RU2425173C2 - Installation for combined ion-plasma treatment - Google Patents
Installation for combined ion-plasma treatment Download PDFInfo
- Publication number
- RU2425173C2 RU2425173C2 RU2009100667/02A RU2009100667A RU2425173C2 RU 2425173 C2 RU2425173 C2 RU 2425173C2 RU 2009100667/02 A RU2009100667/02 A RU 2009100667/02A RU 2009100667 A RU2009100667 A RU 2009100667A RU 2425173 C2 RU2425173 C2 RU 2425173C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- installation
- plasma
- vacuum
- vacuum chamber
- ion
- Prior art date
Links
- 238000009434 installation Methods 0.000 title claims abstract description 97
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 title claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 39
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims abstract description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000011068 loading method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 46
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 5
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 239000002052 molecular layer Substances 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 47
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 33
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 6
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- 102220496775 Lymphocyte expansion molecule_S23C_mutation Human genes 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002715 modification method Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 150000005837 radical ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- CZPRKINNVBONSF-UHFFFAOYSA-M zinc;dioxido(oxo)phosphanium Chemical compound [Zn+2].[O-][P+]([O-])=O CZPRKINNVBONSF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к технике для нанесения покрытий на детали машин, более конкретно к вакуумной ионно-плазменной обработке поверхностей, и может быть использовано для модифицирования поверхности и нанесения функциональных покрытий на лопатки турбомашин, например длинномерных деталей паровых турбин, при обеспечении их комплексной поверхностной обработки, включающей очистку и активацию поверхности, нанесение различного вида функциональных многослойных покрытий, модифицирование поверхности металлической и газовой плазмой, а также для комбинированной поверхностной обработки, включающей химико-термическую обработку с последующим нанесением покрытия в одном технологическом цикле.The invention relates to techniques for coating on machine parts, more specifically to vacuum ion-plasma surface treatment, and can be used to modify the surface and apply functional coatings to the blades of turbomachines, for example, long parts of steam turbines, while ensuring their complex surface treatment, including surface cleaning and activation, applying various types of functional multilayer coatings, surface modification with metal and gas plasmas, and e for the surface treatment combination, comprising chemical-thermal treatment followed by coating in a single processing cycle.
Известна установка для нанесения защитных покрытий путем осаждения из вакуумно-дуговой плазмы материала покрытия [Патент РФ №2058427, МПК С23С 14/34, опубл. 20.04.1996]. Установка содержит вакуумную камеру, в которой расположен катод, выполненный из материала покрытия, защитный экран катода, анод, держатель изделий, электрод для возбуждения вакуумной дуги и систему электропитания. Установка предназначена для испарения токопроводящих материалов и нанесения упрочняющих покрытий на детали машин.A known installation for applying protective coatings by deposition of a coating material from a vacuum-arc plasma [RF Patent No. 2054827, IPC С23С 14/34, publ. 04/20/1996]. The apparatus comprises a vacuum chamber in which a cathode is located made of a coating material, a cathode shield, an anode, a product holder, an electrode for excitation of a vacuum arc, and a power supply system. The installation is designed for the evaporation of conductive materials and the application of hardening coatings on machine parts.
Известны вакуумные плазменные установки, содержащие вакуумную камеру с системой откачки и установленные в камере плазменный ускоритель и технологическое приспособление для закрепления обрабатываемых изделий [Гришин С.Д. и др. Плазменные ускорители. М.: Машиностроение, 1983, с.189, 194. Левченко Ю.М. и др.].Known vacuum plasma systems containing a vacuum chamber with a pumping system and installed in the chamber a plasma accelerator and technological device for fixing the processed products [Grishin SD and other plasma accelerators. M .: Engineering, 1983, p. 189, 194. Levchenko Yu.M. and etc.].
Известна установка для ионного азотирования, содержащая вакуумную камеру с расположенными в ней катодами, источники питания, держатель изделий [Лахтин Ю.М., Арзамасов Б.Н. Химико-термическая обработка металлов. - М.: Металлургия, 1985, с.177-181]. Обработка на таких установках производится с целью повышения эксплуатационных свойств изделий (износостойкости, эрозионной стойкости и пр.). Обработку в таких установках осуществляют путем высокотемпературной выдержки изделий в среде ионизированного рабочего газа.A known installation for ion nitriding containing a vacuum chamber with cathodes located in it, power sources, product holder [Lakhtin Yu.M., Arzamasov B.N. Chemical-thermal treatment of metals. - M .: Metallurgy, 1985, p. 177-181]. Processing at such plants is carried out in order to improve the operational properties of products (wear resistance, erosion resistance, etc.). Processing in such installations is carried out by high-temperature exposure of the products in an ionized working gas environment.
Недостатком известной установки [Лахтин Ю.М., Арзамасов Б.Н. Химико-термическая обработка металлов. - М.: Металлургия, 1985, с.177-181] является невысокая эффективность процесса модификации поверхности изделий вследствие низкой энергии частиц рабочего газа. При химико-термической обработке для получения необходимой концентрации легирующего элемента в поверхности изделий необходима длительная выдержка изделий в среде рабочего газа при высокой температуре. Это является причиной низкой производительности процесса. При этом происходит образование хрупких крупнодисперсных структурных составляющих, что снижает механические и эксплуатационные свойства изделий. Также недостатком является невозможность внедрения в поверхность элементов в количестве, превышающем их предел растворимости в материале изделий.A disadvantage of the known installation [Lakhtin Yu.M., Arzamasov B.N. Chemical-thermal treatment of metals. - M .: Metallurgy, 1985, p.177-181] is the low efficiency of the process of surface modification of products due to the low energy of the particles of the working gas. During chemical-thermal treatment, to obtain the necessary concentration of the alloying element in the surface of the products, a long exposure of the products to the working gas environment at high temperature is required. This is the reason for the low process performance. In this case, the formation of brittle coarse-grained structural components occurs, which reduces the mechanical and operational properties of the products. Another disadvantage is the impossibility of introducing elements into the surface in an amount exceeding their solubility limit in the material of the products.
