SA517381194B1 - طلاء منخفض الإنعكاس - Google Patents
طلاء منخفض الإنعكاس Download PDFInfo
- Publication number
- SA517381194B1 SA517381194B1 SA517381194A SA517381194A SA517381194B1 SA 517381194 B1 SA517381194 B1 SA 517381194B1 SA 517381194 A SA517381194 A SA 517381194A SA 517381194 A SA517381194 A SA 517381194A SA 517381194 B1 SA517381194 B1 SA 517381194B1
- Authority
- SA
- Saudi Arabia
- Prior art keywords
- low
- reflection coating
- substrate
- coating
- reflection
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/311—Coatings for devices having potential barriers for photovoltaic cells
- H10F77/315—Coatings for devices having potential barriers for photovoltaic cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
- B32B5/16—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer formed of particles, e.g. chips, powder or granules
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/02—Polysilicates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F19/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one photovoltaic cell covered by group H10F10/00, e.g. photovoltaic modules
- H10F19/80—Encapsulations or containers for integrated devices, or assemblies of multiple devices, having photovoltaic cells
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/16—Material structures, e.g. crystalline structures, film structures or crystal plane orientations
- H10F77/169—Thin semiconductor films on metallic or insulating substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/211—SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/213—SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/24—Doped oxides
- C03C2217/241—Doped oxides with halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
تمت مواءمة الطلاء خفيض الإنعكاس low-reflection coating موضوع الاختراع الحالي ليتم تقديمه على الأقل على سطح رئيسي principal surface واحد للركيزة. الطلاء خفيض الإنعكاس عبارة عن طبقة رقيقة مسامية porous film ذات ثخانة قدرها من 80 إلى 800 نانومتر، تشتمل الطبقة الرقيقة المسامية على: جسيمات سيليكا دقيقة fine silica particles كونها صلبة وكروية ذات متوسط قطر للجسيمات من 80 إلى 600 نانومتر؛ ورباط يحتوي على السيليكا silica كعنصر رئيسي، كما تحتوي على مجموعة غير آلفة للماء hydrophobic ، جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles كونها مرتبطة بالرباط. يشتمل الطلاء خفيض الإنعكاس على 35 إلى 70 كتلة ٪ من جسيمات السيليكا الدقيقة، 25 إلى 64 كتلة ٪ من سيليكا الرباط silica of the binder ، و 0.2 إلى 10 كتلة ٪ من مجموعة الرباط الغير آلفة للماء. يقوم الطلاء خفيض الإنعكاس بإنتاج كسب نفاذية قدرها 1.5٪ أو أكثر عندما يتوفر على الركيزة substrate. شكل 1.
Description
طلاء منخفض الإنعكاس Low-Reflection Coating الوصف الكامل خلفية الاختراع يتعلق الإختراع الحاليى بطلاء منخفض الإنعكاس dow-reflection coating لوح )> glass shee بشت ء منخفض الإذ « ركيزة زجاجية glass substrate تش heet او يشتمل طلاء منخفض الإنعكاس» ركيزة زجاجية bstrate او تشتمل على طلاء منخفض الإنعكاس؛ وتحويل كهرضوئى photoelectric conversion يشتمل على طلاء منخفض الإنعكاس ٠ لأغراض تحسين وظيفة الزجاج أو ركيزة السيراميك ceramic substrate في استخدامها المرجو؛ طلاء منخفض الإنعكاس لزيادة مقدار الضوء المراد إنفاذه أو لمنع الوهج glare الذي يحدث بسبب الإنعكاس الذي يتشكّل على سطح الركيزة surface of the substrate . تتشكل Jie طبقات الطلاء منخفض الإنعكاس هذه؛ على سبيل المثال» على ألواح الزجاج ليتم 0 استخدامها زجاج نوافذ المركبات؛ واجهات العرض أو وسائل تحويل كهرضوئية photoelectric conversion devices . ما يُطلّق عليه الخلية الشمسية ذات طبقة رقيقة؛ All هى عبارة عن نوع من وسائل التحويل الكهرضوئي؛ تقوم باستخدام لوح ala) يتم عليه تشكيل كدس من طبقة رقيقة تحت طبقية طبقة رقيقة موصلة شفافة طبقة تحويل كهرضوئية مصنوعة من السيلكون اللابللوري amorphous silicon أو ما شابه؛ والكترود عبارة عن طبقة رقيقة بالجانب الخلفي 5 وتتم ترتيبهم على هذا النحو. يتم تشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس على السطح الأساسي للوح الزجاجي مقابل السطح الأساسي الذي يحمل الكدس؛ أي على السطح الأساسي الذي يسقط عليه ضوء الشمس. تسمح تلك الخلية الشمسية ذات الطلاء منخفض الإنعكاس الموجود على الجانب الذي يسقط عليه ضوء الشمس بوصول كمية متزايدة من ضوء الشمس لطبقة التحويل الكهمرضوئي أو عنصر الخلية الشمسية ومن a تقوم بتوليد كمية متزايدة من الكهرياء .
طبقات الطلاء منخفضة الإنعكاس الأكثر شيوعا في الإستخدام عبارة عن طبقات dad) عازلة
كهربيا تتشكل عن طريق؛ على سبيل المثال» توضيع تحت الخلاء أو بالتفريغ أو الرش أو
التوضيع بالأبخرة الكيماوية .(CVD) chemical vapor deposition في بعض الحالات؛ يتم
استخدام طبقة الجسيمات الدقيقة الرقيقة التي تحتوي على جسيمات دقيقة Jie جسيمات السيليكا الدقيقة كطلاء منخفض الإنعكاس. يتم تشكيل تلك الطبقة من الجسيمات الدقيقة الرقيقة عن طريق
وضع سائل طلاء يحتوي على جسيمات دقيقة على الركيزة الشفافة بواسطة تقنية التغطيس؛ طلاء
التدفق أو الرش.
على سبيل المثال» تكشف وثقة براءة ١ لإختراع 1 عن زجاج غطاء لوسائل التحويل الكهرضوئية
التي تتشكل عن طريق وضع سائل الطلاءالذي يحتوي على الجسيمات الدقيقة وسلف الرباط على
لوح الزجاج ذات الخشونة السطحية عن طريق الرش ¢ ثم يتبع ذلك التجفيف عند درجة حرارة 400 درجة سليزية؛ ويعد ذلك عن طريق التكليس عند درجة حرارة 610 درجة سليزية sad 8 ساعات. من الممكن أن يقوم الطلاء منخفض الإنعكاس لهذا الزجاج الغطاء بإنتاج زيادة تقدر ب 72.37 على الأقل في متوسط انفاذ الضوءء في مدى طول موجة من 380 إلى 1100 نانومتر علاوة على ذلك؛ تكشف وثيقة براءة الإختراع 2 عن ركيزة زجاجية مطلية يتم انتاجها عن طريق
5 توضيع معلق غروي يحتوي على تترا ايثوؤكسي سيلين tetraethoxysilane ؛ أستيل أسيتونات الألومنيوم caluminum acetylacetonate والسيليكا الغروية colloidal silica على اللوح الزجاجى عن طريق الطلاء بالغمس ¢ يتبعه معالجة بالتسخين عند درجة حرارة 680 درجة سليزية لمدة 180 ثانية. تقوم الطبقة المانعة للإنعكاس لتلك الركيزة الزجاجية بإنتاج زيادة قدرها 72.5 في متوسط متوسط Mail الضوءء في مدى طول موجي من 300 إلى 1100 نانومتر.
0 بالإضافة إلى ذلك؛ تكشف day براءة الإختراع 3 عن ركيزة سيلكون silicon substrate ذات طلاء يتشكل عن طريق وضع تركيبة طلاء تحتوي على سيليكا غروية » تترا الكوكسي سيلين ctetraalkoxysilane ونيترات الألومنيوم Jealuminum nitrate ركيزة السيليكون باستخدام مصقلة الطلاء الدوارة ويعدها عن طريق تجفيف تركيبة الطلاء الموضوعة عند درجة حرارة 100 درجة سليزية لمدة دقيقة واحدة؛ السيليكا الغروية ذات قطر الجسيمات المتبدد أكبر من متوسط قطر
5 الجسيمات الأولى وذات عامل شكل ونسبة إبعاد أكبر من 1 بنسبة محددة أو AST يكون لهذا
الطلاء معامل انكسار قدره 1.40 أو أقل» بالرغم من عدم ذكر الزيادة فى متوسط نفاذية الضوء الناجمة عن هذا الطلاء . قائمة الإقتباس وثائق براءة الإختراع وثقة براءة الإختراع 1: ي ع 4 - 1032248 وثيقة براءة الإختراع 5:2( ع 2013 - 537873 أ وثيقة براءة الإختراع 3: ي ع 4 - 1015543 الوصف العام للاختراع
0 -لتقييم تأثير طلاء منخفض الإنعكاس؛ من المهم الأخذ في الإعتبار الخاصية التي يطلق عليها "كسب النفاذية". كسب النفاذية تقابل زيادة فى النفاذية؛ مثل الزيادة فى متوسط النفاذية فى مدى طول موجي تم تحديده مسيقا 3 يتم تحقيقه عن طريق تكوين طلاء منخفض f لإنعكاس . وعلى dag التحديد؛ يتم تحديد كسب النفاذية كقيمة يتم الحصول عليها عن طريق طرح نفاذية الركيزة المعوزة مع الطلاء من نفاذية الركيزة المزودة بالطلاء .
5 على سبيل المثال؛ في حالة وسيلة التحويل الكهرضوئية التي تقوم بتوظيف اللوح الزجاجي ذات السطح الذي يسقط عليه الضوء المزود بالطلاء منخفض الإنعكاس»؛ فإن كسب النفاذية الأعلى يعني أن اللوح الزجاجي يسمح بنفاذية كمية أكبر من الضوء وعليه يكون لوسيلة التحويل الكهرضوئية كفاءة أعلى . لإنتاج وسيلة التحويل الكهرضوئية التي تقوم بتوظيف اللوح الزجاجي؛ من التقليدي توفير طلاء
0 منخفض الإنعكاس على لوح زجاجي سَلفاً واستخدام اللوح الزجاجي مع الطلاء منخفض الإنعكاس لإنتاج وسيلة التحويل الكهرضوئية. ومع ذلك؛ في هذه الطريقة؛ من الممكن أن يتلف الطلاء
منخفض الإنعكاس الموجود على اللوح الزجاجي عَرّضيا أو يصبح مشوباً أو يعاني من تلف الخواص منخفضة الإنعكاس أثناء عملية إنتاج وسيلة التحويل الكهرضوئية. عند الإستخدام الفعلي لوسيلة التحويل الكهرضوئية؛ يتم تركيب الوسيلة بالخارج للسماح لضوء الشمس بالسقوط على الوسيلة. ومن ثم تكون هناك مشكلة في هذا التلوث الذي يلتصق بوسيلة
التحويل الكهرضوئية بسبب؛ على سبيل المثال؛ المطر أو dul الرمال وتلك الملوثات تعوق بعضا من التعرض للضوء مسببة نقص في الكهرياء الخارجة من وسيلة التحويل الكهرضوئية. من الممكن أن تنشاً تلك المشكلة التى تحدث نتيجة للملوثات التى تلتصق بالطلاء منخفض الإنعكاس أيضا عندما يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس على الركيزة بخلاف اللوح الزجاجي للإستخدام في وسيلة التحويل الكهرضوئية.
0 في ضوءٍ هذه «Cag lll يهدف الإختراع الحالي إلى توفير طلاء منخفض الإنعكاس يتكيف ليتم توفيره على ركيزة ليس بها طلاء AT منخفض f لإنعكاس . على dag التحديد 4 يتكيف الطلاء منخفض الإنعكاس ليتوافر على ركيزة زجاجية تشكل سطح يسقط عليه بوسيلة تحويل كهرضوئية بعد تجميعة من وسيلة التحويل الكهرضوئية وتكون ذات خواص ممتازة بالنسبة لإزالة الملوثتات التي تحدث بسبب؛ على سبيل المثال؛ المطر أو أترية الرمال .
5 حل المشكلة يوفر الإختراع الحالي طلاء منخفض الإنعكاس يتكيف ليتم توفيره على سطح أولي واحد على الأقل من الركيزة. الطلاء منخفض الإنعكاس كونه طبقة رقيقة مسامية ذات ثخانة قدرها من 80 إلى 800 نانومتر وتشتمل على: جسيمات سيليكا دقيقة fine silica particles كونها صلبة dog Ky وذات متوسط
0 قطر جسيم قدره من 80 إلى 600 نانومتر؛ ورباط (ging على السيليكا كعنصر رئيسي ويحتوي على مجموعة غير آلفة للماء؛ جسيمات السيليكا الدقيقة كونها مرتبطة بالرياط وحيث أن: تكون جسيمات السيليكا الدقيقة مشمولة فى كمية قدرها من 5 3 إلى 0 كتلة تكون السيليكا الخاصة بالرياط مشمولة في كمية قدرها من 25 إلى 64 كتلة 7
تكون المجموعة الغير aa للماء hydrophobic الخاصة بالرباط مشمولة فى كمية قدرها من 2 إلى 10 كتلة 7 و يقوم الطلاء منخفض الإنعكاس بإنتاج كسب نفاذية قدره 71.5 أو أكثر عندما يتم توفيره على الركيزة. يمثل كسب النفاذية الزيادة فى متوسط نفاذية الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس المرتبط
بالركيزة المعوزة بالطلاء منخفض الإنعكاس؛ متوسط النفاذية كونه تم تحديده في مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 نانومتر. يوفر الإختراع الحالي أيضا لوح زجاجي يشتمل على الطلاء منخفض الإنعكاس المذكور أعلاه. كما يقوم الإختراع الحالي Lad بتوفير ركيزة زجاجية تشتمل على الطلاء منخفض الإنعكاس
0 المذكور أعلاه؛ الطلاء منخفض الإنعكاس الذي يشكل سطح واحد أساسي للركيزة الزجاجية؛ كما تشتمل الركيزة الزجاجية أيضا على طبقة رقيقة موصلة شفافة تشكّل السطح الأساسي الآخر للركيزة الزجاجية المقابلة للسطح الأساسي الأول. كما يقوم الإختراع الحالي أيضا بتوفير وسيلة تحويل كهرضوئية تشتمل على: لوح زجاجي؛ و
5 الطلاء منخفض الإنعكاس المذكور أعلاه؛ الطلاء منخفض الإنعكاس كونه يتشكل على السطح الأساسي للوح الزجاجي؛ وحيث يكون فيه: السطح الأساسي Bile عن سطح يسقط عليه الضوء. التأثيرات المفيدة للإختراع يقوم الطلاء منخفض الإنعكاس المذكور أعلاه بإنتاج كسب نفاذية عالي بموجب حقيقة أن الطلاء
0 منخفض الإنعكاس يحتوي على كمية محددة مسبقا من جسيمات السيليكا الدقيقة الصلبة ذات متوسط قطر جسيمات فى مدى تم تحديده مسبقا وكمية محددة مسبقا من SAE الذي يحتوي على السيليكا كعنصر أساسى. علاوة على ذلك؛ يكون للطلاء منخفض الإنعكاس خواص ممتازة بالنسبة
لإزالة الشوائب الملتصقة بالطلاء منخفض الإنعكاس بموجب حقيقة أن رياط الطلاء منخفض
الإنعكاس يحتوي على كمية محددة مسبقا من مجموعة غير آلفة للماء.
