RU2310013C2 - Способ получения сверхтвердых покрытий - Google Patents
Способ получения сверхтвердых покрытий Download PDFInfo
- Publication number
- RU2310013C2 RU2310013C2 RU2005136792/02A RU2005136792A RU2310013C2 RU 2310013 C2 RU2310013 C2 RU 2310013C2 RU 2005136792/02 A RU2005136792/02 A RU 2005136792/02A RU 2005136792 A RU2005136792 A RU 2005136792A RU 2310013 C2 RU2310013 C2 RU 2310013C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- carbon
- diamond
- film
- metal
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract 2
- -1 argon ions Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 7
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910011208 Ti—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000007885 magnetic separation Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к получению сверхтвердых покрытий. Поверхность изделия предварительно обрабатывают в вакуумной камере ускоренными ионами аргона с энергией до 1000 эВ и при давлении газа аргона (2-6)×102 Па. Затем на обработанную поверхность наносят подслой на основе металла, выбранного из группы: титан, хром и цирконий. Подслой наносят с помощью электродугового испарителя с сепарацией плазменного потока магнитным полем. Затем наносят композиционный слой металл-углерод тем же методом, что и предыдущий слой. Алмазоподобную пленку наносят с помощью генератора углеродной плазмы при импульсном токе 3-5 кА, при длительности разряда 0,2-0,5 мсек и длительности паузы не менее 10 мсек. Алмазоподобную пленку наносят электродуговым вакуумным распылением графитового катода из катодного пятна, генерирующего углеродную плазму при импульсном токе 3-5 кА, при длительности разряда 0,2-0,5 мсек и длительности паузы не менее 10 мсек. Затем формируют защитный подслой из совмещенных атомно-молекулярных потоков углерода и элемента, входящего в группу, содержащую алюминий, титан, кремний и цирконий, с изменением массовой доли % элемента от 0 до 8, после чего наносят металлический слой. Техническим результатом изобретения является разработка технологии получения сверхтвердого углеродо-металлического покрытия с заданными свойствами, при этом нижний слой должен обладать высокой адгезией с материалом подложки, средний - высокой твердостью, повышенной износостойкостью, верхний - хорошей теплопроводностью и теплостойкостью. 5 з.п. ф-лы.
Description
Изобретение относится к получению сверхтвердых пленок в едином вакуумном цикле с заранее заданными свойствами, конкретно к технологии формирования многослойного углеродо-металлического покрытия, и может быть использовано в медицине, тяжелой и легкой промышленности для повышения эксплуатационных характеристик изделий и увеличения их ресурса работы.
Известен способ повышения эксплуатационных характеристик изделий, в частности инструмента, при котором наносится нитрид титана (TiN) или карбонитрид титана (TiCN) [1].
К причинам, препятствующим достижению указанного технического результата при использовании известного способа, относится то, что данные покрытия, обладая хорошей адгезией к материалу подложки, имеют низкую твердость и уровень сжимающих напряжений, либо высокую микротвердость, но недостаточную прочность сцепления. При нагреве (резка, трение) идет разрушение Ti-N связей, и покрытие быстро изнашивается за счет недостаточной твердости.
Известен метод катодного распыления, при котором происходит осаждение потоков нейтральных атомов углерода, полученных катодным распылением графитовой мишени. Здесь используются различные схемы распыления: диодная, триодная, магнетронная [2]. Серьезным недостатком перечисленных методов является низкая скорость осаждения 0,1-0,3 нм/мин, объясняющаяся малым значением коэффициента распыления углерода и невысоким значением плотности ионного потока. Низка плотность 1,8-2,1 г/см2, микротвердость 10-25 ГПа. Кроме того, пленки загрязнены примесями кислорода, водорода и аргона.
Известен метод осаждения из плазмы, создаваемый лазерным воздействием на графитовую мишень. При воздействии достаточно мощного лазерного излучения с мишенями происходит образование высокоскоростных потоков материала эродирующей поверхности. Энергия атомов и ионов в потоках значительно выше тепловой, что может быть использовано для получения алмазоподобных (АПП) покрытий, используя импульсное лазерное излучение для испарения графитовой мишени при отрицательном потенциале на подложке [3].