Известны также установки для модификации поверхности путем ионной имплантации [Обеспечение эксплуатационных свойств лопаток компрессора из титановых сплавов путем ионного модифицирования поверхности на установке «Вита» / Смыслов A.M., Гусева М.И., Смыслова М.К. и др. // Авиационная промышленность. - 1992. - №5. - С.24-26], содержащие вакуумную камеру с установленными на ней устройствами для ионной имплантации, источники питания, держатель изделий. Обработку изделий в таких установках осуществляют следующим образом. Обрабатываемые изделия размещают в вакуумной камере установки, затем в ней создают вакуум и напускают в нее рабочий газ. Затем производят бомбардировку изделий ускоренными ионами рабочего газа, которые внедряются в поверхность изделий. Модификация поверхности путем ионной имплантации позволяет улучшать прочностные характеристики изделий без снижения пластичности, благодаря чему повышают, например, сопротивление усталости изделий.Installations for surface modification by ion implantation are also known [Ensuring the operational properties of compressor blades made of titanium alloys by ion surface modification in the Vita installation / Smyslov A.M., Guseva MI, Smyslova MK et al. // Aviation industry. - 1992. - No. 5. - S.24-26], containing a vacuum chamber with devices for ion implantation installed on it, power sources, product holder. The processing of products in such installations is as follows. The processed products are placed in the vacuum chamber of the installation, then a vacuum is created in it and the working gas is introduced into it. Then produce the bombardment of products accelerated ions of the working gas, which are introduced into the surface of the products. Surface modification by ion implantation allows to improve the strength characteristics of products without reducing ductility, thereby increasing, for example, the fatigue resistance of products.
Недостатком известных установок является ограниченность технологических возможностей, вследствие чего не удается получить высокие эксплуатационные свойства обрабатываемых деталей.A disadvantage of the known installations is the limited technological capabilities, as a result of which it is not possible to obtain high operational properties of the machined parts.
Наиболее близким техническим решением, выбранным в качестве прототипа, является установка для вакуумной ионно-плазменной обработки, ионной имплантации и нанесения покрытий [Патент РФ №2294395, Установка для вакуумной ионно-плазменной обработки поверхностей. МПК С23С 14/34, опубл. 2007.02.27], содержащая вакуумную камеру с по крайней мере одной загрузочной дверью, нижнее поворотное приспособление для размещения обрабатываемых изделий, электродуговые испарители, систему подачи газов, откачную систему, источники питания и блок управления. Эта установка позволяет повышать эксплуатационные свойства изделий путем комплексной обработки, включающей ионно-плазменную или ионно-имплантационную обработку и нанесение покрытия в одном цикле.The closest technical solution, selected as a prototype, is an installation for vacuum ion-plasma processing, ion implantation and coating [RF Patent No. 2294395, Installation for vacuum ion-plasma surface treatment. IPC
Однако конструкция установки для вакуумной ионно-плазменной обработки, ионной имплантации и нанесения покрытий не обеспечивает высокое качество обработки длинномерных деталей (особенно изделия больших размеров, к которым относят, например, лопатки паровых турбин с областью, подлежащей обработке, размером около 1200×200 мм), а также не позволяет повысить производительность за счет одновременной обработки большого количества деталей при обеспечении высокого качества их обработки. Кроме того, установка-прототип имеет низкую производительность и высокий расход энергии и материалов. Это объясняется следующими причинами:However, the design of the installation for vacuum ion-plasma processing, ion implantation and coating does not provide high quality processing of long parts (especially large products, which include, for example, steam turbine blades with the area to be processed, about 1200 × 200 mm in size) , and also does not allow to increase productivity due to the simultaneous processing of a large number of parts while ensuring high quality processing. In addition, the prototype installation has low productivity and high consumption of energy and materials. This is due to the following reasons:
- несовершенством метода модификации поверхности;- imperfection of the surface modification method;
- неравномерностью распределения плазмы внутри камеры (что снижает однородность обработки поверхности, особенно длинномерных изделий);- uneven distribution of plasma inside the chamber (which reduces the uniformity of surface treatment, especially of long products);
- низкой производительностью процесса генерации плазмы;- low productivity of the plasma generation process;
- неэффективностью использования плазмы при модификации поверхности;- inefficiency of using plasma for surface modification;
- неравномерностью толщины покрытия по длине изделия.- uneven coating thickness along the length of the product.
Техническим результатом изобретения является повышение функциональных возможностей, повышения производительности и качества обработки длинномерных изделий за счет одновременного или последовательного использования технологий, основанных на методах вакуумной ионно-плазменной обработки, ионной имплантации и нанесения покрытий.The technical result of the invention is to increase the functionality, increase productivity and processing quality of long products due to the simultaneous or sequential use of technologies based on the methods of vacuum ion-plasma processing, ion implantation and coating.
Технический результат достигается тем, что установка для комбинированной ионно-плазменной обработки, содержащая цилиндрическую вакуумную камеру с загрузочной дверью, оснащенную фланцевыми соединениями для установки технологических модулей, вакуумопровода, вакуумных насосов и вакуумных вводов, поворотное приспособление для размещения обрабатываемых изделий, технологические модули, систему подачи газов, откачную систему, источники питания и блок управления, в отличие от прототипа в качестве технологических модулей содержит: по крайней мере один протяженный вакуумно-дуговой генератор металлической плазмы, включающий плоский катод размерами 1200×120×30 мм и выполненный с возможностью обеспечения: тока разряда до 400 А, напряжения горения дуги от 20 В до 30 В, напряжение холостого хода от 80 В до 100 В, снабженный источником питания дуги с коммутатором переключения до 500 А, крайней мере один протяженный генератор газовой плазмы в комплекте с источником питания, выполненный с возможностью обеспечения: тока разряда до 250 А, плотности ионного тока насыщения из плазмы до 10 мА/см2, неравномерности распределения плотности плазмы вдоль вертикальной плоскости плазменного потока не более 15%, обеспечения работы с газами Ar, N и имеющим размеры выходной апертуры 1200×100 мм, по крайней мере один среднечастотный дуальный магнетрон в комплекте с источником питания, имеющий размеры мишеней 1200×120 мм и выполненный с возможностью обеспечения: напряжения разряда от 0,35 кВ до 1 кВ, тока разряда до 30 А, частоты генерации разряда до 4·104 с-1, скорости нанесения покрытия до 12 мкм/ч, обеспечивающим работу с газами N, Ar, O2 и их смесями при рабочем давлении газов от 0,04 Па до 0,1 Па, по крайней мере один высокочастотный, короткоимпульсный источник напряжения смещения, выполненный с возможностью обеспечения плазменно-иммерсионной ионной имплантации и/или осаждения покрытий при: амплитуде напряжений от 0,5 кВ до 4 кВ, частоте следования импульсов до 105 с-1, длительности импульсов до 5 мкс и величине тока в импульсе до 15 А.The technical result is achieved by the fact that the installation for combined ion-plasma treatment, containing a cylindrical vacuum chamber with a loading door, equipped with flange connections for the installation of technological modules, a vacuum pipe, vacuum pumps and vacuum inlets, a rotary device for placement of processed products, technological modules, a feed system gases, a pumping system, power sources and a control unit, in contrast to the prototype, as technological modules contains: at the edge it has at least one extended vacuum-arc generator of metal plasma, including a flat cathode of dimensions 1200 × 120 × 30 mm and configured to provide: discharge current up to 400 A, arc burning voltage from 20 V to 30 V, open circuit voltage from 80 V to 100 V, equipped with an arc power source with a switching switch up to 500 A, at least one extended gas plasma generator complete with a power source, configured to provide: discharge current up to 250 A, density of saturation ion current from plasma up to 10 mA / cm 2 nera the number density distribution of the plasma density along the vertical plane of the plasma stream is not more than 15%, ensuring work with Ar, N gases and having an output aperture size of 1200 × 100 mm, at least one mid-frequency dual magnetron complete with a power source having target sizes of 1200 × 120 mm and made with the possibility of ensuring: discharge voltages from 0.35 kV to 1 kV, discharge current up to 30 A, discharge generation frequencies up to 4 · 10 4 s -1 , coating rates up to 12 μm / h, providing operation with gases N , Ar, O 2, and mixtures thereof and operating at gas from 0.04 Pa to 0.1 Pa, at least one high-frequency, short-pulse source of bias voltage, configured to provide plasma-immersion ion implantation and / or deposition of coatings at: voltage amplitude from 0.5 kV to 4 kV , the pulse repetition rate up to 10 5 s -1 , the pulse duration up to 5 μs and the current value in the pulse up to 15 A.
