SE537287C2 - En solcellsstruktur och en metod för tillverkning av densamma - Google Patents
En solcellsstruktur och en metod för tillverkning av densamma Download PDFInfo
- Publication number
- SE537287C2 SE537287C2 SE1350687A SE1350687A SE537287C2 SE 537287 C2 SE537287 C2 SE 537287C2 SE 1350687 A SE1350687 A SE 1350687A SE 1350687 A SE1350687 A SE 1350687A SE 537287 C2 SE537287 C2 SE 537287C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- nanowire
- solar cell
- layer
- section
- cell structure
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 7
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims abstract description 132
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 81
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 45
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 34
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 4
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 18
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 7
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 7
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 6
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 6
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 3
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 3
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000003306 harvesting Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- XUKUURHRXDUEBC-KAYWLYCHSA-N Atorvastatin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1=C(C=2C=CC(F)=CC=2)N(CC[C@@H](O)C[C@@H](O)CC(O)=O)C(C(C)C)=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 XUKUURHRXDUEBC-KAYWLYCHSA-N 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N potassium cyanide Chemical compound [K+].N#[C-] NNFCIKHAZHQZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
- H10F10/14—Photovoltaic cells having only PN homojunction potential barriers
- H10F10/144—Photovoltaic cells having only PN homojunction potential barriers comprising only Group III-V materials, e.g. GaAs,AlGaAs, or InP photovoltaic cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
- H10F10/16—Photovoltaic cells having only PN heterojunction potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
- H10F10/16—Photovoltaic cells having only PN heterojunction potential barriers
- H10F10/163—Photovoltaic cells having only PN heterojunction potential barriers comprising only Group III-V materials, e.g. GaAs/AlGaAs or InP/GaInAs photovoltaic cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
- H10F10/17—Photovoltaic cells having only PIN junction potential barriers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
- H10F71/127—The active layers comprising only Group III-V materials, e.g. GaAs or InP
- H10F71/1276—The active layers comprising only Group III-V materials, e.g. GaAs or InP comprising growth substrates not made of Group III-V materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
- H10F71/129—Passivating
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F71/00—Manufacture or treatment of devices covered by this subclass
- H10F71/138—Manufacture of transparent electrodes, e.g. transparent conductive oxides [TCO] or indium tin oxide [ITO] electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/14—Shape of semiconductor bodies; Shapes, relative sizes or dispositions of semiconductor regions within semiconductor bodies
- H10F77/143—Shape of semiconductor bodies; Shapes, relative sizes or dispositions of semiconductor regions within semiconductor bodies comprising quantum structures
- H10F77/1437—Quantum wires or nanorods
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/14—Shape of semiconductor bodies; Shapes, relative sizes or dispositions of semiconductor regions within semiconductor bodies
- H10F77/147—Shapes of bodies
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/20—Electrodes
- H10F77/206—Electrodes for devices having potential barriers
- H10F77/211—Electrodes for devices having potential barriers for photovoltaic cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/20—Electrodes
- H10F77/244—Electrodes made of transparent conductive layers, e.g. transparent conductive oxide [TCO] layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/311—Coatings for devices having potential barriers for photovoltaic cells
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/543—Solar cells from Group II-VI materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/544—Solar cells from Group III-V materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
SAMMANDRAG Uppfinningen avser en solcellsstruktur och en metod for dess tillverkning, dar strukturen innefattar en array av avlanga nanotradar utforda i ett halvledarmaterial med ett direkt bandgap. Vardera nanotrad har kminstone en forsta och en andra sektion. Namnda struktur vidare innefattar ett fOrsta elektrodlager som realiserar ohmsk kontakt mot atminstone en del av vardera forsta sektion, ett andra, optiskt transparent elektrodlager som realiserar kontakt mot kminstone en del av vardera andra sektion, ett adhesivt lager anordnat under det forsta elektrodlagret, och ett isolerande lager som elektriskt separerar de forsta och andra elektrodlagren. Vardera nanotrad innefattar ett utarmningsomrade intill en toppyta far nanotraden som utstracker sig ahninstone i nanotradens longitudinella riktning. Avstandet mellan nanotradens toppyta och den Owe gransen fen- namnda utarmningsomrade understiger 180 nm.
Description
537 287 EN SOLCELLSSTRUKTUR OCH EN METOD FOR TILL VERKNING AV DENSAMMA Beskrivningen hanfor sig i huvudsak till en solcellsstruktur innefattande en array (ett ordnat mOnster) av avlanga nanotradar tillverkade av halvledarmaterial med ett direkt bandgap.
