RU2391731C2 - Порошок на основе ниобия, содержащий ванадий, и способ его получения - Google Patents
Порошок на основе ниобия, содержащий ванадий, и способ его получения Download PDFInfo
- Publication number
- RU2391731C2 RU2391731C2 RU2006118262/09A RU2006118262A RU2391731C2 RU 2391731 C2 RU2391731 C2 RU 2391731C2 RU 2006118262/09 A RU2006118262/09 A RU 2006118262/09A RU 2006118262 A RU2006118262 A RU 2006118262A RU 2391731 C2 RU2391731 C2 RU 2391731C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- niobium
- vanadium
- powder
- oxide
- ppm
- Prior art date
Links
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 87
- 239000010955 niobium Substances 0.000 title claims abstract description 85
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 81
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 79
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 49
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 29
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 11
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000003682 vanadium compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 16
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 23
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 3
- -1 niobium metal oxide Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 3
- ABLLXXOPOBEPIU-UHFFFAOYSA-N niobium vanadium Chemical compound [V].[Nb] ABLLXXOPOBEPIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- HFLAMWCKUFHSAZ-UHFFFAOYSA-N niobium dioxide Chemical compound O=[Nb]=O HFLAMWCKUFHSAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 34
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M Superoxide Chemical compound [O-][O] OUUQCZGPVNCOIJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 239000012254 powdered material Substances 0.000 abstract 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 37
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 26
- BFRGSJVXBIWTCF-UHFFFAOYSA-N niobium monoxide Inorganic materials [Nb]=O BFRGSJVXBIWTCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910000756 V alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 5
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 5
- 229910001257 Nb alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O azanium;oxido(dioxo)vanadium Chemical compound [NH4+].[O-][V](=O)=O UNTBPXHCXVWYOI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- MAKKVCWGJXNRMD-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] MAKKVCWGJXNRMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021542 Vanadium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XSSWPVQSUAABDY-UHFFFAOYSA-I [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Nb+5] Chemical class [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].F.F.[Nb+5] XSSWPVQSUAABDY-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- XVCDXZGTRKGYDC-UHFFFAOYSA-N [V].[Ta].[Nb] Chemical compound [V].[Ta].[Nb] XVCDXZGTRKGYDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N azanylidyneniobium Chemical compound [Nb]#N CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L manganese oxide Inorganic materials [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PPNAOCWZXJOHFK-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Mn+2] PPNAOCWZXJOHFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005551 mechanical alloying Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- ALTWGIIQPLQAAM-UHFFFAOYSA-N metavanadate Chemical compound [O-][V](=O)=O ALTWGIIQPLQAAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002821 niobium Chemical class 0.000 description 1
- RHDUVDHGVHBHCL-UHFFFAOYSA-N niobium tantalum Chemical compound [Nb].[Ta] RHDUVDHGVHBHCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- JHQADNCUJQNQAN-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] JHQADNCUJQNQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUSYNUCUMASASA-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);vanadium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[V+4] DUSYNUCUMASASA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWEVJTRENSGKAD-UHFFFAOYSA-L oxygen(2-);vanadium(4+);sulfate;pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[O-2].[V+4].[O-]S([O-])(=O)=O YWEVJTRENSGKAD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/042—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by the material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
- H01G9/052—Sintered electrodes
- H01G9/0525—Powder therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G33/00—Compounds of niobium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B34/00—Obtaining refractory metals
- C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
- C22B34/24—Obtaining niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B5/00—General methods of reducing to metals
- C22B5/02—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes
- C22B5/12—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes by gases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/04—Electrodes or formation of dielectric layers thereon
- H01G9/048—Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
- H01G9/052—Sintered electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/50—Solid solutions
- C01P2002/52—Solid solutions containing elements as dopants
- C01P2002/54—Solid solutions containing elements as dopants one element only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
Предложен порошкообразный материал для изготовления электролитических конденсаторов на основе ниобия, содержащий 10-100000 ч/милл. или от 500 до 10000 ч/милл. по массе ванадия. Его получают за счет того, что порошок ванадия, окись ванадия и/или соединение ванадия, превращаемое в окись ванадия гидролизом или термическим путем, смешивают с металлическим ниобием, окисью ниобия и/или оксигидратом ниобия, при этом получаемую смесь, при необходимости, сушат и прокаливают, и получаемую смешанную окись восстанавливают до недоокиси ниобия или металлического ниобия, содержащих ванадий, и, при необходимости, азотируют. Порошок на основе ниобия пригоден для получения анодов электрического конденсатора, имеющих емкость, независящую от напряжения смещения. 3 н. и 7 з.п. ф-лы, 6 табл.
Description
Данное изобретение относится к порошкообразным материалам для изготовления электролитических конденсаторов, в частности к порошку на основе ниобия, содержащему ванадий, и способу его получения.
В литературе в основном описаны кислотно-земельные металлы ниобий и тантал в качестве исходных материалов для изготовления таких конденсаторов. Изготовление конденсаторов осуществляют спеканием мелкозернистых порошков в окатыши с созданием структуры с большой поверхностью, анодным окислением поверхности этих спекшихся тел для создания непроводящего изолирующего слоя (диэлектрика) и нанесением противоэлектрода в форме слоя из двуокиси марганца или проводящего полимера. Порошки кислотно-земельных металлов особенно подходят в связи с высокими диэлектрическими постоянными их пятиокисей.
До последнего времени техническое значение для изготовления конденсаторов играл по существу танталовый порошок. Это связано, с одной стороны, с воспроизводимым получением мелкозернистых танталовых порошков, а с другой стороны, с тем, что изолирующий окисный слой из пятиокиси тантала обладает особенно выраженной стабильностью. Возможно, это связано с тем, что тантал, в отличие от ниобия, не образует стабильных недоокисей.
Однако в ходе быстрого развития микроэлектроники и недостатки тантала приобретают возрастающее значение. Тантал относится к редким металлам (находясь на 54 месте по распространенности в природе, элемент содержится в земной коре в количестве 2,1 г/т) с очень небольшим числом месторождений, целесообразных для разработки (только Хард Рок Майнинг), и, кроме того, он содержится в малых концентрациях в своих рудах. Так, типичные добываемые в настоящее время танталовые руды (например, в Австралии) часто содержат менее 0,1% Ta2O5 (около 300 млн. долей).
Ниобий, который относится к той же группе периодической системы элементов, стоит над танталом и имеет очень похожие свойства, однако распространенность ниобия в 10-12 раз выше, чем тантала, а месторождения ниобия более удобны для разработки (33-е место по естественной распространенности элемента в земной коре с 24 г/т). Экономически важнейшие месторождения находятся в Бразилии (78% мировых запасов), где добывают руду с более 3% Nb2O5 открытым способом. Другие разрабатываемые месторождения находятся в Канаде, Нигерии и Заире. В связи с этим цены на сырье в виде концентратов ниобия существенно ниже по сравнению с концентратами тантала и, кроме того, цены не испытывают сильных колебаний.
Кроме того, существует естественная граница роста достижимых удельных емкостей танталовых порошков. Для того чтобы достигнуть более высоких емкостей С у Та-порошков, удельная поверхность должна быть увеличена (С=ε0εr*A/d), что при определенной геометрии частиц порошка связано с уменьшением размеров частиц. Если средний размер частиц диэлектрического слоя, полученного анодированием, лежит в нанометровой области, то также в нанометровой области будут насквозь "анодироваться" области металлического тела, подвергнутого спеканию, то есть особенно в тонких областях, например в шейках спекания, между двумя частицами будет отсутствовать металлическая проводимость. Это приводит к тому, что отдельные области анода становятся неактивными.