شرح مختصر للرسومات
الشكل 1 عبارة عن مجهر إلكتروني ماسح للإنبعاث بالمجال field emission scanning (FE-SEM) electron microscope 5 صورة ضوئية للوح زجاجي مطلي بطلاء منخفض
الإنعكاس طبقا JE 4.
الوصف التفصيلي:
الطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع الحالي عبارة عن طلاء منخفض الإنعكاس يتكيف
ليتوافر على سطح ركيزة واحد على الأقل. الطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع الحالي
0 عبارة عن طبقة رقيقة مسامية تشتمل على: جسيمات سيليكا دقيقة كونها صلبة وكروية؛ والرباط الذي يحتوي على السيليكا كعنصر أساسي؛ جسيمات السيليكا الدقيقة كونها ملتصقة عن Gob الرباط. يُستخدّم المصطلح "كروي "USA هنا للإشارة إلى شكل جسيم دقيق يكون فيه معدل أكبر قطر (DI) diameter للجسيم الدقيق بالنسبة للقطر الأصغر (Ds) smallest diameter للجسيم الدقيق (DI/Ds) fine particle هو 1.5 أو أقل Lexie يتم ملاحظة الجسيم الدقيق
بمجهر إلكتروني ماسح (SEM) scanning electron microscope يحتوي الرياط على مجموعة غير آلفة للماء. وبفضل أن يحتوي الرياط أيضا على مركب ألومنيوم. ثخانة الطبقة الرقيقة المسامية هي؛ على سبيل المثال» من 80 إلى 800 نانومترء وبفضل أن تكون من 100 إلى 500 نانومتر؛ ويفضل بصورة أكبر أن يكون SST من 100 نانومتر وليس أكثر من 150 نانومتر.
0 جسيمات السيليكا الدقيقة عبارة عن جسيمات بصورة أساسية كروية ذات متوسط قطر جسيم؛ على سبيل المثال» قدره من 80 إلى 600 نانومتر» ويفضل أن تكون 100 إلى 500 نانومتر» ويفضل بصورة أكبر أن يكون أكبر من 100 نانومتر وليس أكبر من 150 نانومتر. يكون للسيليكا صلابة أكبر من مواد البوليمر العضوية. بالإضافة إلى ذلك؛ يكون للسيليكا معدل انكسار منخفض نسبياء ومن ثم يكون قادرا على توفير تقليل في معدل الإنكسار الواضح للطبقة المسامية الرقيقة التي
تشتمل على رياط وجسيمات سيليكا دقيقة. علاوة على ذلك؛ يتم تصنيع الجسيمات الرئيسية الكروية المصنوعة من السيليكا والتي لديها أقطار موحدة بشكل تجاري بتكلفة أقل وتكون متوفرة بدرجة dle بالنسبة للكمية والجودة والتكلفة. يتم تحديد 'متوسط قطر الجسيم" كما تم تعريفه هنا عن طريق ملاحظة المقطع العرضي للطلاء منخفض الإنعكاس عن طريق المجهر الإلكتروني الماسح .(SEM)scanning electron microscope 5 ويشكل أكثر تحديداء تم اختيار 50 جسيم وهم Ble عن مجمل ما تم ملاحظته عشوائيا؛ ويتم قياس أكبر وأصغر أقطار لكل جسيم؛ يتم تحديد متوسط أكبر وأصغر أقطار على أنها قطر الجسيم للجسيم؛ Jig تحديد متوسط أقطار جسيم ال 50 جسيم ك 'متوسط قطر الجسيم". يكون (gine جسيمات السيليكا الدقيقة في الطلاء منخفض الإنعكاس؛ على سبيل المثال» من 35 0 إلى 70 كتلة 7. من جانب واحد؛ يفضل أن يكون محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة في الطلاء منخفض الإنعكاس من 50 إلى 70 كتلة 7 ويفضل أكثر أن يكون من 55 إلى 65 sles JABS الجانب GAY) يفضل أن يكون محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة في الطلاء منخفض الإنعكاس من 35 إلى 55 كتلة 7 وفضل بشكل أكبر أن يكون من 40 إلى 55 ABS 7. ويكون sina السيليكا للرياط في الطلاء منخفض الإنعكاس ؛ على سبيل المثال؛ من 25 إلى 64 كتلة 7. على جانب واحد؛ يفضل أن يكون محتوى السيليكا للرباط من 25 إلى 740 وبفضل بشكل أكبر أن يكون من 28 إلى 38 كتلة 7. على الجانب الآخرء يفضل أن يكون محتوى السيليكا BL من 5 إلى 60 كتلة 7 Juang بشكل أكبر أن يكون من 40 إلى 55 كتلة 7 يُستَخْدَم المصطلح 'سيليكا" هنا للإشارة إلى sale تتشكل فقط من ذرات السيليكون silicon atoms وذرات الأكسجين oxygen atoms التي ترتبط مباشرة بذرات السيليكون. يكون محتوى المجموعة الغير آلفة للماء في الطلاء منخفض الإنعكاس؛ على سبيل المثال؛ من 2 إلى 10 كتلة 7# ويفضل أن يكون من 0.5 إلى 8 كتلة 7# وفي بعض الحالات؛ يفضل أن يكون من 1 إلى 6 كتلة of ويفضل بشكل أكبر أن يكون من 3 إلى 6 كتلة 7. في هذه الحالة؛ من الممكن أن تزداد زاوية تماس قطيرة الماء على الطلاء منخفض الإنعكاس؛ على سبيل المثال؛ إلى 70 درجة أو أكثر؛ ويفضل أن تكون 80 درجة أو أكثر؛ ويفضل بشكل أكبر أن تكون 85 5 درجة أو أكثر. وهذا يعني أن يكون للطلاء منخفض الإنعكاس خواص إزالة جيدة للشوائب. عندما
يكون محتوى المجموعة الغير آلفة للماء للرياط 1 كتلة 7 أو أكثر؛ يكون للطلاء منخفض الإنعكاس استمرارية كيميائية عالية. يقوم الطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع الحالي بإنتاج كسب نفاذية؛ على سبيل المثال؛ قدره 71.5 أو «SI وبفضل أن يكون 72.0 أو «ST وبفضل بشكل اكبر أن يكون 72.2 أو أكثر. يمثل كسب النفاذية الزيادة في متوسط نفاذية الركيزة المتوفرة مع الطلاء منخفض الإنعكاس
المرتبط بالركيزة المعوزة مع الطلاء منخفض الإنعكاس ؛ متوسط النفاذية كونه تم تحديده في مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 نانومتر.يتم تحديد كسب النفاذية هذا عن طريق طرح متوسط نفاذية الركيزة المعوزة بالطلاء منخفض الإنعكاس في مدى طول موجي من 389 إلى 850 نانومتر من متوسط نفاذية الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس في مدى طول موجي من
0 380 إلى 850 نانومتر. لهذا الغرض؛ يتم جعل الضوءٍ يسقط على الطلاء منخفض الإنعكاس على الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس» ويتم جعل الضوء يسقط على سطح الركيزة المعوزة بالطلاء منخفض الإنعكاس الذي يتشكل عليه الطلاء منخفض الإنعكاس. يفضل أن تكون مجموعة الرباط الغير آلفة للماء مشتقة من مركب السيليكون القابل للتحلل coldly أو حلامة مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء؛ المُضاف إلى سائل طلاء لتشكيل الطلاء
5 منخفض الإنعكاس؛ ويكون لمركب السيليكون القابل للتحلل بالماء مجموعة غير آلفة للماء مرتبطة مباشرة بالسيليكون. على سبيل المثال؛ يشتمل مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء على مركب يتم تمثيله بالصيغة (Il) أدناه. في الصيغة (2)؛ تمثل 7 المجموعة القابلة للتحلل بالماء؛ والتي يفضل أن تكون على الأقل واحدة مختارة من مجموعة تشتمل على مجموعة ألكوكسي alkoxy مجموعة اسيتوكسي إ«80610؛ ومجموعة ألكينيلوكسي alkenyloxy ؛ ومجموعة أمينية
0 | 80100 وذرة هالوجين halogen في الصيغة )2( تمثل R المجموعة الغير آلفة للماء؛ والتي ييفضل أن تكون سلسلة أو مجموعة ألكيل حلقية cyclic alkyl يكون بها من 1 إلى 30 ذرة كريون وعلى الأقل واحد من ذلك الذي يتم منه استبدال ذرات الهيدروجين اختياريا بذرة فلور fluorine atom وبفضل بشكل أكبر أن تكون مجموعة ألكيل سلسلة chain alkyl ويفضل حتى بشكل أكبر مجموعة ألكيل سلسلة بها من 1 إلى 3 ذرات كربون؛ وعلى وجه التحديد بشكل
5 أفضل مجموعة ميثيل methyl
RSiY3 (2) وبفضل عنما يتم وضع معلق مائي للغبار المحاكى aqueous suspension of simulated dust على الركيزة المتوفرة بطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع الحالي ويتم تجفيفه لإنتاج
شوائب محاكاة؛ يمكن مسح الشوائب المحاكاة عن طريق مسحها بقطعة قماش جافة للدرجة التي تصبح الشوائب المحاكاة غير مرئية بالعين المجردة.
في الطلاء منخفض الإنعكاس» النسبة بين محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة ومحتوى منتج تكثيف التحلل المائي لمركب السيليكون القابل للتحلل بالماء (محتوى جسيمات السيليكون: محتوى منتج تكثيف التحلل المائي لمركب السيليكون القابل للتحل بالماء)؛ حسبما تم توضيحه بالنسبة الكتلية؛ يكون في مدى من 70:30 إلى 30:70؛ على سبيل المثال. من جانب؛ يفضل أن تكون النسبة
0 في مدى من 65:35 إلى 50:50. من جانب AT يفضل أن تكون النسبة في مدى 60:40 إلى 0. كلما كانت نسبة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة (ef كلما كان كسب النفاذية الناتج عن طريق الطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع الحالي أكبر. وهذا بسبب الزيادة في التباعد بين جسيمات السيليكا الدقيقة نفسها أو بين الجسيمات الدقيقة والركيزة مثل الركيزة الشفافة.؛ في حال؛ على الرغم من ذلك؛ كانت نسبة المحتوى من جسيمات السيليكا الدقيقة كبيرة بشكل زائد عن
5 الحد؛ عندها تقل استمرارية الطلاء منخفض الغنعكاس. وهذا بسبب نسبة المحتوى الكبيرة والزائدة عن الحد لجسيمات السيليكا الدقيقة والذي ينتج عنه تقليل في تأثير تلك السيليكا على BL الذي يعمل على ربط جسيمات السيليكا مع بعضها أو ربط الجسيمات الدقيقة بالركيزة مثل الركيزة الشفافة. إذا كانت نسبة محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة قليلة بشكل زائد عن الحد ¢ Laie يكون التباعد المذكور أعلاه قليل das نتيجة لذلك يقل كسب النفاذية الناتج من الطلاء منخفض
0 الإنعكاس. عندما يشتمل الطلاء منخفض الإنعكاس على مركب الألومنيوم aluminum يفضل أن يكون مركب الألومنيوم 81010710007 مشتقا من مركب الألومنيوم الغير عضوي inorganic 0 الذائب في الماء Blas إلى سائل الطلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس وبفضل بشكل أكبر أن يكون مشتقا من هاليد الألومنيوم aluminum halide أو نيترات الألومنيوم
aluminum nitrate 5 المضافة إلى سائل الطلاء. في هذه الحالة؛ يفضل أن يكون هاليد
— 1 1 — الألومنيوم aluminum halide كلوريد ألومنيوم aluminum chloride . في الطلاء منخفض الإنعكاس؛ يكون محتوى مركب الألومنيوم؛ الذي يتم حسابه ك 81203؛ هو؛ على سبيل Jaa 2 إلى ABST 7 وبفضل أن يكون 4 إلى Lexie J ABST يشتمل الطلاء منخفض الإنعكاس على مركب الألومنيوم بكمية ما لإعطاء المحتوى المذكور أعلاه؛ يكون للطلاء منخفض الإنعكاس استمرارية كيميائية متزايدة . إن كان محتوى مركب الألومنيوم أقل من 2 كتلة of عندها تقل
الإستمرارية الكيميائية للطلاء منخفض الإنعكاس. في حال كان محتوى مركب الألومنيوم أكبر من 7 كتلة of عندها يقل كسب النفاذية الناتج من الطلاء منخفض الإنعكاس. من الممكن أن يشتمل الطلاء منخفض الإنعكاس أيضا على إضافة أخرى. وتشمل أمثلة الإضافة الأخرى مركب تيتانيوم titanium ومركب زركونيوم 2100010017. على سبيل المثال؛ عندما
0 يحتوي الطلاء منخفض الإنعكاس على تلك الإضافة؛ من الممكن ان يكون للطلاء منخفض الإنعكاس مقاومة متزايدة للقلويات. من الممكن أن يشتمل الطلاء منخفض الإنعكاس؛ على سبيل المثال» على 0.1 إلى 5 كتلة 7 من مركب الفوسفور Phosphorus الذي يتم حسابة ك خامس أكسيد الفسفور Phosphorus Pentoxide (0205). السيليكا الخاصة بالرياط مشتقة من؛ على سبيل المثال» مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء أو
5 حلامة مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء؛ المضاف إلى سائل الطلاء منخفض الإنعكاس لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس. على سبيل Jia) يشتمل مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء على مركب يتمثل بالصيغة (1) أدناه. في الصيغة (1) X coll عبارة عن واحد على الأقل يتم اختياره من المجموعة التي تتكون من مجموعة الكوكسي مجموعة اسيتوكسي مجموعة الكيني لوكسي»؛ مجموعة أمينو وذرة هالوجين.