Технический результат достигается также тем, что установка содержит источник питания инверторного типа, выполненный с возможностью обеспечения: диапазона изменения напряжения от 0 до 900 В, диапазона изменения тока от 0 до 50 А; при работе в режиме тлеющего разряда: напряжение от 0 до 900 В, максимальный ток до 8 А; в режиме ионной очистки: напряжение от 0 до 900 В, максимальный ток до 32 А; в режиме напыления: напряжение от 0 до 900 В, максимальный ток до 50 А;The technical result is also achieved by the fact that the installation comprises an inverter-type power source configured to provide: a voltage variation range from 0 to 900 V, a current variation range from 0 to 50 A; when operating in glow discharge mode: voltage from 0 to 900 V, maximum current up to 8 A; in ion cleaning mode: voltage from 0 to 900 V, maximum current up to 32 A; in spraying mode: voltage from 0 to 900 V, maximum current up to 50 A;
Технический результат достигается также тем, что установка содержит электромагнитный плазменный фильтр жалюзийного типа с системой питания к протяженному вакуумно-дуговому генератору металлической плазмы, имеющий длину электродов от 1200 мм до 1400 мм и выполненный с возможностью обеспечения степени очистки плазмы от микрокапельной фракции 102…103 при коэффициенте прозрачности фильтра для ионного компонента плазменного потока до 0,4.The technical result is also achieved by the fact that the installation contains an electromagnetic plasma filter of a louvre type with a power system for an extended vacuum-arc generator of metal plasma, having an electrode length of 1200 mm to 1400 mm and made with the possibility of ensuring the degree of plasma purification from the microdrop fraction 10 2 ... 10 3 with a filter transparency for the ion component of the plasma stream up to 0.4.
Технический результат достигается также тем, что вакуумная камера установки выполнена из немагнитной нержавеющей стали, по крайней мере, с семью фланцами для размещения генераторов плазмы и имеет размеры: диаметр рабочей зоны от 900 мм до 1000 мм, высота рабочей зоны от 1400 мм до 1500 мм, причем вакуумная камера установки выполнена с возможностью обеспечения следующих параметров: предельное остаточное давление не хуже 6,6·10-3 Па, рабочее давление 0,065…0,65 Па, время откачки до давления 6,6·10-3 Па - 30 мин, рабочая температура в камере до 500°С, а плоскость разъема загрузочной двери установки проходит через всю высоту вакуумной камеры и отсекает часть обечайки вакуумной камеры в плоскости, параллельной плоскости, проходящей через вертикальную ось обечайки вакуумной камеры.The technical result is also achieved by the fact that the vacuum chamber of the installation is made of non-magnetic stainless steel with at least seven flanges for placement of plasma generators and has dimensions: diameter of the working area from 900 mm to 1000 mm, height of the working area from 1400 mm to 1500 mm moreover, the vacuum chamber of the installation is configured to provide the following parameters: ultimate residual pressure no worse than 6.6 · 10 -3 Pa, working pressure 0.065 ... 0.65 Pa, pumping time to a pressure of 6.6 · 10 -3 Pa - 30 min , the working temperature in the chamber is up to 500 ° C, and the plane Connectors charging installation door passes through the entire height of the vacuum chamber and cuts off part of the shell of the vacuum chamber in a plane parallel to a plane passing through the vertical axis of the shell of the vacuum chamber.
Технический результат достигается также тем, что поворотное приспособление для размещения обрабатываемых изделий состоит из нижней и верхней частей, выполненных с возможностью независимого друг от друга функционирования, причем верхняя часть поворотного приспособления выполнена с возможностью размещения длинномерных изделий.The technical result is also achieved by the fact that the rotary device for accommodating the processed products consists of lower and upper parts, made with the possibility of independent from each other functioning, and the upper part of the rotary device is made with the possibility of placing long products.
Технический результат достигается также тем, что вакуумная камера выполнена с водяной рубашкой охлаждения, обеспечивающей охлаждение вакуумных уплотнений и теплоотвод от камеры до 50 кВт, снабженной на выходном коллекторе датчиком температуры и выдерживающей водяное давление до 6 кгс/см2.The technical result is also achieved by the fact that the vacuum chamber is made with a water jacket cooling, providing cooling of the vacuum seals and heat removal from the chamber to 50 kW, equipped with a temperature sensor on the output manifold and withstanding water pressure up to 6 kgf / cm 2 .
Технический результат достигается также тем, что внутренняя поверхность стенки вакуумной камеры снабжена секционными, быстросъемными экранами из нержавеющей стали, выполненными с возможностью предохранения поверхности стенки от запыления и имеющими вырезы и отверстия, соответствующие размерам и расположению соответствующих фланцевых соединений и вакуумных вводов.The technical result is also achieved by the fact that the inner surface of the wall of the vacuum chamber is equipped with sectional, quick-release screens made of stainless steel, made with the possibility of protecting the surface of the wall from dusting and having cutouts and holes corresponding to the size and location of the corresponding flange connections and vacuum inlets.
Технический результат достигается также тем, что вакуумные уплотнения выполнены из материала, обеспечивающего герметичность при температурах до 300-350°С.The technical result is also achieved by the fact that the vacuum seals are made of a material that provides tightness at temperatures up to 300-350 ° C.
Технический результат достигается также тем, что входы вращения и подачи высокого напряжения на изделия оснащены изоляцией, выдерживающей рабочие напряжения U=6 кВ.The technical result is also achieved by the fact that the inputs of rotation and the supply of high voltage to the products are equipped with insulation that can withstand operating voltage U = 6 kV.
