RU2452792C2 - Лазерное формообразование механических микроструктур на поверхности подложки - Google Patents
Лазерное формообразование механических микроструктур на поверхности подложки Download PDFInfo
- Publication number
- RU2452792C2 RU2452792C2 RU2010122221/02A RU2010122221A RU2452792C2 RU 2452792 C2 RU2452792 C2 RU 2452792C2 RU 2010122221/02 A RU2010122221/02 A RU 2010122221/02A RU 2010122221 A RU2010122221 A RU 2010122221A RU 2452792 C2 RU2452792 C2 RU 2452792C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- particles
- substrate
- radiation
- laser
- aerosol
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 87
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 35
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 20
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 230000005298 paramagnetic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 2
- 230000005653 Brownian motion process Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005537 brownian motion Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004093 laser heating Methods 0.000 description 1
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 1
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
Изобретение относится к оптическим технологиям, в частности к лазерным методам формирования на подложках структурных образований нано- и микроразмеров для нано- и микромеханики и микроэлектроники. Способ включает осаждение частиц вещества из газовой фазы с использованием локального нагрева области осаждения лазерным излучением. Вещество в газовой фазе диспергировано в виде аэрозоля. Осуществляют локальный нагрев области осаждения лазерным импульсным излучением и осуществляют припекание частиц аэрозоля к подложке. Длительность импульса лазерного излучения не менее той, при которой длина тепловой волны в частице больше размера частицы в направлении излучения. Материал упомянутых частиц поглощает лазерное излучение. Техническим результатом изобретения является увеличение производительности нанесения покрытий с сохранением высокой разрешающей способности способа. 4 з.п. ф-лы, 4 ил.
Description
Изобретение относится к оптическим технологиям, в частности к лазерным методам формирования на подложках структурных образований нано- и микроразмеров для нано- и микромеханики и микроэлектроники.
Аналогом изобретения является известная технология лазерно-активированного пиролитического осаждения тонких пленок на подложках путем облучения подложки сфокусированным импульсным лазерным облучением, причем подложка погружена в атмосферу паров легкоразлагающегося химического соединения ([1]). Подложка локально нагревается сфокусированным лучом, и на подложке после облучения остаются атомы вещества пленки, газообразные продукты пиролиза улетучиваются.
Недостатком известной технологии является низкая скорость выращивания пленки, что обусловлено тем, что реагенты поступают к зоне пиролитической реакции в виде молекул в паровой фазе, количество вещества в зоне реакции мало и определяется количеством молекул и числом атомов осаждающегося продукта реакции в молекуле, а также малым размером зоны - реакционная зона имеет приповерхностный характер, толщиной не более нескольких молекул. В сравнении с прототипом аналог обеспечивает более высокую разрешающую способность, ограниченную фактически только дифракционными эффектами в лазерном пучке, область формирования покрытия порядка длины волны лазерного излучения; могут изготавливаться объемные микроконструкции на подложке - за счет пространственного перемещения реакционной зоны.
Прототипом изобретения является газопламенное получение покрытий на поверхности изделий. В этом методе на поверхности изделий формируется слой частиц напыляемого материала, обладающего тепловой и кинетической энергией в результате взаимодействия со струей газового пламени [2].
Технология прототипа не может обеспечить нанесение покрытий с высокой степенью локализации, то есть с высоким разрешением, так как струя газового пламени имеет большое сечение и захватывает значительный объем пространства над поверхностью подложки. Недостатком является также невозможность получения на поверхности микроконструкций, имеющих объемных характер. Достоинством прототипа является высокая производительность нанесения покрытий.
Задачей, решаемой предлагаемым изобретением, является увеличение производительности лазерного формообразования в известном лазерном способе осаждения вещества из газовой фазы с сохранением высокой разрешающей способности способа. Решение задачи достигается тем, что в известном способе лазерного формообразования механических микроструктур на поверхности подложки путем осаждения вещества из газовой фазы с использованием локального нагревания области осаждения лазерным излучением, в соответствии с изобретением вещество в газовой фазе диспергировано в виде аэрозоля, причем лазерное излучение - импульсное с длительностью импульса не менее той, при которой длина тепловой волны в частице более ее поперечника, и осуществляет припекание частиц аэрозоля к подложке.
Дополнительно предлагается также, что материал упомянутых частиц не поглощает лазерное излучение.
