RU2346362C1 - Device for standing wave ratio adjustment according to microwave device voltage - Google Patents
Device for standing wave ratio adjustment according to microwave device voltage Download PDFInfo
- Publication number
- RU2346362C1 RU2346362C1 RU2007123953/09A RU2007123953A RU2346362C1 RU 2346362 C1 RU2346362 C1 RU 2346362C1 RU 2007123953/09 A RU2007123953/09 A RU 2007123953/09A RU 2007123953 A RU2007123953 A RU 2007123953A RU 2346362 C1 RU2346362 C1 RU 2346362C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- disk
- microwave
- voltage
- absorbing
- swr
- Prior art date
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Non-Reversible Transmitting Devices (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области радиоизмерительной СВЧ-техники и предназначена для плавной ручной регулировки коэффициента стоячей волны (КСВ) по напряжению в СВЧ-аттенюаторах, делителях напряжения в составе ваттметров поглощаемой мощности, а также в различных волноводных системах и коаксиальных линиях передачи и задержки.The invention relates to the field of microwave microwave technology and is intended for smooth manual adjustment of the standing wave coefficient (SWR) by voltage in microwave attenuators, voltage dividers as a part of wattmeters of absorbed power, as well as in various waveguide systems and coaxial transmission and delay lines.
На момент подачи заявки заявителю был известен только стационарный способ регулировки КСВ. На фиг.1 показана реализация указанного способа на примере четырехсекционного пленочного резистивного СВЧ-аттенюатора, применяемого в составе ваттметра поглощаемой мощности марки «М3-105» (ТУ ИЛГШ.411151.001) с использованием в качестве поглощающих и отражающих электромагнитные волны устройств, при помощи которых происходит регулировка ферритовых колец 1 (ГОСТ 6663-74 и ОСТ 11 707.004-76 «Ферриты СВЧ. Марки, основные параметры и методы измерений»), и/или керамических 2 и/или поликоровых 3 пластин.At the time of application, the applicant was aware of only the stationary method for adjusting the SWR. Figure 1 shows the implementation of this method by the example of a four-section film resistive microwave attenuator used as part of an absorbent power meter “M3-105” (TU ILGSh.411151.001) using devices that absorb and reflect electromagnetic waves by which adjustment of ferrite rings 1 (GOST 6663-74 and
СВЧ-аттенюатор представляет собой волновод, образованный боковыми стенками 4 корпуса 5 и верхним 6 и нижним 7 профилями-радиаторами, внутри которого установлены пакеты 8, 9, 10, 11 резистивных плат 12, 13, 14, 15, представляющих собой подложки с напыленными на нее резистивными пленками.The microwave attenuator is a waveguide formed by the
Подающийся на вход каждой из резистивных плат 12, 13, 14, 15 сигнал в большей степени поглощается ею в виде джоулевых потерь и частично излучается в виде инфракрасного излучения. При этом часть сигнала отражается от выхода каждой из резистивных плат 12, 13, 14, 15 в виде отраженной волны в плоскости резистивной платы и отраженных пространственных волн, распространяющихся вне плоскости резистивных плат 12, 13, 14, 15. Падающая и отраженная в плоскости резистивных плат 12, 13, 14, 15 волны интерферируют между собой и при сложении образуют стоячую волну. При этом возникает процесс образования многомодовости выходного сигнала, когда электромагнитные волны с разными фазами начинают когерировать между собой, что недопустимо во избежание резкого искажения выходного сигнала на выходе СВЧ-тракта.The signal supplied to the input of each of the
Регулировку КСВ по напряжению производят на микромощностях следующим образом. Путем подбора вручную оптимального места расположения, например, ферритовых колец 1 на поверхности резистивных плат 12, 13, 14, 15, добиваются максимального ослабления по амплитуде отраженной в плоскости резистивных плат 12, 13, 14, 15 волны, которая является «паразитной» и вносящей существенные искажения в форму выходного сигнала - синусоиды, и того, чтобы падающая и отраженная волны когерировали бы между собой в противофазе. В таком случае реализуется одномодовый режим выходного сигнала. Отраженная волна отражается от ферритовых колец 1 и частично поглощается ими. Для падающей же волны из-за большой мощности входного сигнала ферритовые кольца 1 практически не являются препятствием.The adjustment of the SWR for voltage is carried out at micropower as follows. By manually selecting the optimal location, for example,
Ферритовые кольца 1 закрепляются жестко термостойким клеем на поверхности резистивных плат 12 и 13 только после окончательной регулировки КСВ по напряжению.