Технический результат достигается также тем, что установка снабжена термопарными и ионизационными датчиками давления, выполненными с возможностью их совместной работы.The technical result is also achieved by the fact that the installation is equipped with thermocouple and ionization pressure sensors, made with the possibility of their joint work.
Технический результат достигается также тем, что установка снабжена источниками ускоренных ионов металлов и газов, выполненных на одной базе с возможностью изменения сорта ускоряемых ионов.The technical result is also achieved by the fact that the installation is equipped with sources of accelerated metal and gas ions, made on the same base with the ability to change the type of accelerated ions.
Технический результат достигается также тем, что ионный источник выполнен с возможностью обеспечения свободного доступа для смены катодов и сервисного обслуживания диодного блока, а также с возможностью обеспечения длительной работы при температуре до 500°С.The technical result is also achieved by the fact that the ion source is configured to provide free access to change the cathodes and service the diode unit, as well as to provide long-term operation at temperatures up to 500 ° C.
Достижение технического результата объясняется следующим. Предлагаемая установка позволяет, в отличие от прототипа, за счет использования протяженных электродуговых источников и источников металлической плазмы более эффективно использовать объем камеры. При этом процессы имплантации, ионно-плазменной обработки и нанесения покрытий, осуществляемые в одном технологическом цикле установки, позволяют достичь более высокого качества обработки длинномерных деталей или большого количества одновременно обрабатываемых деталей. Кроме того, равномерное распределение плазмы в объеме вакуумной камеры позволяет обеспечивать качественную обработку изделий как при вращении деталей вокруг собственной оси, так и без их вращения.The achievement of the technical result is explained by the following. The proposed installation allows, in contrast to the prototype, through the use of extended electric arc sources and sources of metal plasma more efficiently use the volume of the chamber. At the same time, the processes of implantation, ion-plasma processing and coating, carried out in one technological cycle of the installation, allow to achieve higher quality processing of long parts or a large number of simultaneously processed parts. In addition, the uniform distribution of plasma in the volume of the vacuum chamber allows you to ensure high-quality processing of products as when rotating parts around its own axis, and without their rotation.
В качестве устройства для ионной имплантации в установке, наряду с другими устройствами, может использоваться источник питания потенциала смещения. Источник питания потенциала смещения представляет собой высоковольтный источник питания, выполненный с возможностью подачи отрицательного потенциала достаточной для ионной имплантации величины на обрабатываемые изделия. Ионную имплантацию с помощью этого устройства осуществляют путем подачи на изделия отрицательного потенциала достаточной для ионной имплантации величины, при этом положительные ионы плазмы ускоряются в электрическом поле изделий и бомбардируют поверхность изделий, внедряясь в нее.As a device for ion implantation in the installation, along with other devices, a bias potential power source can be used. The bias potential power source is a high voltage power source configured to supply a negative potential of sufficient magnitude for ion implantation on the workpiece. Ion implantation using this device is carried out by supplying a negative potential sufficient for ion implantation to the products, while positive plasma ions are accelerated in the electric field of the products and bombard the surface of the products, penetrating into it.
Для качественной обработки изделий необходимо, чтобы рабочая зона вакуумной камеры (зона обработки) имела размер, не меньший, чем область изделий, подлежащая обработке. Для создания большой зоны обработки и обеспечения надежности работы установки катоды электродуговых испарителей могут быть выполнены размерами от 1200 мм до 1400 мм и с возможностью обеспечения степени очистки плазмы от микрокапельной фракции 102…103 при коэффициенте прозрачности фильтра для ионного компонента плазменного потока до 0,4.For high-quality processing of products, it is necessary that the working area of the vacuum chamber (processing zone) has a size not less than the area of the products to be processed. To create a large treatment zone and ensure the reliability of the installation, the cathodes of electric arc evaporators can be made in sizes from 1200 mm to 1400 mm and with the possibility of ensuring the degree of plasma purification from the microdrop fraction 10 2 ... 10 3 with a filter transparency for the ion component of the plasma stream up to 0, four.
Одной из особенностей предлагаемой установки является конструкция вакуумной камеры предлагаемой установки, обеспечивающая легкий доступ во внутренний объем камеры, в частности за счет разъема двери, проходящего. Наличие внутренних объемов дверей и их массивность позволяет достаточно легко монтировать непосредственно на стенках дверей значительное количество ионно-плазменных устройств различного назначения и производить их техническое обслуживание. Так, наличие люков в конструкции вакуумной камеры позволяет более рационально использовать стенки камеры для монтажа технологичеких модулей и их элементов (ионно-плазменных источников, электродуговых испарителей, в том числе и протяженных, источников металлической и газовой плазмы, устройств для ионной имплантации и др. Технологический модуль предназначен для выполнения всех технологических этапов. В состав технологического модуля входят технологические блоки, предназначенные для выполнения одного из этапов технологического процесса). Цилиндрическая форма вакуумной камеры не имеет явно выраженных угловых «мертвых» зон, образованных как, например, в кубическом варианте между гранями вертикальных стенок камеры [патент РФ №2294395, МПК С23С 14/34, опубл. 2007.02.27]. При этом использование протяженных люков и массивной загрузочной двери в предлагаемой установке с цилиндрической вакуумной камерой позволяет сохранить преимущества кубической конструкции камеры. При этом по сравнению с кубической камерой разъемная цилиндрическая конструкция создает условия для одновременной обработки и нанесения покрытий с гораздо большего числа ионно-плазменных устройств на обрабатываемую поверхность деталей. Все это обеспечивает повышение функциональных возможностей установки при оптимальном использовании ее рабочего объема, положительно отражается на технологичности ее изготовления и обслуживания, равномерности распределения плазмы во внутреннем пространстве вакуумной камеры.One of the features of the proposed installation is the design of the vacuum chamber of the proposed installation, providing easy access to the internal volume of the chamber, in particular due to the connector of the door passing. The presence of internal volumes of doors and their massiveness makes it quite easy to mount directly on the door walls a significant number of ion-plasma devices for various purposes and to carry out their maintenance. Thus, the presence of hatches in the design of the vacuum chamber allows a more rational use of the chamber walls for the installation of technological modules and their elements (ion-plasma sources, electric arc evaporators, including long ones, sources of metal and gas plasma, devices for ion implantation, etc. Technological The module is designed to perform all technological stages.The technological module includes technological units designed to perform one of the stages of the technological process. sa). The cylindrical shape of the vacuum chamber does not have pronounced angular "dead" zones formed, for example, in a cubic version between the faces of the vertical walls of the chamber [RF patent No. 2294395,
Высота и внутренний объем вакуумной камеры должны быть достаточными для свободного размещения технологических устройств и оснастки, а также обрабатываемых деталей. Исходя из обеспечения возможности обработки длинномерных изделий, в частности лопаток турбомашин, оптимальные размеры вакуумной камеры составляют: диаметр рабочей зоны от 900 мм до 1000 мм, высота рабочей зоны от 1400 мм до 1500 мм, причем вакуумная камера установки выполнена с возможностью обеспечения следующих параметров: предельное остаточное давление не хуже 6,6·10-3 Па, рабочее давление 0,065…0,65 Па, время откачки до давления 6,6·10-3 Па - 30 мин, рабочая температура в камере до 500°С, а плоскость разъема загрузочной двери установки проходит через всю высоту вакуумной камеры и отсекает часть обечайки вакуумной камеры в плоскости, параллельной плоскости, проходящей через вертикальную ось обечайки вакуумной камеры. Для обеспечения стабильности процесса вакуумная камера выполнена из немагнитной нержавеющей стали.The height and internal volume of the vacuum chamber must be sufficient for the free placement of technological devices and equipment, as well as the machined parts. Based on the possibility of processing long products, in particular turbomachine blades, the optimal dimensions of the vacuum chamber are: the diameter of the working zone from 900 mm to 1000 mm, the height of the working zone from 1400 mm to 1500 mm, and the vacuum chamber of the installation is made with the possibility of providing the following parameters: ultimate residual pressure not worse than 6.6 · 10 -3 Pa, working pressure 0.065 ... 0.65 Pa, pumping time to a pressure of 6.6 · 10 -3 Pa - 30 min, operating temperature in the chamber up to 500 ° C, and the plane the boot door of the installation goes through the entire height of the vacuum chamber and cuts off part of the shell of the vacuum chamber in a plane parallel to the plane passing through the vertical axis of the shell of the vacuum chamber. To ensure process stability, the vacuum chamber is made of non-magnetic stainless steel.