Кроме того, способность к окислению танталовых порошков сильно возрастает с уменьшением размеров частиц порошка и соответствующим возрастанием удельной поверхности.
В связи с этими причинами и с учетом отчетливо более высоких диэлектрических постоянных ниобия (ε~42) по сравнению с танталом (ε~27) у тантала цель многих исследователей состоит в создании ниобиевых конденсаторов. Однако применению ниобиевых конденсаторов препятствовали до настоящего времени низкие удельные емкости с малой удельной поверхностью и низкое качество.
Одна из причин этого заключается в том, что чистый ниобий по сравнению с танталом имеет два недостатка с точки зрения применения в конденсаторах. С одной стороны, это более сильно выраженная тенденция анодированной окисной пленки к кристаллизации в поле по сравнению с танталом. Радиальная скорость роста кристаллических площадей в 1000 раз больше по сравнению с танталом при тех же условиях анодирования (N.F.Jackson, J.C.Hendy, Electrocompoment Science & Techn. 1974, 1, 27-37), что, однако, в большинстве случаев подавляется в результате анодирования при низких температурах (Y.Posdeev: "Comparison of tantalum and niobium solid electrolytic capacitors" TIC 1997; пленки должны быть аморфными, кристаллические области в пленке обнаруживают повышенную проводимость). Другой недостаток относится к более высокой чувствительности анодированных пленок Nb2O5 к тепловым обработкам.
Одна из стадий изготовления твердых электролитических конденсаторов состоит в нанесении полупроводящего катодного материала МnO2. Это происходит при окунании анодов в растворы нитрата магния для получения тонкого слоя МnNО3, который затем термически превращают в MnO2. При этом система Та-Та2O5 в течение от 10 до 30 минут подвергается нагреву между 250 и 450°С. Эта термическая обработка, однако, может привести к возрастанию зависимости емкости от частоты, температуры и напряжения смещения. Считают, что причиной этого является то, что при температурах свыше 300°С субстрат тантала может оттягивать атомы кислорода из анодированного слоя окиси тантала, что приводит к экспоненциальному градиенту дефектных мест окисной пленки, в которых отсутствует кислород. Эти дефектные места вызывают переход проводимости окисной пленки от диэлектрика к n-полупроводнику, соответственно, если дефекты будут составлять достаточно высокую концентрацию, к проводнику. Это показано схематически на фиг.1. Критическая удельная проводимость σ0 отделяет изолирующую часть от проводящей части окисной пленки. Если температуру повышают, то полупроводниковый слой расширяется в окисной пленке и эффективный изолирующий слой становится тоньше. Это служит причиной возрастания емкости, независимо от температурной зависимости диэлектрической постоянной. В таком случае анодное приложение напряжения смещения влияет на то, что электроны из дефектных мест переходят в металлический тантал. В результате этого образуется двойной электрический слой, который с металлической стороны создается электронами на граничной поверхности, а с полупроводниковой стороны - положительным пространственным зарядом в граничном слое, обедненном носителями заряда (барьер Шоттки-Мотта). Это вызывает увеличение роста градиента проводимости и возрастание эффективной толщины диэлектрика, что связано, согласно С=ε0εr*A/d, с уменьшением емкости.
В то время как анодированные окисные пленки на тантале являются диэлектрическими и только при повышенных температурах обнаруживают полупроводящие области, анодированные окисные пленки на ниобии ведут себя уже при комнатной температуре как n-полупроводники (A.D.Modestov, A.D.Dadydov, J. Electroanalytical Chem. 1999, 460, pp 214-225) и обнаруживают на граничной поверхности Nb2O5/электролит Шоттки-барьер (К.Е.Heusler, M.Schulze, Electrochim. Acta, 1975, 20, p.237; F. Di Quarto, S. Piazza, C.Sunseri, J. Electroanalytical Chem. 1990, 35, p.99). Причина этого может состоять в том, что ниобий в отличие от тантала образует различные стабильные недоокиси. Так, из литературы известно, что у окисных пленок на ниобии только наружный слой состоит из Nb2O5-x (М.Grundner, J.Halbritter, J. Appl. Phys. 1980, 51(1), pp.397-405), которая, кроме того, имеет не совсем стехиометрический состав и обнаруживает недостаток кислорода х. Между слоем Nb2O5-x и металлическим субстратом ниобия находится слой из NbO, так как этот слой, находящийся в контакте с насыщенным кислородом металлическим ниобием, представляет собой термодинамически устойчивую фазу, а не так как у тантала, у которого устойчива пятиокись (К.Е.Heusler, P.Schlutter, Werkstoffe & Korrosion, 1969, 20(3), pp.195-199).
Содержание кислорода в пассивном слое поверхности у ниобия составляет от около 3500 до 4500 млн. долей на м2 удельной поверхности. При спекании Nb-анодов кислород пассивного слоя поверхности диффундирует внутрь металла и распределяется там равномерно. При этом толщина NbO-слоя возрастает пропорционально поверхности использованного порошка, что можно хорошо проследить по дифракции рентгеновских лучей на ниобиевых анодах, полученных при спекании. Это приводит в экстремальном случае при очень больших удельных поверхностях и значит очень высоких содержаниях кислорода в порошке к тому, что тело анода после спекания состоит главным образом из NbO, а уже не из металлического ниобия. Однако это возрастание содержания кислорода в отличие от тантала не проявляется значительным возрастанием тока утечки анода, изготовленного из таких порошков.
Другая особенность состоит в том, что МnО2-катод, служащий твердым электролитом, играет роль донора кислорода и может восполнить дефицит кислорода в Nb2O5-x-слое. Однако это не монотонный процесс, так как по соседству с граничной поверхностью MnO2/Nb2O5 образуются более низкие, непроводящие фазы окислов марганца (Мn2О3, Мn3O4, МnО), которые препятствуют дальнейшей диффузии кислорода от МnO2-катода к полупроводящему слою Nb2O5-x. Это приводит к росту дефектных мест х, к ускоренному росту тока утечки и в конце концов к выходу из строя конденсатора (Y.Posdeev on CARTS EUROPE '97: 11th European Passive Components Symposium). По этой причине у ниобиевых конденсаторов меньше время службы, чем у танталовых конденсаторов.
Это полупроводящее поведение анодированного на ниобии запирающего слоя имеет последствием то, что для измерения истинных величин емкости ниобиевых анодов, которые позднее достигаются и в готовом конденсаторе, к ним надо приложить положительное напряжение смещения, так как в противном случае невозможно достоверное измерение и получаются ошибочные, слишком высокие значения.
При сравнительных измерениях емкости анодов из металлического ниобия, соответственно, из окиси ниобия (II) и из ниобий/танталовых сплавов (90:10, 80:20, 70:30) и изготовленных из них конденсаторов было установлено, что необходимо приложить к аноду напряжение смещения ≥1,5 В, для того чтобы получить истинные значения емкостей для анодов, которые позднее обнаруживаются и в готовом конденсаторе, и что емкость таких анодов, измеренная без приложения напряжения смещения, в 3-4 раза выше емкости, которая измерена при напряжениях смещения, как минимум, 1,5 В, то есть будут получены ошибочные значения. Вследствие этого и для удельного тока утечки по отношению к емкостям, которые измерены без напряжения смещения, получают величины в 3-4 раза более низкие, чем действительный удельный ток утечки.
