RU2608858C2 - Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием и способ его изготовления - Google Patents
Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием и способ его изготовления Download PDFInfo
- Publication number
- RU2608858C2 RU2608858C2 RU2015123046A RU2015123046A RU2608858C2 RU 2608858 C2 RU2608858 C2 RU 2608858C2 RU 2015123046 A RU2015123046 A RU 2015123046A RU 2015123046 A RU2015123046 A RU 2015123046A RU 2608858 C2 RU2608858 C2 RU 2608858C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- glass
- coating
- substrate
- aluminum
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 55
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 53
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 29
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 13
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 12
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 11
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- -1 aluminum nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 19
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 3
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 2
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910018509 Al—N Inorganic materials 0.000 description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020679 Co—K Inorganic materials 0.000 description 1
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000971 Silver steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004125 X-ray microanalysis Methods 0.000 description 1
- NWAIGJYBQQYSPW-UHFFFAOYSA-N azanylidyneindigane Chemical compound [In]#N NWAIGJYBQQYSPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000002173 high-resolution transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к стеклу с оптически прозрачным покрытием и способу его изготовления и может быть использовано при изготовлении оптических элементов космических аппаратов. Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием содержит подложку из оптически прозрачного стекла и нанесенное на подложку двухслойное прозрачное покрытие. Покрытие состоит из двух слоев, при этом нижний слой выполнен нанокристаллическим металлическим толщиной от 20 до 40 нм, а верхний керамический слой - из нитрида алюминия и нитрида кремния толщиной от 5 до 15 мкм с нанокристаллической, или аморфно- нанокристаллической, или аморфной структурой. Способ состоит из трех этапов: 1) бомбардировки поверхности подложки импульсно-периодическим высокоэнергетическим пучком ионов того же металла, из которого состоит нижний слой покрытия, 2) униполярного импульсного магнетронного осаждения нижнего нанокристаллического металлического слоя, 3) биполярного импульсного магнетронного осаждения верхнего двухфазного керамического слоя, проводимых в едином вакуумном цикле. Технический результат состоит в получении стекла, обладающего повышенной стойкостью против ударного воздействия высокоскоростных твердых микрочастиц. 2 н. и 9 з.п. ф-лы, 8 ил., 3 пр., 2 табл.
Description
Изобретение относится к вакуумной технологии нанесения оптически прозрачных защитных покрытий, обладающих повышенной стойкостью к ударному воздействию высокоскоростных твердых микрочастиц, на оптические элементы космических аппаратов, в частности на стекла иллюминаторов, и может быть использовано в космическом машиностроении и других областях.
Известен патент RU 2515826, в котором раскрыт терморегулирующий материал, содержащий подложку в виде оптически прозрачного стекла, высокоотражающий слой из серебра, защитный слой из нержавеющей стали. Перед нанесением покрытия осуществляют химическую очистку и обработку тлеющим разрядом подложки. Затем последовательно осуществляют нанесение высокоотражающего слоя толщиной 0,10-0,15 мкм и защитного слоя толщиной 0,10-0,20 мкм в вакуумной камере методом магнетронного распыления без разгерметизации вакуумной камеры за один технологический цикл, располагая подложку последовательно под магнетронными источниками с мишенью из серебра и мишенью из нержавеющей стали. Изобретение относится к космической технике и касается создания терморегулирующего материала для нанесения на поверхность космического объекта. Достигается улучшение терморадиационных характеристик поверхности космического объекта.
Однако покрытие не является оптически прозрачным и не обладает стойкостью к ударному воздействию высокоскоростных микрочастиц (микрометеороидов).
Известен патент RU 2241065, в котором раскрыт способ нанесения проводящего прозрачного покрытия на поверхность оптических деталей. Предложенный способ включает реактивное магнетронное распыление и осаждение металлического индия с добавлением олова в атмосфере газовой смеси инертного газа и кислорода, при этом осаждение ведут при соотношении напыляемых компонентов в мишени: индий - 95%, олово - 5% и при отношении парциальных давлений кислорода и аргона в газовой смеси, составляющем 1:6. В процессе реактивного магнетронного распыления толщину покрытия контролируют спектрофотометром до достижения максимума пропускания в нужной длине волны света. Техническим результатом изобретения является разработка способа, позволяющего получить высококачественное покрытие, оптическая прозрачность которого в видимом диапазоне составляет 90%, удельное поверхностное сопротивление в зависимости от толщины нанесенного покрытия составляет 30-75 Ом/кв при однородности 3-7 Ом/кв. Способ позволяет наносить проводящее покрытие на стекло, но такое покрытие не является защитным.