Повышение функциональных свойств установки обеспечивается также использованием различных технологических модулей, выполненых с возможностью: обеспечения процессов ионной очистки поверхности материалов, обеспечения высококонцентрационной ионной имплантации, обеспечения формирования переходных слоев между основой и покрытием, обеспечения осаждения покрытий в условиях ионного ассистирования с возможностью обеспечения регулирования интенсивностью последовательного и/или совместного воздействия на поверхность потоков плазмы и ускоренных ионов, с возможностью обеспечения комбинированных режимов ионно-лучевой и ионно-плазменной обработки материалов с возможностью обеспечения условий реализации процессов в едином вакуумном объеме и технологическом цикле различных видов энергетического воздействия, включая следующие сочетания: имплантация ионов газа или металла, ионная очистка с использованием генератора газовой или металлической плазмы в условиях формирования на обрабатываемых деталях непрерывного отрицательного потенциала смещения, осаждение покрытий из плазмы вакуумной дуги и/или магнетронного разряда, осаждение покрытия из плазмы вакуумной дуги и магнетронного разряда одновременно в условиях ионного ассистирования протяженным генератором газовой плазмы.Improving the functional properties of the installation is also ensured by using various technological modules made with the possibility of: providing processes for ionic cleaning of the surface of materials, ensuring high-concentration ion implantation, ensuring the formation of transition layers between the base and coating, providing deposition of coatings in conditions of ion assisting with the possibility of controlling the intensity of sequential and / or combined effects on the surface of plasma flows and whiskers radical ions, with the possibility of providing combined modes of ion-beam and ion-plasma processing of materials with the possibility of providing conditions for the implementation of processes in a single vacuum volume and the technological cycle of various types of energy exposure, including the following combinations: implantation of gas or metal ions, ion cleaning using a generator gas or metal plasma in the conditions of formation on the workpieces of a continuous negative bias potential, deposition of coatings and vacuum arc plasma and / or a magnetron discharge, plasma deposition coating of a vacuum arc discharge and magnetron simultaneously under ion assistance extended gas plasma generator.
Кроме того, при использовании длинномерных держателей изделий за один цикл возможна обработка либо одного длинномерного изделия, либо нескольких изделий малого размера. Это обеспечивает высокую производительность установки.In addition, when using long product holders in one cycle, it is possible to process either one long product or several small products. This ensures high installation performance.
Такое выполнение установки для вакуумной ионно-плазменной обработки, ионной имплантации и нанесения покрытий на поверхности длинномерных деталей позволяет упростить конструкцию, снизить затраты на изготовление и эксплуатацию, улучшить качество комплексной обработки поверхностей.This embodiment of the installation for vacuum ion-plasma treatment, ion implantation and coating on the surface of long parts can simplify the design, reduce the cost of manufacture and operation, improve the quality of complex surface treatment.
Сущность изобретения поясняется чертежами. На фиг.1 и 2 показаны конструктивная схема предлагаемой установки (фиг.1 - вид сверху - поперечный разрез, фиг.2 - продольный разрез установки).The invention is illustrated by drawings. Figure 1 and 2 shows a structural diagram of the proposed installation (figure 1 is a top view of a transverse section, figure 2 is a longitudinal section of the installation).
Установка для комбинированной ионно-плазменной обработки и нанесения покрытий содержит вакуумную камеру 1, выполненную из немагнитной нержавеющей стали в виде полой цилиндрической обечайки размерами: диаметр рабочей зоны от 900 мм до 1000 мм, высота рабочей зоны от 1400 мм до 1500 мм, имеющую загрузочную дверь 10, плоскость разъема которой отсекает часть обечайки вакуумной камеры 1 в плоскости, параллельной плоскости, проходящей через вертикальную ось обечайки вакуумной камеры 1. На стенках вакуумной камеры 1 установлены защитные экраны 2, имеется патрубок откачки 3 и технологические модули: протяженный вакуумно-дуговой генератор металлической плазмы 4, протяженный вакуумно-дуговой генератор металлической плазмы с плазменным фильтром 5, протяженный дуальный магнетрон 6, протяженный генератор газовой плазмы 7, источники ускоренных ионов металлов и газов (кроме того, в состав технологических модулей могут входить: обычные электродуговые испарители и магнетронные испарители, устройства для имплантации газов, устройства для имплантации металлов, устройства ионного ассистирования протяженным генератором газовой плазмы, устройства для ионно-лучевой обработки и нанесения покрытия, система подачи газов и др.). Вакуумная камера 1 снабжена рубашкой водяного охлаждения. Электродуговые испарители снабжены протяженными катодами 14, выполненными в виде пластин, катоды электродуговых испарителей могут быть выполнены размерами 1000 мм×120 мм×30 мм (выбранными из диапазона: длина - от 500 до 2000 мм, ширина - от 50 до 300 мм, толщина - от 10 до 70 мм).Installation for combined ion-plasma treatment and coating contains a
В вакуумной камере 1 установлены защитные экраны 2 и подвижные защитные экраны с пневмоприводами 8, поворотное приспособление 11, снабженное держателями изделий 14 и планетарным механизмом перемещения изделий 9, выполненных с возможностью вращения вокруг собственной оси и относительно центра вакуумной камеры 1. Обрабатываемые изделия 13 закрепляются в держателях изделий 14 поворотного приспособления 11. Поворотное приспособление 11 для размещения обрабатываемых изделий 13 состоит из нижней 11Б и верхней 11А частей, выполненных с возможностью независимого друг от друга функционирования, причем верхняя часть 11А поворотного приспособления 11 выполнено с возможностью размещения длинномерных изделий 13. Установка также снабжена дополнительным электродом.In the
Установка для комплексной ионно-плазменной обработки и нанесения покрытий работает следующим образом. Обрабатываемые изделия 13 устанавливают в держателях изделий, затем закрывают дверь 10 вакуумной камеры 1, создают в вакуумной камере 1 вакуум, включают привод держателя изделий.Installation for complex ion-plasma processing and coating works as follows. The processed
Затем производят обработку изделий одним из следующих способов: нагревом, химико-термической обработкой, ионной имплантацией, нанесением покрытия или сочетанием этих способов.Then, the products are processed in one of the following ways: by heating, chemical-thermal treatment, ion implantation, coating, or a combination of these methods.