Очень важной характеристикой, определяющей пригодность порошка в качестве материала для конденсатора, является его химическая чистота, потому что как металлические, так и неметаллические загрязнения могут приводить к ошибкам, соответственно, к меньшей стабильности диэлектрического слоя. Критическими для тока утечки танталовых анодов при этом считают такие элементы, как Na, К, Fe, Cr, Ni и С. В настоящее время при непрерывном улучшении Та-порошков количества этих загрязнений находятся вблизи границы обнаружения у порошков, получаемых при восстановлении К2ТаF7 натрием.
Соответствующего процесса для восстановления K2NbF7 с получением высокочистых ниобиевых порошков не существует в связи с тем, что соответствующие соли гептафторида ниобия обладают высокой агрессивностью и частично растворяют материал реторты, и полученные порошки ниобия сильно загрязнены Fe, Cr, Ni и т.д. Для изготовления Nb-конденсаторов с большой емкостью не подходят также так называемые ЕВ-порошки, которые получают путем придания хрупкости с помощью водорода ниобиевым заготовкам, получаемым при плавлении электронным лучом, их перемалывании и последующем дегидрировании. Если описанное выше перемалывание проводят в аттриторе под слоем спирта, то получают ниобиевые хлопья, которые однако в большинстве случаев имеют высокую степень загрязнения металлами, такими как Fe, Cr, Ni и С, которые в процессе перемалывания при механическом легировании включаются в порошок ниобия и после этого больше не вымываются минеральными кислотами.
Очень чистыми являются ниобиевые порошки, получаемые в опубликованных заявках DE 19831280 А1, соответственно, WO 00/67936, согласно предложенному заявителем двухступенчатому восстановлению пятиокиси ниобия водородом, соответственно, газообразным магнием. Эти порошки содержат, например, металлические загрязнения, такие как Fe, Cr, Ni, Al, Na, К в количествах <25 млн. долей.
Наряду с химической чистотой, определяющей электрические свойства, порошок для конденсатора должен соответствовать и определенным физическим характеристикам. Так порошок должен обладать определенной сыпучестью, для того чтобы его можно было перерабатывать в полностью автоматических прессах для анодов производителя конденсаторов. Кроме того, должна быть определенная прочность спрессованных анодов в непросушенном состоянии, чтобы они сразу не рассыпались, и должно быть достаточно высокое распределение пор, для того чтобы гарантировать полное импрегнирование нитрата магния.
Задача данного изобретения состоит в том, чтобы преодолеть описанные выше недостатки известных конденсаторов на основе ниобия. Задача данного изобретения в особенности состоит в том, чтобы изолирующие свойства и термическую стабильность запирающего слоя из пятиокиси ниобия в конденсаторах на основе ниобия улучшить так, чтобы достигнуть более высоких времен службы, связанных с более высокими емкостями и более низкими токами утечки таких конденсаторов.
Было обнаружено, что такого рода конденсаторы на основе ниобия в результате сплавления/легирования, как минимум, запирающего слоя ванадием обнаруживают отчетливо улучшенные характеристики анодированной окисной пленки. Особенно было обнаружено импеданс-спектроскопическими измерениями и обсчетом диаграммы Шоттки-Мотта, что концентрации дефектов в анодированных окисных слоях таких конденсаторных анодов отчетливо понижены и так же низки, как и в соответствующих Та2O5-слоях. Кроме того, имеются первые указания на то, что стабильность в течение длительного времени близка к таковой у танталовых анодов, которая недостижима в случае обычных конденсаторах на основе ниобия.
В соответствии с этими объектами изобретения являются порошок на основе ниобия, содержащий 10-100000 ч/милл. по массе ванадия, и способ его получения.
Предлагаемый порошок пригоден для изготовления анодов конденсаторов, причем термин «на основе ниобия» означает электропроводящие соединения или сплавы, главным компонентом которых является ниобий, а также металлический ниобий. Подходящими соединениями являются, например, окиси ниобия NbOx, в которых х=0…2, нитрид ниобия или оксинитрид ниобия. Подходящими сплавами ниобия в особенности являются Nb/Ta-сплавы с содержанием ниобия, как минимум, 50%.
Согласно изобретению, предпочтителен металлический ниобий (с содержанием кислорода, обусловленным условиями получения, 3000-4500 ч/милл. долей на м2 удельной поверхности) и NbOx, где х=0,8…1,2.
Предпочтительное содержание ванадия в предлагаемом порошке на основе ниобия составляет от 200 до 20000 ч/милл. (по массе), в пересчете на ниобий и, при необходимости, тантал. Особенно предпочтительное содержание ванадия составляет от 500 до 20000 ч/милл.
Аноды конденсаторов, изготовленных из предлагаемого порошка на основе ниобия, содержащего ванадий, обнаруживают емкость, в существенной мере не зависящую от напряжения смещения, то есть подаваемого на анод постоянного напряжения, на которое накладывается напряжение переменного тока для измерения емкости.
Далее предпочтительно, что порошки на основе ниобия содержат загрязнения Fe, Cr, Ni, Al, Na и К, каждое в количестве меньше, чем 25 ч/милл. долей, особо предпочтительно, в сумме меньше 100 ч/милл.
Дальнейшим объектом изобретения является способ получения порошка на основе ниобия, содержащего ванадий, заключающийся в том, что ванадий, окись ванадия или соединение ванадия, которое гидролизом или термическим путем можно разложить в окись ванадия, смешивают в соответствующем соотношении с металлическим Nb, оксидом Nb, например Nb2O5, NbO2, и/или с гидратом окиси ниобия, например Nb2O5·Н2O, получаемую смесь, при необходимости, сушат и прокаливают, и получаемую смешанную окись восстанавливают до недоокиси ниобия или металлического ниобия и, при необходимости, азотируют.
Ванадий, окись ванадия или соединение ванадия можно применять в твердом или растворенном виде.
В качестве соединений ванадия пригодны все окислы ванадия, такие как V2O5, VO2, V2О3 и VO, причем V2O5 особенно предпочтителен. Далее пригодны все соединения ванадия, которые можно гидролизом или термическим путем разложить в окиси, например метаванадат аммония, оксидацетилацетонат ванадия (IV), пентагидрат оксидсульфата ванадия (IV), ванадийгалоиды и так далее. Особенно предпочтителен метаванадат аммония.
В качестве ниобиевого компонента предпочтительно используют мелкозернистые порошки Nb2O5, особенно предпочтительно гидрат пятиокиси ниобия Nb2O5·Н2O.
В качестве ниобиевых порошков особенно подходят высокопористые порошки, которые получены в соответствии со способами заявителя, согласно US 6171363 B1, DE 19831280 A1, DE 19847012 A1 и WO 00/67936 путем восстановления пятиокиси ниобия в жидком или газообразном магнии, при необходимости, после предварительного восстановления до недоокиси с помощью водорода. Такого рода ниобиевые металлические порошки получают с предельно низкими содержаниями загрязнений, вредных для применения в конденсаторах.
Если прокаливание проводят с окисями ванадия при использовании Nb2O5 или Nb2O5·H2O, то восстановление для получения NbO2, содержащего ванадий, осуществляют при нагревании до 950-1500°С в атмосфере водорода.
Восстановление ванадийсодержащих NbO2 или Nb2O5 до ванадийсодержащего Nb-металлического порошка осуществляют предпочтительно в соответствии с данным по DE 19831280 A1, DE 19847012 A1 или PCT/US 99/09772. Предпочтительно восстановление осуществляют с помощью паров магния в атмосфере защитного газа в неподвижном слое. Особо предпочтительно осуществляют восстановление в вихревом слое с аргоном, в качестве несущего газа, причем несущий газ перед тем как впустить в вихревой реактор пропускают над расплавом магния при температуре, близкой к температуре кипения магния.