Дополнительно предполагается, что упомянутые частицы электрически заряжены, причем подложка электрически соединена с полюсом источника электрического напряжения.
Дополнительно предполагается, что электрическое напряжение упомянутого источника знакопеременное, причем изменение полярности напряжения синхронизовано с периодичностью генерации импульса лазерного излучения.
Дополнительно предполагается, что упомянутые частицы - пара-, суперпара или ферромагнитные, причем упомянутая подложка помещена в области магнитного поля, силовые линии которого пересекают ее упомянутую поверхность.
На Фиг.1 показано схематически проведение процесса осаждения вещества на подложку сфокусированным лазерным излучением из газовой фазы, где вещество диспергировано в виде аэрозоля. Здесь 1 - подложка, 2 - частицы аэрозоля в газовой фазе, 3 - частица, попавшая на поверхность и удерживаемая на ней поверхностными силами, 4 - сфокусированный лазерный пучок, 5 - частицы, термически закрепленные на подложке в результате нагревания подложки и/или частиц лазерным пучком.
На Фиг.2 показано схематически проведение процесса осаждения вещества на подложку сфокусированным лазерным излучением из газовой фазы, когда частицы аэрозоля электрически заряжены, причем подложка с осаждаемым веществом электрически соединена с полюсом источника электрического напряжения. Здесь 1 - подложка, 4 - сфокусированный лазерный пучок, 5 - частицы, термически закрепленные на подложке в результате нагревания подложки и/или частиц лазерным пучком, 6 - заряженные частицы осаждаемого вещества - частицы аэрозоля, 7 - монослой осевших на подложку под влиянием кулоновского притяжения к подложке наночастиц, 8 - источник электрического напряжения, полюс 9 которого подключен к подложке, 10 - вспомогательный электрод, который подключен ко второму полюсу источника напряжения 8; между подложкой и электродом 10 при включении напряжения создается электрическое поле, заставляющее заряженные частицы оседать на подложку.
На Фиг.3 показан пример устройства, с помощью которого может быть реализован предлагаемый изобретением способ. Здесь 11 - объектив лазерной установки, 12 - прозрачное окно, 13 - камера, внутри которой находится аэрозоль с заряженными частицами 6, 14 - генератор аэрозоля, 15 - ввод сжатого газа через патрубок, 16 - выход газа.
На Фиг.4 показан пример реализации п.6 формулы - использование постоянного электромагнита или соленоида с током. Здесь 17 и 18 - полюса постоянного электромагнита, 19 - пара-, суперпара- или ферромагнитные частицы.
Использование осаждаемого вещества, диспергированного в газовой фазе в виде аэрозоля, увеличивает скорость нанесения вещества на подложку, так как частица аэрозоля содержит в тысячи раз больше атомов, чем молекула реагента в способе-аналоге. Например, наночастица объемом 10×10×10 нм3 содержит ~104 молекул. Если за лазерный импульс на поверхности термически закрепляется сплошной монослой таких наночастиц, то скорость выращивания осадка на поверхности примерно в 104 раз больше, чем при осаждении из монослоя адсорбированных атомов.
Требование, чтобы материал упомянутых частиц поглощал лазерное излучение, позволяет частицам термически закрепляться, например, спеканием, не только за счет разогревания поверхности подложки излучением, но и за счет нагревания излучением самой наночастицы, последнее позволяет наносить частицы слой на слой.
Использование импульсного лазерного излучения, причем длительность импульса не менее той, при которой длина тепловой волны в частице более ее поперечника, позволяет, с одной стороны, при коротком импульсе обеспечивать высокое разрешение процесса роста пленок за счет уменьшения теплового расплывания нагреваемой сфокусированным излучением зоны, с другой, обеспечивает прогревание частицы по всему ее объему и в том числе в местах контакта частицы с подложкой или другими частицами, что необходимо при термическом закреплении частиц.
Придание частицам электрического заряда, причем подложка электрически соединена с полюсом источника электрического напряжения, обеспечивает возможность попадания наночастиц из газовой фазы на поверхность подложки, где они закрепляются действием излучения, не только в результате броуновского движения, но и принудительно, действием кулоновского притяжения к подложке, что дополнительно увеличивает скорость роста наносимой пленки.