Известен патент RU 2165998, в котором раскрыт способ формирования теплоотражающего покрытия на стекле, включающий очистку стекла и нанесение покрытия путем дугового или магнетронного напыления в вакууме, отличающийся тем, что процесс напыления в течение всего времени нанесения покрытия сопровождают ионной обработкой. Покрытие состоит из трех слоев: буферного, отражающего и защитного. Для напыления буферного и защитного слоя осуществляют вакуумное распыление, по крайней мере, одного катода, выполненного из металла, выбранного из группы, состоящей из алюминия, титана, олова в среде смеси газов кислород и аргон в соотношении 0,2÷0,8 и рабочем давлении 0,3-0,66 Па. Для напыления отражающего слоя осуществляют вакуумное распыление, по крайней мере, одного катода, выполненного из металла, выбранного из группы, состоящей из меди и серебра в среде аргона при рабочем давлении 0,3-0,66 Па. Ионную обработку при напылении буферного и защитного слоев проводят пучком ионов кислорода, а при напылении отражающего слоя пучком ионов аргона, при ускоряющем напряжении 8-10 кВ, плотностью тока 0,3-1×10-4 А/см2 и рабочем давлении 0,3÷0,6 Па в течение всего процесса напыления. Очистку стекла осуществляют по крайней мере в два этапа, в течение первого этапа, до помещения его в вакуумную камеру проводят очистку моющими средствами, второй этап очистки проводят в вакууме и чистят пучком ионов аргона с ускоряющим напряжением до 1 кВ, плотностью тока не менее 1×10-4 А/см2 и рабочем давлении 0,3÷0,66 Па не более 5 минут.
Сформированное по данному способу покрытие является прозрачным в диапазоне видимого света и обладает одновременно повышенной коррозионной стойкостью, износостойкостью и адгезией к поверхности стекла, но не является стойким против ударного воздействия высокоскоростных микрочастиц.
Наиболее близким к предлагаемому техническому решению является решение, раскрытое в заявке EP 1705162, в ней раскрыта подложка с покрытием толщиной до 2 мкм, включающая: 1) стеклянную подложку и 2) кристаллическое/аморфное двухфазное покрытие высокой твердости, кроме того, покрытие, включает: 3) кристаллическое вещество и 4) аморфное вещество как матрицу, кроме того, 5) кристаллическое вещество и аморфное вещество являются несмешивающимися и осаждаются на подложку одновременно, кроме того, 6) кристаллическое вещество выбрано из группы, состоящей из нитрида алюминия (AlN), нитрида бора (BN), нитрида галлия (GaN) и нитрида индия (InN) или их сплавов, а аморфное вещество - нитрид кремния (Si3N4), кроме того, 7) кристаллическое/аморфное двухфазное покрытие прозрачно, по крайней мере, к видимому свету. В этой заявке раскрыт также способ нанесения указанного покрытия на подложку, причем кристаллические и аморфные вещества осаждаются на подложку с использованием реактивного физического процесса осаждения пара, причем для осаждения этих двух веществ используется единственная составная мишень или, по крайней мере, две пространственно разделенные мишени, причем до нанесения этих двух веществ на подложку последняя нагревается до температуры выше комнатной температуры, например до температуры 200°C, кроме того, между держателем подложки или поверхностью подложки и заземленной стенкой вакуумной камеры, в которой эти два вещества одновременно осаждаются на подложку, прикладывается высокочастотное напряжение смещения.
Это изобретение позволило достичь удовлетворительных значений технических характеристик стекол с покрытиями по прозрачности и износостойкости, необходимыми для таких применений, как, например, для сканеров, дисплеев, сенсоров или архитектурного и автомобильного стекла, или для офтальмологических приложений типа стеклянных очков. Однако для космических приложений, там, где стекла космических аппаратов подвергаются непрерывной бомбардировке микрометеороидами, движущимися со скоростью более 3-5 км/с, такие стекла с покрытиями имеют неудовлетворительные характеристики, например, по стойкости против ударного воздействия высокоскоростных твердых микрочастиц вследствие малой толщины до 2 мкм, неудовлетворительной микроструктуры и фазового состава покрытий.
Задачей настоящего изобретения является создание стекла с оптически прозрачным защитным покрытием, обладающим повышенной стойкостью против ударного воздействия высокоскоростных твердых микрочастиц, адгезией, микротвердостью, высоким коэффициентом упругого восстановления, и способа нанесения такого покрытия, состоящего из трех этапов: 1) бомбардировки поверхности подложки импульсно-периодическим высокоэнергетическим пучком ионов того же металла, из которого состоит нижний слой покрытия, 2) униполярного импульсного магнетронного осаждения нижнего нанокристаллического металлического слоя, 3) биполярного импульсного магнетронного осаждения верхнего двухфазного керамического слоя, проводимых в едином вакуумном цикле.