Восстановление продукта прокаливания Nb2O5 или Nb2O5·Н2O и окиси ванадия или V-содержащего NbO2 в NbO, содержащий ванадий, кроме того, можно осуществлять при смешивании ванадийсодержащего порошка NbO2 или Nb2O5 с (предпочтительно, также содержащим ванадий) Nb-металлическим порошком и последующем нагревании в потоке водорода или в вакууме до температур от 950 до 1600°С.
Для получения азотированного или оксиазотированного порошка на основе ниобия, содержащего ванадий, металлический порошок ниобия или порошок NbOx, где предпочтительно х=0,1…0,5, содержащий ванадий, нагревают в азотной атмосфере до 1000°С.
Предлагаемый порошок для изготовления анодов конденсаторов, согласно изобретению, предпочтительно имеет размеры частиц от 300 до 1500 нм, особенно предпочтительно от 400 до 600 нм. Порошок в основном используют в виде агломератов с размерами частиц от 40 до 400 мкм. Для установления размеров агломератов проводят известным способом деокисляющую агломерацию при нагревании до 800-1000°С в присутствии небольшого количества магния и последующее просеивание через сито с размером ячеек от 250 до 400 мкм.
Дальнейшую переработку до анодов конденсаторов осуществляют прессованием и спеканием при 1050 до 1350°С до уплотнения спекаемой массы от 50 до 70% заполненного объема.
Дальнейшую переработку анодов в конденсаторы осуществляют «анодированием», то есть электрохимическим созданием слоя пятиокиси в таком электролите, как разбавленная фосфорная кислота, вплоть до заданного напряжения анодирования, которое в 1,5-4 раза превышает необходимое рабочее напряжение конденсатора.
Условия тестирования
Изготовление, формовка и измерение анодов, описанных в следующих примерах, осуществлено по следующим параметрам при условии, что в примерах не оговорены другие.
Изготовление анодов:
| Вес без проволоки | 0,072 г |
| Диаметр | 3,00 мм |
| Длина | 3,25 мм |
| Спрессованная плотность | 3,14 г/см3 |
Спекание анодов
| 1250°С | 20 минут |
| 1450°С | 20 минут |
| 1600°С | 20 минут |
Анодирование:
| Формовочное напряжение | 40 В, соотв., 60 В (см. примеры) |
| Формовочный ток | 100 мА/г |
| Время формования | 2 часа, соотв., 4 часа (см. примеры) |
| Электролит | 0,1% Н3РO4 (удел. проводимость 25°С: 2,5 мСм/см) |
| Температура | 80°С |
Измерение емкости:
| Электролит | 18% H2SO4 |
| Температура | 23°С |
| Частота | 120 Гц |
| Напряжение смещения | 1,5 В (как приведено) |
Измерение тока утечки:
| Электролит | 18% Н2SO4 |
| Температура | 23°С |
| Время зарядки | 2 минуты |
| Напряжение | 70% формовочного напряжения (28, соотв., 42 В) |
Пример 1
Сплав ниобия с ванадием, содержащий 0,894% ванадия, получают следующим образом: берут 897,9 гидрата окиси ниобия Nb2O5·Н2О (содержание Nb2O5 равно 63,09%) и 9,2 г метаванадата аммония NH4VО3 растворяют в 1000 мл H2O и хорошо перемешивают, в заключение сушат 24 часа при 110°С, а после этого 3,5 часа прокаливают при 950°С. Nb2O5·H2O имеет размеры первичных частиц около 600 нм. Смесь окислов, полученную таким образом, помещают в молибденовую лодочку и 4 часа выдерживают при температуре 1450°С в медленном потоке водородной атмосферы. Полученная таким образом недоокись имеет состав NbO2 (дифракция рентгеновских лучей) и содержит 0,716% ванадия. В заключение продукт помещают на мелкоячеистую решетку, под которой установлен тигель, в котором находится магний в стехиометрическом количестве, в 1,1 раз превышающем количество кислорода, содержащегося в недоокиси, и в атмосфере аргона нагревают 6 часов при 1000°С. При этом магний превращается в пар и реагирует с недоокисью, находящейся над ним. После охлаждения печи до комнатной температуры медленно добавляют воздух для пассивирования поверхности металла. Восстановленный продукт в заключение промывают серной кислотой, после этого промывают полностью обессоленной до нейтрального состояния и сушат.
Результаты анализа ниобиевого порошка:
V - 8940 ч/милл.
О - 15000 ч/милл. (3289 ч/милл./м2),
N - 342 ч/милл.
Мg - 190 ч/милл.
С - 33 ч/милл.
Fe, Cr, Ni, Al, Та - каждый <20 ч/милл.
Удельная поверхность порошка, согласно BET, составляет 4,56 м2/г. В дифракции рентгеновских лучей обнаружены для ниобия слегка сдвинутые в сторону меньших углов слабые рефлексы, что указывает на твердый раствор ванадия в ниобии.
Аноды изготовляют из порошка сплава Nb-V, (порошок А) и из порошка ниобия, полученного в соответствии со способом заявителя, согласно DE 19831280 А1, (порошок Б, образец для сравнения), имеющего состав:
V - <1 ч/милл.
О - 16000 ч/милл. (3883 ч/милл./м2)
N - 180 ч/милл.
Мg - 300 ч/милл.
Σ(Fe, Cr, Ni) < 15 ч/милл.
С - 14 ч/милл.
Удельная поверхность порошка, согласно BET, составляет 4,32 м2/г. Изготовленные аноды подвергнуты спеканию при 1150°С и формовке при 40 В. Для некоторых анодов перед формовкой была определена удельная поверхность по BET (Quantasorb) в 0,83+0,2 м2/г.
В таблицах 1 и 2 показаны результаты измерения удельных емкостей анодов из обоих порошков в различных электролитах при различных напряжениях смещения.
| Таблица 1 Измерение в 18%-ной H2SO4 |
||||||
| Электролит | Порошок А | Порошок Б | ||||
| Напряжение смещения | 0 В | 2 В | 4 В | 0 В | 2 В | 4 В |
| Измер. емкость, мкФ | 241 | 241 | 241 | 881 | 238 | 235 |
| Удел. емкость, мкФВ/г | 133889 | 133889 | 133889 | 489444 | 132222 | 130556 |
| Измер. ток утечки, мкА | 2,97 | 3,04 | ||||
| Удел. ток утечки, нА/мкФВ | 0,31 | 0,31 | 0,31 | 0,09 | 0,32 | 0,32 |
| Таблица 2 Измерение в 10%-ной Н3РO4 |
||||||
| Электролит | Порошок А | Порошок Б | ||||
| Напряжение смещения | 0 В | 2 В | 4 В | 0 В | 2 В | 4 В |
| Измер. емкость, мкФ | 159 | 159 | 159 | 559 | 151 | 149 |
| Удел. емкость, мкФВ/г | 88333 | 88333 | 88333 | 310556 | 83889 | 82778 |
| Измер. ток утечки, мкА | 2,72 | 2,81 | ||||
| Удел. ток утечки, нА/мкФВ | 0,43 | 0,43 | 0,43 | 0,13 | 0,47 | 0,47 |
Пример 2
Ниобий-тантал-ванадиевый сплав с 1,26% ванадия получают следующим образом: 1104,3 г гидрата окиси ниобия Nb2O5·Н2O (содержание Nb2O5 67,1%), 322,7 г гидрата окиси тантала Та2O5·Н2O (содержание Ta2O5 75,4%) и 28,93 г метаванадата аммония NH4VO3 тщательно перемешивают, в заключение сушат 24 часа при 110°С и в течение 12 часов прокаливают при 1150°С. Смесь окислов, полученную таким образом, после этого помещают в молибденовую лодочку и 6 часов выдерживают при температуре 1500°С в медленном потоке водородной атмосферы. Полученная таким образом недоокись имеет состав NbO2 (дифракция рентгеновских лучей обнаруживает только сдвинутые к малым углам рефлексы NbO2) и содержит 21,13% тантала и 1,05% ванадия. В заключение продукт помещают на мелкоячеистую решетку, под которой установлен тигель, в котором находится магний, стехиометрическое количество которого в 1,2 раз превышает количество кислорода, содержащегося в недоокиси, и в атмосфере аргона нагревают 6 часов при 1050°С. При этом магний превращается в пар и реагирует с недоокисью, находящейся над ним. После охлаждения печи до комнатной температуры медленно добавляют воздух для пассивирования поверхности металла. Восстановленный продукт в заключение промывают серной кислотой и после этого промывают деионизованной водой до нейтрального состояния и сушат.