Использование знакопеременного электрического напряжения упомянутого источника, в котором изменение полярности напряжения синхронизовано с периодичностью генерации импульса лазерного излучения, позволяет после окончания лазерного импульса десорбировать электрическим полем частицы аэрозоля с участков поверхности подложки, не подвергавшихся лазерному облучению и не закрепленных на ней, в атмосферу аэрозоля, путем изменения в указанный момент полярности напряжения. Вслед за этим полярность напряжения необходимо вернуть в первоначальное состояние. Описываемая процедура позволит избежать образования на не облучаемых в данный период технологического воздействия участках подложки избыточной толщины слоя адсорбированных на поверхности частиц, что является важным при сканирующем лазерном облучении поверхности; использование данной процедуры позволит также по окончании технологического цикла получить чистую, свободную от адсорбированных незакрепленных спеканием частиц поверхность подложки.
При нанесении частиц пара-, суперпара- или ферромагнитной природы помещение подложки в области магнитного поля, силовые линии которого пересекают ее поверхность, позволяет временно закреплять частицы из аэрозоля на поверхности и накапливать их там к моменту прихода лазерного импульса, осуществляющего окончательное термосоединение их с поверхностью. Метод позволит наносить на поверхности магнитные или парамагнитные покрытия, например, из частиц железа или парамагнитных соединений железа, частиц парамагнитного алюминия; наносить покрытия, используя суперпарамагнитные частицы - кластеры ферромагнитных материалов.
Под действием лазерного излучения область поверхности подложки, поглощая излучение, нагревается; температура должна быть меньше температуры испарения вещества. Присутствующие на облучаемой поверхности частицы аэрозоля также нагреваются; нагревание частиц может происходить двумя путями: непосредственным нагреванием поглощенным частицей излучением и передачей тепла от уже нагретой подложки за счет теплопроводности частицы и излучения поверхности подложки. Частицы скрепляются с подложкой или за счет частичного контактного сплавления, если температура для этого достаточно высока, или за счет взаимной диффузии веществ частицы и подложки, ускоряющейся при лазерном нагревании. По мере попадания частиц из газовой среды на облучаемую поверхность она вся заполнится скрепленными с подложкой частицами; образуется слой осажденного вещества. Если облучение продолжать, наращивание толщины слоя также продолжится. Могут спекаться с поверхностью даже прозрачные частицы за счет контакта с горячей поверхностью подложки, но существует вероятность, что второй и последующие слои осадка не будут образовываться, так как теплопередача к ним от подложки происходит через промежуточные слои частиц.
Поглощение частицами излучения увеличивает их температуру и способствует эффективности закрепления на поверхности, а также позволяет зарепляться в осадке последующим слоям частиц, выпадающих из аэрозоля.
Импульсный характер облучения улучшает разрешающую способность способа за счет уменьшения расплывания тепла в стороны из облучаемой зоны. Однако частица, находясь на поверхности, экранирует собой подложку от излучения, и тепловой поток к точке контакта частицы с поверхностью должен пройти по частице. Чтобы за время импульса точка контакта частицы с поверхностью успела прогреться, необходимо, чтобы длина тепловой волны , где a - коэффициент температуропроводности частицы, τ - длительность импульса облучения, была не меньше размера частицы по направлению хода излучения [3]. Это оценочное значение, так как формула более справедлива для плоских слоев. К тому же, в соответствии с определением, к моменту окончания импульса излучения температура на расстоянии длины тепловой волны от поглощающей поверхности в е раз меньше, чем на самой поверхности, это означает необходимость некоторого неопределенного увеличения лазерной мощности. Оценка с помощью приведенной формулы носит усредненный характер, так как частицы в реальном аэрозоле различны по размерам.
Электрический, преимущественно одноименный, заряд частиц позволяет ускорить их осаждение на покрываемую подложку, причем произойдет их осаждение одним слоем, так как частицы на частицах не могут оседать из-за одноименного заряда, но могут на поверхности, имеющей другую полярность. Лазерный импульс закрепляет на подложке слой осевших частиц, при прогреве заряды частиц стекают на подложку, и поверхность вновь приобретает прежнюю полярность заряда. Вновь оседают частицы аэрозоля, и так далее будет происходить процесс послойного наращивания осадка на подложке.