Задача достигается тем, что предложенное стекло с оптически прозрачным защитным покрытием, так же, как и известное, содержит подложку из оптически прозрачного стекла и нанесенное на подложку прозрачное покрытие, имеющее в своем составе керамический слой из нитрида алюминия и нитрида кремния.
Новым является то, что упомянутое покрытие осаждается на подложку, предварительно обработанную высокоэнергетическим пучком ионов металла, из которого будет состоять нижний слой покрытия. Оно выполнено двухслойным, при этом нижний слой выполняется на основе металла, выбранного из группы, включающей никель, палладий, платину или их сплавы, или сплавы на их основе, и имеет толщину от 20 до 40 нм и нанозеренную структуру, а верхний керамический слой, состоящий из нитрида алюминия и нитрида кремния, имеет толщину от 5 до 15 мкм и при содержании кремния от 8 до 12 ат.% и алюминия от 36 до 40 ат.% состоит из нанозерен фазы нитрида алюминия со средним поперечным размером менее 10 нм, которые относительно равномерно распределены в аморфной матрице нитрида кремния, при содержании кремния от 12 до 20 ат.% и алюминия от 26 до 36 ат.% состоит из смеси нанозеренных фаз нитрида алюминия и нитрида кремния со средним поперечным размером от 10 до 40 нм, при содержании кремния от 31 до 34 ат.% и алюминия от 10 до 14 ат.% состоит из смеси этих фаз в аморфном состоянии.
Задача достигается также тем, что, как и в известном, в предлагаемом способе изготовления стекла с оптически прозрачным защитным покрытием осуществляют нанесение на подложку из прозрачного стекла защитного прозрачного покрытия, имеющего двухфазный керамический слой из смеси фаз нитрида алюминия и нитрида кремния, с помощью магнетронного распыления двухкомпонентной составной мишени, состоящей из алюминия и кремния, в атмосфере из смеси инертного и реактивного газа, например смеси аргона и азота, при этом подложка нагрета до температуры, например, 200°C.
Новым является то, что в предлагаемом способе изготовления стекла с оптически прозрачным защитным покрытием процесс проводят в три этапа:
на первом - подложку из стекла размещают в вакуумной камере и проводят бомбардировку ее поверхности импульсно-периодическим высокоэнергетическим пучком ионов того же металла, из которого состоит нижний слой покрытия, для обеспечения адгезии этого слоя покрытия и поверхностной проводимости подложки,
на втором - методом униполярного импульсного магнетронного распыления металлической мишени с частотой следования импульсов тока на магнетроне от 40 до 60 кГц выполняют осаждение нижнего нанокристаллического металлического слоя толщиной от 20 до 40 нм для обеспечения термоциклической и ударной стойкости покрытия,
на третьем - методом биполярного импульсного магнетронного распыления составной кремниево-алюминиевой мишени наносят верхний двухфазный керамический слой толщиной от 5 до 15 мкм для обеспечения прозрачности покрытия и увеличения его ударной стойкости, термостойкости и микротвердости.
Для формирования верхнего керамического слоя из нанозерен фазы нитрида алюминия со средним поперечным размером менее 10 нм, которые относительно равномерно распределены в аморфной матрице нитрида кремния, химический состав слоя должен включать кремния от 8 до 12 ат.% и алюминия от 36 до 40 ат.%.
Для формирования верхнего керамического слоя из смеси нанозеренных фаз нитрида алюминия и нитрида кремния со средним поперечным размером от 10 до 40 нм, химический состав слоя должен включать кремния от 12 до 20 ат.% и алюминия от 26 до 36 ат.%.
Для формирования верхнего керамического слоя из смеси нитрида алюминия и нитрида кремния в аморфном состоянии, химический состав слоя должен включать кремния от 31 до 34 ат.% и алюминия от 10 до 14 ат.%.
Задача достигается также тем, что процесс формирования верхнего керамического слоя покрытия выполняют:
1) в режиме биполярного импульсного магнетронного распыления с частотой следования импульсов тока на магнетроне от 50 до 100 кГц при общем давлении рабочей газовой смеси (аргон + азот) в пределах от 0,2 до 0,4 Па и соотношении парциальных давлений азота к аргону от 1:5 до 1:3,
2) при температуре подложки, находящейся в интервалах от 280 до 320°C или от 100 до 200°C,
3) в условиях приложения к металлическому предметному столу, на котором располагается стеклянная подложка, постоянного отрицательного потенциала смещения в пределах от -50 до -150 В, тогда как стенки вакуумной камеры заземлены.
Изобретение поясняется графическими материалами и числовыми значениями технических характеристик.