Результаты анализа порошка, полученного из Nb/Ta/V-сплава:
Та - 24,33%,
V - 12600 ч/милл.
О - 12325 ч/милл. (3322 ч/милл./м2),
N - 92 ч/милл.
Мg - 45 ч/милл.
С - 24 ч/милл.
Fe, Cr, Ni, Al - каждый <20 ч/милл.
Удельная поверхность порошка, согласно BET, составляет 3,71 м2/г. В дифракции рентгеновских лучей обнаружены для ниобия слегка сдвинутые в сторону меньших углов слабые рефлексы, что указывает на твердый раствор тантала и ванадия в ниобии.
Изготовлены аноды из этого порошка Nb/Ta/V-сплава, (порошок А) и из порошка ниобий-танталового сплава, полученного аналогично, но без добавления метаванадата ниобия (порошок Б, образец для сравнения), состава:
Та - 22,14%,
V - <1 ч/милл.
О - 13120 ч/милл. (3390 ч/милл./м2),
N - 112 ч/милл.
Мg - 67 ч/милл.
Σ(Fe, Cr, Ni) < 15 ч/милл.
С - 41 ч/милл.
Удельная поверхность порошка, согласно BET, составляет 3,87 м2/г. Полученные аноды подвергнуты спеканию при 1200°С и формовке при 40 В. Для некоторых анодов перед формовкой определяют удельную поверхность по BET (Quantasorb) 0,91+0,4 м2/г.
В таблицах 3 и 4 показаны результаты измерения удельных емкостей анодов из обоих порошков в различных электролитах при различных напряжениях смещения.
| Таблица 3 Измерение в 18%-ной H2SO4 |
||||||
| Электролит | Порошок А | Порошок Б | ||||
| Напряжение смещения | 0 В | 2 В | 4 В | 0 В | 2 В | 4 В |
| Измер. емкость, мкФ | 379 | 379 | 379 | 1319 | 372 | 367 |
| Удел. емкость, мкФВ/г | 210556 | 210556 | 210556 | 732778 | 206667 | 203889 |
| Измер. ток утечки, мкА | 7,0 | 8,4 | ||||
| Удел. ток утечки, нА/мкФВ | 0,46 | 0,46 | 0,46 | 0,16 | 0,56 | 0,57 |
| Таблица 4 Измерение в 10%-ной Н3РO4 |
||||||
| Электролит | Порошок А | Порошок Б | ||||
| Напряжение смещения | 0 В | 2 В | 4 В | 0 В | 2 В | 4 В |
| Измер. емкость, мкФ | 237 | 237 | 237 | 859 | 231 | 227 |
| Удел. емкость, мкФВ/г | 131667 | 131667 | 131667 | 477222 | 128333 | 126111 |
| Измер. ток утечки, мкА | 6,2 | 6,5 | ||||
| Удел. ток утечки, нА/мкФВ | 0,65 | 0,65 | 0,65 | 0,19 | 0,70 | 0,72 |
Пример 3
Окись ниобия (II), легированную ванадием, (порошок А) получают следующим образом: тщательно перешивают 657,3 г порошка ниобий-ванадиевого сплава, полученного согласно примеру 1, со следующим содержанием примесей и физическими характеристиками:
V - 6047 ч/милл.
О - 14500 ч/милл.
Мg - 380 ч/милл.
С - 44 ч/милл.
Σ(Fe, Cr, Ni, Al, Та) <25 ч/милл.
N - 79 ч/милл.,
удельная поверхность, согласно BET, составляет 4,34 м2/г, насыпной удельный вес по Скотту - 14,3 г/дюйм3, текучесть по Холл Флоу - 22 с, размеры частиц, определенные с помощью прибора Mastersizer, - D10=65,1, D50=170,7, D90=292,7 мкм,
и
566,5 г пятиокиси ниобия Nb2O5<45 мкм со следующим содержанием примесей:
Σ(Al, As, Са, Со, Cr, Сu, Fe, Ga, К, Мg, Mn, Mo, Na, Ni, Pb, Sb, Si, Sn, Та, Ti, W, V, Zr) <25 ч/милл.
С<10 ч/милл.
S<10 ч/милл. и
помещают в молибденовую лодочку. Лодочку затем нагревают до 1250°С в слабом потоке водорода в течение 6 часов. Полученный продукт (проба А) имел состав NbO со следующим содержанием примесей и физическими характеристиками:
V - 3110 ч/милл.
О - 14,71%
Мg - 90 ч/милл.
С - 14 ч/милл.
Σ(Fe, Cr, Ni, Al, Та) <15 ч/милл.
N - 45 ч/милл.
удельная поверхность, согласно BET, составляет 2,31 м2/г, насыпной удельный вес по Скотту - 13,9 г/дюйм3, сыпучесть по Холл Флоу - 29 с, размеры частиц, определенные с помощью прибора Mastersizer, - D10=22,3, D50=123,4, 090=212,7 мкм.
Аналогично получают порошок для сравнения из порошка ниобия, полученного в соответствии со способом заявителя, согласно DE 19831280 А1, имеющий следующие содержания примесей и физические характеристики:
V - <1 ч/милл.
О - 13200 ч/милл.
Мg -386 ч/милл.
С - 47 ч/милл.
Σ(Fe, Cr, Ni, Аl, Та) <25 ч/милл.
N - 84 ч/милл.,
удельная поверхность порошка, согласно BET, составляет 4,01 м2/г, насыпной удельный вес по Скотту - 13,6 г/дюйм3, текучесть по Холл Флоу - 30 с, размеры частиц, определенные с помощью прибора Mastersizer, - D10=44,7, D50=156,2, D90=283,9 мкм,
и
пятиокиси ниобия Nb2O5<45 мкм со следующим содержанием примесей:
Σ(Al, As, Са, Со, Cr, Сu, Fe, Ga, К, Мg, Mn, Mo, Na, Ni, Pb, Sb, Si, Sn, Та, Ti, W, V, Zr) <25 ч/милл.,
С<10 ч/милл.
S<10 ч/милл.,
получая нелегированную окись ниобия (II) NbO (порошок Б) со следующим содержанием примесей и физическими характеристиками:
V - <1 ч/милл.