Вариант реализации изобретения можно пояснить с помощью Фиг.3. Наночастицы размещаются в емкости генератора 14 аэрозоля. Через патрубок 15 в емкость вдувается сухой газ, который заставляет частицы двигаться; за счет трибоэлектрического эффекта известным способом частицы одноименно заряжаются и потоком газа переносятся в камеру 13, в которой размещена поверхность подложки 1. Подложка или только ее поверхность электропроводны и подсоединены к полюсу 9 источника 8 электрического напряжения. Знак напряжения на полюсе 9 должен быть противоположен знаку заряда на частицах 6 аэрозоля. Корпус камеры 13 имеет полярность второго полюса источника напряжения, и электрическим полем, образованным в камере, частицы оседают на поверхность подложки слоем 7. Лазерное излучение фокусируется объективом 11 на поверхность подложки, проходя через прозрачное окно 12. Облучаемая на подложке зона 5 к моменту лазерного импульса заполнена частицами и припекается к поверхности тепловым действием импульса излучения. Далее происходит заполнение частицами второго слоя осадка (второй слой частиц в зоне 5), и процесс роста пленки на подложке продолжается.
Реализация п.5 формулы - использование знакопеременного электрического напряжения - также возможна в устройстве, аналогичном изображенному на Фиг.3, с использованием взамен напряжения, противоположного по знаку заряду частиц аэрозоля, напряжения, изменяющегося по знаку синхронно с импульсным лазерным излучением.
Реализация п.6 формулы - использование магнитного поля в области поверхности осаждения покрытий - также возможна в устройстве, изображенном на Фиг.4. В камере 13 создается магнитное поле, для чего камера 13 или подложка 1 в ней помещаются внутри соленоида с током или между полюсами 17 и 18 постоянного электромагнита. Пара-, суперпара- или ферромагнитные частицы 19 вдуваются в камеру 13 через патрубок 15 в виде аэрозоля. Под действием неоднородного магнитного поля частицы 19 притягиваются к поверхности подложки 1. Лазерное излучение 4 фокусируется объективом 11 на поверхность подложки, проходя через прозрачное окно 12. Облучаемая на подложке зона 5 к моменту лазерного импульса заполнена частицами и припекается к поверхности тепловым действием импульса излучения. Далее происходит заполнение частицами второго слоя осадка (второй слой частиц в зоне 5), и процесс роста пленки на подложке продолжается.
Вышеизложенное подтверждает реализуемость изобретения и возможность выполнения поставленной задачи за счет новых технических решений, приведенных в формуле изобретения.
Изобретение может быть применено при лазерном формировании микрорисунков на подложках при изготовлении устройств микроэлектроники и микросистемной техники. Технология, основанная на представленных решениях, будет иметь на порядок большую производительность, а также позволит создавать новые функциональные устройства, основанные на упорядоченном расположении наночастиц в структуре осаждаемых пленок, например сверхпроводящие, пьезоэлектрические, пироэлектрические и др.
Источники информации
1. Чесноков В.В., Резникова Е.Ф., Чесноков Д.В. Лазерные наносекундные микротехнологии: Монография / Под общ. ред. Д.В.Чеснокова. - Новосибирск: СГГА, 2003. - 300 с. - аналог.
2. Хасуй А. Техника напыления. Пер. с японского. М., Машиностроение, 1975. 288 с. - прототип.
3. Прохоров А.М. и др. Взаимодействие лазерного излучения с металлами. М., Наука, 1988. - 837 с. - С.40.
Claims (5)
1. Способ лазерного формообразования механических микроструктур на поверхности подложки путем осаждения частиц вещества с использованием локального нагрева области осаждения лазерным излучением, отличающийся тем, что используют вещество, диспергированное в виде аэрозоля, причем локальный нагрев осуществляют лазерным импульсным излучением с длительностью импульса не менее той, при которой длина тепловой волны в частице больше размера частицы в направлении излучения, и осуществляют припекание частиц аэрозоля к подложке.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют частицы из материала, который поглощает лазерное излучение.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют упомянутые электрически заряженные частицы, а упомянутую подложку электрически соединяют с полюсом источника электрического напряжения.