На фиг. 1 приведено электронно-микроскопическое светлопольное изображение (а) поперечного сечения, предлагаемого двухслойного защитного покрытия на основе Ni/Si-Al-N, осажденного по способу 1, на подложке из кварцевого стекла SiO2, микроэлектронограмма (б), полученная с верхнего аморфно-нанокристаллического слоя Si-Al-N, и схема (в) индицирования ее кольцевых рефлексов.
На фиг. 2 приведено электронно-микроскопическое светлопольное изображение (а) поперечного сечения, предлагаемого двухслойного защитного покрытия на основе Ni/Si-Al-N, осажденного по способу, на подложке из кварцевого стекла SiO2 и микроэлектронограмма (б), полученная с верхнего аморфного слоя Si-Al-N.
На фиг. 3 приведена микроэлектронограмма (а) нижнего никелевого слоя защитного покрытия Ni/Si-Al-N и схема ее индицирования (б).
На фиг. 4 приведены рентгенограммы защитных покрытий на основе Ni/Si-Al-N, полученных по способам 1(а), 2(б) и 3(в).
На фиг. 5 приведена схема расположения экспериментальных образцов на предметном столе-держателе при испытаниях на ударную стойкость путем обстрела потоком высокоскоростных твердых частиц железа.
На фиг. 6 приведено электронно-микроскопическое изображение микрочастиц порошка железа.
На фиг. 7 приведено электронно-микроскопическое изображение кратеров, образовавшихся при воздействии потока частиц железа при указанных выше условиях испытания, на поверхности исходного образца стекла KB без покрытия при увеличении 50х.
На фиг. 8 приведено электронно-микроскопическое изображение кратеров, образовавшихся при воздействии потока частиц железа при указанных условиях испытания, на поверхности образца стекла KB с предлагаемым защитным покрытием на основе Ni/Si-Al-N, полученным по примеру 1, при увеличении 50х.
В таблице 1 приведен химический состав слоев в покрытиях.
В таблице 2 приведены средние значения коэффициента пропускания видимого света st, микроотвердости Hm, коэффициента упругого восстановления kу, адгезии Fa, поверхностной плотности кратеров ρs.
В дальнейшем изобретение поясняется конкретными примерами.
Пример 1. В качестве подложек использовались пластины кварцевого стекла марки KB в виде дисков диаметром от 15 до 80 мм и толщиной 4 мм, на которые с одной стороны наносилось двухслойное защитное покрытие на вакуумной установке УВН-05МИ. Перед нанесением покрытия выполнялась бомбардировка рабочей поверхности стеклянной подложки импульсно-периодическим пучком ионов никеля с энергией 80 кэВ, длительностью и частотой импульсов ионного тока соответственно 250 мкс и 50 Гц и флюенсом 5×1016 см-2 в едином вакуумном цикле с осаждением покрытия. Нижний металлический слой толщиной 35 нм (фиг. 1а), состоящий из никеля, чистотой 99,99 вес.%, осаждался в атмосфере аргона с помощью магнетрона, запитанного от униполярного импульсного источника питания с частотой 50 кГц. Осаждение верхнего аморфно-нанокристаллического слоя на основе системы химических элементов Si-Al-N толщиной от 8 до 10 мкм (фиг. 1а) со средним размером зерен фаз нитрида алюминия от 4 до 10 нм, относительно равномерно распределенных в аморфной матрице нитрида кремния, и атомными концентрациями кремния и алюминия соответственно от 9,5 до 10,0 ат.% и от 39 до 40 ат.%, проводили методом магнетронного реактивного распыления составной мишени из кремния и алюминия в атмосфере аргона и азота, при общем давлении рабочей газовой смеси (аргон + азот) 0,3 Па и соотношении парциальных давлений азота к аргону 1:4. Электропитание магнетрона осуществлялось от импульсного биполярного источника с частотой 60 кГц. В таблице 1 приведены данные химического состава полученного покрытия.
Пример 2. В качестве подложек использовались такие же пластины стекла, как в примере 1. С одной стороны, на них наносилось двухслойное защитное покрытие на вакуумной установке УВН-05МИ. Перед нанесением покрытия выполнялась бомбардировка рабочей поверхности стеклянной подложки импульсно-периодическим пучком ионов никеля с энергией 40 кэВ, длительностью и частотой импульсов ионного тока соответственно 250 мкс и 50 Гц и флюенсом 1×1017 см-2 в едином вакуумном цикле с осаждением покрытия. Нижний металлический слой толщиной 30 нм (фиг. 1а), состоящий из никеля, чистотой 99,99 вес.%, осаждался в атмосфере аргона с помощью магнетрона, запитанного от униполярного импульсного источника питания с частотой 50 кГц. Осаждение верхнего аморфного слоя на основе Si-Al-N толщиной от 5 до 7 мкм (фиг. 1а), состоящего из нитрида кремния-алюминия с атомными концентрациями кремния и алюминия соответственно от 32,4 до 33,0 ат.% и от 10,8 до 11 ат.%, проводили методом магнетронного реактивного распыления составной мишени из кремния и алюминия в атмосфере аргона и азота, при общем давлении рабочей газовой смеси (аргон + азот) 0,3 Па и соотношении парциальных давлений азота к аргону 1:4. Электропитание магнетрона осуществлялось от импульсного биполярного источника с частотой 50 кГц. В таблице 1 приведены данные химического состава полученного покрытия.