Имея удельную мощность лазера 3×100000000 ВТ/ см2, среднюю энергию ионов углерода 80 эВ, скорость осаждения 0,3-0,5 мкм/ч, из-за низкого КПД лазеров (около 3%) метод не получил широкого применения. Кроме того, механические свойства пленок невысокие.
Наиболее близким техническим решением к заявляемому изобретению является способ получения алмазоподобного покрытия в вакууме [4].
Способ формирования углеродного алмазоподобного покрытия в вакууме включает помещение изделия в вакуумную камеру, обработку поверхности ускоренными ионами, нанесение на обрабатываемую поверхность подслоя материала, электродуговое распыление графитового катода, получение углеродной плазмы с последующим осаждением данной плазмы на поверхность изделия. Используется импульсный электродуговой разряд, посредством которого возбуждают множество котодных пятен на торцевой поверхности графитового катода, перемещающихся по торцевой поверхности катода со скоростью 10-30 м/сек и генерирующих углеродную плазму с энергией ионов 40-100 эВ, при этом изделие в вакуумной камере электроизолируют. Температура поддерживается в пределах 200-450 К посредством регулирования частоты импульсов.
Недостатком метода являются большие внутренние напряжения (5-7 ГПа), которые приводят к растрескиванию покрытия, его отслоению и сокращению времени работы изделия.
Техническим результатом изобретения является разработка технологии получения сверхтвердого углеродометаллического покрытия с заданными свойствами, а именно улучшения качества алмазоподобных пленок за счет изменения их структуры и состава.
Указанный технический результат достигается за счет того, что предварительную обработку поверхности изделия проводят в вакуумной камере ионами аргона с энергией до 1000 эВ и при давлении газа аргона (2-6)×102 Па, подслой наносят с помощью электродутового испарителя с сепарацией плазменного потока магнитным полем, затем наносят композиционный слой металл - углерод тем же методом, что и предыдущий слой, алмазоподобную пленку наносят с помощью генератора углеродной плазмы при импульсном токе 3-5 кА при длительности разряда 0,2-0,5 мсек и длительности паузы не менее 10 мсек, затем формируют защитный подслой из совмещенных атомно-молекулярных потоков углерода и элемента, входящего в группу, содержащую алюминий, титан, кремний и цирконий, с изменением массовой доли % элемента от 0 до 8, после чего наносят металлический слой.
Кроме того, подслой наносят толщиной до 0,1 мкм, композиционный слой наносят толщиной до 0,1 мкм, алмазоподобную пленку наносят толщиной до 0,10 мкм, защитный подслой выполняют толщиной 0,020-0,025 мкм, металлический слой выполняют толщиной до 0,1 мкм.
Следовательно, заявляемое изобретение соответствует критерию "новизна".
Для проверки соответствия технического решения критерию "изобретательский уровень" заявитель провел дополнительный поиск известных решений, чтобы выявить признаки, совпадающие с отличительными от прототипа признаками заявляемого способа. Анализ патентов и научно-технической информации не выявил использования новых существенных признаков, используемых в предлагаемом решении, по их функциональному назначению. Следовательно, предлагаемое изобретение соответствует критерию "изобретательский уровень".
Сущность изобретения заключается в следующем.
Получение модифицируемой алмазоподобной пленки достигается следующим порядком.
Устанавливают подложку в вакуумной камере, создают разрежение, производят предварительную обработку детали ионами аргона с энергией до 1000 эВ источником ионного травления типа "Радикал" (очистка от органических загрязнений, снятие поверхностных напряжений) при давлении аргона 2×102-6×102 Па. Для повышения эффективности ионного травления используют дополнительное ускорение ионов аргона подачей отрицательного потенциала в пределах 800-2000 В на деталь.
Целесообразно в качестве материала подслоя использовать металл, выбранный из группы, состоящей из Ti, Cr, Zr. Для лучшего сцепления подложки и пленки толщиной до 0,04-0,06 мкм используют электродуговой испаритель с сепарацией плазменного потока магнитным полем. Далее осуществляют совместное осаждение углерода методом импульсного распыления графита и металла методом электродугового испарения с магнитной сепарацией плазменного потока для создания переходного композиционного металл - С подслоя толщиной до 0,1 мкм. Изменением скорости осаждения углерода обеспечивают плавный переход от чистого металла к чистому углероду АПП.