Marknaden felt- solceller domineras fOr narvarande av tva konkurrerande tekniker — kiselbaserade solceller och tunnfilmssolceller. FOr denna ansiikan skall en solcell forstas som en enkel diod utformad for fotovoltaiska applikationer, innefattande dess elektriska kontakter och stromspridande skikt.
Attraktiva materialegenskaper (sarskilt vad avser materialrenhet och passivering), valutvecklad och enkel processteknik samt lagt ramaterialpris har drivit utvecklingen av kiselbaserade solceller, da de kombinerar hog verkningsgrad med lag kostnad. Rent strukturellt kan Si-baserade solceller vara anordnade pa olika vis. Som ett exempel kan en Si-skiva (wafer) vara omkring 200wn tjock, ha en mOnstrad yta och en antireflexbelaggning (exempelvis av SiNx). Skivan är oftast av p-typ med en grund emitter som vetter mot solen, och med ett baksidescalt genererat av in-diffusion av Al eller annat dopamne av p-typ. Ett stort antal Si-solceller ansluts typiskt seriellt für att minska de resisitiva forlusterna till foljd av hog strOmstyrka. Huvudsakliga nackdelar med solceller baserade pa mono- eller poly-kristallina kiselskivor är aft fOrhallandevis hog energi- och materialatgang i produktionen, vilket leder till rang tid innan man kan sakerstalla lOnsamhet. Med termen monokristallin avses bar kisel med kontinuerliga, dvs. obrutna, kristallgitter, medan termen poly-kristallina avser material material som bestir av sma kiselkristaller. Vidare saknas for kisel en tydlig fardplan for aft fOrbattra effektiviteten i nagon stOrre grad fOrbi det som idag utgOr en rekordniva pa drygt 25% energieffektivitet.
Den andra signifikanta marknadsandelen innehas av solceller enligt tunnfilmstekniken, av vilka den mest framganmgsrika till dags dato är en solcell baserad pa kadmiumtellurid (CdTe). mom tunnfilmssolceller deponeras ett material med hOgre ljusabsorptionsegenskaper an kisel som en tunn film pa ett substrat av lag kostnad 1 537 287 (exempelvis glas). Filmens tjocklek är ungefar 1% av tjockleken for en konventionell kiselbaserad solcell. Da solcellen skapas i ett material som normalt sett deponeras ovanpa substratet, exempelvis genom kemisk angdeponering (Chemical Vapor Deposition, CVD) eller fOrstoftning (sputtering), snarare an aft utgOra substratet i sig, är tunnfilmstekniker normalt sett inte begransade av skivformfaktorer utan kan utfOras i stora skikt. Dessutom, da ttumfilmsemittern typiskt sett mindre konduktiva an kiselemittrar, maste en transparent konduktiv oxid (transparent conductive oxide, TCO) deponeras pa den sida som vetter mot solen. JamfOrt med kiselbaserade solceller erbjuder tunnfilmstekniken kostnadsfOrdelar sasom lag materialatgang och skalningsfOrdelar, dá stOrre substrat kan anvandas, men lider av en ldgre effektivitet an kiselbaserade solceller, som en foljd av en samre materialkvalitet.
Ovan angivna nackdelar, i synnerhet hog atgang av energi och material i produktionen, mildras signifikativt av solceller ljusuppsamling drivs av III-V-halvledarmaterial.
Narmare bestamt astadkoms en hOgre konversionseffektivitet i kombination med en lag materialanvandning med hjalp av solceller tillverkade av tunnfilmer i singelkristall av III-V-halvledare, sasom GaAs. Energieffektiviteten fOr dessa celler Overstiger 28% fOr de hOgst presterande cellerna.
Med fortsatt hanvisning till anvandning av GaAs i solcellsapplikationer, sa är GaAs det lampliga materialvalet for solceller med enkelovergangar tack vare dess bandgap och hOga fotonabsorption. Med hansyn till produktionsovervaganden ar GaAs ett lampligt material fOr solceller med enkelovergangar tack vare dess laga etsningstakt i fluorvatesyra. GaAs är ocksa ett av basmaterialen few tandemsolceller med hog effektivitet, dvs. solceller innefattande flera pn-Overgangar dar vardera Overgang kan vara anpassad fOr olika ljusvaglangder. Dessa ar typiskt baserade pa Ge/GaAs/InGaP och likartade material, vilka ger en indikation om aft derma teknik kan utvecklas mot en effektivitet som klart Overstiger 40%. I detta sammanhangkan namnas aft sadana extrema nivaer av effektivitet redan uppnatts for bulk-planaratandemsolceller fOr rymdapplikationer.