Нагрев изделий осуществляют с целью их термической обработки или для подготовки их к последующей обработке, например нанесению покрытия. Нагрев изделий в предлагаемой установке осуществляют следующим образом. В вакуумную камеру 1 напускают рабочий газ. Зажигают вакуумно-дуговой разряд между вакуумной камерой 1 и протяженными вакуумно-дуговыми генераторами металлической плазмы 4, закрытыми поворотными экранами 8. Вакуумная камерой 1 выполняет роль анода вакуумно-дугового разряда. Затем подключают изделия к положительному полюсу источника питания двухступенчатого вакуумно-дугового разряда и зажигают двухступенчатый вакуумно-дуговой разряд между протяженными вакуумно-дуговыми генераторами металлической плазмы 4 и изделиями 13. При этом изделия 13, которые служат анодом двухступенчатого вакуумно-дугового разряда, интенсивно нагреваются электронами плазмы.The products are heated to heat treat them or to prepare them for further processing, for example, coating. Heating products in the proposed installation is as follows. Working gas is introduced into the
Химико-термическую обработку в предлагаемой установке осуществляют следующим образом. Осуществляют нагрев изделий вышеописанным способом. Затем, подключая дополнительный электрод к положительному полюсу источника питания зажигают двухступенчатый вакуумно-дуговой разряд между протяженными вакуумно-дуговыми генераторами металлической плазмы 4 и дополнительным электродом, являющимся анодом двухступенчатого вакуумно-дугового разряда. В результате горения двухступенчатого вакуумно-дугового разряда в камере образуется газовая плазма, содержащая ионы рабочего газа, электроны и нейтральные частицы. Изделия выдерживают в газовой плазме, при этом происходит диффузионное внедрение ионов и атомов рабочего газа в поверхность изделий.Chemical-thermal treatment in the proposed installation is as follows. Carry out the heating of the products as described above. Then, by connecting an additional electrode to the positive pole of the power source, a two-stage vacuum-arc discharge is ignited between the extended vacuum-arc generators of
Ионную имплантацию в предлагаемой установке осуществляют следующим образом. В вакуумную камеру 1 напускают рабочий газ. Зажигают вакуумно-дуговой разряд между протяженными вакуумно-дуговыми генераторами металлической плазмы 4 и вакуумной камерой 1. Зажигают двухступенчатый вакуумно-дуговой разряд. В результате горения двухступенчатого вакуумно-дугового разряда в камере образуется газовая плазма, содержащая ионы рабочего газа, электроны и нейтральные частицы. На изделия, подвергаемые ионной имплантации, подают отрицательный потенциал достаточной для ионной имплантации величины от источника питания потенциала смещения. При этом ионы плазмы рабочего газа ускоряются в электрическом поле изделий и внедряются в их поверхность. Для обработки деталей в режиме плазменно-иммерсионной ионной имплантации (а также для осаждения покрытий) используется высокочастотный, короткоимпульсный источник напряжения смещения, имеющий амплитуду напряжений от 0,5 кВ до 4 кВ, частоту следования импульсов до 105 с-1, длительность импульсов до 5 мкс и величину тока в импульсе до 15 А.Ion implantation in the proposed installation is as follows. Working gas is introduced into the
Нанесение покрытия в предлагаемой установке осуществляют следующим образом. В вакуумную камеру 1 напускают рабочий газ. Катоды электродуговых испарителей 5 открывают, отводя в сторону оптически непрозрачные поворотные экраны 8. Зажигают вакуумно-дуговой разряд между катодами 5 и вакуумной камерой 1, являющейся анодом вакуумно-дугового разряда. В результате горения вакуумно-дугового разряда в камере образуется металлогазовая плазма, содержащая ионы рабочего газа, ионы металла катодов, электроны и нейтральные частицы. На изделия 13 подают отрицательный потенциал от источника питания потенциала смещения. При этом ионы металла ускоряются в электрическом поле изделий и осаждаются на их поверхности, образуя покрытие. При использовании в качестве рабочего газа активного газа ионы рабочего газа соединяются с ионами металла, при этом образуется покрытие из соединений металла и неметалла. Плазменные фильтры 8 А производят очистку наносимого материала от капельной фазы. Для нанесения покрытий. В том числе и из керамических материалов используется среднечастотный дуальный магнетрон в комплекте с источником питания, имеющий размеры мишеней 1200×120 мм и выполненный с возможностью обеспечения: напряжения разряда от 0,35 кВ до 1 кВ, тока разряда до 30 А, частоты генерации разряда до 4·104 с-1, скорости нанесения покрытия до 12 мкм/ч, обеспечивающим работу с газами N, Аr, О2 и их смесями при рабочем давлении газов от 0,04 Па до 0,1 Па.The coating in the proposed installation is as follows. Working gas is introduced into the
Смотровые окна со шторками служат для наблюдения за процессами, протекающими в установке. Привод 11 с регулируемой скоростью вращения позволяет более целенаправленно регулировать процессами обработки поверхности изделий 13. Высоковольтный ввод служит для надежного подвода высокого напряжения в вакуумную камеру 1 установки.Viewing windows with shutters are used to monitor the processes occurring in the installation. The
Охлаждаемые фланцы 12 обеспечивают надежность работы установки при повышенных температурах.Cooled
В отличие от прототипа предлагаемая установка для комплексной ионно-плазменной обработки и нанесения покрытий имеет более удобную для технического обслуживания конструкцию вакуумной камеры. Известно, что от качества подготовки камеры и устройств для обработки деталей зависит качество и надежность формируемых поверхностей деталей. Поэтому удобство и легкость технического обслуживания не только снижает трудоемкость подготовки, но и сказывается на качестве обработки деталей. Кроме того, конструкция цилиндрической камеры, имеющая значительную высоту рабочей части, в сочетании с протяженными ионно-плазменными устройствами (испарителями, устройствами для ионной имплантации и др.) обеспечивает равномерный процесс обработки деталей, а также расширяет технологические возможности установки по сравнению с прототипом и с установками, например установками с кубическими камерами, сохраняя преимущества последних.Unlike the prototype, the proposed installation for complex ion-plasma treatment and coating has a more convenient maintenance chamber design of the vacuum chamber. It is known that the quality and reliability of the formed surfaces of the parts depends on the quality of preparation of the camera and devices for processing parts. Therefore, the convenience and ease of maintenance not only reduces the complexity of the preparation, but also affects the quality of processing parts. In addition, the design of the cylindrical chamber, having a significant height of the working part, in combination with extended ion-plasma devices (evaporators, devices for ion implantation, etc.) provides a uniform processing of parts, as well as expanding the technological capabilities of the installation compared to the prototype and installations, for example installations with cubic cameras, while maintaining the advantages of the latter.