SiX4 (1) 20 توصف مركبات السيليكون القابلة للتحلل بالماء هنا على أنها تشتمل على أوليغمرات oligomers مركبات السيليكون القابلة للتحل بالماء. تتكون تلك الأوليغمرات ؛ على سبيل (JE عن Gob تكثيف حوالي من 2 إلى 200 جزيء متماثل.
من الممكن أن تُستخدّم مركبات السيليكون القابلة للتحلل بالماء التي يُرمز إليها بألكوكسيدات السيليكون silicon alkoxides كمصدر للسيليكا الخاصة بالرياط. ومن أمثلة ألكوكسيدات السيليكون silicon alkoxides هي تتراميثوكسي سيلين tetramethoxysilane ؛ تتراإيثوكسي سيلين tetraethoxysilane » و تترا أيزو بريوكسي سيلين 1607815001000/5/181716. تخضع أي من مركبات السيليكون القابلة للتحلل بالماء هذه إلى القابلية للتحلل بالماء و تعدد التكثيف طبقا للعملية التي يطلق عليها محلول هلام وذلك لتكوين الرياط. من الممكن تنفيذ قابلية التحلل بالماء لمركب السيليكون القابل للتحلل بالماء بأي طريقة منسبة. يفضل أن يتم تنفيذ القابلية للتحلل بالماء في محلول يحتوي على جسيمات السيليكا الدقيقة لأن ذلك سيعزز من التفاعل تعدد التكثتيف بين مجموعات السيلانول silanol الموجودة على أسطح 0 جسيمات السيليكا الدقيقة ومجموعات السيلانول silanol التي تتشكل عن طريق التحلل بالماء لمركب السيليكون القابل للتحل بالماء Jie ألكوكسيد السيليكون silicon alkoxide ؛ وم نثم يؤدي إلى زيادة في نسبة الرباط مما يساهم في تعزيز قوة الرابطة بين جسيمات السيليكا الدقيقة. وعلى canal) dag يفضل إعداد سائل طلاء عن طريق الإضافة التسلسلية لمادة حفازة قابلة للتحلل بالماء ثم بعد ذلك ألكوكسيد السيليكون إلى محلول يحتوي على جسيمات السيليكا الدقيقة بينما يتم 5 تحريك المحلول. من الممكن أن يكون ألكوكسيد السيليكون Ble عن مونومر أو أوليغمر. من الممكن استخدام حمض أو قاعدة كمادة حفازة قابلة للتحلل بالماء. وبفضل أن يتم استخدام حمض؛ وتحديدا حمض ذات درجة عالية من التفكك الإلكتروليتي في محلول مائي. وعلى وجه التحديد؛ يفضل استخدام حمض ذات ثابتة تفارق حمضي pKa acid dissociation constant التي تشير إلى ثابتة التفارق الحضي الأولى عندما يكون الحمض حمض متعدد القاعدية polybasic 0 8000 قدرها 2.5 أو أقل. تشتمل الأمثلة المفضلة للحمض على: أحماض غير عضوبة طيارة Jie حمض الهيدروكلوريد hydrochloric acid وحمض النتريك nitric acid ؛ أحماض عضوية fic Organic acids حمض ثلاثي فلو الخليك «trifluoroacetic acid حمض ميثان السلفونيك methanesulfonic acid وحمض بنزين السلفونيك benzenesulfonic acid وحمض البارا تولوين السلفونيك p-toluenesulfonic acid ؛ وأحماض متعددة القاعدية polybasic acids 5 _مثل حمض المالثيك maleic acid وحمض الفوسفوريك phosphoric
acid وحمض الأوكساليك oxalic acid . تسمح الظروف الحمضية بتشتت أفض لجسيمات السيليكا الدقيقة ويكون نتاج ذلك استقرار أعلى لسائل الطلاء عن الظروف القاعدية. علاوة على ذلك؛ تساهم أيونات الكلور chlorine ion المشتقة من حمض الهيدروكلوريك hydrochloric 0 في زيادة محتوى أيونات الكلور في سائل الطلاء ومن ثمّ تعزيز التأثير الناجم عن كلوريد الألومنيوم aluminum chloride المذكور أعلاه المضاف إلى سائل الطلاء.
ونتيجة cll من الممكن أن يقوم الطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع Jal بإنتاج كسب نفاذية يصل إلى؛ على سبيل المثال» 71.5 أو اكثرء وبفضل أن يكون 72.5 أو اكثرء ويفضل بشكل أكبر أن يكون 72.6 أو أكثر ويُظهر استمرارية كيميائية كما هو مبين أعلاه. عندما يشتمل الطلاء منخفض الإنعكاس على 35 إلى 55 كتلة # من جسيمات السيليكا الدقيقة و
0 35 إلى 60 كتلة 7 من سيليكا الرياط تكون القيمة المطلقة للإختلاف بين متوسط النفاذية الأول للركيزة المتوفر بالطلاء منخفض الإنعكاس ومتوسط النفاذية الثاني للركيزة المتوفر بالطلاء منخفض الإنعكاس؛ على سبيل المثال» 70.25 أو أقل. يتم تحديد متوسط النفاذية الأول للضوء في مدى طول موجي يقدر ب 380 إلى 850 نانومتر بعد أن تخضع الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس إلى اختبار الإستمرارية الكيميائية المبين أدناه؛ بينما يتم تحديد متوسط النفاذية الثاني
5 للضوء في مدى طول موجي يقدر ب 380 إلى 850 نانومتر قبل اختبار الإستمرارية الكيميائية. اختبار الإستمرارية الكيميائية هو تحديدا اختبار رش الملح الذي يتم تنفيذه عن طريق رش 5 كتلة # من محلول كلوريد الصوديوم Sl ذات درجة حرارة 35 درجة سليزية على الطلاء منخفض الإنعكاس لمدة 192 ساعة طبقا ل (المعايير الصناعية اليابانية) ج8917:2005؛ الملحق 4. متوسط نفاذية الضوء في مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 نانومتر هو وسط حسابي لقيم
0 ناذية الضوء في مدى طول موجي من 380 إلى 850 نانومتر. ويمكن أن نخلص مما سبق؛ أنه من الممكن أن يكون للطلاء منخفض الإنعكاس في نموذج استمرارية كيميائية أعلى. عندما يحتوي الطلاء منخفض الإنعكاس على 35 إلى 55 كتلة 7# من جسيمات السيليكا الدقيقة؛ يكون فقد الإنعكاسية المحدد كما هو مبين أدناه بعد اختبار الإهتراء الترددي؛ على سبيل المثال» 6 أو أكثر ويفضل أن يكون 72.0 أو أكثر . يتم تحديد فقد الإنعكاسية عن طريق طرح
5 متوسط انعكاسية الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس للضوءء في مدى طول age قدره
0 إلى 740 نانومتر من متوسط فقد انعكاس الركيزة المعورزة بالطلاء منخفض الإنعكاس للضوء في مدى طول موجي قدره من 360 إلى 740 نانومتر؛ يخضع متوسط انعكاسية الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس كونها محددة بعد الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس إلى اختبار الغهتراء الترددي؛ الذي يتم تنفيذه عن طريق تحريك عجلة تجليخ abrasive wheel «CS-10F + 5 تكون على اتصال بالطلاء منخفض الإنعكاس عند حمل قدره 4 نيوتن ب 50 دورة من التبادل. ويمكن of نخلص مما سبق أنه من الممكن أن يكون الطلاء منخفض الإنعكاس في نموذج ذات مقاومة اهتراء عالية وكذلك استمرارية كيميائية أعلى. ممن الممكن أن يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع الحالي» على سبيل المثال؛ عن طريق الوضع والتجفيف والتقديد لسائل الطلاء. ولتطبيق سائل الطلاء؛ يمكن استخدام أي 0 طريقة من الطرق المعروفة مثل الطلي الدوامي؛ الطلي بالتمليق؛ الطلي بالقضيب؛ الطلي بالغمس؛ الطلي بالرش. يستحسن أن يتم الطلاء بالرش بالنسبة للإنتاج الكمي. الطلي الدوامي ا, الطلي بالقضيب هو الأكثر ملاءمة بالنسبة لتوحيد المظهر البصري للطلاء منخفض الإنعكاس وكذلك بالنسبة للإنتاج الكمي. يفضل أن يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس عن طريق وشع سائل الطلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس على ركيزة ثم تسخين الركيزة حتى تصل درجة حرارة الركيزة العظمى إلى 200 درجة سليزية أو أعلى و 350 درجة سليزية أو أقل وتكون المدة التي تستغرقها الركيزة حتى تصل إلى درجة حرارة 200 درجة سليزية أو أعلى هي 5 دقائق أو أقل. يفضل أن يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس عن طريق وضع سائل الطلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس على ركيزة وبعدها يتم تسخين الركيزة حتى تصل درجة حرارتها العظمى إلى 120 درجة سليزية أو أعلى و 250 درجة 0 سليزية أو أقل وتكون المدة التي تستغرقها الركيزة حتى تصل إلى درجة حرارة 120 درجة سليزية أو أعلى هي 3 دقائق أو أقل. ويفضل بشكل أكبر أن يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس عن طريق وضع سائل الطلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس على الركيزة وبعدها يتم تسخين الركيزة حتى تصل درجة حرارتها العظمى إلى 100 درجة سليزية أو أعلى و 250 درجة سليزية أو أقل وتكون المدة التي تستغرقها الركيزة حتى تصل إلى درجة hs 100 درجة سليزية أو أعلى هي دقيقتين 5 أو أقل. وعليه؛ في نموذج؛ من الممكن أن يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع
الحالي عن طريق التسخين عند درجة حرارة نسبية. بالإضافة إلى ذلك؛ من الممكن تحقيق خواص إزالة sua للشوائب» وكسب نفاذية عالي ومقاومة اهتراء عالية واستمرارية كيميائية أعلى؛ كما هو مبين أعلاه. من الممكن تحقيق التجفيف والتقديد للطلاء منخفض الإنعكاس؛ على سبيل (JE عن طريق التجفيف بالهواء الساخن.
من الممكن أن تكون الركيزة المناسبة ليتم توفيرها بالطلاء منخفض الإنعكاس موضوع الإختراع الحالي لوح زجاجي ليس به أي طلاء. حيث أن الإختراع الحالي يوفر امكانية الحصول على لوح زجاجي يشتمل على الطلاء منخفض الإنعكاس المذكور أعلاه. من الممكن أن يكون اللوح الزجاجي لوح ala) مصقول ذات سطح أساسي بنعومة يكون المتوسط الحسابي للخشونة Ra للسطح الأساسي؛ على سبيل المثال؛ 1 نانومتر أو أقل ويفضل أن يكون 0.5 نانومتر أو أقل.