Nar III-V-halvledarmaterial anvands fOr ljusinsamling kan ytterligare framsteg gOras med anvandande av solceller baserade pa nanotradar, avlanga strukturer i nanostorlek. 2 537 287 Som ett exempel kan solceller baserade ph GaAs-nanotradar, fOretradesvis anordnade i en array, reducera materialhtgangen med nastan en storleksordning jamfOrt med tunnfilmssolceller i samma material. Diametern IN- en sadan nanotrad är ofta 150-200 m, och dess langd spanner mellan 1-3 p.m. Dessa nanotradar ar typiskt utfOrda i GaAs, men aven i InP och andra lampliga kompositioner med ett direkt bandgap. Noterbart är aft nanotradssolceller tillhandahaller flera mojligheter fOr tandemcellkonstruktioner. Trots aft denna teknik är relativt omogen, visar hi5ga kosrtslutningsstrOmmar som observerats i III-V-nanotradar som utsatts for direkt solljus aft vad galler fOnnagan aft samla in ljus i fOrhallande till materialanvandningen, sá Overtraffar nanotradarna tunrifilmstekniken klart. Ett exempel pa en shdan nanotrad beskrivs i den vetenskapliga artikeln benamnd "InP Nanowire Array Solar Cells Achieving 13.8% Efficiency by Exceeding the Ray Optics Limit" av Wallentin et al.
Strukturellt, och detta galler oavsett vilket material som anvands, kan man urskilja tva typer av nanotradar som anvands fOr solcellsapplikationer, baserat pa placeringen av pnOvergangen. Den fOrsta typen ar en nanotrad med en axiellt anordnad pn-Overgang, dvs. pn-Overgangen är sã beskaffad aft den huvudsakliga riktningen fOr strOmflodet Over pnOverghngen sammanfaller med nanotrAdens axiella utstrackning. Den andra typen ar nanotradar med radiellt anordnade pn-Overgangar, dvs. pn-Overgangen är sh beskaffad aft itminstone en del av strOmflodet Over pn-Overghngen loper vinkelratt mot nanotra'dens axiella utstrackning, sá aft arean fOr Overgangens som motsvarar namnda del av strOmflodet är stone an arean fOr &riga delar av Overgangen. Vidare har Overgangen en i huvudsak radiell symmetri. I samband med vad som anges ovan, och i synnerhet nar det galler GaAs, är nanotradar med radiellt anordnad pn-Overgang vanligare.
Nanotradhalvledare enligt dagens teknik, for anvandning i solceller, vaxes typiskt pa dyra substrat, ofta kallad skiva (wafer), varefter aterstiende komponenter for solcellen integreras pa detta substrat, vilket gOr denna teknik valdigt kostsam, i synnerhet vad galler en III-V-skiva shsom GaAs. I detta sammanhang ar det vanligast aft materialet for nanotrAden ar det samma, eller liknande, som substratet den vaxes frail och är integrerad med. GaAs-nanotradar vaxes exempelvis ofta pa GaAs-substrat. Vidare kan man, RV alt reducera tillverkningskostnaden, vaxa III-V-nanotradar, t ex. InP eller GaAs, pa ett 3 537 287 substrat som dr en konventionell kiselskiva. Det är i detta sammanhang vart aft notera aft kiselbaserade nanotradhalvledare, som vanligtvis ocksa \Taxes pa en kiselskiva, är valkanda inom teknikomradet, men den kunskap som hittills insamlats vad avser deras tillverkning och integration i solceller inte direkt kan Oversattas till omradet nanotradhalvledare i III-V-material, och andra material. Med bakgrund av det som angivits ovan och i syfte aft reducera tillverkningskostnadema, har olika metoder for aft kervinna substratet efter aft nanotradama avlagsnats darifran fbrslagits.
En annan nackdel fOrenad med skiv-baserad solcellsteknik (bade kisel- och GaAs- skivor) är aft skivarean i sig definierar cellarean, vilket i sin tur relaterar till strOmnivan.
Saledes kan ytterligare metallisering behovas for aft minimera resistiva fOrluster i ledande spridningslager sasom emittrar eller transparenta ledare. I detta sammanhang, och som diskuterats ovan i korthet, ar det slutliga substratet inom tunnfilmstekniken for solceller typiskt passivt och icke-ledande, exempelvis glas, sa aft segmentering av tunnfilmen kan goras for aft reducera strOmnivaema. Detta separerar den fysiska storleken pa det anvanda substratet fran stromnivan som uppnas i solcellen, vilket resulterar i flera fOrdelar — exempelvis Oppnar man upp for de ekonomiska fOrdelama med skalning samt mojligheten aft skraddarsy strOmnivaer i syfte aft minimera resistiva fOrluster i emittrar eller ledande skikt. Vidare kan behovet av matallmOnster elimineras.