Пример 3. В качестве подложек использовались такие же пластины стекла, как в примере 1. С одной стороны, на них наносилось двухслойное защитное покрытие на вакуумной установке УВН-05МИ. Перед нанесением верхнего слоя покрытия выполнялись бомбардировка рабочей поверхности стеклянной подложки импульсно-периодическим пучком ионов никеля и нанесение нижнего слоя никеля по тем же режимам, что в примере 2. Осаждение верхнего нанокристаллического слоя на основе Si-Al-N толщиной от 5 до 7 мкм со средним размером зерен фаз нитрида кремния и нитрида алюминия от 12 до 18 нм, содержащего концентрации кремния и алюминия соответственно от 14,5 до 15,0 ат.% и от 32 до 32,5 ат.%, проводили методом магнетронного реактивного распыления составной мишени из кремния и алюминия в атмосфере аргона и азота, при общем давлении рабочей газовой смеси (аргон + азот) 0,3 Па и соотношении парциальных давлений азота к аргону 1:3. Электропитание магнетрона осуществлялось от импульсного биполярного источника с частотой 70 кГц. В таблице 1 приведены данные химического состава полученного покрытия.
Микроструктуру слоев покрытий (фиг. 1 и 2) выявляли методом просвечивающей электронной микроскопии (ПЭМ) высокого разрешения на приборе JEOM-2100. Режимы микродифракции (фиг. 1б, фиг. 2б, фиг. 3а) и микрорентгеноспектрального анализа в приборе JEOM-2100 использовали для определения фазового и химического состава отдельных структурных составляющих и тонких слоев в покрытии (табл. 1). Размеры зерен фаз, составляющих покрытие, определяли с помощью темнопольных изображений, полученных методом ПЭМ. Эти исследования выполняли на фольгах, приготовленных из образцов методом "cross-section" на приборе ионного утонения ION SLISER EM-09100IS. Фазовый состав покрытий также определяли методом рентгеновской дифрактометрии при съемке образцов под скользящим углом 2 градуса к рентгеновскому лучу на приборе ДРОН-7 в Со-Кα излучении (для отсечения β-излучения использовали Fe-фильтр) (фиг. 4).
На фиг. 1, 2 и 3 видно, что нижний металлический слой в двухслойных покрытиях, осажденных по примерам 1, 2 и 3, является нанокристаллическим и монофазным. Он состоит из нанозерен Ni со средним поперечным размером от 22 до 32 нм (фиг. 3а). Верхний слой покрытия Si-Al-N имеет двухфазную наноструктуру, состоящую из нанокристаллитов AlN со средним поперечным размером 6 нм, равномерно распределенных в аморфной матрице Si3N4 (фиг. 1a и 4а). В покрытии, полученном по примеру 2, верхний слой на основе Si-Al-N находится в аморфном состоянии (фиг. 2а, 2б и 4б). В покрытии, полученном по примеру 3, верхний слой на основе Si-Al-N имеет также двухфазную наноструктуру, но состоит из смеси нанокристаллитов AlN и Si3N4 со средним поперечным размером от 12 до 18 нм (фиг. 4в).
Измеренные с помощью спектрофотометра UVIKON 943, Kontron Instruments коэффициенты пропускания света в видимой области спектра длин волн стеклами с покрытиями, осажденными по примерам 1, 2 и 3, находятся в пределах от 0,80 до 0,89 и близки к его величине для стекла без покрытия (табл. 2).
Адгезию Fa, микротвердость Hm и коэффициент упругого восстановления kу покрытий, нанесенных на подложки из кварцевого стекла, определяли, используя акустоэмиссионный скрэтч-тестер Revetest-RST и нанотвердомер NanoHardnessTester CSM Instruments. Эти данные приведены в таблице 2. Все стекла с покрытиями характеризуются высокими значениями Fa, Hm и kу, при этом более высокие значения наблюдаются в покрытиях, осажденных по примеру 1 и 3. Испытания стеклянных образцов на ударную стойкость при обстреливании высокоскоростными твердыми микрочастицами проводили с помощью легкогазовой пушки. Для проведения испытаний использовался предметный стол, который помещался в вакуумную камеру в определенное положение относительно ствола легкогазовой пушки. Этот стол предусматривал одновременное размещение четырех исходных стекол и четырех стекол с покрытием в фиксированных гнездах относительно ствола легкогазовой пушки (фиг. 5). Обстрел экспериментальных образцов выполнялся микрочастицами отклассифицированного порошка железа со средним размером 56,3±8,2 мкм, с формой частиц, близкой к сферической (фиг. 6). Общая масса порции порошка для каждого выстрела была постоянной 60,0±0,1 мг, при этом их скорости метания составляли 4-5 км/с.