0 يساوي المتوسط الحسابي للخشونة Ra average roughness كما هو محدد هنا ذلك المحدد في المعايير الصناعية اليابانية ب1994-0601. من الممكن أن يكون اللوح الزجاجي المستخدم لوح زجاجي مشكل ذات سطح خشن. تكون المباعدة 9 الوسيطة للخشونة (SM) على سبيل المثال» 0.3 مم أو أكثر وبفضل أن تكون 0.4 ce ويفضل JS أكبر أن تكون 70.45 مم أو أكثر؛ وتكون؛ على سبيل المثال» 2.5 مم أو أقل
5 وبيفضل أن تكون 2.1 مم أو أقل؛ ويفضل بشكل أكبر أن تكون 2.0 مم أو أقل؛ وفضل تحديدا أن تكون 1.5 مم أو أقل. تشير المباعدة spacing الوسيطة (SM) كما هي معرفة هنا إلى متوسط أطوال فترات أعلى وأدنى مستوى في المقطع الجانبي للخشونة الذي يتم تحديده بناءا على نقاط عندها يتقاطع القطع الجانبي للخشونة مع الخط الوسيط. كما يفضل بشكل إضافي أن تكون خشونة سطح اللوح الزاجاجي المشكّل أقصى ارتفاع maximum height لها Ry قدره 0.5
ميكرون إلى 10 ميكرون؛ وتحديدا من 1 ميكرون إلى 8 ميكرون. بالإضافة إلى أن تكون المباعدة الوسيطة (SM) ضمن المدى المذكور أعلاه. تساوي المباعدة الوسيطة (SM) وأقصى ارتفاع RY كما هم كحددين هنا تلك المحددة في المعايير الصناعية اليابانية ب1994-0601. من الممكن أن يكون لللوح الزجاجي المستخدم تركيبة مشابهة لتلك الخاصة بألواح الزجاج المشكلة المتطابقة أو الألواح الزجاجية المعمارية؛ ويفضل أن تكون خالية من العناصر الملونة قدر
5 الأمكان. في الألواح الزجاجية؛ يفضل أن يكون محتوى أكسيد الحديد؛ الذي هو عنصر ملون
aa ¢ 0.06 كتلة 7 أو أقل ويفضل تحديدا أن يكون 0.02 كتلة 7 أو أقل عندما يتم حسابه
.(AI203) Aluminum oxide كمحتوى أكسيد الألمثيوم
علاوة على ذلك؛ من الممكن ان تكون الركيزة المناسبة لكونها تتوافر مع الطلاء منخفض الإنعكاس
موضوع الإختراع الحالي ركيزة dala) عبارة عن طبقة رقيقة موضّلة شفافة. تكون الركيزة الزجاجية التي هي عبارة عن طبقة رقيقة موصّلة شفافة؛ على سبيل المثال» ركيزة زجاجية ذات طبقة رقيقة
موصلة شفافة تتشكل على سطح أساسي واحد لأي لوح من الألواح الزجاجية كما هو موضح
ode تشتمل الركيزة الزجاجية على واحد أو أكثر من الطبقات التحتية وطبقة موصلة شفافة
تحتوي؛ على سبيل المثال على؛ أكسيد قصدير مشاب بالفلور كعنصر أساسيء الطبقات كونها
متكدسة في ترتيب على السطح الأساسي للوح الزجاجي. في هذه الحالة؛ يتم تحميل الطبقة الرقيقة
0 الموضلة الشفافة على السطح الأساسي للوح الزجاجي في مقابل السطح الأساسي الذي يتشكل عليه الطلاء منخفض الإنعكاس. على سبيل (Jal) عندما يكون اللوح الزجاجي واحدا منتجا بواسطة طريقة الطفوء يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس بشكل أفضل على السطح السفلي للوح الزجاجي الذي هو سطح أساسي متشكل من الزجاج الذي يكون على اتصال بالقصدير المنصهر في حمام الطفو. يفضل أن تتشكل الطبقة الرقيقة Alia gal) الشفافة على السطح العلوي للوح
5 الزجاجي والذي يكون سطحا رئيسيا يتشكل من الزجاج الذي لا يكون متصلا بالقصدير المنصهر في حمام الطفو. وعليه؛ يوفر الإختراع الحالي امكانية الحصول على ركيزة زجاجية تشتمل على الطلاء منخفض الإنعكاس المذكور أعلاه؛ يشكل الطلاء منخفض الإنعكاس سطح رئيسي واحد للركيزة الزجاجية؛ تشتمل الركيزة الزجاجية أيضا على طبقة رقيقة موضّلة شفافة تشكل السطح الرئيسي الآخر للركيزة الزجاجية المقابلة للسطح الرئيسي الأول.
0 يوفر الإختراع الحالي Lad إمكانية الحصول على وسيلة تحويل كهرضوئية تشتمل على لوح زجاجي والطلاء منخفض الإنعكاس المذكور أعلاه الذي يتشكل على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي الذي يسقط عليه الضوء. أمثلة
سيتم وصف الإختراع الحالي؛ هنا Lady بعد بتفصيل أكثر بالإشارة إلى الأمثلة. سيتم وصف الطرق المستخدمة في الأمثلة والأمثلة المبنية على المقارنة لتقييم الخواص المختلفة لكل طلاء منخفض الإنعكاس يتشكل على ركيزة Nl خواص نفاذية الضوء Light transmission تم قياس منحنى النفاذية طيف النفاذية transmission spectrum للركيزة باستخدام الفوتوموتر
الطيفي (UV-3100PC) spectrophotometer الذي قامت شايمادزو كوربوربشن بتصنيعه) قبل dang تكوين الطلاء منخفض الإنعكاس. تم حساب متوسط مدى الطول الموجي عن طريق حساب متوسط قيم النفاذية على مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 ناننومتر. تم تحديد الزيادة في متوسط نفاذية الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس المتعلق بالركيزة المعوزة
0 بالطلاء منخفض الإنعكاس على أنها كسب النفاذية. النتائج على سبيل المثال من 1 إلى 10 والمتال 2 الذي يتم المقارنة به موضحة بالجدول 1. تم تقييم خواص إزالة الشوائب كالتالي: تم إنتاج الشوائب المحاكاه المحددة على سطح الطلاء منخفض الإنعكاس وتم مسحها بقطعة قماش جافة. بعد ذلك؛ سواء تم فحص ما إذا كانت الشوائب المحاكاه قد Cid تماما بالعين المجردة؛ وسواء تم فحص وجود خدوش قد تشكلت على
5 الطلاء منخفض الإنعكاس بعد ذلك باستخدام ميكروسكوب بصري عند قوةٍ تكبير قدرها 100.تم إنتاج الشوائب المحاكاة عن طريق وضع وتجفيف معلق مائي لغبار محدد محاكى. كان الغبار المحاكى المستخدم Ble عن 'ترية طينية رملية كانتو" (صنعتها ذا أسوسيشن أوف بودر بروسيس إندستري اند إنجينيرينج؛ اليابان) المحددة بالفئة 7 من مساحيق الإختبار 1 في 8901 2 JIS (مساحيق الإختبار وجسيمات ("LAY وتم إعداد معلق الغبار عن طريق تعليق التراب في حجم
0 ماء مساوي 4 مرات لكتلة الغبار. تم إنتاج الشوائب المحاكاة عن طريق وضع نقطة من 0.5 مل من المعلق على die الإختبار الموضوعة أفقيا وبعدها تترك عينة الإختبار في الهواء لمدة 16 ساعة. نتائج الأمثلة والأمثلة التي يتم المقارنة بها موضحة في الجدول 1. بالنسبة لكل مثال من الأمثلة والأمثلة التي يتم المقارنة بهاء تم تحديد اختلاف بين متوسط النفاذية الظاهر قبل مسح الشوائب المحاكاة من الطلاء منخفض الإنعكاس ومتوسط النفاذية الظاهر قبل
— 8 1 — التصاق الشوائب المحاكاة بالطلاء منخفض الإنعكاس عن طريق طرح الأخير من الأول؛ باستخدام الفوتوموتر الطيفي uv-3 1 00PC) ‘ الذي قامت شايمادزو كوريوريشن بتصنيعه) . النتائج موضحة بالجدول 1. مقاومة التصاق الشوائب Resistance to contamination adhesion تم تقييم مقاومة التصاق الشواتب عن طريق السماح بإفراغ معلق الغبار وتجفيفه على سطح الطلاء منخفض الإنعكاس وفحص السطح للكشف عن وجود الشوائب المحاكاة الباقية بالعين المجردة. كان معلق الغبار مطابقا لذلك المستخدم في التقييم المذكور أعلاه لخواص إزالة الشوائب. تم وضع las الغبار بكمية قدرها 1 مل من قطارة على عينة الإختبار بشكل مائل بزاوية قدرها 45 درجة ومن ثم يتم السماح لها بالسقوط على العينة. تم ترك العينة في الهواء saad 16 ساعة وبعد ذلك يتم 0 فحصها. نتائج الأمثلة والأمثلة التي يتم المقارنة بها موضحة في الجدول 1. زاوية التماس Contact angle تم وضع حوالي 4 ميكرولتر من قطيرات الماء على سطح كل طلاء من الطلاءات منخفضة الإنعكاس طبقا للأمثلة والمثال 2 الذي يتم المقارنة به أو على سطح الركيزة الزجاجية المستخدم كمثال 1 يتم المقارنة به وتم قياس زاوية التماس لقطيرات الماء على السطح باستخدام عداد قياس 5 زاوية التماس (الذي صنعته شركة كيوا انترفيس سينس ليمتد (نموذج: (CAA نتائج الأمثلة والأمثلة التي يتم المقارنة بها موضحة في الجدول 1. مقاومة الإهتراء Wear resistance خضعت الركائز المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للمثال 4 إلى 11 والمثال 2 الذي يتم المقارنة به إلى اختبار الإهتراء الترددي باستخدام جهاز اختبار الإهتراء الترددي الذي صنعته 0 شركة دايي كاجاكو سايكي إم إف جي ليمتد. وتحديداء تم تثبيت كل ركيزة من الركائز المطلية بطلاء منخفض f لإنعكاس عن طريق موجه؛ بالطلاء منخفض f لإنعكاس 13 وتم تطبيق حمل قدره 4 نيوتن. كانت مساحة التماس بين عجلة التجليخ abrasive wheel ؛ «CS-10F والطلاء منخفض الإنعكاس 24 مم2 . فى هذه الحالة؛ تم تحريك عجلة التجليخ» «CS-10F مباشرة
ذهابا وإيابا 50 مرة على الطلاء منخفض الإنعكاس. تم تحديد السرعة الإتجاهية لعجلة التجليخ عند 120 مم/ث؛ وعرض مقطع عجلة التجليخ عند 120 مم. بالنسبة لكل ركيزة من الركائز المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للأمثلة من 4 إلى 11 والمثال 2 الذي يتم المقارنة به؛ تم قياس قيم انعكاسية الضوءء في مدى طول موجي قدره من 360 نانومتر إلى 740 نانومتر باستخدام مقياس اللون الطيفي CM-) spectrocolorimeter 0. الذي صنعته كونيكا مينولتا انك) وتم حساب متوسط قيم الإنعكاسية في مدى الطول الموجي هذا لتحديد متوسط الإنعكاسية. تم القيام بتحديد متوسط الإنعكاسية قبل وبعد اختبار الإهتراء الترددي لكل ركيزة من الركائز المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للأمثلة من 4 إلى 1 والمثال 2 الذي يتم المقارنة به. بالإضافة إلى ذلك؛ تم عمل تحديد متوسط الإنعكاسية لكل 0 ركيزة من الركائز المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للأمثلة من 4 إلى 11 والمثال 2 الذي يتم المقارنة به أيضا قبل تكوين الطلاء منخفض الإنعكاس بنفس الطريقة المذكورة أعلاه. في كل مثال من الأمثلة من 4 إلى 11 والمثال 2 الذي يتم المقارنة به ؛ تم طرح متوسط الإنعكاسية المحدد لكل ركيزة من الركائز المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس قبل اختبار الإهتراء الترددي من متوسط الإنعكاسية المحدد للركيزة قبل تكوين الطلاء منخفض الإنعكاس لتحديد فقد الإنعكاسية قبل 5 اختبار الإهتراء الترددي. في كل مثال من الأمثلة من 4 إلى 11 والمثال 2 الذي يتم المقارنة به؛ تم طرح متوسط الإنعكاسية المحدد لكل ركيزة من الركائز المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس بعد اختبار الإهتراء الترددي من متوسط الإنعكاسية المحدد للركيزة قبل تكوين الطلاء منخفض الإنعكاس لتحديد فقد الإنعكاسية بعد اختبار الإهتراء الترددي. بالنسبة لقياس الإنعكاسية؛ تم جعل الضوء يسقط على الطلاء منخفض الإنعكاس أو على سطح الركيزة هذا الذي عليه سيتم تشكيل 0 الطلاء منخفض الإنعكاس. النتائج موضحة بالجدول 1. الإستمرارية الكيميائية Chemical durability بالنسبة لكل ركيزة من الركائز المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للأمثلة 4 و 5 و 9 المثال 2 الذي يتم المقارنة به؛ تم تقييم الإستمرارية الكيميائية للطلاء منخفض الإنعكاس كالتالي. أولاء تم إعداد 5 كتلة 7 من محلول كلوربد الصوديوم المائي aqueous sodium chloride solution 5 ذات درجة pla 35 درجة سليزية. تم بعدها تنفيذ اختبار رش الملح عن طريق رش محلول كلوريد
— 0 2 — الصوديوم Sul على الطلاء منخفض f لإنعكاس لكل ركيزة من الركائز المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس لمدة 192 ساعة طبقا للمعايير الصناعية اليابانية 8917:2005 ؛ الملحق 4. قبل ويعد اختبار رش الملح تم تحديد متوسط نفاذية الركيزة المطلية بطلاء منخفض f لإنعكاس للضوء في مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 نانومتر باستخدام الفوتوموتر الطيفي (-/انا (3100PC 5 الذي قامت شايمادزو كوريوريشن بتصنيعه). ثم تبع ذلك حساب القيمة المطلقة
للإختلاف بين متوسط نفاذية الركيزة المطلية بطلاء منخفض f لإنعكاس المحددة للضوء فى مدى طول موجي قدره من 380 إلى 5850 نانومتر بعد اختبار رش الملح ومتوسط نفاذية الركيزة المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس المحدد للضوء في مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 نانومتر قبل اختبار رش الملح. النتائج موضحة بالجدول 1.
0 التثخانة Thickness تم ملاحظة كل طلاء من الطلاءات منخفضة الإنعكاس طبقا للأمثلة والأمثلة التي يتم المقارنة بها عن طريق المجهر الإلكتروني الماسح للإنبعاث بالمجال field emission scanning (FE-SEM) electron microscope الذي قامت هيتاشي ليمتد بتصنيعه (النموذج: 4500: 5( . تم قياس ثخانة الطلاء منخفض f لإنعكاس عند 5 نقاط في الصورة لضوئية من
المجهر المجهر الإلكتروني الماسح للإنبعاث بالمجال (FE-SEM) التي cial من الأعلى عند زاوية قدرها 30 درجة من المقطع العرضي للطلاء منخفض f لإنعكاس وحساب متوسط القيم التي تم قياسها على اعتبار ثخانة متوسط الثخانة average thickness للطلاء منخفض الإنعكاس. تم توضيح الصورة الضوئية من المجهر المجهر الإلكتروني الماسح للإنبعاث بالمجال (-]] (SEM للوح الزجاجي المطلي بطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للمثال 4 في الشكل 1.