En annan detalj med nanotradssolceller integrerade pa ett halvledarsubstrat dr aft ljuset som transmitteras genom nanotradarrayen gar till spillo som varme sa snail det absorberats i halvledarsubstratet savida inte en separat, annorlunda justerad solcell tillverkas pa sj diva substratet — en avsevard utmaning men tanke pa svarighetema med integration av olikartade material.
Atminstone nagra av de ovan diskuterade nackdelama associerade med skiv/substrat- baserade solcellstekniker skulle kurma adresseras med hjdlp aft nanotradsbaserade solceller under fOrutsattning aft en kristallin skiva kan undvikas i slutprodukten. Detta kan astadkommas antingen genom aft, vid nagot Winne, separera nanotradama fran det kristallina substratet (och med fOrdel ateranvanda substratet senare), eller genom aft helt och hallet undvika aft anvdnda substratet under tillverkningsprocessen for strukturen. Exempelvis kan man, genom aft anvanda substratfria tillvaxttekniker sasom Aerotaxymi 4 537 287 som visas i de internationella patentansakningarna PCT/SE2011/050599, PCT/SE2013/050594 och/eller vatskebaserad teknik far inriktning av nanotradar som visas i den intemationella patentansakningen PCT/SE2013/050389, vars innehall harmed infogas i sin respektive helhet genom hanvisning, eller genom aft mekaniskt separera tradarna fran eft substrat, sa kan tradarna istallet inriktas inuti ett overforingsmaterial — i regel en polymer eller annat liknande material. Dock maste den kritiska fragan om behMlning av inriktningen av sidana substratfria tradar fortfarande lasas.
I detta sammanhang reses vidare fragan om kontrollerad kontaktering av nanotradar. Narmare bestamt skulle polymerfilmer som behavs fOr aft Overfara tradar fran inriktningsytan/substratet till det nya, typiskt icke-kristallina, substratet normalt sett deponeras med hjalp av billiga metoder som kommer aft resultera i viss variation av filmtjocklek. Vanligtvis avlagsnas senare en del av polymerfilmen, i vilken nanotradarna fir inbaddade. Med anledning av filmens ojamnhet samt nanotradarnas storlek och kanslighet, ar det tydligt aft sadant avlagsnande, i huvudsak genom, mekaniska metoder, inte kan utfaras utan en hog grad av omsorg om nanotradarnas ursprungliga inriktning skall bibehallas. Detta komplicerar i sin tur det processteg som innebar kontaktering av nanotradama med elektroder.
En annan aspekt av nanotradsbaserade solceller ar ett Mgt farhallande yta/volym jamfOrt med plana solceller enligt kand teknik. Detta gaiter sarskilt far manga kompositioner med direkt bandgap ur grupperna III och V. Tack vare dess ideala bandgap och relativa tekniska mogenhet är harvid GaAs av sarskilt intresse som solcellsmaterial, men det är valdokumenterat aft dess ytegenskaper är mycket daliga.
Narmare bestamt leder den haga tatheten av yttillstand till utarmning av ytan samt farorsakar rekombination av minoritetsbarare. Exempelvis vaxer man typiskt passiveringslager i heterostrukturer av AlGaAs, GaInP etc. pa den plana ytan av konventionellt utformade solceller av GaAs, i syfte aft reflektera minoritetsbarare, vilket pa ett effektivt salt reducerar ytinducerad rekombination. Paverkan pa ytorna är dnnu mera signifikant om de korsas av pn-Overgangen. Far nanotradbaserade solceller aterfirms den ytterliga ytan pa nanotradamas sidovaggar och utgar en majoritet av ytan. Faljaktligen korsar alla Overgartgar sidovaggsytorna fOr nanotradar med axiellt 537 287 anordnade pn-Overgangar. Detta är sarskilt skadligt for material sasom GaAs med dokumenterat svaga ytor. En Overvagande del av den hittills utfOrda forskningen pa solceller med nanotradar i GaAs, och manga andra III-V-solceller, har darfOr varit fokuserad pa nanotradar med radiellt anordnade pn-Overgangar. I en sadan konfiguration är pn-Overgangen mindre exponerad for ytorna, och da utarmningsregionen är vinkelrat mot solstralningen sa har kort materiallivslangd, som är en konsekvens av de svaga ytorna, mindre inverkan pa fOrmagan att samla upp bararna.