Затем производят нанесение алмазоподобной пленки генератором углеродной плазмы со средней энергией 80 эВ и концентрацией ионов 1012-1013 см3 импульсным током 3-5 кА. Импульсный характер процесса конденсации, отличающийся длительными паузами (длительность разряда 0,3 мсек и длительность паузы не менее 10 мсек при максимальной частоте), улучшает отвод тепла из зоны конденсации, что обеспечивает формирование алмазоподобных структур в более широком диапазоне температур (до 150°С). При этом скорость напыления АПП достигает до 0,9 А/импульс.
Для снижения внутренних напряжений в покрытии, если необходимо получение более "мягких" пленок, проводится имплантация в углеродную пленку ионов азота, что повышает устойчивость его к механическим нагрузкам.
Затем формируют защитный подслой из совмещенных атомно-молекулярных потоков углерода и элемента, входящего в группу, содержащую алюминий, титан, кремний и цирконий, с изменением массовой доли % элемента от 0 до 8, дальнейшее увеличение массовой доли металла в пленке приводит к значительному ухудшению структурного состаяния последнего, после чего наносят металлический слой.
В данном конкретном случае для минимального снижения свойств АПП слоя массовая доля (Me) не должна превышать 8%. При низкой скорости поступления атомов (Me), обеспечивающей малую концентрацию металла, на подложке конденсируется пленка с однородной по размеру частиц структурой. Управление потоками осуществляется изменением плотности потока компонентов и выбором режимов напыления.
Процесс завершается покрытием чистого металлического слоя толщиной около 0,1 мкм. Получение защитной пленки позволяет повысить рабочую температуру работы АПП слоя, а также улучшает теплопередачу рабочая зона - подложка.
Для промышленного использования и эффективной работы покрытие должно иметь слоистую структуру с участками, защищающими углеродную пленку. Нижний слой должен обладать высокой адгезией с материалом подложки, средний - высокой твердостью, повышенной износостойкостью, верхний - хорошей теплопроводностю, теплостойкостью.
При этом покрытия должны иметь прочное сцепление друг с другом, что обеспечивается введением промежуточных слоев для плавного изменения свойств от слоя к слоя. Этим достигается снижение напряжений на границах пленок и увеличивается трещеустойчивость.
Кроме того, благодаря химическому сродству слоев достигается прочное сцепление друг с другом.
С целью экспериментальной проверки заявленного способа было нанесено преложенное покрытие на партию метчиков, используемых в серийном производстве.
Пример 1
Метчики поместили в вакуумную камеру, камеру вакуумировали до давления 5×10 Па. Проводили ионную обработку ионами аргона с энергией в 900 эВ при давлении 4×102 Па. Для повышения эффективности ионного травления использовали дополнительное ускорение ионов аргона подачей отрицательного потенциала на изделие в 1000 В.
Затем наносили на изделие с помощью электродугового испарителя с сепарацией плазменного потока подслой на основе титана толщиной 0,05 мкм.
Методом электродугового испарения с сепарацией плазменного потока нанесли композиционный слой типа Ti-С, после чего нанесли алмазоподобную пленку с помощью генератора углеродной плазмы со средней энергией 80 эВ и концентрацией ионов 1012 см3 толщиной 0,10 мкм. Скорость напыления АПП составила 0,9 А/импульс.
Затем формировали защитный подслой из совмещенных атомно-молекулярных потоков углерода и элемента, входящего в группу, содержащую алюминий, титан, кремний и цирконий, с изменением массовой доли % от 0 до 8, после чего нанесли металлический слой.
Путем ренгеноструктурного анализа установлено, что покрытие аморфно.
Испытания проводились на реальном производстве в одинаковых условиях (метчики с покрытием и без покрытия). Ресурс работы инструмента с покрытием увеличился до 5-и раз. Фактически, наличие покрытия создает новый инструмент:
- другие механические свойства поверхностного слоя,
- низкий коэффициент трения,
- изменение характера химического взаимодействия.
Таким образом, многослойное углеродо-металлическое покрытие, полученное достаточно дешевым и экологически чистым методом распыления углерода, может быть использовано для улучшения свойств деталей и инструмента.
Эффективность данного покрытия может быть многократно увеличена без изменения технологии напыления путем оптимизации режимов нанесения и использования других модификационных материалов.
Источники информации
1. Табаков В.П. Работоспособность режущего инструмента с износостойким покрытием на основе сложных нитридов и карбонитридов титана. Ульяновск. УлГТУ, 1988, с.122.