После обстрела микрочастицами железа стекол с покрытием и без покрытия на их поверхности образуются кратеры с диаметром, большим, чем диаметр микрочастиц. На фиг. 7 и фиг. 8 приведены изображения поверхности стекол после обстрела, полученные методом растровой электронной микроскопии на приборе LEO EVO-50XVP. Видно, что на стеклах с покрытием поверхностная плотность образующихся кратеров ρs при одних и тех же условиях испытания существенно ниже (фиг. 8), чем на стеклах без покрытия (фиг. 7). Подсчет количества образовавшихся кратеров за один выстрел на общей площади испытанных стекол показывает, что значения ρs равны 1,08×106 м-2 на стеклах без покрытия, 0,39×106 м-2 на стеклах с покрытием, осажденным по примеру 1, 0,70×106 м-2 на стеклах с покрытием, осажденным по примеру 2, и 0,42×106 м-2 на стеклах с покрытием, осажденным по примеру 3 (табл. 2). Таким образом, нанесение двухслойных защитных покрытий, осажденных по примеру 1, 2 и 3, понижает поверхностную плотность кратеров, образующихся на поверхности кварцевого стекла при обстреле потоком микрочастиц Fe, движущимися со скоростями 4-5 км/с, в 1,5-2,8 раза.
Claims (11)
1. Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием для иллюминаторов и оптических элементов космических аппаратов, содержащее подложку из оптически прозрачного стекла и нанесенное на подложку упомянутое покрытие, отличающееся тем, что покрытие состоит из двух слоев, при этом нижний слой выполнен нанокристаллическим металлическим толщиной от 20 до 40 нм, а верхний керамический слой - из нитрида алюминия и нитрида кремния толщиной от 5 до 15 мкм с нанокристаллической, или аморфно-нанокристаллической, или аморфной структурой.
2. Стекло по п. 1, отличающееся тем, что нижний слой состоит из металла, выбранного из группы, включающей никель, палладий, платину или их сплавы, или сплавы на их основе.
3. Стекло по п. 1, отличающееся тем, что верхний керамический слой из нитрида алюминия и нитрида кремния содержит кремния от 8 до 12 ат.% и алюминия от 36 до 40 ат.% и состоит из нанозерен фазы нитрида алюминия со средним поперечным размером менее 10 нм, которые относительно равномерно распределены в аморфной матрице нитрида кремния.
4. Стекло по п. 1, отличающееся тем, что верхний керамический слой из нитрида алюминия и нитрида кремния содержит кремния от 12 до 20 ат.% и алюминия от 26 до 36 ат.% и состоит из смеси нанозеренных фаз нитрида алюминия и нитрида кремния со средним поперечным размером от 10 до 40 нм.
5. Стекло по п. 1, отличающееся тем, что верхний керамический слой из нитрида алюминия и нитрида кремния содержит кремния от 31 до 34 ат.% и алюминия от 10 до 14 ат.% и состоит из смеси этих фаз в аморфном состоянии.
6. Способ изготовления стекла с оптически прозрачным защитным покрытием по одному из пп. 1-5, характеризующийся тем, что на подложку из прозрачного стекла в вакууме в три этапа наносят оптически прозрачное двухслойное защитное покрытие, при этом на первом этапе подложку из стекла размещают в вакуумной камере и проводят бомбардировку ее поверхности импульсно-периодическим высокоэнергетическим пучком ионов того же металла, из которого состоит нижний слой покрытия, с обеспечением адгезии слоя покрытия и поверхностной проводимости подложки, на втором этапе выполняют осаждение нижнего нанокристаллического металлического слоя толщиной 20-40 нм методом импульсного униполярного магнетронного распыления металлической мишени, а на третьем этапе наносят верхний керамический слой на основе нитридов кремния и алюминия толщиной от 5 до 15 мкм с нанокристаллической, или аморфно-нанокристаллической, или аморфной структурой методом импульсного биполярного магнетронного распыления составной кремниево-алюминиевой мишени.
7. Способ по п. 6, отличающийся тем, что бомбардировку стеклянной подложки импульсно-периодическим пучком ионов металла перед нанесением нижнего металлического слоя осуществляют энергией бомбардирующих ионов от 40 до 80 кэВ, с длительностью и частотой импульсов ионного тока соответственно 250 мкс и 50 Гц и флюенсом от 2×1016 до 2×1017 см-2.