Аналогично производят регулировку КСВ по напряжению в СВЧ-аттенюаторе с использованием керамических 2 или поликоровых 3 пластин, при этом возможно одновременное использование всех указанных выше поглощающих и отражающих электромагнитные волны устройств.Similarly, the SWR is adjusted according to the voltage in the microwave attenuator using ceramic 2 or multicore 3 plates, and it is possible to simultaneously use all of the above devices absorbing and reflecting electromagnetic waves.
Данный способ регулировки осуществляется на микромощностях сигнала, но не учитывает тот факт, что экспериментальные данные радиоизмерений для амплитудно-частотных характеристик (АЧХ) и фазочастотных характеристик (ФЧХ) на микромощностях по сравнению с реальным, максимально-номинальным значением мощности подающегося сигнала согласно ТУ ИЛГШ.411151.001, резко ухудшаются, а также на 3-5% возрастает значение КСВ, что означает увеличение мощности отраженного сигнала. При этом необходимо учитывать также и тот факт, что при заводских и военно-полевых испытаниях ваттметров поглощаемой мощности «М3-104», «М3-105», «М3-106», в частности СВЧ-аттенюаторов, при длительных вибрациях, тряске, ударах, напряженных температурных режимах эксплуатации - до +150°С как самих резистивных плат, так и высоких значений температуры окружающей среды - до +70°С и влажности 100%, поглощающие и отражающие электромагнитные волны устройства имеют свойства менять свое положение на резистивных платах относительно первоначально установленного места ввиду текучести крепящего клея под воздействием высокой СВЧ-мощности. Все вышеперечисленные причины приводят к тому, что, например, в аттенюаторе ваттметра «М3-105» в диапазоне частот 800-1600 МГц КСВ, измеренный при мощности сигнала 1-3 мкВт и изначально равный 1,15, при мощности сигнала, равной 500 Вт, т.е. в режиме «реальной нагрузки», изменяется до значений 1,18-1,20.This adjustment method is carried out at the micropower of the signal, but does not take into account the fact that the experimental data of radio measurements for amplitude-frequency characteristics (AFC) and phase-frequency characteristics (PFC) at micropower compared to the real, maximum-nominal value of the power of the supplied signal according to TU ILGSh. 411151.001, deteriorate sharply, and also the value of the SWR increases by 3-5%, which means an increase in the power of the reflected signal. It is also necessary to take into account the fact that during factory and field tests of absorbed power meters “M3-104”, “M3-105”, “M3-106”, in particular microwave attenuators, with prolonged vibration, shaking, shock, intense temperature operating conditions - up to + 150 ° С both of the resistive circuit boards themselves, and high ambient temperatures - up to + 70 ° С and 100% humidity, absorbing and reflecting electromagnetic waves of the device have the ability to change their position on the resistive circuit boards originally installed about the place due to the fluidity of the fixing adhesive under the influence of high microwave power. All of the above reasons lead to the fact that, for example, in the attenuator of the M3-105 wattmeter in the frequency range 800-1600 MHz, the SWR measured at a signal power of 1-3 μW and initially equal to 1.15, with a signal power of 500 W , i.e. in the "real load" mode, it changes to values of 1.18-1.20.