2. В.М.Кольянов, В.П.Демидов. СССР, Авторский сертификат №411037, 1973.
3. И.И.Аксенов, В.Г.Падалка и др. Физика плазмы, 1979, с.607-612.
4. RU, П-2114210, 6 С23С 14/06, 14/22, опубл. 27.06.1998.
Claims (6)
1. Способ получения сверхтвердых покрытий, включающий предварительную обработку поверхности изделия в вакуумной камере ускоренными ионами, нанесение на обработанную поверхность подслоя на основе металла, выбранного из группы: титан, хром и цирконий, электродуговое вакуумное распыление графитового катода из катодного пятна с получением углеродной алмазоподобной пленки, отличающийся тем, что предварительную обработку поверхности изделия проводят в вакуумной камере ионами аргона с энергией до 1000 эВ и при давлении газа аргона (2-6)·102 Па, подслой наносят с помощью электродугового испарителя с сепарацией плазменного потока магнитным полем, затем наносят композиционный слой металл-углерод тем же методом, что и предыдущий слой, алмазоподобную пленку наносят с помощью генератора углеродной плазмы при импульсном токе 3-5 кА при длительности разряда 0,2-0,5 мс и длительности паузы не менее 10 мс, затем формируют защитный подслой из совмещенных атомно-молекулярных потоков углерода и элемента, входящего в группу, содержащую алюминий, титан, кремний и цирконий, с изменением массовой доли % элемента от 0 до 8, после чего наносят металлический слой.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что подслой наносят толщиной 0,04-0,06 мкм.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что композиционный слой наносят толщиной до 0,1 мкм.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что алмазоподобную пленку наносят толщиной до 0,10 мкм.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что защитный подслой выполняют толщиной 0,020-0,025 мкм.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что металлический слой выполняют толщиной до 0,1 мкм.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2005136792/02A RU2310013C2 (ru) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | Способ получения сверхтвердых покрытий |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2005136792/02A RU2310013C2 (ru) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | Способ получения сверхтвердых покрытий |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2005136792A RU2005136792A (ru) | 2007-05-27 |
| RU2310013C2 true RU2310013C2 (ru) | 2007-11-10 |
Family
ID=38310491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2005136792/02A RU2310013C2 (ru) | 2005-11-25 | 2005-11-25 | Способ получения сверхтвердых покрытий |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2310013C2 (ru) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2463382C2 (ru) * | 2010-12-16 | 2012-10-10 | Валерий Михайлович Башков | Способ и устройство для получения многослойно-композиционных наноструктурированных покрытий и материалов |
| RU2499850C1 (ru) * | 2012-06-04 | 2013-11-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Чувашский государственный университет имени И.Н. Ульянова" | Способ получения металлсодержащего углеродного наноматериала |
| RU2530224C1 (ru) * | 2013-05-20 | 2014-10-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли РФ | Способ формирования защитного покрытия на основе пленки некристаллического углерода |
| RU2656312C1 (ru) * | 2017-08-14 | 2018-06-04 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ нанесения твердых износостойких наноструктурных покрытий из аморфного алмазоподобного углерода |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116219379A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-06-06 | 河北汉光重工有限责任公司 | 一种改善关节轴承摩擦副润滑性能的方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB614396A (en) * | 1945-06-08 | 1948-12-15 | Thomas William Penrice | Improvements in or relating to the coating of diamonds and other precious stones |
| RU2053312C1 (ru) * | 1992-11-05 | 1996-01-27 | Гороховский Владимир Ильич | Способ нанесения покрытий в вакууме и устройство для нанесения покрытий в вакууме |