Mot bakgrund av det ovanstaende verkar nanotradsarrayer med nanotradar av axiellt sa val som radiellt anordnade pn-Overgangar vara lampliga kandidater fOr att hoja effektiviteten samtidigt som materialatgangen minskas i solceller. Ett antal utestaende fragor kvarstar dock i detta hanseende. Det star helt klart att nagra av de kriterium som maste tillfredsstallas for aft en hallbar lOsning skall kunna astadkommas är hog utfOrandehastighet och palitlighet. Vidare bOr energieffektiviteten fOr de nya strukturerna matcha motsvarande varden for standardsolceller som är tillgangliga pa solcellsmarknaden. Ytterligare en utmaning ligger i att bevara nanotradarnas inriktning samt att mina haven pa haven vid kontaktering med hansyn till topp- och bottenkontakter. Detta galler sarskilt da nanotradarna är vasentligt kortar an nagot supportmaterial som am/ands for att separera nanotradarna fran det ursprungliga substratet. Slutligen utgOr efterfiiljande kontrollerad integration av separerade nanotradar pa nya substrat, fOretradesvis av lAg kostnad, en enorm utmaning.
Eft syfte med fOreliggande uppfinning är darfOr aft tillhandahalla en solcellsstruktur som atminstone reducerar nagra av de nackdelar som är associerade med den kanda 25 tekniken.
Vidare har koncept fOr nanotradsolceller fram till idag, i synnerhet de tillverkade ur IIIV-material, anvant aktiva eller ledande substrat. FOreliggande uppfinning gor det mojligt att integrera flera anslutna solceller pa eft enda substrat, vilket resulterar i skalningsfOrdelar och reducerade fOrluster fran metalliserade lager. 6 537 287 Ovan namnda syfte uppfylls med hjalp av ett uppfinningskoncept innefattande en solcellsstruktur enligt det oberoende patentkravet, dess utforingsformer enligt de underordnade patentkraven samt en metod fOr aft tillverka namnda solcellsstruktur.
Narmare bestamt tillhandahaller en aspekt av uppfinningen en solcellsstruktur innefattande en array av avlanga nanotradar utforda i ett halvledarmaterial med ett direkt bandgap, varvid vardera nanotrad har atminstone en fOrsta och en andra sektion, dar den forsta sektionen har en forsta polaritet och en dopningsniva som atminstone overstiger 1*18/cm3, varvid namnda struktur vidare innefattar ett fOrsta elektrodlager som realiserar ohmsk kontakt mot atminstone en del av vardera fOrsta sektion, ett andra, optiskt transparent elektrodlager som realiserar kontakt mot atminstone en del av vardera andra sektion, ett adhesivt lager, eventuellt ledande, anordnat under det forsta elektrodlagret, och ett isolerande lager som elektriskt separerar det fOrsta och det andra elektrodlagret, dar vardera nanotrad vidare innefattar ett utarmningsomrade intill en toppyta fOr nanotraden och som utstracker sig atminstone i nanotradens longitudinella riktning, varvid avstandet mellan nanotradens toppyta och den Ovre gransen for namnda utarmningsomrade understiger 180 nm.
En andra aspekt av fOreliggande uppfinning avser en metod for aft tillverka en solcellsstruktur innefattande en array av avlanga nanotradar i ett halvledarmaterial med ett direkt bandgap, dar namnda metod innefattar stegen aft tillhandahalla en forsta struktur pa ett materiallager, dar namnda struktur innefattar nanotradsarrayen och en polymermatris, varvid namnda nanotradsarray är fullstandigt inbaddad i namnda polymermatris, separera polymermatrisen med de inbaddade nanotradarna frail namnda materiallager, avlagsna en del av polymermaterialet sa aft atminstone en fOrsta extremitet av respektive nanotrad sticker ut ur polymermatrisen, tillhandahalla ett ledande lager som tacker de utstickande extremiteterna av respektive nanotrad, tillhandahMla ett adhesivt lager under det ledande lagret, avlagsna polymermatrisen fullstandigt med ett losningsmedel, deponera ett elelctriskt isolerande lager, 7 537 287 - exponera en andra extremitet av vardera nanotrfid, - deponera ett optiskt transparent ledande lager.
Nedan presenteras positiva effecter och fordelar med foreliggande uppfinning med 5 hanvisning till den fOrsta och andra aspekten av uppfinningen.