Известные вакуумные ионно-плазменные установки, как правило, предназначены для обработки изделий небольшого размера (режущий инструмент, лопатки газотурбинных двигателей и т.п.). Предлагаемая установка предназначена, главным образом, для обработки длинномерных изделий, например лопаток паровых турбин. Вакуумная камера предлагаемой установки имеет размеры, позволяющие размещать в ней длинномерные изделия, а ионно-плазменные устройства установки выполнены длиной до 1200 мм, что обеспечивает зону обработки установки достаточного для качественной обработки длинномерных изделий размера, что указывает на достижение поставленного в изобретении технического результата - повышения функциональных возможностей, повышения производительности и качества обработки длинномерных изделий за счет одновременного или последовательного использования технологий, основанных на методах вакуумной ионно-плазменной обработки, ионной имплантации и нанесения покрытий.Known vacuum ion-plasma installations, as a rule, are designed for processing small-sized products (cutting tools, blades of gas turbine engines, etc.). The proposed installation is intended mainly for the processing of long products, such as blades of steam turbines. The vacuum chamber of the proposed installation has dimensions that can accommodate long products, and the ion-plasma devices of the installation are made up to 1200 mm long, which provides a processing zone of the installation sufficient for high-quality processing of long products, which indicates the achievement of the technical result set in the invention - increase functionality, increase productivity and processing quality of long products due to the simultaneous or sequential use I technologies based on the methods of vacuum ion-plasma treatment, ion implantation and coating.
Пример. В таблице представлены технические характеристики варианта предлагаемой установки для комбинированной ионно-плазменной обработки и нанесения покрытий.Example. The table shows the technical characteristics of a variant of the proposed installation for combined ion-plasma treatment and coating.
Как это показано в таблице, установка может содержать микропроцессорную систему автоматизации, выполненную с возможностью обеспечения контроля за работой установки и с возможностью управления основными элементами и технологическими модулями установки, а также с возможностью обеспечения непрерывного мониторинга технологических режимов, автономного поддержания заданных режимов работы источников ионов и плазмы и обеспечения их изменения по командам с пульта оператора.As shown in the table, the installation may contain a microprocessor automation system configured to provide control over the operation of the installation and with the ability to control the main elements and technological modules of the installation, as well as the ability to provide continuous monitoring of technological modes, autonomous maintenance of specified modes of operation of ion sources plasma and ensuring their changes on commands from the operator’s console.
Кроме того, установка может содержать системы автоматизации, включающие датчики и вторичные преобразователи, обеспечивающие формирование входных электрических аналоговых и дискретных сигналов системы автоматизации, а также исполнительные механизмы: реле, переключатели, шаговые двигатели, клапаны, причем подсистема нижнего уровня включает резервный блок ручного управления, выполненный с возможностью обеспечения управления технологическими режимами работы установки. Установка также может содержать средний уровень системы автоматизации, включающий программируемый логический контроллер, модули ввода-вывода аналоговых и дискретных сигналов, адаптер, источники питания.In addition, the installation may contain automation systems, including sensors and secondary converters, providing the formation of input electrical analog and discrete signals of the automation system, as well as actuators: relays, switches, stepper motors, valves, and the lower level subsystem includes a redundant manual control unit, made with the possibility of providing control of the technological modes of the installation. The installation may also contain an average level of an automation system, including a programmable logic controller, input / output modules of analog and discrete signals, an adapter, and power supplies.