8. Способ по п. 6, отличающийся тем, что осуществляют формирование нанокристаллической структуры нижнего слоя покрытия со средним размером зерна от 20 до 40 нм на режимах униполярного импульсного магнетронного распыления однокомпонентной металлической мишени с частотой следования импульсов тока на магнетроне от 40 до 60 кГц в атмосфере инертного газа аргона при давлении в вакуумной камере от 0,2 до 0,4 Па.
9. Способ по п. 6, отличающийся тем, что формирование верхнего керамического слоя покрытия выполняют на режимах биполярного импульсного магнетронного распыления с частотой следования импульсов тока на магнетроне от 50 до 100 кГц при общем давлении рабочей газовой смеси аргона и азота в пределах от 0,2 до 0,4 Па и соотношении парциальных давлений азота к аргону от 1:5 до 1:3.
10. Способ по п. 6, отличающийся тем, что процесс формирования верхнего керамического слоя покрытия выполняют при температуре подложки от 280 до 320°С или от 100 до 200°С.
11. Способ по п. 6, отличающийся тем, что формирование верхнего керамического слоя покрытия выполняют в условиях приложения к металлическому предметному столу, на котором располагают стеклянную подложку, постоянного отрицательного потенциала смещения в пределах от -50 до -150 В и заземления стенок вакуумной камеры.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2015123046A RU2608858C2 (ru) | 2015-06-17 | 2015-06-17 | Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием и способ его изготовления |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2015123046A RU2608858C2 (ru) | 2015-06-17 | 2015-06-17 | Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием и способ его изготовления |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2015123046A RU2015123046A (ru) | 2017-01-10 |
| RU2608858C2 true RU2608858C2 (ru) | 2017-01-25 |
Family
ID=57955630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2015123046A RU2608858C2 (ru) | 2015-06-17 | 2015-06-17 | Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием и способ его изготовления |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2608858C2 (ru) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2680548C1 (ru) * | 2017-11-28 | 2019-02-22 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Петрозаводский государственный университет" | Способ получения прозрачного износостойкого покрытия на основе борида алюминия-магния на поверхности прозрачных стеклянных изделий |
| RU2756268C2 (ru) * | 2017-04-28 | 2021-09-28 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Цветное стекло и способ его изготовления |
| RU2765966C1 (ru) * | 2021-11-29 | 2022-02-07 | Дмитрий Юрьевич Старцев | Способ нанесения алюминия на стеклянные изделия |
| RU2784453C1 (ru) * | 2022-04-07 | 2022-11-24 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)" (СПбГЭТУ "ЛЭТИ") | Способ получения пленки нитрида пермаллоя FexNi1-xN |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114836708B (zh) * | 2022-05-31 | 2023-11-17 | 中国科学院金属研究所 | 一种抗冲击耐腐蚀双层结构非晶合金涂层及其制备方法 |
| CN117721428B (zh) * | 2023-12-22 | 2025-08-26 | 西南大学 | 一种可减弱蓝光的透明硬质涂层及制备工艺 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2019197A1 (en) * | 1989-06-19 | 1990-12-19 | Marion M. Jeskey | Coated glass article |
| DE19541014A1 (de) * | 1995-11-03 | 1997-05-07 | Leybold Ag | Antireflexschichtsystem und Verfahren zur Herstellung eines Antireflexschichtsystems |
| RU2127231C1 (ru) * | 1993-04-29 | 1999-03-10 | Сэн-Гобэн Витраж | Остекление и способ его получения |
| EP1705162A1 (en) * | 2005-03-23 | 2006-09-27 | EMPA Eidgenössische Materialprüfungs- und Forschungsanstalt | Coated substrate and process for the manufacture of a coated substrate |
| RU2287433C2 (ru) * | 2002-04-25 | 2006-11-20 | Ппг Индастриз Огайо, Инк. | Изделие и монолитный прозрачный элемент, имеющие защитное покрытие |
| US20090197077A1 (en) * | 2006-03-06 | 2009-08-06 | Saint-Gobain Glass France | Substrate comprising a stack having thermal properties |
| RU2436744C2 (ru) * | 2005-07-29 | 2011-12-20 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Остекление, снабженное блоком тонких слоев, действующих на солнечное излучение |
| CN103173727A (zh) * | 2011-12-22 | 2013-06-26 | 辽宁法库陶瓷工程技术研究中心 | 一种高导热氮化铝厚膜的制备方法 |
-
2015
- 2015-06-17 RU RU2015123046A patent/RU2608858C2/ru active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2019197A1 (en) * | 1989-06-19 | 1990-12-19 | Marion M. Jeskey | Coated glass article |