Genom aft hfilla aystandet mellan nanotradens toppyta och den Ovre gransen for utarmningsomradet kort erhfills solcellsstrukturen enligt uppfinningen, som ar atminstone lika energieffektiv som konventionella strukturer. Detta galler strukturer med en axiellt saval som en radiellt anordnad pn-overgang. Om avstandet mellan nanotradens toppyta och den Ovre gransen fOr pn-Overgangen, vilken mer eller mindre sammanfaller med omfattningen av det hOgdopade omradet, är mindre an 180 nm sä har Wallentin et al. visat (se i synnerhet Fig. 3b) aft strOmmen reducerades till omkring 70% av den observerade maximala strOmmen och till och med en hOgre andel av de simulerade toppvardena for strOmmen. Vid implementering i framtida nanotrAdbaserade solceller skulle denna %dust begransa effektiviteten till nivaer som enkelt kan uppnfis aven med gangse tekniker for multikristallina kiselsolceller, vilket allvarligt shine begransa framtida kommersiella utsikter for sadana celler. Avstandet mellan nanotrfidens toppyta och den Ovre gransen fOr utarmningsomradet styrs av tjockleken av ett hogdopat omrfide nara tradens topp. Detta omrade skall lianas kort — i en utforingsform dr den mindre an 150 nm, i syftet aft bibehalla strOmresponsen. I en vidare utfOringsform är tjockleken av det hOgdopade omradet mindre an 180 mn. I alla handelser skall denna tjocklek inte Overstiga 240 nm. Detta är en viktig frfiga for skivfria nanotradbaserade solceller, cla lager som anvands fOr aft uppratthalla inriktning och tillhandahfilla mekaniskt stOd är mycket tjockare an nanotradens langd, och kan ha ojamnheter som Overstiger 240 nm.
Eft extremt salt aft minimera avstandet mellan nanotradens Oversta del till den Ovre gransen for den fotoinsamlande Overgfingen fir aft tillhandahalla en SchottkyOvergfing 30 som toppkontakt. I eft sAdant fall Overensstammer den Ovre gransen for utarmningsomradet med kontaktgranssnittet. 8 537 287 Vidare maste processteg fOr aft tunna ut sadana lager avslutas med mycket hog tolerans. Dessutom är lager som anvands fOr aft (WedOra nanotradar sarmolikt inte det basta valet ur andra aspekter Mrande integration, sasom palitlighet i stranga omgivningsfOrhallanden. Tack vare fOreliggande uppfinning mOjliggOrs avlagsnande av sadana polymerlager med billiga vatstrippningsprocesser genom aft introducera en strukturell design for det undre ledande lagret och anvanda en anslutningsmatris som i ndr de kombineras ar kapabla stOdja tradarna och uppratthalla inriktning aven under vatstrippningssteg. Den efterfOljande integrationen mOjliggOr anvd ndning av additiva tunna lager med bibehallen inriktning och fOrbattrad styrning for aft mOta solcellens utmanande toleranskrav.
Det star klart aft den erhallna solcellsstrukturen är enkelt OverfOringsbar till valfritt substrat, och aft risken fOr kontaminering av den slutliga strukturen av spar fran material som harrOr fran OyerfOringspolymeren har eliminerats, da polymermatrisen avlagsnas fullstandigt med hjalp ay ett lesningsmedel.
Vidare astadkoms strukturen med godtyckligt aystand mellan tradarna, dvs. det ar inte erforderligt aft tradarrayerna ar tatt packade fOr aft nanotradamas inriktning skall uppratthallas.
Slutligen, eftersom fOreliggande uppfinning tydligt inte ar direkt anordnad for ett givet substrat eller metod for aft tillhandahalla nanotradarna, star det klart aft den erhallna strukturen kan skraddarsys till valbar storlek och form.
Ytterligare fOrdelar och sardrag for utfOringsformer kommer aft framga nar fOljande detaljerade beskrivning lases tillsammans med ritningarna.
Fig. 1 och 2 visar en axiell respektive en radiell implementation av den nanotradsbaserade solcellen enligt tva utthringsformer av fOreliggande uppfinning. Den axiella implementationen enligt Fig. 1 har en 3-segmentsnanotrad, medan den radiella implementationen enligt Fig. 2 ocksa har en 3-segmentsnanotrad, dar det nedersta segmentet endast utstracker sig i axiell led. 9
Claims (20)
1. 537 287 Figurema 3-15 visar steg av en icke begransande metod fOr tillverkning av solcellsstrukturen enligt fOreliggande uppfinning. Figurema 16-visar ett satt alt ansluta solceller seriellt.