О - 14,62%,
Мg - 54 ч/милл.
С - 14 ч/милл.
Σ(Fe, Cr, Ni, Аl, Та) <20 ч/милл.,
N - 56 ч/милл.,
удельная поверхность порошка, согласно BET, составляет 2,47 м2/г, насыпной удельный вес по Скотту - 13,6 г/дюйм3, сыпучесть по Холл Флоу - 30 с, размеры частиц, определенные с помощью прибора Mastersizer, - D10=27,7, 050=131,9, D90=221,1 мкм, в качестве образца для сравнения.
Из обоих порошков прессуют аноды, которые спекают 20 минут при 1350°С и формуют при 40 В. В таблице 5 приведены результаты измерений удельных емкостей для анодов из обоих порошков в 18%-ной H2SO4 при различных напряжениях смещения.
| Таблица 5 | ||||||
| Электролит | Порошок А | Порошок Б | ||||
| Напряжение смещения | 0 В | 2 В | 4 В | 0 В | 2 В | 4 В |
| Измер. емкость, мкФ | 346 | 346 | 346 | 1261 | 349 | 341 |
| Удел. емкость, мкФВ/г | 192222 | 192222 | 192222 | 700556 | 193889 | 189444 |
| Измер. ток утечки, мкА | 1,1 | 1,3 | ||||
| Удел. ток утечки, нА/мкФВ | 0,08 | 0,08 | 0,08 | 0,03 | 0,09 | 0,10 |
Пример 4
В соответствии с примером 1 получают ниобиевые порошки с разным содержанием ванадия (смотри таблицу 6 ниже, порошки от 2 до 6). Из этих порошков и из одного порошка, полученного согласно DE 19831280 А1, изготовляют аноды, спекают при 1150°С и в заключение формуют при 40 В.
В таблице 6 приведены результаты измерения емкостей анодов, изготовленных из всех шести порошков, которые проводят без приложения или при приложении напряжения смещения в 2 В.
| Таблица 6 | ||||||
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | |
| O, ч/милл. | 13800 | 12000 | 15100 | 14800 | 15300 | 13200 |
| N, ч/милл | <300 | <300 | <300 | <300 | <300 | <300 |
| Н, ч/милл | 225 | 189 | 315 | 237 | 262 | 201 |
| С, ч/милл | 36 | 25 | 29 | 35 | 28 | 31 |
| S(Fe, Cr, Ni), ч/милл. | 9 | 7 | 9 | 6 | 8 | 8 |
| Mg, ч/милл | 135 | 195 | 94 | 130 | 160 | 155 |
| V, ч/милл | <1 | 77 | 298 | 371 | 644 | 942 |
| ВЕТ-поверхность, м2/г | 4,01 | 3,39 | 4,36 | 4,11 | 4,21 | 3,53 |
| Измер. емкость, мкФ, без напряжения смещения | 680 | 400 | 214 | 206 | 209 | 198 |
| Измер. емкость, мкФ, с напряжением смещения | 214 | 194 | 205 | 200 | 207 | 198 |
| Удел. емкость, мкФВ/г | 119450 | 107780 | 113890 | 111100 | 115000 | 110000 |
| Измер. ток утечки, мкА | 4,4 | 4,2 | 4,3 | 4,7 | 4,1 | 4,0 |
| Удел. ток утечки, мкА/г | 62 | 58 | 61 | 65 | 57 | 56 |
Claims (10)
1. Порошок на основе ниобия, содержащий от 10 до 100000 ч/ммлн по массе ванадия.
2. Порошок на основе ниобия по п.1, содержащий от 500 до 10000 ч/ммлн по массе ванадия.
3. Способ получения порошка на основе ниобия, содержащего ванадий, в котором порошок ванадия, окись ванадия и/или соединение ванадия, превращаемое в окись ванадия гидролизом или термическим путем, смешивают с металлическим ниобием, окисью ниобия и/или оксигидратом ниобия, получаемую смесь, при необходимости, сушат и прокаливают и получаемую смешанную окись восстанавливают до недоокиси ниобия или металлического ниобия, содержащих ванадий, и, при необходимости, азотируют.
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что восстановление смешанной окиси, содержащей ванадий, до NbO2, содержащего ванадий, проводят в потоке водорода при температуре от 1000 до 1500°С.
5. Способ по п.3 или 4, отличающийся тем, что взаимодействие Nb2О5, соответственно, NbO2, содержащих ванадий, с, при необходимости, содержащим ванадий ниобиевым порошком с образованием NbO, содержащей ванадий, осуществляют в потоке водорода или в вакууме при нагревании от 900 до 1600°С.
6. Способ по п.3 или 4, отличающийся тем, что восстановление окиси ниобия, содержащей ванадий, до металлического ниобия осуществляют при нагревании в присутствии паров магния в атмосфере защитного газа.
7. Способ по п.5, отличающийся тем, что восстановление окиси ниобия, содержащей ванадий, до металлического ниобия осуществляют при нагревании в присутствии паров магния в атмосфере защитного газа.
8. Способ по одному из пп.3, 4 или 7, отличающийся тем, что азотирование осуществляют при нагревании порошка металлического ниобия, соответственно, недоокиси ниобия, содержащих ванадий, в атмосфере, содержащей азот.
9. Способ по п.5, отличающийся тем, что азотирование осуществляют при нагревании порошка металлического ниобия, соответственно, недоокиси ниобия, содержащих ванадий, в атмосфере, содержащей азот.