Jud> 0 1> إعداد سائل الطلاء كمية قدرها 56.2 gj من كتلة تشتت جزيء السيليكا الدقيق fine silica particle 2007 (كوارترون Quartron 7-ا؛ الذي تصنعه شركة فوزو كيميكال ليمتد؛ الذي يحتوى تقريبا على جسيمات أساسية كروية ذات متوسط قطر جسيم قدره 125 نانومتر وذات
تركيز جوامد قدره 23 وزن #)» و 23.3 أجزاء من كتلة ١-ميثوكسي-2-برويانول -1 methoxy—2-propanol (المذيب)؛ و 1 eda من IN ABS حمض الهيدروكلوريك hydrochloric acid المادة الحفازة القابلة للتحلل بالماء hydrolysis catalyst يتم مزجهم بالتقليب» ويتم إضافة 12.1 أجزاء من كتلة التترا ايثوكسي سيلين tetraethoxysilane 5 ارتوسيليكات الإيثيل «ethyl orthosilicate الذي تصنعه شركة تاما كيميكالز ليمتد؛ و 7.1 جزء من كتلة الميثيل تريثوكسي سيلين methyltriethoxysilane (الذي تصنعه شركة شين-اتسو كيميكال ليمتد) إلى الخليط بالتحريك المستمر. يستمر التقليب لمدة 8 ساعات إضافية بينما يتم الحصول على درجة حرارة قدرها 40 درحة سليزية لتحليل ال تتراايثوكسي سيلين hydrolyze 6 وال ميثيل تريثوكسي سيلين methyltriethoxysilane « ومن ثم الحصول 0 على سائل مادة خام أ. في سائل salad) الخام أ؛ كانت النسبة بين ABS جزيئات السيليكا الدقيقة وكتلة منتجات تكثيف التحلل بالماء لمركبات السيليكون القابلة للتحلل بالماء المشتمّلة في الرباط 7 32.3 وكان مقدار منتج التحلل بالماء لمركب السيليكون القابل للتحلل بالماء ذات المجموعة pall آلفة للماء 43.4 جزءٍ من الكتلة بالنسبة لمركبات السيليكون القابلة للتحلل بالماء. كمية قدرها 52.5 aba من سائل المادة الخام aba 3.0 of من برويلين الجليكول propylene (cual) glycol 5 92.0 جرام من 1-ميثوكسي -2-بريانول 1-methoxy-2-propanol (المذيب)؛ و 2.49 aba من محلول كلوريد الألومنيوم aluminum chloride المائي (محلول Sle ذات تركيز ل AICI3 قدره 47.6 وزن 7 dig إعداده عن طريق إذابة درجة كاشف كلوريد الألومنيوم سداسي الهيدرات aluminum chloride hexahydrate (الذي تصنعه شركة سيجما-ألدريتش ش.ذ.م.م) في ماء مزال الأيونات deionized water يتم خلطه بالتقليب 0 للحصول على سائل الطلاء أ1. في سائل الطلاء أ1؛ كان تركيز الجوامد (المشتقة من جسيمات السيليكا الدقيقة والألكوكسي سيلينات alkoxysilanes الذي يتم حسابه ثنائي أكسيد السيليكون Silicon dioxide (5:02) 7.0 كتلة 7 كانت كمية مركب الألومنيوم الذي يتم حسابه ك 03 5 أجزاء من الكتلة بالنسبة ل 100 gia من كتلة أكسيد السيليكون الذي تم حسابه ك 02 وكان محتوى المجموعة الغير آلفة للماء في جوامد سائل الطلاء أ1 2.8 كتلة 7.
تكوين الطلاء منخفض الإنعكاس : يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي المطلي بطبقة رقيقة موصّلة شفافة الذي لم يتشكل عليه طبقة رقيقة موصّلة شفافة. كان اللوح الزجاجي المطلي بطبقة رقيقة موصلة شفافة ذات ثخانة قدرها 3.2 مم وتم تصنيعه عن طريق شركة نيبون cud جلاس ليمتد. يشتمل اللوح الزجاجي المطلي بطبقة رقيقة موصّلة شفافة على: لوح زجاجي ذات مركب سيليكات جير الصودا نمطي؛ وطبقة موصلة شفافة مشكّلة على
سطح أساسي أولي للوح الزجاجي عن طريق التوضيع بالأبخرة الكيميائية المباشر؛ ويشتمل على طبقة رقيقة موصلة شفافة. ما يمكن استنباطه من الحقيقة التي تفيد بأن الطبقة الرقيقة الموصّلة الشفافة عبارة عن واحدة تتشكل عن طريق التوضيع بالأبخرة الكيميائية المباشر ؛ اللوح الزجاجي المطلي بطبقة رقيقة Ainge شفافة عبارة عن لوح زجاجي يتم إنتاجه بواسطة طريقة الطفو. توضع
0 الطبقة الرقيقة الموصّلة الشفافة على السطح العلوي للوح الزجاجي الذي كان سطحا أساسيا متشكلا من الزجاج الذي لم يكن على اتصال بالقصدير المنصهر في حمام الطفو. تم قطع اللوح الزجاجي المطلي بالطبقة الرقيقة الموضّلة الشفافة إلى gia ذات أبعاد 200مم an 300 X الذي تم تغطيسه في محلول قلوي (LBC-1) سائل تنظيف قلوي ؛ تصنعه شركة ليبولد ليمتد) ثم يتم غسله بالماء بعدها يتم تجفيفه في درجة حرارة عادية. تم بعد ذلك إعداد لوح زجاجي (ركيزة) لتكوين طلاء
5 منخفض الإنعكاس. تم تقييم خواص نفاذية الضوء لذلك اللوح الزجاجي المعوزة بطلاء منخفض الإنعكاس بالطريقة المبينة أعلاه؛ وتم تحديد متوسط النفاذية ب 780.0. تم وضع سائل الطلاء أ1 باستخدام مصقلة الطلاء الدوارة على ذلك السطح الرئيسي للوح الزجاجي المذكور أعلاه الذي لم يكن قد تمت تغطيته بالطبقة الرقيقة dla gall الشفافة. تم تنفيذ تطبيق سائل الطلاء بطريقة يشكل فيها السائل الموضوع ثخانة قدرها 1 إلى 5 ميكرون. تم تجفيف سائل الطلاء
0 الموضوع على اللوح الزجاجي بعد ذلك وتقديده باستخدام الهواء الساخن. تم تنفيذ هذا التجفيف باستخدام الهواء الساخن عن طريق استخدام مجفف هواء ساخن من نوع الحزام الناقل وتحريك الناقل ذهابا وإيابا مرتين لتمرير اللوح الزجاجي تحت فوهة حقن الهواء af مرات؛ بدرجة حرارة هواء ساخن مضبوطة على 300 درجة سليزية؛ المسافة بين الفوهة واللوح الزجاجي مضبوطة على 5 مم؛ وسرعة النقل مضبوطة على 0.5 م/دقيقة. في هذا التجفيف؛ كانت المدة التي يتم خلالها
5 طلاء اللوح الزجاجي بسائل الطلاء والتي كانت في اتصال بالهواء الساخن 140 ثانية؛ وأقصى
درجة حرارة وصل إليها سطح الزجاج المطلي بسائل الطلاء 199 درجة سليزية. كانت المدة التي كان خلالها طلاء السطح الزجاجي بسائل الطلاء عند درجة حرارة درجة 120 درجة سليزية أو اعلى هي 125 ثانية. يُترّك اللوح الزجاجي الذي خضع للتجفيف والتقديد لكي يبرد في درجة حرارة الغرفة. بهذه الطريقة؛ يتم توفير طلاء منخفض الإنعكاس على لوح زجاجي. يجب العلم مما سبق أنه في المثال 1؛ تم تشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس على السطح السفلي للوح الزجاجي الذي كان سطحا رئيسيا تشكل من الزجاج الذي كان على اتصال بالقصدير المنصهر في حمام الطفو تم تقييم الخواص المتنوعة المذكورة أعلاه للطلاء منخفض الإنعكاس الذي تم الحصول عليه بعد ذلك طبقا للمثال 1. النتائج موضحة بالجدول 1. المتال 2 0 إعداد سائل الطلاء : كمية قدرها 28.3 gla من كتلة تشتت جزيء السيليكا الدقيق المماثل لذلك المستخدم في المثال 1 و 58.6 أجزاء من كتلة ١-ميثوكسي-2-برويانول 1-methoxy—2- propanol (المذيب)» و 1 جزءِ من كتلة IN حمض الهيدروكلوريك hydrochloric acid (المادة الحفازة القابلة للتحلل بالماء) يتم مزجهم بالتقليب» وبتم إضافة 12.1 أجزاء من وزن ال تترا اينوكسي سيلين tetraethoxysilane ارتوسيليكات الإيثيل ethyl orthosilicate « الذي 5 تصنعه شركة تاما كيميكالز ليمتد؛ إلى الخليط بالتحريك المستمر. يستمر التقليب لمدة 8 ساعات إضافية بينما يتم الحصول على درجة حرارة قدرها 40 درحة سليزية لتحليل ال تترا ايثوكسي سيلين بالماء ومن ثم الحصول على سائل مادة خام ب. في سائل المادة الخام ب؛ كانت النسبة بين AES جزيئات السيليكا الدقيقة التي تم حسابها ك 5502 وكتلة عناصر أكسيد السيليكون للرياط التي يتم احتسابها ك 5102 65:35؛ وكان تركيز الجوامد الذي يتم حسابه ك 5502 10 كتلة 7. لا يحتوي سائل المادة الخام على أي مجموعة غير آلفة للماء. كمية قدرها 70.0 aba من سائل المادة الخام ب؛ 2.0 جرام من برويلين الجليكول (المذيب)؛ 3 جرام من 1-ميثوكسي-2-بريانول (المذيب)» و 1.7 جرام من محلول كلوريد الألومنيوم Sl) مطابق لذلك المُستخدّم في المثال 1 0.09 جرام من ديسيل ترايميثوكسي سيلين 0601010106 (الذي تصنعه شركة شين-اتسو كيميكال ليمتد) يتم خلطه بالتقليب
— 4 2 — للحصول على سائل الطلاء ب2. في سائل الطلاء ب2 كان تركيز الجوامد (المشتقة من جسيمات السيليكا الدقيقة والألكوكسي سيلين) الذي يتم حسابه ك سيليكا (SI02) 7.0 كتلة of كانت كمية مركب الألومنيوم الذي يتم حسابه ك 81203 5 أجزاء من الكتلة بالنسبة ل 100 gia من AS أكسيد السيليكون الذي تم حسابه ك (SIO2 وكان (gine المجموعة الغير آلفة للماء في جوامد سائل Dall ب2 0.6 كتلة 7.
(تكوين الطبقة الرقيقة منخفضة الإنكاس) يتم توفير الطلاء منخفض الإنعكاس على لوح زجاجي بنفس الطريقة في المثال 1؛ ماعدا بالنسبة لاستخدام سائل الطلاء ب2 بدلا من سائل الطلاء أ1 وبتم حساب الخواص المتنوعة المذكورة أعلاه . النتائج موضحة بالجدول 1 .
0 <«المتال 1 الذي يتم المقارنة به> تم استخدام لوح ala) مطلي بطبقة رقيقة Alin ge شفافة مطابقة لتلك المستخدمة في الأمثلة 1 و2 كمثال 1 يتم المقارنة به بدون تكوين طلاء منخفض الإنعكاس على السطح الرئيسي الذي لم يتشكل عليه طبقة رقيقة موصّلة شفافة. وقبل التقييم؛ تم غسل اللوح الزجاجي وتم تجفيفه كما في المثال 1 و 2 نتائج التقييم موضحة بالجدول 1
5 كما هو موضح في الشكل 1 و 2؛ يكتمل الطلاء منخفض الإنعكاس فقط خلال التقديد الذي يتم عن طريق التجفيف الهواء (all الامر الذي ينتج die كسب نفاذية le بشكل معقول قدره 5 أو اكثر وأوضح خواص إزالة جيدة للشوائب. علاوة على ذلك؛ حقق الطلاء منخفض الإنعكاس بالمثال 2 بنجاح مقاومة جيدة للخدوش مقارنة بتلك الموجودة في سطح ركيزة الزجاج المعوزة بالطلاء .
0 <«المثال 4> كمية قدرها 21.7 gia من كتلة تشتت جزيء السيليكا الدقيق (كوارترون 01-7؛ الذي تصنعه شركة فوزو كيميكال ليمتد؛ الذي يحتوى تقريبا على جسيمات أساسية كروية ذات متوسط قطر جسيم قدره 125 نانومتر» وذات تركيز جوامد قدره 23 وزن 7( و 64.5 أجزاء من كتلة -١
— 2 5 —
ميثوكسي-2-بروبانول (المذيب)؛ و 1 جزء من كتلة IN حمض الهيدروكلوريك (المادة الحفازة
القابلة للتحلل بالماء) يتم مزجهم بالتقليب»؛ وبتم إضافة 7.7 أجزاء من كتلة منتج تكثيف القابلية
للتحلل بالماء الجزئية ل تترا ايثوكسي سيلين (أوليغمر يتشكل من خمس وحدات مونومر في
ddan gill الذي تصنعه شركة كولكوت ليمتد تحت الإسم التجاري "سيليكات الإيثيل 40" والذي يتم اختصاره ب '"5-40ح ")» و 5.1 جزءِ من كتلة الميثيل تربثوكسي سيلين (الذي تصنعه شركة
شين-اتسو كيميكال ليمتد) إلى الخليط بالتحربك المستمر. يستمر التقليب لمدة 8 ساعات إضافية
بينما يتم الحصول على درجة حرارة قدرها 40 درحة سليزية لتحليل ال 55-40 وال ine
تريثوكسي سيلين بالماء » ومن ثم الحصول على سائل مادة خام ج.