| RU2127231C1 (ru) * | 1993-04-29 | 1999-03-10 | Сэн-Гобэн Витраж | Остекление и способ его получения |
| DE19541014A1 (de) * | 1995-11-03 | 1997-05-07 | Leybold Ag | Antireflexschichtsystem und Verfahren zur Herstellung eines Antireflexschichtsystems |
| RU2287433C2 (ru) * | 2002-04-25 | 2006-11-20 | Ппг Индастриз Огайо, Инк. | Изделие и монолитный прозрачный элемент, имеющие защитное покрытие |
| EP1705162A1 (en) * | 2005-03-23 | 2006-09-27 | EMPA Eidgenössische Materialprüfungs- und Forschungsanstalt | Coated substrate and process for the manufacture of a coated substrate |
| RU2436744C2 (ru) * | 2005-07-29 | 2011-12-20 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Остекление, снабженное блоком тонких слоев, действующих на солнечное излучение |
| US20090197077A1 (en) * | 2006-03-06 | 2009-08-06 | Saint-Gobain Glass France | Substrate comprising a stack having thermal properties |
| CN103173727A (zh) * | 2011-12-22 | 2013-06-26 | 辽宁法库陶瓷工程技术研究中心 | 一种高导热氮化铝厚膜的制备方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2756268C2 (ru) * | 2017-04-28 | 2021-09-28 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Цветное стекло и способ его изготовления |
| RU2680548C1 (ru) * | 2017-11-28 | 2019-02-22 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Петрозаводский государственный университет" | Способ получения прозрачного износостойкого покрытия на основе борида алюминия-магния на поверхности прозрачных стеклянных изделий |
| RU2765966C1 (ru) * | 2021-11-29 | 2022-02-07 | Дмитрий Юрьевич Старцев | Способ нанесения алюминия на стеклянные изделия |
| RU2784453C1 (ru) * | 2022-04-07 | 2022-11-24 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)" (СПбГЭТУ "ЛЭТИ") | Способ получения пленки нитрида пермаллоя FexNi1-xN |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2015123046A (ru) | 2017-01-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2608858C2 (ru) | Стекло с оптически прозрачным защитным покрытием и способ его изготовления | |
| Polyakov et al. | Microstructure-driven strengthening of TiB2 coatings deposited by pulsed magnetron sputtering | |
| US6134972A (en) | Air data sensing probe with chromium surface treatment | |
| Barshilia et al. | Reactive sputtering of hard nitride coatings using asymmetric-bipolar pulsed DC generator | |
| Wu et al. | Effects of magnetic field strength and deposition pressure on the properties of TiN films produced by high power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) | |
| Wei | Development of new technologies and practical applications of plasma immersion ion deposition (PIID) | |
| US12134817B2 (en) | Corrosion resistant and low embrittlement aluminum alloy coatings on steel by magnetron sputtering | |
| CN100362133C (zh) | 一种硬质耐磨保护薄膜的制备方法 | |
| US5637199A (en) | Sputtering shields and method of manufacture | |
| Kovaleva et al. | Properties of coatings based on carbon and nitrogen-doped carbon obtained using a pulsed vacuum arc method | |
| Krysina et al. | SSYNTHESIS OF NANOSTRUCTURED NITRIDE COATINGS BY VACUUM ARC EVAPORATION OF SINTERED Ti− Al CATHODES | |
| Oskomov et al. | Hard carbon coatings deposited by pulsed high current magnetron sputtering | |
| Volpian et al. | Ion-vacuum technology for manufacturing elements for nanogradient optics and metamaterials | |
| RU2829394C2 (ru) | Способ синтеза многослойных покрытий на изделиях с использованием синхротронного излучения | |
| Wang et al. | DLC film fabrication on the inner surface of a cylinder by carbon ion implantation | |
| KR102877458B1 (ko) | 다중 타겟을 이용한 코팅 방법 및 그에 따른 코팅재 | |
| US20240209493A1 (en) | Method for deposition of dense chromium on a substrate | |
| RU2463382C2 (ru) | Способ и устройство для получения многослойно-композиционных наноструктурированных покрытий и материалов | |
| Zhilkashinova et al. | Features of structural-phase states of Co-Cr-Al-Y composite coatings after heat treatment | |
| JP6569900B2 (ja) | スパッタリング装置および成膜方法 | |
| Yonekura et al. | Fatigue properties of nitride Cr-Mo steel with CrN thin film deposited by AIP method | |
| RU2485210C2 (ru) | Способ "гибридного" получения износостойкого покрытия на режущем инструменте | |
| Bermanschläger | Mechanical properties and thermal stability of non-reactively sputtered Ti-Al-N coatings | |
| Peck | Phase formation and mechanical properties of AlMgB14 thin films | |
| SARGENTINI | Cathodic arc deposition PVD coating: process and production parameters analysis affecting coating layer thickness |