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что электрическое напряжение упомянутого источника знакопеременное, причем изменение полярности напряжения синхронизуют с периодичностью генерации импульса лазерного излучения.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют упомянутые частицы в виде пара-, суперпара- или ферромагнитных частиц, а упомянутую подложку помещают в область магнитного поля, силовые линии которого пересекают ее поверхность.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2010122221/02A RU2452792C2 (ru) | 2010-05-31 | 2010-05-31 | Лазерное формообразование механических микроструктур на поверхности подложки |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2010122221/02A RU2452792C2 (ru) | 2010-05-31 | 2010-05-31 | Лазерное формообразование механических микроструктур на поверхности подложки |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2010122221A RU2010122221A (ru) | 2011-12-10 |
| RU2452792C2 true RU2452792C2 (ru) | 2012-06-10 |
Family
ID=45405130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2010122221/02A RU2452792C2 (ru) | 2010-05-31 | 2010-05-31 | Лазерное формообразование механических микроструктур на поверхности подложки |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2452792C2 (ru) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2620932C2 (ru) * | 2015-08-11 | 2017-05-30 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) | Способ изготовления фазовых дифракционных микроструктур |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1118429A1 (ru) * | 1983-01-14 | 1984-10-15 | Предприятие П/Я А-7629 | Способ нанесени твердых частиц |
| US6225007B1 (en) * | 1999-02-05 | 2001-05-01 | Nanogram Corporation | Medal vanadium oxide particles |
-
2010
- 2010-05-31 RU RU2010122221/02A patent/RU2452792C2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1118429A1 (ru) * | 1983-01-14 | 1984-10-15 | Предприятие П/Я А-7629 | Способ нанесени твердых частиц |
| US6225007B1 (en) * | 1999-02-05 | 2001-05-01 | Nanogram Corporation | Medal vanadium oxide particles |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| ВАРАДАН В. и др. Мир электроники, ВЧ МЭМС и их применение. - М.: Техносфера, 2004. ГРИГОРЬЯНЦ А.Г. и др. Технологические процессы лазерной обработки. - М.: МГТУ им. Н.Э.Баумана, 2006. * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2620932C2 (ru) * | 2015-08-11 | 2017-05-30 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт систем обработки изображений Российской академии наук (ИСОИ РАН) | Способ изготовления фазовых дифракционных микроструктур |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2010122221A (ru) | 2011-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6815015B2 (en) | Jetting behavior in the laser forward transfer of rheological systems | |
| CN103619751A (zh) | 用于在衬底上纳米滴落1d、2d或3d结构的方法 | |
| Smirnov | Metal nanostructures: from clusters to nanocatalysis and sensors | |
| EP3123253A2 (en) | Controlled atom source | |
| Lecz et al. | Magnetic dipole moment generated in nano-droplets irradiated by circularly polarized laser pulse | |
| RU2452792C2 (ru) | Лазерное формообразование механических микроструктур на поверхности подложки | |
| Ghosh et al. | Fragmentation and film growth in supersonic nanoaggregate aerosol deposition | |
| Takaoka et al. | Surface irradiation and materials processing using polyatomic cluster ion beams | |
| WO2008008750A2 (en) | Resonant infrared laser-assisted nanoparticle transfer and applications of same | |
| CN112007583A (zh) | 一种微液滴的制备及操控方法 | |
| Papazoglou et al. | Shadowgraphic imaging of the sub-ps laser-induced forward transfer process | |
| CN112517922A (zh) | 一种高重频超快激光高效直写制造金属微结构的方法 | |
| Nastulyavichus et al. | Formation of nanoparticles from thin silver films irradiated by laser pulses in air | |
| Ueno et al. | Characterization of various Sn targets with respect to debris and fast ion generation | |
| Potapov et al. | Ion-Plasma Formation of Nanosized Coatings with Fractal Topology | |
| Rousta et al. | Influence of deposition time and applied voltage on the properties of electrophoretically deposited nickel oxide colloidal nanoparticles thin film | |
| Torrisi et al. | Resonance absorption enhancement in laser-generated plasma ablating Cu treated surfaces | |
| Xue et al. | Programmable Droplet Manipulation on Superhydrophobic Surfaces with Charge Gradient | |
| JP2013522921A (ja) | 疎水性材料表面上に金属電極を配設する方法 | |
| RU2502151C1 (ru) | Способ изготовления фотокатода и устройство для изготовления фотокатода | |
| Lübcke et al. | Interaction of ultrafast laser pulses with nanostructure surfaces | |
| Al-hddad et al. | The effect of applied external magnetic field on the synthesis of nanogold particles via laser ablation | |
| RU2646441C1 (ru) | Способ упорядочения расположения наночастиц на поверхности подложки | |
| BG112318A (bg) | Метод и система за нанасяне на микро- и наночастици върху прозрачни среди | |
| Vikram et al. | Introduction to thin film technology |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20180601 |