Недостатком устройств, реализующих известный способ, является сложность регулировки КСВ, а также невозможность регулировки КСВ в режиме «реальной» нагрузки. Так, в случае ремонтно-восстановительных или регулировочных работ, жестко смонтированные клеем на резистивные платы поглощающие и отражающие электромагнитные волны устройства весьма трудно поддаются переустановкам. При этом, в виду резкого увеличения рабочего времени и трудоемкости на проделываемые регулировочные операции увеличивается себестоимость выпускаемого аттенюатора и самого прибора в целом. В устройствах, реализующих известный способ, радиоинженеры и регулировщики СВЧ-техники постоянно должны решать задачу оптимизации монтажа поглощающих и отражающих электромагнитные волны устройств на резистивных платах для снижения показаний КСВ, согласно ТУ ИЛГШ.411151.001. Но производить опытно-экспериментальные замеры КСВ и контрольные испытания самих СВЧ-приборов в режиме «реальной нагрузки» категорически запрещается. Также существенным недостатком известного способа регулировки КСВ является низкая стабильность полученных результатов регулировки.The disadvantage of devices that implement the known method is the difficulty of adjusting the SWR, as well as the inability to adjust the SWR in the "real" load. So, in the case of repair and restoration or adjustment work, absorbing and reflecting electromagnetic waves that are rigidly mounted with glue on resistive boards are very difficult to reinstall. At the same time, in view of the sharp increase in working time and labor intensity for ongoing adjustment operations, the cost of the produced attenuator and the device itself as a whole increases. In devices that implement the known method, radio engineers and regulators of microwave technology must constantly solve the problem of optimizing the installation of absorbing and reflecting electromagnetic waves devices on resistive boards to reduce the readings of the SWR, according to TU ILGSh.411151.001. But to carry out experimental measurements of the SWR and control tests of the microwave devices themselves in the "real load" mode is strictly prohibited. Also a significant disadvantage of the known method for adjusting the SWR is the low stability of the obtained adjustment results.
Задача, решаемая предлагаемым изобретением, направлена на усовершенствование устройства для регулировки КСВ по напряжению в СВЧ-приборах.The problem solved by the invention is aimed at improving the device for adjusting the SWR for voltage in microwave devices.
Технический результат от использования заявляемого устройства заключается в возможности регулировки КСВ по напряжению в СВЧ-приборах в режиме реальной нагрузки и упрощении процесса регулировки.The technical result from the use of the inventive device is the ability to adjust the SWR for voltage in microwave devices in real load mode and simplify the adjustment process.
Указанный технический результат достигается тем, что устройство для регулировки КСВ по напряжению в СВЧ-приборах включает шток с резьбой, на верхнем торце которого выполнен шлиц, а нижний торец штока соединен с отражающим диском, который, в свою очередь, жестко соединен с поглощающим диском, при этом нижняя грань отражающего диска в центре снабжена направляющим выступом, установленным в цилиндрическом отверстии, выполненном в отражающем диске соосно со штоком, отражающим диском и поглощающим диском.The specified technical result is achieved by the fact that the device for adjusting the SWR for voltage in microwave devices includes a threaded rod, on the upper end of which a slot is made, and the lower end of the rod is connected to a reflective disk, which, in turn, is rigidly connected to the absorbing disk, the lower face of the reflecting disk in the center is provided with a guide protrusion mounted in a cylindrical hole made in the reflecting disk coaxially with the rod, the reflecting disk and the absorbing disk.
Предпочтительно в устройстве для регулировки КСВ по напряжению в СВЧ-приборах выполнение диаметра отражающего диска соответствующим диаметру поглощающего диска, а направляющего выступа - цилиндрической формы.Preferably, in the device for adjusting the SWR for voltage in microwave devices, the diameter of the reflecting disk is corresponding to the diameter of the absorbing disk, and the guide protrusion is cylindrical.
Заявляемое устройство поясняется чертежами, где на фиг.1 изображен общий вид устройства стационарной регулировки КСВ по напряжению (аналог); на фиг.2 - общий вид заявляемого устройства регулировки КСВ по напряжению; на фиг.3 - вид сбоку устройства регулировки КСВ по напряжению в разрезе; на фиг.4 - вид устройства регулировки КСВ по напряжению при сборке; на фиг.5 - общий вид заявляемого устройства регулировки КСВ по напряжению, реализованного в составе СВЧ-аттенюатора, применяемого на базе ваттметра поглощаемой мощности «М3-105».The inventive device is illustrated by drawings, where figure 1 shows a General view of the device for stationary adjustment of the SWR for voltage (analogue); figure 2 is a General view of the inventive device for adjusting the SWR for voltage; figure 3 is a side view of a device for adjusting the SWR for voltage in the context; figure 4 is a view of a device for adjusting the SWR for voltage during assembly; figure 5 is a General view of the inventive device for adjusting the SWR for voltage, implemented as part of the microwave attenuator used on the basis of a wattmeter of absorbed power "M3-105".