Claims (17)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2009100667/02A RU2425173C2 (en) | 2009-01-11 | 2009-01-11 | Installation for combined ion-plasma treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2009100667/02A RU2425173C2 (en) | 2009-01-11 | 2009-01-11 | Installation for combined ion-plasma treatment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2009100667A RU2009100667A (en) | 2010-07-20 |
| RU2425173C2 true RU2425173C2 (en) | 2011-07-27 |
Family
ID=42685605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2009100667/02A RU2425173C2 (en) | 2009-01-11 | 2009-01-11 | Installation for combined ion-plasma treatment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2425173C2 (en) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2496913C2 (en) * | 2011-12-28 | 2013-10-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Unit for ion-ray and plasma processing |
| RU2540318C2 (en) * | 2013-03-18 | 2015-02-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП "НПП "Исток") | Apparatus for ion-plasma etching and depositing thin films |
| RU2556161C1 (en) * | 2014-01-30 | 2015-07-10 | Валерий Никитич Гринавцев | Unit for metal coating application on glass or ceramic microspheres |
| RU2562568C2 (en) * | 2013-06-18 | 2015-09-10 | Виталий Степанович Гончаров | Installation for vacuum ion-plasma application of coatings |
| RU2619460C1 (en) * | 2015-11-25 | 2017-05-16 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук (ИЭФ УрО РАН) | Method of ion-beam processing of products with a large surface area |
| RU176553U1 (en) * | 2017-03-06 | 2018-01-23 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) | Installation for ion doping of the surface of metal products |
| RU2657671C2 (en) * | 2015-11-26 | 2018-06-14 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" | Device for forming multicomponent and multilayer coatings |
| RU2677551C1 (en) * | 2017-12-27 | 2019-01-17 | Общество с ограниченной ответственностью "Накопители Энергии Супер Конденсаторы" (ООО "НЭСК") | Method of spraying electrically conducting metal-carbon multilayer coating on tape substrate made of nonwoven fibrous material |
| RU2678492C1 (en) * | 2017-05-03 | 2019-01-30 | Чэнду Риэлли Шарп Коэтинг Текнолоджи Ко.,Лтд | Device for producing a composite film of multi-element alloy |
| RU2693229C1 (en) * | 2018-06-20 | 2019-07-01 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Apparatus for applying ion-plasma coatings on blisk blades |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN118086854B (en) * | 2024-04-29 | 2024-06-28 | 艾瑞森表面技术（苏州）股份有限公司 | Preparation method of metal bipolar plate coating |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4357365A (en) * | 1980-01-17 | 1982-11-02 | General Electric Company | Refractory metal coating method |
| RU2095467C1 (en) * | 1995-12-27 | 1997-11-10 | Государственный космический научно-производственный центр им.М.В.Хруничева | Multiple-beam installation for ion-plasma treatment of part surfaces |
| RU2161075C2 (en) * | 1997-01-13 | 2000-12-27 | Юнайтед Технолоджиз Корпорейшн | Device intended for use in installation for application of coatings on parts, module-type device, installation for application of coatings on parts and coating application method |
| RU2203979C2 (en) * | 2000-07-14 | 2003-05-10 | Дочернее государственное предприятие "Институт ядерной физики" Национального ядерного центра Республики Казахстан | Plant for application of coats on wide tape |
-
2009
- 2009-01-11 RU RU2009100667/02A patent/RU2425173C2/en active IP Right Revival
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4357365A (en) * | 1980-01-17 | 1982-11-02 | General Electric Company | Refractory metal coating method |
| RU2095467C1 (en) * | 1995-12-27 | 1997-11-10 | Государственный космический научно-производственный центр им.М.В.Хруничева | Multiple-beam installation for ion-plasma treatment of part surfaces |
| RU2161075C2 (en) * | 1997-01-13 | 2000-12-27 | Юнайтед Технолоджиз Корпорейшн | Device intended for use in installation for application of coatings on parts, module-type device, installation for application of coatings on parts and coating application method |
| RU2203979C2 (en) * | 2000-07-14 | 2003-05-10 | Дочернее государственное предприятие "Институт ядерной физики" Национального ядерного центра Республики Казахстан | Plant for application of coats on wide tape |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2496913C2 (en) * | 2011-12-28 | 2013-10-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Unit for ion-ray and plasma processing |
| RU2540318C2 (en) * | 2013-03-18 | 2015-02-10 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное предприятие "Исток" (ФГУП "НПП "Исток") | Apparatus for ion-plasma etching and depositing thin films |
| RU2562568C2 (en) * | 2013-06-18 | 2015-09-10 | Виталий Степанович Гончаров | Installation for vacuum ion-plasma application of coatings |
| RU2556161C1 (en) * | 2014-01-30 | 2015-07-10 | Валерий Никитич Гринавцев | Unit for metal coating application on glass or ceramic microspheres |
| RU2619460C1 (en) * | 2015-11-25 | 2017-05-16 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт электрофизики Уральского отделения Российской академии наук (ИЭФ УрО РАН) | Method of ion-beam processing of products with a large surface area |
| RU2657671C2 (en) * | 2015-11-26 | 2018-06-14 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт точного машиностроения" | Device for forming multicomponent and multilayer coatings |
| RU176553U1 (en) * | 2017-03-06 | 2018-01-23 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю.А." (СГТУ имени Гагарина Ю.А.) | Installation for ion doping of the surface of metal products |
| RU2678492C1 (en) * | 2017-05-03 | 2019-01-30 | Чэнду Риэлли Шарп Коэтинг Текнолоджи Ко.,Лтд | Device for producing a composite film of multi-element alloy |
| RU2677551C1 (en) * | 2017-12-27 | 2019-01-17 | Общество с ограниченной ответственностью "Накопители Энергии Супер Конденсаторы" (ООО "НЭСК") | Method of spraying electrically conducting metal-carbon multilayer coating on tape substrate made of nonwoven fibrous material |
| RU2693229C1 (en) * | 2018-06-20 | 2019-07-01 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Apparatus for applying ion-plasma coatings on blisk blades |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2009100667A (en) | 2010-07-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2425173C2 (en) | Installation for combined ion-plasma treatment | |
| US7879203B2 (en) | Method and apparatus for cathodic arc ion plasma deposition | |
| RU97730U1 (en) | INSTALLATION FOR INTEGRATED ION-PLASMA TREATMENT AND COATING | |
| RU2496913C2 (en) | Unit for ion-ray and plasma processing | |
| RU2625698C1 (en) | Method of application of protective coatings and device for its implementation | |
| EP0899772B1 (en) | Cathodic arc vapor deposition apparatus | |
| TW200830390A (en) | Method and apparatus for manufacturing cleaned substrates or clean substrates which are further processed | |
| JP2009531545A (en) | Coating equipment | |
| CN114875358A (en) | A kind of composite vacuum coating equipment and using method thereof | |
| EP2482303B1 (en) | Deposition apparatus and methods | |
| RU2661162C1 (en) | Installation for ion-plasma modification and coating the mono-wheels with blades | |
| WO2016189614A1 (en) | Ion milling device and ion milling method | |
| RU2294395C2 (en) | Installation for the vacuum ionic-plasma treatment of the surfaces | |
| RU76918U1 (en) | VACUUM ION-PLASMA INSTALLATION | |
| EP2597174B1 (en) | Vapor deposition of ceramic coatings | |
| RU2693229C1 (en) | Apparatus for applying ion-plasma coatings on blisk blades | |
| RU2095467C1 (en) | Multiple-beam installation for ion-plasma treatment of part surfaces | |
| RU144198U1 (en) | DEVICE FOR APPLICATION OF THIN FILM COATINGS | |
| RU84384U1 (en) | INSTALLATION FOR VACUUM ION-PLASMA TREATMENT, ION IMPLANTATION AND COATING | |
| US9153422B2 (en) | Arc PVD plasma source and method of deposition of nanoimplanted coatings | |
| RU154033U1 (en) | DEVICE FOR APPLICATION OF THIN FILM COATINGS | |
| US20230304143A1 (en) | Surface treatment apparatus and surface treatment method | |
| RU2554252C2 (en) | Application of coating and arc evaporator to this end | |
| RU2622549C2 (en) | Method of producing coatings of titanium carbide on the inner surface of copper anode of transmitting tube | |
| RU2762426C1 (en) | Installation of surface modification of blanks for cutting inserts |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20140112 |
|
| NF4A | Reinstatement of patent |
Effective date: 20150610 |
|
| PC41 | Official registration of the transfer of exclusive right |
Effective date: 20160127 |