كمية قدرها 70.0 جرام من سائل المادة الخام aba 2.0 a من برويلين الجليكول (المذيب)؛
0 25.9 جرام من 1-ميثوكسي-2-بربانول (المذيب)؛ و 2.1 جرام من محلول كلوريد الألومنيوم Sl (محلول Sle ذات تركيز ل AICI3 قدره 47.6 وزن 7 aig إعداده عن طريق إذابة درجة كاشف كلوريد الألومنيوم سداسي الهيدرات (الذي تصنعه شركة سيجما-ألدريتش ش.ذ.م.م) في slo مزال الأيونات) يتم خلطه بالتقليب للحصول على سائل الطلاء ج1. في سائل الطلاء ج1؛ كان تركيز الجوامد (المشتقة من جسيمات السيليكا الدقيقة و 58-40 و ميثيل تريثوكسي سيلين)
5 الذي يتم حسابه ك أكسيد السيليكون 7 كتلة 7. تم توفير الطلاء منخفض الإنعكاس على لوح زجاجي بنفس الطريقة كما في المثال 1؛ ما عدا بالنسبة لاستخدام سائل الطلاء ج1 بدلا من سائل الطلاء أ1؛ وتم حساب الخواص المتنوعة المذكورة أعلاه. كانت محتويات العناصر في الطلاء منخفض الإنعكاس الذي تشكل من سائل الطلاء ج1[ كالتالى:
20 جسيمات السيليكا الدقيقة Fine silica particles 1 كتلة 7 سيليكا Silica of binder Luli 0 كتلة 7 المجموعة الغير آلفة للماء Hydrophobic 0 كتلة 7 مركب الألومنيوم Aluminum الذي يتم حسابه ك 1203 9 كتة 7
— 6 2 — في الطلاء منخفض الإنعكاس الذي يتشكل من سائل الطلاء ج1؛ كانت النسبة بين محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة ومحتوى منتجات تكثيف قابلية التحلل بالماء لمركبات السيليكون القابلة للتحلل بالماء 50: 50 كما هو موضح بالنسبة الكتلية. الامثلة 3 و 5 إلى 8
تم إعداد سوائل الطلاء طبقا للأمثلة 3 و 5 إلى 8 بنفس الطريقة المبينة في المثال 4؛ ما عدا بالنسبة لتعديل كميات المواد المضافة حتى أنه قد تم توضيح محتوى جسيمات السيليكا الدقيقة ومحتووى سيليكا الرابط ومحتوى المجموعة الغير آلفة للماء ومحتوى مركب الألومونيوم الذي يتم حسابه 5ك 81203 في الطلاء منخفض الإنعكاس الناتج في الجدول 1. كان تركيز الجوامد في كل سائل من سوائل الطلاء طبقا للأمثلة 3 و 5 إلى 8 7 كتلة 7. تم تصنيع ألواح الزجاج
0 المطلية بطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للأمثلة 3 و 5 إلى 8 بنفس الطريقة المذكورة في المثال 1؛ ما عدا بالنسبة لاستخدام سوائل الطلاء طبقا للأمثلة 3 و 5 إلى 8 بدلا من سائل الطلاء أ1. المثال 9 كمية قدرها 26.1 أجزاء من كتلة تشتت جزيء السيليكا الدقيق المطابق لذلك المستخدم في المثال 1» و 58.7 أجزاء من كتلة ١-ميثوكسي-2-برويانول (المذيب)؛ و 5 أجزاء من كتلة محلول
5 حمض الفوسفوريك phosphoric acid المائي (9.0 كتلة 7# محول مائي معد عن طريق إذابة محلول الفوسفوريك (الذي تصنعه شركة طوكيو كيميكال اندستري ليمتد) وذات تركيز قدره 89 AC # أو أكثر في ماء منزوع الأيونات) يتم مزجهم بالتقليب» ويتم إضافة 6.2 أجزاء من كتلة -5] 0 كما هو مستخدم أعلاه»؛ و 4.0 أجزاء من كتلة الميثيل تريثوكسي سيلين إلى الخليط بالتحريك المستمر ؛ ومن ثم ينتج عنه سائل مادة خام د. يتم الحصول بعد ها على سائل طلاء 1a بنفس
0 الطريقة كما في المثال 4؛ ما عدا بالنسبة لاستخدام ساتل المادة الخام د بدلا من سائل المادة الخام عدا بالنسبة لاستخدام سائل الطلاء د1 بدلا من سائل الطلاء أ1. تم تصنيع لوح زجاجي مطلي بطلاء منخفض f لإنعكاس بناء ا عليه طبقا للمثال 9 .
المثال 10 : تم الحصول على سائل مادة خام ه بنفس الطريقة كما في المثال 9؛ ما عدا بالنسبة oY مقدار 1-ميثوكسي-2-بروبانول (المذيب) المضاف قد تغير إلى 62.7 أجزاء من الكتلة وأنه قد تم استخدام 1.0 gia من كتلة محلول حمض ثلاثي فلور الخليك trifluoroacetic acid Sa (محلول مائي تم إعداده عن طريق إذابة 10 جرام من حمض ثلاثي فلور الخليك (الذي تصنعه شركة طوكيو كيميكال اندستري ليمتد) في 90 جرام ماء منزوع الأيونات) بدلا من محلول
حمض الفوسفوريك المائى. تم الحصول بعدها على سائل طلاء ه1 بنفس الطريقة كما في المثال 4 ما عدا بالنسبة لاستخدام سائل المادة الخام ه بدلا من سائل المادة الخام ج. تم توفير طلاء منخفض الإنعكاس على اللوح الزجاجي بنفس الطريقةكما في المثال 1؛ ما عدا بالنسبة لاستخدام سائل الطلاء 1a بد لا من سائل الطلاء j 1 تم تصنيع لوح زجاجي مطلي بطلاء منخفض
0 الإنعكاس بناءا عليه طبقا للمثال 10. المثال 11 تم الحصول على سائل مادة خام و بنفس الطريقة كما في المثال 10؛ ما عدا أنه قد تم استخدام 0 جزءٍ من كتلة محلول حمض الأوكساليك oxalic acid المائي (وهو عبارة عن محلول مائي يتم إعداده عن طريق إذابة 10 جرام من AUS هيدرات حمض الأوكساليك oxalic acid
dihydrate 5 (الذي تصنعه شركة كانتو كيميكال انك) في 90 aba ماء منزوع الأيونات) لإنتاج تركيز حمض أوكساليك قدره 7.1 كتلة 1( بدلا من محلول حمض ثلاثي فلور الخليك المائي. تم الحصول بعدها على سائل طلاء و1 بنفس الطريقة كما في المثال od ما عدا بالنسبة لاستخدام سائل المادة الخام و بدلا من سائل المادة الخام ه. تم توفير طلاء منخفض الإنعكاس على اللوح الزجاجي بنفس الطريقة كما في المثال 1؛ ما عدا بالنسبة لاستخدام سائل الطلاء و1 بدلا من
20 سائل الطلاء j 1 تم تصنيع لوح زجاجي مطلي بطلاء منخفض f لإنعكاس بناء ا عليه طبقا للمثال 11 تم إعداد سائل طلاء طبقا للمثال 2 الذي تتم المقارنة به بنفس الطريقة كما في المثال 4؛ ما عدا أنه لم يتم استخدام ميثيل تربثوكسي سيلين وأنه قد تم تعديل كميات المواد lal) حتى تصبح
— 8 2 — محتويات العناصر في جوامد سائل الطلاء طبقا للمثال 2 الذي تتم المقارنة به كما هى موضحة في الجدول 1. كان تركيز الجوامد في سائل الطلاء طبقا للمثال 2 الذي تتم المقارنة به 7 كتلة 7. الطريقة كما في المثال 1؛ ما عدا بالنسبة لاستخدام سائل الطلاء طبقا للمثال 2 الذي تتم المقارنة به بدلا من سائل الطلاء أ1. كما هو مبين في الجدول 1؛ كانت زاوية تماس الطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للمثتال 2 الذي تتم المقارنة به 6.6 درجة؛ بينما كانت زاوية التماس على الطلاءات منخفضة الإنعكاس بالنسبة للأمثلة من 3 إلى 11 69.68 درجة أو أكثر . هذا يوضح أنه يمكن الحصول على مقاومة الطلاء منخفض الإنعكاس لالتصاق الشوائب وخواص إزالة جيدة للشوائب عندما يحتوى رياط الطلاء منخفض 0 1 ا لإنعكاس على مجموعة غير aa للماء بمقدار محدد مسبقا . تنتج الطلاء ات منخفضة ١ لإنعكاس طبقا للأمثلة من 3 إلى 8 كسب نفاذية عالى نسبياء وكان حوالى 2.24 أو اكثر. بالنسبة للطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للمثال 2 الذي تتم المقارنة به؛ كان فقد الإنعكاسية المحدد بعد اختبار الإهتراء الترددي 1.55؛ بينما بالنسبة للطلاءات منخفضة الإنعكاس طبقا للأمثلة من 4 إلى 8؛ كان فقد الإنعكاسية المحدد بعد اختبار الإهتراء الترددي 2.33 أو أكثر. وهذا يوضح أن الطلاء 5 منخفضة الإنعكاس طبقا ABA من 4 إلى 8 ذات مقاومة جيدة للإهتراء. بالنسبة للطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للمثال 2 الذي تتم المقارنة به؛ كانت القيمة المطلقة للإختلاف في متوسط النفاذية قبل وبعد اختبار رش الملح 0.27 بينما كانت القيمة المطلقة للإختلاف في متوسط النفاذية قبل وبعد اختبار رش الملح 0.11 بالنسبة للطلاء منخفض الإنعكاس طبقا للمثال 5. وهذا يوضح أن الطلاءات منخفضة لاإنعكاس طبقا للمثال 4 و 5 ذات استمرارية كيميائية جيدة. dss] 0 1[
— 9 2 — Jad | المثال | Jad المثال 4 1 2 3 جسيمات السيليكا الدقيقة (كتلة 64.5 |61.9 62.1 |47.0 0 مجموعة | النوع die | ديسيل | ميثيل ١ ميثيل طلاء محا غير منخفض | لحجم (كتلة لكا al 3.0 9 4.07 إنعكاس ٍ: =| |( مركب ألومنيوم (يتم حسابه في صو |47 |48 |45 |59 3ح) (كتلة 7( جسيمات السيليكتا الدقيقة (النسبة 7 ]65.0 65.0 50.0 الكتلية) منتج تكثيف قابلية التحلل بالماء لمركب 2 السيليكونالقابل للتحلل النسبة 3 34.1 ]21.7 ]30.9 الكتلية بالماء الذي لا يحتوي LL) | على مجموعة غير آلفة للماء (النسبة الكتلية) منتج تكثيف قابلية التحلل بالماء لمركب 14.0 3 ]19.1 السيليكونالقابل للتحلل
— 0 3 — بالماء الذي يحتوي على مجموعة غير آلفة للماء (النسبة الكتلية) مقدار مركب الالومنيوم الذي تم حسابه كأكسيد معدن (81203) بالنسبة ل 0 جزءٍ من كتلة عنصر السيليكا 5 5 3 ]63 الذي تم حسابه ك 5102 [ أجزاء من الكتلة ] متوسط النفاذية ]7[ 5 2.65 | 82.55 | 2.46 الغختلاف المحدد عن طريق طرح الخوا لخواص متوسط خواص إزالة النفاذيةالذي - -0.1 |-0.2 |-0.1 |-0.2 الشوائب مالحصول عليه قبل التصاق الشوائب المحاكاة من متوسط
— 1 3 — النفاذية الذي تم الحصول عليه بعد المسح [7] وجود أو غياب الشوائب الذي يتم i موجود | Ange اموجود موجود dang بعد المسح التصاق الشوائب التي موجود بعد السماح جدا موجود | موجود لمعلق الغبار بالسقوط عليه كسب النفاذية ]7[ القيمة المطلقة للغختلاف فى متوسط النفاذية قبل ويعد اختبار 0.1 رش محلول الملح ]7[ فقد الإنعكاسية ]7[ قبل 3.73 اختبار
الإهتراء الترددي بعد اختبار 2.53 الإهتراء الترددي [تابع جدول 1] المثال | المثال | المثال | المثال | Jud 5 6 7 8 9 جسيمات السيليكا الدقيقة 47.0 |47.6 42.31 42.9 56.5 aks) 7) = طلاء غبد | الحجم منخفض لفة | 48|ag| ]4.0 ]3.6 |28 |3.2 الإنعكاس | mu للماء 0( مركب ألومنيوم انه ة (يتم حسابةفي sof |48 ]59 |48 |59 صورة 81203م) (كتلة 7)
oo] ee 50.0 |50.0 45.0 45.0 الدقيقة (النسبة الكتلية) قابلية التحلل بالماء لمركب السيليكونالقابل للتحلل بالماء 27.5 30.9 38.1 41.7 |24.7 الذي لا يحتوي على مجموعة النسبة غير ddl للماء الكتلية (النسبة الكتلية) Lu) قابلية التحلل بالماء لمركب السيليكونالقابل للتحلل بالماء 5 19.17 ]16.9 |13.3 ]15.3 الذي يحتوي على مجموعة غير ddl للماء (النسبة الكتلية) حسابه كأكسيد معدن (AI203)
٠ 3 4 ٠ عنصر AK بالنسبة ل 100 جزءٍ من 5102 السيليكا الذي تم حسابه ك ] أجزاء من الكتلة ] 82.60 | 82.24 | 82.24 | 82.47 | 82.47 [7] متوسط النفاذية تماس قطيرات dah 89.9 79.8] 82.2 86.3] 90.2 ١ ]*[ الماء الغختلاف المحدد عن طريق طرح متوسط النفاذيةالذ 7 الخواص 0.1-| 0.4-| 0.7-| 0.3- التصاق aby) الشوائب | الشوائب المحاكاة من متوسط النفاذية الذي تم الحصول عليه بعد ]7[ المسح
— 5 3 — وجود أو غياب الشوائب الذي يتم i موجود موجود nse] |موجود | موجود dang بعد المسح التصاق الشوائب التي بعد السماح |موجود |موجود |موجود | موجود | موجود لمعلق الغبار بالسقوط عليه كسب النفاذية
[7] القيمة المطلقة للغختلاف في متوسط النفاذية قبل 0.20 0.14 وبعد اختبار رش محلول الملح [7] قبل ف اختبار الإنعكاسية 2 3.626 3.53 3.41 3.59 الإهتراء ]7[ الترددي
بعد اختبار 244١ 2.59| 2.33 2.53 2.02 الإهتراء الترددي [تابع جدول 1] مثال gua | المثال | مثال مركب 11 مركب 1 2 جسيمات السيليكا الدقيقة 56.5 |56.5 61.9 aks) 7( مجموعة طلا 2 ا غير ررد ١ الحجم منخفض 3.2١ 3.2 ax) wu الإنتكاس | الرياط 0 مركب ألومنيوم يه انه : (يتم حسابه في 59 50 4.8 صورة 81203) aks) 7) النسبة | جسيمات السيليكتا الدقيقة 65.0 ALY | (النسبة الكتلية)
منتج تكثيف قابلية التحلل بالماء لمركب السيليكونالقابل للتحلل بالماء 24.7 ]24.7 35.0 الذي لا يحتوي على مجموعة غير آلفة للماء (النسبة الكتلية)
BAN
منتج تكثيف قابلية التحلل بالماء لمركب السيليكونالقابل للتحلل بالماء 3 |15.3 الذي يحتوي على مجموعة غير all للماء (النسبة الكتلية) مقدار مركب الالومنيوم الذي تم حسابه كأكسيد معدن (81203) بالنسبة ل 0 جزءِ من كتلة عنصر السيليكا |6.3 ]6.3 5 الذي تم حسابه ك 5102 [ أجزاء من الكتلة ]
— 8 3 — متوسط النفاذية ]7[ 82.60 | 82.60 | 80.00 | 82.68 زاوية تماس قطيرات الماء 9 |89.9 ]27.1 0 الغختلاف المحدد عن طريق طرح متوسط النفاذيةالذي ت قبل التصاق -0.1 |-0.1 |-0.2 -2.4 الخواص الشوائب المحاكاة من خواص متوسط النفاذية إئلة الذي تم =H | |لحصول عليه بعد المسح [7] وجود أو غياب الشوائب الذي / غير غير : : يتم فحصه يعد موجود موجود المسح التصاق : : : : الشوائب التي i موجود |موجود | موجود موجود يتم فحصها بعد
٠ 3 9 ٠ السماح لمعلق الغبار بالسقوط عليه كسب النفاذية
[7] القيمة المطلقة للغختلاف فى متوسط النفاذية قبل 0.7 ١ اختبار رش محلول aay ]7[ الملح قبل اختبار 3.1 3.61 1 الإهتراء فقد الإنعكاسية ا الترددي بعد [7] اختبار 1.5 2.02 2 الإهتراء الترددي القابلية للتطبيق الصناعي يجعل الإختراع الحالي من الممكن توفير طلاء منخفض الإنعكاس يقوم بإنتاج كسب نفاذية عالي وهذا من شأنه أن يكون ذات خواص مزيلة للتلوث بشكل جيد.