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE1350687A SE537287C2 (sv) | 2013-06-05 | 2013-06-05 | En solcellsstruktur och en metod för tillverkning av densamma |
| US14/896,369 US20160155870A1 (en) | 2013-06-05 | 2014-06-05 | A solar cell structure and a method of its fabrication |
| JP2016518303A JP2016526304A (ja) | 2013-06-05 | 2014-06-05 | 太陽電池構造及びその製造方法 |
| EP14807588.0A EP3005424A4 (en) | 2013-06-05 | 2014-06-05 | A solar cell structure and a method of its fabrication |
| CN201710962476.7A CN107799612A (zh) | 2013-06-05 | 2014-06-05 | 太阳能电池结构及其制造方法 |
| KR1020167000131A KR20160029791A (ko) | 2013-06-05 | 2014-06-05 | 태양 전지 구조 및 이의 제조 방법 |
| CN201480035600.XA CN105659390B (zh) | 2013-06-05 | 2014-06-05 | 太阳能电池结构及其制造方法 |
| PCT/SE2014/050685 WO2014196920A1 (en) | 2013-06-05 | 2014-06-05 | A solar cell structure and a method of its fabrication |
| HK18104721.8A HK1245506A1 (zh) | 2013-06-05 | 2018-04-11 | 太阳能电池结构及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE1350687A SE537287C2 (sv) | 2013-06-05 | 2013-06-05 | En solcellsstruktur och en metod för tillverkning av densamma |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SE1350687A1 SE1350687A1 (sv) | 2014-12-06 |
| SE537287C2 true SE537287C2 (sv) | 2015-03-24 |
Family
ID=52008430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SE1350687A SE537287C2 (sv) | 2013-06-05 | 2013-06-05 | En solcellsstruktur och en metod för tillverkning av densamma |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20160155870A1 (sv) |
| EP (1) | EP3005424A4 (sv) |
| JP (1) | JP2016526304A (sv) |
| KR (1) | KR20160029791A (sv) |
| CN (2) | CN107799612A (sv) |
| HK (1) | HK1245506A1 (sv) |
| SE (1) | SE537287C2 (sv) |
| WO (1) | WO2014196920A1 (sv) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3016148A1 (en) | 2014-10-28 | 2016-05-04 | Sol Voltaics AB | Dual layer photovoltaic device |
| FR3031242B1 (fr) * | 2014-12-29 | 2016-12-30 | Aledia | Procede de fabrication de nanofils ou de microfils semiconducteurs a pieds isoles |
| DE102017104906A1 (de) * | 2017-03-08 | 2018-09-13 | Olav Birlem | Anordnung und Verfahren zum Bereitstellen einer Vielzahl von Nanodrähten |
| CN107310244A (zh) * | 2017-06-22 | 2017-11-03 | 大连保税区金宝至电子有限公司 | 太阳能电极印刷网版的蚀刻加工方法 |
| US10565015B2 (en) | 2017-09-18 | 2020-02-18 | The Regents Of The University Of Michigan | Spiroketal-based C2-symmetric scaffold for asymmetric catalysis |
| CN109616553B (zh) * | 2018-11-22 | 2020-06-30 | 中南大学 | 一种新型纤锌矿GaAs核壳纳米线光电探测器的制备方法 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04296060A (ja) * | 1991-03-26 | 1992-10-20 | Hitachi Ltd | 太陽電池 |
| US5322573A (en) * | 1992-10-02 | 1994-06-21 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | InP solar cell with window layer |
| EP0743686A3 (en) * | 1995-05-15 | 1998-12-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Precursor for semiconductor thin films and method for producing semiconductor thin films |
| US20060207647A1 (en) * | 2005-03-16 | 2006-09-21 | General Electric Company | High efficiency inorganic nanorod-enhanced photovoltaic devices |
| US8362460B2 (en) * | 2006-08-11 | 2013-01-29 | Cyrium Technologies Incorporated | Method of fabricating semiconductor devices on a group IV substrate with controlled interface properties and diffusion tails |
| EP1892769A2 (en) * | 2006-08-25 | 2008-02-27 | General Electric Company | Single conformal junction nanowire photovoltaic devices |
| CN101842909A (zh) * | 2007-07-19 | 2010-09-22 | 加利福尼亚技术学院 | 半导体的有序阵列结构 |
| US8106289B2 (en) * | 2007-12-31 | 2012-01-31 | Banpil Photonics, Inc. | Hybrid photovoltaic device |
| KR100953448B1 (ko) * | 2008-04-02 | 2010-04-20 | 한국기계연구원 | 반도체 나노소재를 이용한 광전 변환 장치 및 그 제조 방법 |
| US20100012190A1 (en) * | 2008-07-16 | 2010-01-21 | Hajime Goto | Nanowire photovoltaic cells and manufacture method thereof |
| KR101040956B1 (ko) * | 2009-02-26 | 2011-06-16 | 전자부품연구원 | 산화아연 나노와이어를 이용한 박막 실리콘 태양전지 및 그의 제조방법 |
| WO2010120233A2 (en) * | 2009-04-15 | 2010-10-21 | Sol Voltaics Ab | Multi-junction photovoltaic cell with nanowires |