10. Способ по п.6, отличающийся тем, что азотирование осуществляют при нагревании порошка металлического ниобия, соответственно, недоокиси ниобия, содержащих ванадий, в атмосфере, содержащей азот.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10030387.0 | 2000-06-21 | ||
| DE10030387A DE10030387A1 (de) | 2000-06-21 | 2000-06-21 | Kondensatorpulver |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2003101696/06A Division RU2284602C2 (ru) | 2000-06-21 | 2001-06-08 | Конденсатор с анодом на основе ниобия и запирающим слоем на основе пятиокиси ниобия |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2006118262A RU2006118262A (ru) | 2007-12-20 |
| RU2391731C2 true RU2391731C2 (ru) | 2010-06-10 |
| RU2391731C9 RU2391731C9 (ru) | 2011-05-20 |
Family
ID=7646403
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2003101696/06A RU2284602C2 (ru) | 2000-06-21 | 2001-06-08 | Конденсатор с анодом на основе ниобия и запирающим слоем на основе пятиокиси ниобия |
| RU2006118262/09A RU2391731C9 (ru) | 2000-06-21 | 2006-05-29 | Порошок на основе ниобия, содержащий ванадий, и способ его получения |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2003101696/06A RU2284602C2 (ru) | 2000-06-21 | 2001-06-08 | Конденсатор с анодом на основе ниобия и запирающим слоем на основе пятиокиси ниобия |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US6992881B2 (ru) |
| JP (1) | JP5464682B2 (ru) |
| KR (1) | KR100915729B1 (ru) |
| CN (1) | CN100423145C (ru) |
| AU (2) | AU2001269062B2 (ru) |
| BR (1) | BRPI0112389B1 (ru) |
| CA (1) | CA2413453A1 (ru) |
| CZ (1) | CZ305763B6 (ru) |
| DE (1) | DE10030387A1 (ru) |
| GB (2) | GB2382464B (ru) |
| IL (2) | IL153356A0 (ru) |
| MX (1) | MXPA02012723A (ru) |
| RU (2) | RU2284602C2 (ru) |
| SV (1) | SV2002000501A (ru) |
| WO (1) | WO2001099130A1 (ru) |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6322912B1 (en) | 1998-09-16 | 2001-11-27 | Cabot Corporation | Electrolytic capacitor anode of valve metal oxide |
| US6416730B1 (en) | 1998-09-16 | 2002-07-09 | Cabot Corporation | Methods to partially reduce a niobium metal oxide oxygen reduced niobium oxides |
| WO2002015208A1 (en) * | 2000-08-10 | 2002-02-21 | Showa Denko K.K. | Niobium powder, sinter thereof, and capacitor employing the same |
| US6652619B2 (en) | 2000-08-10 | 2003-11-25 | Showa Denko K.K. | Niobium powder, sintered body thereof, and capacitor using the same |
| PT1334498E (pt) | 2000-11-06 | 2006-12-29 | Cabot Corp | Oxidos de metais de valvula modificados com reduzido teor de oxigenio |
| US7737066B2 (en) | 2001-05-15 | 2010-06-15 | Showa Denko K.K. | Niobium monoxide powder, niobium monoxide sintered body and capacitor using the sintered body |
| EP1402079B1 (en) * | 2001-05-15 | 2014-12-03 | Showa Denko K.K. | Niobium sintered body and capacitor using the sintered body |
| JP2003213301A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Kawatetsu Mining Co Ltd | ニオブ粉末及び固体電解コンデンサ |
| JP2003342603A (ja) * | 2002-03-20 | 2003-12-03 | Kawatetsu Mining Co Ltd | ニオブ粉末及び固体電解コンデンサ |
| US7655214B2 (en) | 2003-02-26 | 2010-02-02 | Cabot Corporation | Phase formation of oxygen reduced valve metal oxides and granulation methods |
| US20060275204A1 (en) * | 2003-05-05 | 2006-12-07 | Companhia Brasileira De Metalurgia E Mineracao | Process for the production of niobium oxide powder for use in capacitors |
| US7445679B2 (en) | 2003-05-16 | 2008-11-04 | Cabot Corporation | Controlled oxygen addition for metal material |
| JP4773355B2 (ja) | 2003-05-19 | 2011-09-14 | キャボット コーポレイション | ニオブ酸化物及び酸素が低減したニオブ酸化物の製造方法 |
| DE10333156A1 (de) * | 2003-07-22 | 2005-02-24 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Niobsuboxid |
| US7142409B2 (en) * | 2003-07-28 | 2006-11-28 | Cabot Corporation | Nitrided valve metal material and method of making same |
| US7952853B2 (en) * | 2004-04-27 | 2011-05-31 | Medtronic, Inc. | Capacitor electrolyte |
| US7286336B2 (en) * | 2004-05-14 | 2007-10-23 | Greatbatch Ltd. | Plasma treatment of anodic oxides for electrolytic capacitors |
| US20080011124A1 (en) * | 2004-09-08 | 2008-01-17 | H.C. Starck Gmbh & Co. Kg | Deoxidation of Valve Metal Powders |
| US9548166B2 (en) | 2005-06-30 | 2017-01-17 | Medtronic, Inc. | Capacitor electrolyte |
| US20070174027A1 (en) * | 2006-01-26 | 2007-07-26 | Aleksey Moiseyev | Synchronized architectural and structural CAD models |
| GB0613491D0 (en) * | 2006-07-06 | 2006-08-16 | Avx Ltd | Binder removal particulate bodies |
| JP2008047576A (ja) * | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Sanyo Electric Co Ltd | 電解コンデンサ |
| DE102007018959A1 (de) | 2007-04-21 | 2008-10-30 | Advanced Display Technology Ag | Schichtaufbau eines Elektrowetting-Systems |
| BRPI0814081A2 (pt) * | 2007-07-18 | 2015-02-03 | Cabot Corp | Óxidos de nióbio de alta voltagem e capacitores contendo os mesmos |
| JP5028289B2 (ja) * | 2008-01-29 | 2012-09-19 | 三洋電機株式会社 | 固体電解コンデンサ及びその製造方法 |
| GB0818414D0 (en) * | 2008-10-08 | 2008-11-12 | Intrinsiq Materials Ltd | Nanoparticle purification |
| US8684260B2 (en) | 2011-04-01 | 2014-04-01 | Reynolds Consumer Products Inc. | Paperboard plate with corner walls |
| WO2014131151A1 (zh) * | 2013-02-26 | 2014-09-04 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种电容器级钽铌合金丝及其制造方法 |
| WO2016038711A1 (ja) * | 2014-09-11 | 2016-03-17 | 石原ケミカル株式会社 | Ta-Nb合金粉末および固体電解コンデンサ用陽極素子 |
| WO2016070303A1 (zh) * | 2014-11-03 | 2016-05-12 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 钽粉及其制造方法和由其制成的烧结阳极 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU505045A1 (ru) * | 1974-04-03 | 1976-02-28 | Институт электрохимии АН СССР | Электролитический конденсатор |
| RU2033899C1 (ru) * | 1992-05-20 | 1995-04-30 | Воробьева Наталья Сергеевна | Способ изготовления объемно-пористых анодов электролитических и оксидно-полупроводниковых конденсаторов |
| RU2126735C1 (ru) * | 1994-02-15 | 1999-02-27 | Х.К.Штарк ГмбХ Унд Ко. КГ | Способ получения высокочистого порошка металла |
| DE19831280A1 (de) * | 1998-07-13 | 2000-01-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Verfahren zur Herstellung von Erdsäuremetallpulvern, insbesondere Niobpulvern |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1728941A (en) * | 1927-02-19 | 1929-09-24 | Westinghouse Lamp Co | Production of rare metals |
| US3203793A (en) * | 1963-01-28 | 1965-08-31 | Du Pont | Porous columbium and tantalum materials |
| US3564348A (en) * | 1969-04-07 | 1971-02-16 | Sprague Electric Co | Titanium-antimony alloy electrode electrical capacitor |
| US3710474A (en) * | 1970-05-22 | 1973-01-16 | Fansteel Inc | Vanadium-modified tantalum foil |
| FR2218633B1 (ru) * | 1973-02-19 | 1977-07-22 | Lignes Telegraph Telephon | |
| US3867129A (en) * | 1974-02-05 | 1975-02-18 | Metallurgie Hoboken | Anodically oxidizable metal powder |
| DE2636279B1 (de) * | 1976-08-12 | 1978-06-08 | Standard Elek K Lorenz Ag | Verfahren zur Herstellung von poroesen Anodenkoerpern |