Claims (1)
- عناصر الحماية 1- طلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating يتكيف ليتم توفيره على سطح ركيزة رئيسي principal surface of a substrate واحد على الأقلء الطلاء منخفض الإنعكاس low—reflection coating كونه طبقة رقيقة مسامية porous film ذات سماكة قدرها أكثر من 100 نانومتر وأقل من أو يساوي 800 نانومتر وتشتمل على:جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles كونها جامدة وكروية وذات متوسط hi جزئيات قدره أكثر من 100 نانومتر وأقل من أو يساوي 600 نانومتر؛ ورياط يحتوي على السيليكا silica كعنصر أساسي ويحتوي على مجموعة غير آلفة للماء تتكون من مجموعة ألكايل حلقية؛ تكون جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles مرتبطة برياطء حيث: تكون جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles مشمولة في كمية قدرها من 35 إلى 700 | ©9 بالكتلة؛ تكون السيليكا silica الخاصة بالرباط مشمولة في كمية قدرها من 25 إلى 64 96 بالكتلة؛ تكون المجموعة غير الآلفة للماء الخاصة بالرباط مشمولة في كمية قدرها من 0.2 إلى 10 % بالكتلة؛ ترتبط ذرات السيليكون الخاصة بالمادة الرابطة بمجموعة غير آلفة للماء واحدة فقطء 5 تكون جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles ألفة «ell يقوم الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating بإنتاج كسب نفاذية قدره 71.5 أو أكثر عندما يتم توفيره على الركيزة» يمثل كسب النفاذية الزيادة في متوسط نفاذية الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating المرتبط بالركيزة المعوزة بالطلاء منخفض (Say) متوسط النفاذية كونه تم تحديده في مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 نانومتر» و تكون زاوية تلامس قطرة الماء على الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating هي 0 درجة أو أكثر. 2- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لعنصر الحماية 1؛ Cus— 4 1 —تكون جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles مشمولة في كمية قدرها من 50 إلى 70 % بالكتلة؛ وتكون سيليكا silica الرابط مشمولة في كمية قدرها من 25 إلى 40 96 بالكتلة.3- الطلاء منخفض الإنعكاس lak low-reflection coating لعنصر الحماية 1 Cusتكون جسيمات السيليكا الدقيقة fine silica particles مشمولة في كمية قدرها من 35 إلى 55 % بالكتلة؛ وتكون سيليكا silica الرابط مشمولة في كمية قدرها من 35 إلى 60 96 بالكتلة.0 4- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3 Gua يشتمل الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating أيضا على 2 إلى 7 كتلة 7 من مركب الألومنيوم 81010171010 الذي يتم حسابة كأكسيد الألمنيومAluminum oxide (203ام).5 5- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لعنصر الحماية 4؛ حيث يكون مركب الألومنيوم aluminum مشتقا من هاليد الألومنيوم aluminum halide المضاف إلى سائل الطلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس.6- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لعنصر الحماية 4؛ حيث يكون0 مركب الألومنيوم aluminum مشتقا من نيتريت الألومنيوم المضافة إلى سائل الطلاء لتشكيل الطلاء منخفض f لإنعكاس ٠7- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3 Gua يشتمل الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating أيضا5 على 1.0 إلى 5 كتلة 7 من مركب الفوسفور phosphorus الذي يتم حسابة خامس أكسيد الفسفور .(P205) Phosphorus Pentoxide8- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لعنصر الحماية 2 أو 3 Cua تكون القيمة المطلقة للإختلاف بين متوسط النفاذية الأول للركيزة المتوفرة بطلاء منخفض الإنعكاس ومتوسط النفاذية الثاني للركيزة المتوفرة بطلاء منخفض الإنعكاس هي 70.25 أو أقل؛ يتم تحديد متوسط النفاذية الأول للضوء في مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 نانومتر بعد أن تخضع الركيزة التي تتوفر بطلاء منخفض الإنعكاس إلى اختبار رش الملح الذي يتم تنفيذه عن طريق رش 5 كتلة 7 من محلول كلوريد الصوديوم المائي ذي درجة حرارة قدرها 35 درجة سليزية على الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating لمدة 192 ساعة طبقا للمعايير الصناعية اليابانية ج8917: 2005؛ الملحق 4؛ و يتم تحديد متوسط النفاذية الثاني للضوء في مدى طول موجي قدره من 380 إلى 850 نانومتر Ja 0 اختبار رش الملح salt spray 9- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لعنصر الحماية 2 أو 3 Cua يكون فقد الإنعكاسية 71.6 أو «ST فقد الإنعكاسية كونه يتم تحديده عن طريق طرح متوسط انعكاسية الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating بالنسبة للضوء 5 في مدى طول موجي قدره من 360 إلى 740 نانومتر من متوسط انعكاسية الركيزة المعوزة بالطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating بالنسبة للضوء في مدى طول موجي قدره من 360 إلى 740 نانومتر؛ و يتم تحديد متوسط انعكاسية الركيزة المتوقرة Dall منخفض الإنعكاس low-reflection 9 بعد أن تخضع الركيزة المتوفرة بالطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating 0 إلى اختبار الإهتراء الترددي الذي يتم تنفيذه عن طريق تحريك عجلة التجليخ» «CS-10F المتصلة بالطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating عند حمل قدره 4 نيوتن ب 50 دورة من التبادل. 0- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لأي عنصر من عناصر 5 الحماية من 1 إلى 3 حيث تكون المجموعة غير الآلفة للماء hydrophobic مشمولة في كمية قدرها من 0.5 إلى 8 كتلة 7.1- الطلاء منخفض الإنعكاس la low-reflection coating لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3؛ حيث يتم اشتقاق المجموعة غير الآلفة للماء hydrophobic من مركب السيليكون القابل للتحلل celal أو حلامة مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء hydrolyzable silicon 5 المضاف إلى سائل الطلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس؛ مركب السيليكون القابل للتحلل بالماء hydrolyzable silicon ذو مجموعة غير آلفة للماء hydrophobic ترتبط مباشرة بالسيليكون silicon ؛ مركب السيليكون القابل للتحلل يالماء hydrolyzable silicon يشتمل على مركب يتمثل بالصيغة التالية (2): RSIY3 0 )2( حيث أن: لا هي عبارة عن واحدة مختارة من المجموعة التي تشتمل على مجموعة ألكوكسي alkoxy مجموعة أسيتوكسي acetoxy مجموعة ألكينيلوكسي calkenyloxy مجموعة أمينية 807100؛ وذرة هالوجين chalogen و R هي المجموعة غير الآلفة للماء» والمجموعة غير الآلفة للماء hydrophobic هي عبارة عن سلسلة أو مجموعة ألكايل حلقية cyclic alkyl يكون بها من 1 إلى 30 ذرة كريون وعلى الأقل واحد من ذلك الذي يتم منه استبدال ذرات الهيدروجين hydrogen atoms اختياريا بذرة فلور fluorine atom 2- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لعنصر الحماية 11( Cus 0 تكون المجموعة غير الآلفة للماء R hydrophobic بالصيغة )2( عبارة عن مجموعة ألكايل 3- الطلاء منخفض الإنعكاس ala low-reflection coating لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3؛ حيثيتم اشتقاق سيليكا الرباط من مركب السيليكون القابل للتحلل hydrolyzable silicon بالماء أو حلامة مركب السيليكون القابل للتحلل hydrolyzable silicon يالماء؛ المضاف إلى سائل الطلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس؛ و يشتمل مركب السيليكون القابل للتحلل hydrolyzable silicon يالماء على مركب يتمثل بالصيغة (1) التالية:64 (1)؛ حيث أن: X عبارة عن واحد على الأقل يتم اختياره من المجموعة التي تتكون من مجموعة ألكوكسي ل07»ال8؛ مجموعة أسيتوكسي acetoxy مجموعة ألكينيلوكسي calkenyloxy مجموعة أمينو camino وذرة هالوجين halogen4- الطلاء منخفض الإنعكاس la low-reflection coating لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3؛ حيث أنه عند تطبيق المعلق المائي للغبار المحاكى على الركيزة المتوفرة بطلاء منخفض الإنعكاس وبتم تجفيفها لإنتاج شوائب محاكاة؛ يمكن مسح الشوائب المحاكاة عن طريق المسح بقطعة قماش جافة إلى الدرجة التي تصبح عندها الشوائب المحاكاة غير مرئية5 بالعين المجردة. 5- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3؛ حيث يتم تشكيل Dall منخفض الإنعكاس low-reflection coating عن طريق وضع سائل طلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating على0 الركيزة وبعدها يتم تسخين الركيزة حتى تصل درجة الحرارة القصوى للركيزة إلى 200 درجة سليزية أو أعلى و350 درجة سليزية أو أقل وأن المدة التي في خلالها تكون درجة حرارة الركيزة 200 درجة سليزية هي 5 دقائق أو أقل. 6- الطلاء منخفض الإنعكاس ala low-reflection coating لأي عنصر من عناصر5 الحماية من 1 إلى 3؛ Gus يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating عن طريق وضع سائل طلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating على— 5 4 — الركيزة وبعدها يتم تسخين الركيزة حتى تصل درجة الحرارة القصوى للركيزة إلى 120 درجة سليزية أو أعلى و250 درجة سليزية أو أقل وأن المدة التي في خلالها تكون درجة حرارة الركيزة 120 درجة سليزية أو أعلى هى 3 دقائق أو أقل .17- الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating طبقا لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3( Gus يتشكل الطلاء منخفض الإنعكاس low—reflection coating عن طريق وضع سائل طلاء لتشكيل الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating على الركيزة وبعدها يتم تسخين الركيزة حتى تصل درجة الحرارة القصوى للركيزة إلى 100 درجة سليزية أو أعلى و250 درجة سليزية أو أقل وأن المدة التي في خلالها تكون درجة حرارة الركيزة 1000 درجة سليزية أو أعلى هي دقيقتين أو أقل.8- لوح زجاجي Jak glass sheet على طلاء منخفض الإنعكاس طبقا لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3.5 19- ركيزة زجاجية glass substrate تشتمل على طلاء منخفض الإنعكاس lak لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3؛ يشكل الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating سطحًا رئيسيًا واحدًا من الركيزة الزجاجية؛ تشتمل الركيزة الزجاجية أيضا على طبقة رقيقة موصّلة شفافة تشكل السطح الرئيسي الآخر للركيزة الزجاجية المقابلة للسطح الرئيسي الأول.0 20- جهاز تحويل كهرضوئية photoelectric conversion device تشتمل على: لوح glass sheet als) ؛ و الطلاء منخفض الإنعكاس lok low—reflection coating لأي عنصر من عناصر الحماية من 1 إلى 3؛ الطلاء منخفض الإنعكاس low-reflection coating كونه يتشكل على السطح الرئيسي للوح الزجاجي؛ حيث5 يكون السطح الرئيسي عبارة عن سطح يسقط عليه الضوء.— 4 6 —Ny WANN WW ال br ve FEE © See ا TS he Teese Pe Selene Va ey 8 Na HN + NK R RR 1 nn NR 8 ا RN N RR nw a RE RR Ee Ra ااا a LL . SEG Ta GaSe Serv Le Le nN 8 اد Naa nN RR THR NN SD 8 aan Foca em ل ب - ا ا ا ا ال ااا ال 8ال 2 1 ألاله الهيلة السعودية الملضية الفكرية ا Sued Authority for intallentual Property RE .¥ + \ ا 0 § 8 Ss o + < م SNE اج > عي كي الج TE I UN BE Ca a ةا ww جيثة > Ld Ed H Ed - 2 Ld وذلك بشرط تسديد المقابل المالي السنوي للبراءة وعدم بطلانها of سقوطها لمخالفتها ع لأي من أحكام نظام براءات الاختراع والتصميمات التخطيطية للدارات المتكاملة والأصناف ع النباتية والنماذج الصناعية أو لائحته التنفيذية. Ad صادرة عن + ب ب ٠. ب الهيئة السعودية للملكية الفكرية > > > فهذا ص ب 101١ .| لريا 1*١ v= ؛ المملكة | لعربية | لسعودية SAIP@SAIP.GOV.SA