| US20120192934A1 (en) * | 2009-06-21 | 2012-08-02 | The Regents Of The University Of California | Nanostructure, Photovoltaic Device, and Method of Fabrication Thereof |
| WO2011066570A2 (en) * | 2009-11-30 | 2011-06-03 | California Institute Of Technology | Semiconductor wire array structures, and solar cells and photodetectors based on such structures |
| US20110146744A1 (en) * | 2009-12-23 | 2011-06-23 | General Electric Company | Photovoltaic cell |
| JP2011138804A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-14 | Honda Motor Co Ltd | ナノワイヤ太陽電池及びその製造方法 |
| US20110240099A1 (en) * | 2010-03-30 | 2011-10-06 | Ellinger Carolyn R | Photovoltaic nanowire device |
| JP2012056015A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Honda Motor Co Ltd | ナノワイヤデバイスの製造方法 |
| US20140096816A1 (en) * | 2010-12-22 | 2014-04-10 | Harry A. Atwater | Heterojunction microwire array semiconductor devices |
| CN102157617B (zh) * | 2011-01-31 | 2013-06-19 | 常州大学 | 一种硅基纳米线太阳电池的制备方法 |
-
2013
- 2013-06-05 SE SE1350687A patent/SE537287C2/sv not_active IP Right Cessation
-
2014
- 2014-06-05 KR KR1020167000131A patent/KR20160029791A/ko not_active Withdrawn
- 2014-06-05 EP EP14807588.0A patent/EP3005424A4/en active Pending
- 2014-06-05 WO PCT/SE2014/050685 patent/WO2014196920A1/en not_active Ceased
- 2014-06-05 CN CN201710962476.7A patent/CN107799612A/zh active Pending
- 2014-06-05 CN CN201480035600.XA patent/CN105659390B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-06-05 US US14/896,369 patent/US20160155870A1/en not_active Abandoned
- 2014-06-05 JP JP2016518303A patent/JP2016526304A/ja active Pending
-
2018
- 2018-04-11 HK HK18104721.8A patent/HK1245506A1/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20160155870A1 (en) | 2016-06-02 |
| CN107799612A (zh) | 2018-03-13 |
| JP2016526304A (ja) | 2016-09-01 |
| EP3005424A4 (en) | 2017-01-11 |
| KR20160029791A (ko) | 2016-03-15 |
| HK1245506A1 (zh) | 2018-08-24 |
| WO2014196920A1 (en) | 2014-12-11 |
| CN105659390B (zh) | 2017-11-14 |
| SE1350687A1 (sv) | 2014-12-06 |
| CN105659390A (zh) | 2016-06-08 |
| EP3005424A1 (en) | 2016-04-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5106880B2 (ja) | 多接合太陽電池における変成層 | |
| CN103460354B (zh) | 薄型硅太阳能电池和制造方法 | |
| EP2797124B1 (en) | Method for manufacturing a solar cell | |
| JP5512086B2 (ja) | 背面側接触のためのviaを有する倒置変性ソーラーセル構造 | |
| US4431858A (en) | Method of making quasi-grain boundary-free polycrystalline solar cell structure and solar cell structure obtained thereby | |
| CN101399296B (zh) | 具有刚性支撑的薄倒置变质多结太阳能电池 | |
| CN104167454B (zh) | 太阳能电池及其制造方法 | |
| US20100203730A1 (en) | Epitaxial Lift Off in Inverted Metamorphic Multijunction Solar Cells | |
| JP7502383B2 (ja) | パターニングされたエミッタを有する多接合太陽電池及び該太陽電池の製造方法 | |
| SE1350687A1 (sv) | En solcellsstruktur och en metod för tillverkning av densamma | |
| KR20050113177A (ko) | 개선된 광전지 및 그 제조 | |
| US20080314443A1 (en) | Back-contact solar cell for high power-over-weight applications | |
| CN102934236A (zh) | 太阳能电池及其制造方法 | |
| US20200335649A1 (en) | Inverted metamorphic multijunction solar cells having a permanent supporting substrate | |
| US20120276676A1 (en) | Epitaxial lift off in inverted metamorphic multijunction solar cells | |
| US9035367B2 (en) | Method for manufacturing inverted metamorphic multijunction solar cells | |
| TW201318030A (zh) | 半導體光檢測裝置及其製備的方法 | |
| US20150171272A1 (en) | Semiconductor plate device | |
| US9184332B2 (en) | Inverted metamorphic multi-junction (IMM) solar cell and associated fabrication method | |
| CN103515461A (zh) | 纹理化的多结太阳能电池及制造方法 | |
| WO2017084492A1 (zh) | 双结薄膜太阳能电池组件及其制作方法 | |
| US20220020891A1 (en) | Systems and Methods for Three-Terminal Tandem Solar Cells | |
| Pavlovic et al. | „IntegRex-Process Development of a Module Interconnection Concept for Thin Crystalline Silicon Films “ | |
| KR20200021775A (ko) | 지지 핸들 및 이를 이용한 화합물 반도체 태양전지의 제조 방법 | |
| HK1147141A (en) | Nanowire-based solar cell structure |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| NUG | Patent has lapsed |