Устройство для регулировки КСВ по напряжению в СВЧ-приборах содержит шток 16 с резьбой 17, на верхнем торце 18 которого выполнен шлиц 19, а нижний торец 20 штока 16 соединен с отражающим диском 21. Отражающий диск 21 своей нижней гранью 22 жестко соединен с поглощающим диском 23. Нижняя грань 22 отражающего диска 21 в центре снабжена направляющим выступом 24 предпочтительно цилиндрической формы. В поглощающем диске 23 соосно со штоком 16, отражающим диском 21 и поглощающим диском 23 выполнено цилиндрическое отверстие 25, в котором установлен направляющий выступ 24.A device for adjusting the SWR for voltage in microwave devices contains a
Устройство для регулировки КСВ по напряжению в СВЧ-приборах реализуется, например, в составе четырехсекционного пленочного резистивного СВЧ-аттенюатора, применяемого на базе ваттметра поглощаемой мощности «М3-105» следующим образом.A device for adjusting the SWR for voltage in microwave devices is implemented, for example, as part of a four-section film resistive microwave attenuator used on the basis of an absorbed power meter “M3-105” as follows.
В выполненное в верхнем профиле-радиаторе 26 СВЧ-аттенюатора отверстие 27 с резьбой ввернут шток 16 таким образом, что его верхний торец 18 со шлицом 19 направлен наружу верхнего профиля-радиатора 26, а соединенные с нижним торцом 20 штока 16 и между собой отражающий 21 и поглощающий 23 диски установлены внутри волновода СВЧ-аттенюатора, образованного боковыми 28 стенками корпуса 29 и верхним 26 и нижним 30 профилями-радиаторами. При этом нижняя грань 31 поглощающего диска 23 установлена параллельно резистивной подложке 32, размещенной внутри волновода. В СВЧ-аттенюаторе, применяемом на базе ваттметра поглощаемой мощности «М3-105», используется четыре последовательно соединенных пакета 33, 34, 35, 36 резистивных подложек 32, 37, 38, 39, напротив каждого из которых устанавливается заявляемое устройство, при этом пакет 33 состоит из двухсторонних резистивных подложек 32, поэтому заявляемое устройство устанавливается напротив него в верхнем 26 и нижнем 30 профиле-радиаторе.The
Устройство для регулировки коэффициента стоячей волны по напряжению в СВЧ-приборах, например, в составе четырехсекционного пленочного резистивного СВЧ-аттенюатора, применяемого на базе ваттметра поглощаемой мощности «М3-105», работает следующим образомA device for adjusting the standing wave coefficient by voltage in microwave devices, for example, as part of a four-section film resistive microwave attenuator used on the basis of an absorbed power meter “M3-105”, operates as follows
В заявляемом устройстве используется принцип плавного изменения эквивалентной электроемкости Сэкв, например, между резистивной подложкой 32 и верхним 26 профилями-радиаторами СВЧ-аттенюатора, что, в свою очередь, приводит к изменению волнового сопротивления всего СВЧ-тракта и коэффициента отражения СВЧ-волны в СВЧ-аттенюаторе. Следовательно, в итоге изменяется и сам КСВ по напряжению в СВЧ-аттенюаторе, т.к.:The inventive device uses the principle of smooth changes in the equivalent electric capacitance C equiv , for example, between the
, ,
где - коэффициент отражения СВЧ-волны аттенюатора, Z0 - волновое сопротивление СВЧ-тракта, зависящее от эквивалентной емкости Cэкв Where - reflection coefficient of the microwave wave attenuator, Z 0 - wave impedance of the microwave path, depending on the equivalent capacitance C equiv
, ,
Rвх - входное сопротивление поглощающих резистивных пленок, напыленных на подложку;R I - input resistance of absorbing resistive films deposited on a substrate;
L - полная самоиндукция поглощающих резистивных пленок, напыленных на подложку.L is the complete self-induction of absorbing resistive films deposited on a substrate.