| RU2114210C1 (ru) * | 1997-05-30 | 1998-06-27 | Валерий Павлович Гончаренко | Способ формирования углеродного алмазоподобного покрытия в вакууме |
| JP2002179493A (ja) * | 2000-12-11 | 2002-06-26 | Osg Corp | ダイヤモンド被覆部材およびその製造方法 |
| RU2240376C1 (ru) * | 2003-05-22 | 2004-11-20 | Ооо "Альбатэк" | Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме |
-
2005
- 2005-11-25 RU RU2005136792/02A patent/RU2310013C2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB614396A (en) * | 1945-06-08 | 1948-12-15 | Thomas William Penrice | Improvements in or relating to the coating of diamonds and other precious stones |
| RU2053312C1 (ru) * | 1992-11-05 | 1996-01-27 | Гороховский Владимир Ильич | Способ нанесения покрытий в вакууме и устройство для нанесения покрытий в вакууме |
| RU2114210C1 (ru) * | 1997-05-30 | 1998-06-27 | Валерий Павлович Гончаренко | Способ формирования углеродного алмазоподобного покрытия в вакууме |
| JP2002179493A (ja) * | 2000-12-11 | 2002-06-26 | Osg Corp | ダイヤモンド被覆部材およびその製造方法 |
| RU2240376C1 (ru) * | 2003-05-22 | 2004-11-20 | Ооо "Альбатэк" | Способ формирования сверхтвердого аморфного углеродного покрытия в вакууме |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2463382C2 (ru) * | 2010-12-16 | 2012-10-10 | Валерий Михайлович Башков | Способ и устройство для получения многослойно-композиционных наноструктурированных покрытий и материалов |
| RU2499850C1 (ru) * | 2012-06-04 | 2013-11-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Чувашский государственный университет имени И.Н. Ульянова" | Способ получения металлсодержащего углеродного наноматериала |
| RU2530224C1 (ru) * | 2013-05-20 | 2014-10-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Министерство промышленности и торговли РФ | Способ формирования защитного покрытия на основе пленки некристаллического углерода |
| RU2656312C1 (ru) * | 2017-08-14 | 2018-06-04 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики металлов имени М.Н. Михеева Уральского отделения Российской академии наук (ИФМ УрО РАН) | Способ нанесения твердых износостойких наноструктурных покрытий из аморфного алмазоподобного углерода |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2005136792A (ru) | 2007-05-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2360032C1 (ru) | Способ получения износостойких сверхтвердых покрытий | |
| US6261424B1 (en) | Method of forming diamond-like carbon coating in vacuum | |
| US4401719A (en) | Highly hard material coated articles | |
| JP5933701B2 (ja) | 硬質の炭素層のためのコーティング除去方法 | |
| JP2005500440A (ja) | ナノ構造の機能層を形成する方法、およびこれにより作製される被覆層 | |
| CN109082647B (zh) | 铝合金表面dlc防护薄膜制备方法 | |
| CN103789726A (zh) | 与工具表面结合牢固的AlTiCrN/MoN纳米多层涂层及其制备方法 | |
| Sharipov et al. | Increasing the resistance of the cutting tool during heat treatment and coating | |
| RU2310013C2 (ru) | Способ получения сверхтвердых покрытий | |
| JP2004137541A (ja) | Ｄｌｃ傾斜構造硬質被膜及びその製造方法 | |
| JP2023540511A (ja) | トライボロジー用途のためのドープｄｌｃ | |
| RU2740591C1 (ru) | Способ получения многослойных износостойких алмазоподобных покрытий | |
| RU2415966C1 (ru) | Способ нанесения покрытия на изделия из твердых сплавов | |
| JP5360603B2 (ja) | 非晶質炭素被覆部材の製造方法 | |
| RU2694857C1 (ru) | Способ нанесения износостойкого покрытия ионно-плазменным методом | |
| CN107034438B (zh) | 高速钢丝锥表面涂层制备方法 | |
| JP7292695B2 (ja) | 機能性薄膜、その製造方法、積層構造体及びその製造方法 | |
| US20250230538A1 (en) | Method for forming hard and ultra-smooth a-c by sputtering | |
| JP2007126754A (ja) | 真空アーク蒸着装置 | |
| JP5987152B2 (ja) | 成形品及びその製造方法 | |
| KR100920725B1 (ko) | 피증착물의 박막 증착 장치, 박막 증착 방법 및 이에 의해증착된 고속 가공용 공구 | |
| JP2001192206A (ja) | 非晶質炭素被覆部材の製造方法 | |
| JP2006169614A (ja) | 金属複合ダイヤモンドライクカーボン（ｄｌｃ）皮膜、その形成方法、及び摺動部材 | |
| CN114632910A (zh) | 一种压铸铝模具表面的纳米复合多元碳氧化物涂层的制备方法 | |
| CN113151797A (zh) | 一种基于硬质合金表面镀ta-C膜的新型离子清洗工艺 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20091126 |