 2006-10-09 | 2009-04-16 | Enthone | Cyanide-free electrolyte composition, and method for the deposition of silver or silver alloy layers on substrates |
-
1978
- 1978-03-20 SU SU782591944A patent/SU724606A1/en active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008043528A3 (en) * | 2006-10-09 | 2009-04-16 | Enthone | Cyanide-free electrolyte composition, and method for the deposition of silver or silver alloy layers on substrates |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4071415A (en) | Method of electroplating aluminum and its alloys | |
| US4448648A (en) | Trivalent chromium electroplating baths | |
| US4448649A (en) | Trivalent chromium electroplating baths | |
| US4502927A (en) | Electrodeposition of chromium and its alloys | |
| SU724606A1 (en) | Silver plating electrolyte | |
| JPS5815552B2 (en) | chrome electroplating liquid | |
| US4472250A (en) | Bath and process for the electrodeposition of chromium | |
| US4707226A (en) | Process for the dehalogenation of chloroacetic and bromoacetic acid | |
| US4038160A (en) | Method of regenerating a chromium electroplating bath | |
| US5232576A (en) | Anode for chromium plating and processes for producing and using the same | |
| NO830044L (en) | ELECTRICAL COATING PROCESS WITH TRIVALENT CHROME. | |
| JP2982658B2 (en) | Method of lowering metal concentration in electroplating solution | |
| US1857664A (en) | Treatment of gold and silver | |
| JP2961256B1 (en) | Silver plating bath, silver / tin alloy plating bath, and plating method using those plating baths | |
| Gálová et al. | Basic parameters of the electrode process of aluminium deposition from tetrahydrofuran solutions I. Exchange current density | |
| CN114761617B (en) | Electrolytic treatment device for producing plastic parts to be metallized and method for etching plastic parts | |
| JP3651871B2 (en) | Ion exchange membrane electrolytic cell operation start method | |
| Hisano et al. | The Electrodeposition of Aluminum from a Solution of Aluminum Bromide in N, N-Dimethyl Aniline | |
| JP3774799B2 (en) | Composition for electrolytic formation of indium oxide film | |
| RU2164967C1 (en) | Bismuth-tin ally precipitation electrolyte | |
| SU1071668A1 (en) | Electrolyte for depositing coatings of zinc-nickel alloys | |
| GB2033429A (en) | Electrolyte for Cathodic Deposition of Alloys of Nickel with Molybdenum | |
| CA1186275A (en) | Process for regeneration of electrolyte containing tin salts by reducing the same | |
| GB1571298A (en) | Electroplating solutions for and method of electrodeposition of aluminium | |
| Johal et al. | Electrodeposition of thallium from a sulphamate solution |