При этом отраженные пространственные волны, распространяющиеся вне плоскости резистивной подложки 32, начинают взаимодействовать с соединенными отражающим 21 и поглощающим 23 дисками устройства регулировки KCB по напряжению и, частично поглотившись, отражаются ими обратно в сторону резистивной подложки 32. Отраженная от устройства волна многократно отражается от боковых стенок 28 корпуса 29 и под малым углом падает на плоскость резистивной подложки 32, начиная взаимодействовать с распростаняющимися в плоскости резистивной подложки 32 падающей и отраженной волнами.In this case, the reflected spatial waves propagating outside the plane of the
При реализации заявляемого устройства в составе ваттметра поглощаемой мощности «М3-105», оно устанавливается в верхнем профиле-радиаторе 26 таким образом, что проекция центра отражающего 31 и поглощающего 23 дисков на резистивную подложку не попадает в резонансные точки падающей и отраженной волны, распространяющейся в плоскости резистивной подложки. В обратном случае идет генерация волн с различными модами, существенное искажение сигнала, что приводит к резкому ухудшению АЧХ и ФЧХ, увеличению KCB.When implementing the inventive device as part of a wattmeter of absorbed power "M3-105", it is installed in the upper profile-
Вращательное движение штока 16 с резьбой 17 по резьбе в отверстии 27 верхнего профиля-радиатора 26 СВЧ-аттенюатора приводит к движению отражающего диска 21 и соединенного с его нижней гранью 22 поглощающего диска 23 в вертикальной плоскости параллельно резистивной подложке 32. При этом изменяется расстояние между поверхностью резистивной подложки 32 и соединенными отражающим 21 и поглощающим 23 дисками, а значит изменяется эквивалентная емкость Cэкв, значение которой обратно пропорциональна этому расстоянию, и, соответственно, KCB по напряжению. Одновременно изменением высоты положения соединенных отражающего 21 и поглощающего 23 дисков над резистивной подложкой 32 добиваются максимального поглощения поглощающим 23 диском пространственных отраженных волн.Rotational movement of the
В случае, когда шток 16 с отражающим 21 и поглощающим 23 дисками вворачивается до упора, например, в резистивную подложку 32, то чтобы не произошло короткое замыкание между микрополосковой СВЧ-линией и корпусом - «землей», длина направляющего выступа 24 изготовлена меньше толщины поглощающего электромагнитные волны диска 23. Диаметры отражающего 21 и поглощающего 23 диска выбираются из расчета максимального перекрытия площади резистивной подложки 32. Направляющий выступ 24 выполняется для того, чтобы поглощающий диск 23 при сборке заявляемого устройства гарантированно устанавливался соосно штоку 16, отражающему диску 21, а также для сохранения этой соосности при работе заявляемого устройства.In the case when the
Итак, изменением расстояния от соединенных отражающего и поглощающего дисков до резистивной подложки добиваются максимального поглощения отраженных пространственных волн, распространяющихся внутри СВЧ-аттенюатора, и одновременно, изменения КСВ по напряжению.So, by changing the distance from the connected reflecting and absorbing disks to the resistive substrate, the maximum absorption of the reflected spatial waves propagating inside the microwave attenuator is achieved, and at the same time, the SWR changes in voltage.
Отражающий диск, шток и направляющий штырь устройства для регулировки коэффициента стоячей волны по напряжению в СВЧ-приборах изготавливают из однородного материала, например из алюминиевого высокопрочного сплава "В95" (ГОСТ 4784-74), как монолитная деталь. Поглощающий диск изготавливают, например, из рутила - двуокиси титана (TiO2), либо керамических пластин 22ХС (ГОСТ 20419-83) или поликора ТУ 11-81 (ТУ Ще0.781.000). Заявляемое устройство изготавливают методом механической обработки на токарном станке с последующим склеиванием отражающего и поглощающего дисков термостойким клеем, например, марки ВТ-25-200.The reflecting disk, the rod and the guide pin of the device for adjusting the standing wave coefficient by voltage in microwave devices are made of a homogeneous material, for example, aluminum alloy B95 (GOST 4784-74), as a monolithic part. The absorbing disk is made, for example, of rutile - titanium dioxide (TiO 2 ), or ceramic plates 22XC (GOST 20419-83) or polycor TU 11-81 (TU Shche0.781.000). The inventive device is made by machining on a lathe, followed by gluing the reflective and absorbing discs with heat-resistant adhesive, for example, grade VT-25-200.
Предпочтительно выполнение верхнего и нижнего профилей-радиаторов, штока заявляемого устройства, отражающего диска и направляющего выступа из одного материала.It is preferable to perform the upper and lower profiles-radiators, the rod of the inventive device, a reflective disk and a guide protrusion of one material.
Таким образом, заявляемое устройство для регулировки коэффициента стоячей волны по напряжению в СВЧ-приборах позволяет регулировать КСВ по напряжению в СВЧ-приборах в режиме реальной нагрузки при упрощении процесса регулировки.Thus, the inventive device for adjusting the coefficient of the standing wave voltage in microwave devices allows you to adjust the SWR for voltage in microwave devices in real load when simplifying the adjustment process.