| JPS6026288B2 (ja) * | 1979-04-10 | 1985-06-22 | 松下電器産業株式会社 | 固体電解コンデンサ用焼結電極 |
| IT1213506B (it) * | 1986-10-22 | 1989-12-20 | Oronzio De Nora Impianti | Anodo permanente per il recupero di metalli dsa soluzioni acide fluocomplesse. |
| US5448447A (en) * | 1993-04-26 | 1995-09-05 | Cabot Corporation | Process for making an improved tantalum powder and high capacitance low leakage electrode made therefrom |
| CN1289243C (zh) * | 1996-11-07 | 2006-12-13 | 卡伯特公司 | 铌粉、铌电容器和用其降低直流电泄漏的方法 |
| US6051044A (en) * | 1998-05-04 | 2000-04-18 | Cabot Corporation | Nitrided niobium powders and niobium electrolytic capacitors |
| BRPI9911008B1 (pt) * | 1998-05-06 | 2018-09-25 | Starck H C Gmbh | processo para a produção de capacitor de pós de metal, pó de nióbio, anodo de capacitor, pó de liga para uso na fabricação de capacitores eletrolíticos, processo para a fabricação de pó de liga |
| WO2000067936A1 (en) * | 1998-05-06 | 2000-11-16 | H.C. Starck, Inc. | Metal powders produced by the reduction of the oxides with gaseous magnesium |
| US6576038B1 (en) * | 1998-05-22 | 2003-06-10 | Cabot Corporation | Method to agglomerate metal particles and metal particles having improved properties |
| CA2341233C (en) * | 1998-07-30 | 2008-09-23 | Moltech Invent S.A. | Multi-layer non-carbon metal-based anodes for aluminium production cells |
| US6322912B1 (en) * | 1998-09-16 | 2001-11-27 | Cabot Corporation | Electrolytic capacitor anode of valve metal oxide |
| DE19847012A1 (de) * | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Niobpulver und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US6515846B1 (en) * | 1999-02-08 | 2003-02-04 | H.C. Starck, Inc. | Capacitor substrates made of refractory metal nitrides |
| MXPA01009477A (es) * | 1999-03-19 | 2002-06-04 | Cabot Corp | Elaboracion de polvo de niobio y de otros metales mediante molienda. |
| US6558447B1 (en) * | 1999-05-05 | 2003-05-06 | H.C. Starck, Inc. | Metal powders produced by the reduction of the oxides with gaseous magnesium |
| DE10044450C1 (de) * | 2000-09-08 | 2002-01-17 | Epcos Ag | Verfahren zur Herstellung einer Elektrode für Kondensatoren und zur Herstellung eines Kondensators |
| US20030104923A1 (en) * | 2001-05-15 | 2003-06-05 | Showa Denko K.K. | Niobium oxide powder, niobium oxide sintered body and capacitor using the sintered body |
-
2000
- 2000-06-21 DE DE10030387A patent/DE10030387A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-06-08 RU RU2003101696/06A patent/RU2284602C2/ru active IP Right Revival
- 2001-06-08 JP JP2002503889A patent/JP5464682B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-08 BR BRPI0112389A patent/BRPI0112389B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-06-08 CN CNB018115179A patent/CN100423145C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-08 GB GB0229143A patent/GB2382464B/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-08 WO PCT/EP2001/006525 patent/WO2001099130A1/de not_active Ceased
- 2001-06-08 IL IL15335601A patent/IL153356A0/xx active IP Right Grant
- 2001-06-08 KR KR1020027017384A patent/KR100915729B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-08 CZ CZ2002-4219A patent/CZ305763B6/cs not_active IP Right Cessation
- 2001-06-08 CA CA002413453A patent/CA2413453A1/en not_active Abandoned
- 2001-06-08 GB GB0422194A patent/GB2403216B/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-08 AU AU2001269062A patent/AU2001269062B2/en not_active Ceased
- 2001-06-08 US US10/311,115 patent/US6992881B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-08 AU AU6906201A patent/AU6906201A/xx active Pending
- 2001-06-08 MX MXPA02012723A patent/MXPA02012723A/es active IP Right Grant
- 2001-06-20 SV SV2001000501A patent/SV2002000501A/es active IP Right Grant
-
2002
- 2002-12-10 IL IL153356A patent/IL153356A/en not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-12-03 US US11/004,091 patent/US20050094354A1/en not_active Abandoned
-
2006
- 2006-05-29 RU RU2006118262/09A patent/RU2391731C9/ru active
-
2008
- 2008-10-30 US US12/261,635 patent/US7833511B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU505045A1 (ru) * | 1974-04-03 | 1976-02-28 | Институт электрохимии АН СССР | Электролитический конденсатор |
| RU2033899C1 (ru) * | 1992-05-20 | 1995-04-30 | Воробьева Наталья Сергеевна | Способ изготовления объемно-пористых анодов электролитических и оксидно-полупроводниковых конденсаторов |
| RU2126735C1 (ru) * | 1994-02-15 | 1999-02-27 | Х.К.Штарк ГмбХ Унд Ко. КГ | Способ получения высокочистого порошка металла |
| DE19831280A1 (de) * | 1998-07-13 | 2000-01-20 | Starck H C Gmbh Co Kg | Verfahren zur Herstellung von Erdsäuremetallpulvern, insbesondere Niobpulvern |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IL153356A0 (en) | 2003-07-06 |
| BRPI0112389B1 (pt) | 2016-01-19 |
| RU2391731C9 (ru) | 2011-05-20 |
| KR20030014719A (ko) | 2003-02-19 |
| RU2006118262A (ru) | 2007-12-20 |
| BR0112389A (pt) | 2003-06-10 |
| MXPA02012723A (es) | 2003-05-14 |
| IL153356A (en) | 2008-08-07 |
| US20040028922A1 (en) | 2004-02-12 |
| RU2284602C2 (ru) | 2006-09-27 |
| US20090278095A1 (en) | 2009-11-12 |
| CN1437753A (zh) | 2003-08-20 |
| SV2002000501A (es) | 2002-12-02 |
| JP5464682B2 (ja) | 2014-04-09 |
| US6992881B2 (en) | 2006-01-31 |
| GB2403216A (en) | 2004-12-29 |
| CN100423145C (zh) | 2008-10-01 |
| KR100915729B1 (ko) | 2009-09-04 |
| GB0422194D0 (en) | 2004-11-03 |
| AU6906201A (en) | 2002-01-02 |
| CZ305763B6 (cs) | 2016-03-09 |
| US20050094354A1 (en) | 2005-05-05 |
| DE10030387A1 (de) | 2002-01-03 |
| GB2382464A (en) | 2003-05-28 |
| CA2413453A1 (en) | 2001-12-27 |
| GB2382464B (en) | 2005-01-12 |
| AU2001269062B2 (en) | 2006-07-20 |
| GB0229143D0 (en) | 2003-01-15 |
| GB2403216B (en) | 2005-02-23 |
| US7833511B2 (en) | 2010-11-16 |
| JP2003535981A (ja) | 2003-12-02 |
| WO2001099130A1 (de) | 2001-12-27 |
| CZ20024219A3 (cs) | 2003-05-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2391731C2 (ru) | Порошок на основе ниобия, содержащий ванадий, и способ его получения | |
| US7618610B2 (en) | Niobium suboxide powder | |
| JP4420568B2 (ja) | ニオブ粉、ニオブ焼結体、該焼結体を用いたコンデンサおよびそのコンデンサの製造方法 | |
| US6716389B2 (en) | Tantalum and tantalum nitride powder mixtures for electrolytic capacitors substrates | |
| JPWO2000049633A1 (ja) | ニオブ粉、ニオブ焼結体、該焼結体を用いたコンデンサおよびそのコンデンサの製造方法 | |
| JP4683512B2 (ja) | コンデンサ用粉体、それを用いた焼結体及びそれを用いたコンデンサ | |
| EP1918950B1 (en) | Niobium sintered body for an electrode of a capacitor, capacitor and production method of the capacitor | |
| RU2424982C2 (ru) | Субоксиды ниобия | |
| US20080011124A1 (en) | Deoxidation of Valve Metal Powders | |
| AU2006203068B2 (en) | Capacitor powder | |
| DE10192560B4 (de) | Kondensatorpulver |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TH4A | Reissue of patent specification | ||
| PC41 | Official registration of the transfer of exclusive right |
Effective date: 20180919 |
|
| PD4A | Correction of name of patent owner |