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014201590 | 2014-09-30 | ||
| JP2015015991 | 2015-01-29 | ||
| PCT/JP2015/004893 WO2016051750A1 (ja) | 2014-09-30 | 2015-09-25 | 低反射コーティング、ガラス板、ガラス基板、及び光電変換装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SA517381194B1 true SA517381194B1 (ar) | 2021-03-15 |
Family
ID=55629819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SA517381194A SA517381194B1 (ar) | 2014-09-30 | 2017-03-26 | طلاء منخفض الإنعكاس |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10600923B2 (ar) |
| EP (1) | EP3203273B1 (ar) |
| JP (2) | JP6771383B2 (ar) |
| CN (1) | CN107076876B (ar) |
| ES (1) | ES2900831T3 (ar) |
| MY (1) | MY183225A (ar) |
| PL (1) | PL3203273T3 (ar) |
| SA (1) | SA517381194B1 (ar) |
| TW (1) | TWI701456B (ar) |
| WO (1) | WO2016051750A1 (ar) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6650368B2 (ja) * | 2016-07-28 | 2020-02-19 | 日本板硝子株式会社 | 低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティング付基材を製造する方法、及び低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液 |
| CN108732655B (zh) * | 2017-04-17 | 2020-06-30 | 法国圣戈班玻璃公司 | 光学组件及制造方法，光伏器件 |
| EP3612602A2 (en) * | 2017-04-18 | 2020-02-26 | DSM IP Assets B.V. | Process for making an anti-soiling coating composition and a coating made therefrom |
| WO2018198937A1 (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-01 | 日本板硝子株式会社 | 被膜付き透明基板、被膜付き透明基板の被膜を形成するための塗工液及び被膜付き透明基板の製造方法 |
| EP3617165B1 (en) | 2017-04-27 | 2022-05-18 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Low-reflection-film-coated transparent substrate, photoelectric conversion device, coating liquid for forming low-reflection film for low-reflection-film-coated transparent substrate, and production method for low-reflection-film-coated transparent substrate |
| JP6503128B1 (ja) * | 2018-02-13 | 2019-04-17 | 日本板硝子株式会社 | 膜、液状組成物、光学素子、及び撮像装置 |
| US11118070B2 (en) | 2018-12-21 | 2021-09-14 | Eastman Kodak Company | Low specular reflectance surface |
| US10793727B2 (en) | 2018-12-21 | 2020-10-06 | Eastman Kodak Company | Matte paint composition |
| US12006439B2 (en) | 2019-03-27 | 2024-06-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical member, optical device and coating liquid |
| CN117425632A (zh) * | 2021-08-23 | 2024-01-19 | 福美化学工业株式会社 | 防反射玻璃 |
| JP2025077892A (ja) * | 2023-11-07 | 2025-05-19 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
| JP2025077891A (ja) * | 2023-11-07 | 2025-05-19 | 日東電工株式会社 | 透明導電性フィルム |
Family Cites Families (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5626750A (en) * | 1979-08-13 | 1981-03-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Bleeding preventing method for contained component from solid surface |
| JPS58126502A (ja) * | 1982-01-25 | 1983-07-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 反射防止プラスチツク光学部品 |
| JP2881847B2 (ja) * | 1988-12-15 | 1999-04-12 | 日産化学工業株式会社 | コーティング用組成物及びその製造法 |
| JPH078900A (ja) * | 1993-06-22 | 1995-01-13 | Sekisui Chem Co Ltd | 高撥水性材料の製造方法 |
| JP3635692B2 (ja) * | 1994-10-20 | 2005-04-06 | 日産化学工業株式会社 | 低屈折率反射防止膜 |
| JP4527272B2 (ja) * | 1999-12-13 | 2010-08-18 | 日本板硝子株式会社 | 低反射ガラス物品 |
| JP4107050B2 (ja) * | 2001-10-25 | 2008-06-25 | 松下電工株式会社 | コーティング材組成物及びそれにより形成された被膜を有する物品 |
| US7294405B2 (en) * | 2004-08-26 | 2007-11-13 | 3M Innovative Properties Company | Antiglare coating and articles |
| JP4993242B2 (ja) * | 2004-10-07 | 2012-08-08 | 大日本印刷株式会社 | 撥水・撥油性及び耐擦傷性が向上した反射防止フィルム |
| TW200630716A (en) * | 2004-12-24 | 2006-09-01 | Matsushita Electric Works Ltd | Liquid crystal display apparatus |
| CN100468083C (zh) * | 2005-02-16 | 2009-03-11 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 防反射膜、防反射膜的制法、偏振片及显示装置 |
| JPWO2006093156A1 (ja) * | 2005-03-02 | 2008-08-07 | 松下電工株式会社 | コーティング材組成物及び塗装品 |
| JP2006257244A (ja) * | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Matsushita Electric Works Ltd | 防曇防汚性材料及びその製造方法 |
| JP2007121786A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | コーティング液の製造方法、およびそのコーティング液を用いた反射防止膜の製造方法 |
| FR2908406B1 (fr) * | 2006-11-14 | 2012-08-24 | Saint Gobain | Couche poreuse, son procede de fabrication et ses applications. |
| WO2008117652A1 (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-02 | Konica Minolta Opto, Inc. | 反射防止フィルム、及び反射防止フィルムの製造方法、それを用いた偏光板、及び表示装置 |
| US9206335B2 (en) * | 2008-10-10 | 2015-12-08 | 3M Innovation Properties Company | Silica coating for enhanced hydrophilicity |
| US8864897B2 (en) * | 2009-04-30 | 2014-10-21 | Enki Technology, Inc. | Anti-reflective and anti-soiling coatings with self-cleaning properties |
| KR101021659B1 (ko) * | 2009-12-07 | 2011-03-17 | 주식회사 에이치와이티씨 | 태양전지 모듈용 글래스에 사용하기 위하여 광투과율을 증대시켜 주는 코팅액을 제조하는 방법과 이에 의하여 제조된 코팅액 조성물 |
| KR101771757B1 (ko) | 2009-12-11 | 2017-08-25 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광전 변환 장치용 커버 유리 및 그 제조 방법 |
| MX2013002450A (es) | 2010-09-01 | 2013-08-01 | Agc Glass Europe | Sustrato de vidrio revestido con una capa antirreflectante. |
| JP5903848B2 (ja) * | 2011-11-25 | 2016-04-13 | 三菱マテリアル株式会社 | 反射防止膜付きガラス基材 |
| KR101273789B1 (ko) * | 2012-04-19 | 2013-06-11 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 방현성 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 |
| JP2014015543A (ja) | 2012-07-09 | 2014-01-30 | Nissan Chem Ind Ltd | 低屈折率コーティング組成物 |
| JP6039962B2 (ja) | 2012-08-01 | 2016-12-07 | 日本板硝子株式会社 | 光電変換装置用カバーガラス |
| US20140178657A1 (en) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Intermolecular Inc. | Antireflection coatings |
| US20140182670A1 (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | Intermolecular Inc. | Light trapping and antireflective coatings |
| KR20140095863A (ko) * | 2013-01-25 | 2014-08-04 | 도레이첨단소재 주식회사 | 터치패널용 전자파쉴드 반사방지필름 |
| US20140272125A1 (en) * | 2013-03-14 | 2014-09-18 | Guardian Industries Corp | Anti-reflection glass made from aged sol including mixture of tri-alkoxysilane and tetra-alkoxysilane |
| JP6153093B2 (ja) * | 2013-09-03 | 2017-06-28 | 株式会社豊田中央研究所 | 反射防止膜及びその製造方法 |
| EP3612602A2 (en) * | 2017-04-18 | 2020-02-26 | DSM IP Assets B.V. | Process for making an anti-soiling coating composition and a coating made therefrom |
-
2015
- 2015-09-25 PL PL15845953T patent/PL3203273T3/pl unknown
- 2015-09-25 MY MYPI2017701147A patent/MY183225A/en unknown
- 2015-09-25 JP JP2016551529A patent/JP6771383B2/ja active Active
- 2015-09-25 ES ES15845953T patent/ES2900831T3/es active Active
- 2015-09-25 CN CN201580052163.7A patent/CN107076876B/zh active Active
- 2015-09-25 EP EP15845953.7A patent/EP3203273B1/en active Active
- 2015-09-25 US US15/515,492 patent/US10600923B2/en active Active
- 2015-09-25 WO PCT/JP2015/004893 patent/WO2016051750A1/ja not_active Ceased
- 2015-09-30 TW TW104132075A patent/TWI701456B/zh active
-
2017
- 2017-03-26 SA SA517381194A patent/SA517381194B1/ar unknown
-
2020
- 2020-06-02 JP JP2020096138A patent/JP6989650B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL3203273T3 (pl) | 2022-03-14 |
| US10600923B2 (en) | 2020-03-24 |
| WO2016051750A1 (ja) | 2016-04-07 |
| JP6771383B2 (ja) | 2020-10-21 |
| MY183225A (en) | 2021-02-18 |
| TW201625986A (zh) | 2016-07-16 |
| EP3203273A1 (en) | 2017-08-09 |
| JPWO2016051750A1 (ja) | 2017-08-31 |
| CN107076876A (zh) | 2017-08-18 |
| US20170243989A1 (en) | 2017-08-24 |
| CN107076876B (zh) | 2019-05-07 |
| JP2020170171A (ja) | 2020-10-15 |
| ES2900831T3 (es) | 2022-03-18 |
| EP3203273A4 (en) | 2018-05-30 |
| JP6989650B2 (ja) | 2022-01-05 |
| TWI701456B (zh) | 2020-08-11 |
| EP3203273B1 (en) | 2021-11-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SA517381194B1 (ar) | طلاء منخفض الإنعكاس | |
| US6156409A (en) | Non-fogging article and process for the production thereof | |
| JPH11100234A (ja) | 防曇物品及びその製造方法 | |
| EP3004011A1 (en) | Anti-corrosion anti-reflection glass and related methods | |
| EP3225600B1 (en) | Glass plate with low-reflection coating | |
| JP5156393B2 (ja) | 被膜を備える車両用ガラス板及びその製造方法 | |
| JPWO2016121404A1 (ja) | 低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティング付基材を製造する方法、及び低反射コーティング付基材の低反射コーティングを形成するためのコーティング液 | |
| JP2006076829A (ja) | 防曇物品及びその製造方法 | |
| EP3383810A1 (en) | Glass article having coating with interpenetrating polymer network | |
| SA516380631B1 (ar) | طلاء قليل الانعكاس، ومادة مطلية قليلة الانعكاس، وجهاز تحويل كهروضوئي | |
| JP6487933B2 (ja) | 低反射コーティング、低反射コーティング付ガラス板、低反射コーティングを有するガラス板、ガラス基板、光電変換装置、及び低反射コーティングを製造する方法 | |
| EP3617165B1 (en) | Low-reflection-film-coated transparent substrate, photoelectric conversion device, coating liquid for forming low-reflection film for low-reflection-film-coated transparent substrate, and production method for low-reflection-film-coated transparent substrate | |
| WO2003068871A1 (fr) | Compositions servant a creer un film photocatalytique et substrat pourvu de ce film photocatalytique | |
| JP2006070141A (ja) | 光触媒膜形成用組成物および光触媒膜付き基材 | |
| BR112019021667B1 (pt) | Substrato transparente revestido com película de baixa reflexão, líquido de revestimento para formar a película de baixa reflexão do referido substrato, e método de produção do referido substrato | |
| JPWO2018198935A1 (ja) | 低反射コーティング付きガラス物品 | |
| JP2007291244A (ja) | 親水性被膜形成用樹脂組成物及び物品 |