Claims (3)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007123953/09A RU2346362C1 (en) | 2007-06-25 | 2007-06-25 | Device for standing wave ratio adjustment according to microwave device voltage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2007123953/09A RU2346362C1 (en) | 2007-06-25 | 2007-06-25 | Device for standing wave ratio adjustment according to microwave device voltage |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2346362C1 true RU2346362C1 (en) | 2009-02-10 |
Family
ID=40546865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2007123953/09A RU2346362C1 (en) | 2007-06-25 | 2007-06-25 | Device for standing wave ratio adjustment according to microwave device voltage |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2346362C1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2617150C1 (en) * | 2016-02-16 | 2017-04-21 | Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Полет" | Method of automatic adjustment of technical characteristics in microwave instruments and complex of means for its implementation |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU169892A1 (en) * | Н. А. Хохлачева | METHOD OF BUILDING SWITCHING AND LOGICAL DEVICES | ||
| US4355289A (en) * | 1980-07-14 | 1982-10-19 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Phase shift and amplitude modulator |
| DE3319537A1 (en) * | 1983-05-28 | 1984-11-29 | Klein, Schanzlin & Becker Ag, 6710 Frankenthal | DEVICE FOR THE OIL SUPPLY OF A HIGHLY HEAT-LOADED SHAFT BEARING |
| RU26714U1 (en) * | 2001-08-31 | 2002-12-10 | Александров Роман Юрьевич | MULTIFUNCTIONAL COMMUNICATION SYSTEM FUNCTIONING UNDER THE CONDITIONS OF EXPOSURE TO UNCERTAIN INTERFERENCE WITH A LIMITED MIDDLE POWER |
-
2007
- 2007-06-25 RU RU2007123953/09A patent/RU2346362C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU169892A1 (en) * | Н. А. Хохлачева | METHOD OF BUILDING SWITCHING AND LOGICAL DEVICES | ||
| US4355289A (en) * | 1980-07-14 | 1982-10-19 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Phase shift and amplitude modulator |
| DE3319537A1 (en) * | 1983-05-28 | 1984-11-29 | Klein, Schanzlin & Becker Ag, 6710 Frankenthal | DEVICE FOR THE OIL SUPPLY OF A HIGHLY HEAT-LOADED SHAFT BEARING |
| RU26714U1 (en) * | 2001-08-31 | 2002-12-10 | Александров Роман Юрьевич | MULTIFUNCTIONAL COMMUNICATION SYSTEM FUNCTIONING UNDER THE CONDITIONS OF EXPOSURE TO UNCERTAIN INTERFERENCE WITH A LIMITED MIDDLE POWER |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2617150C1 (en) * | 2016-02-16 | 2017-04-21 | Акционерное общество "Научно-производственное предприятие "Полет" | Method of automatic adjustment of technical characteristics in microwave instruments and complex of means for its implementation |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106093599B (en) | Optical probe and electromagnetic field measuring equipment and measuring method thereof | |
| Miyamaru et al. | Large polarization change in two-dimensional metallic photonic crystals in subterahertz region | |
| CN107367734A (en) | The dynamic expansion of the distance-measuring device with variable optical attenuation element in sendaisle | |
| CN105911531A (en) | On-site calibration device for phased array antenna | |
| CN101813619A (en) | Method utilizing polarization-controllable T-Hz wave to measure optical axis direction of birefringent crystal | |
| CN102620666A (en) | Detecting system for semiconductor wafer thickness and detecting method thereof | |
| RU2346362C1 (en) | Device for standing wave ratio adjustment according to microwave device voltage | |
| Wakatsuchi | Waveform-selective metasurfaces with free-space wave pulses at the same frequency | |
| RU68782U1 (en) | DEVICE FOR ADJUSTING THE STANDING WAVE COEFFICIENT FOR VOLTAGE IN MICROWAVE INSTRUMENTS | |
| CN110487396A (en) | A kind of laser energy detector and its detection method | |
| CN108459210B (en) | Passive pulse electric field detector without electrode structure | |
| CN108318143B (en) | Measurement System of Carrier Envelope Phase of Ultrashort Optical Pulse with High Repetition Rate | |
| CN105182094B (en) | Integrated optics two dimensional electric field sensor and measuring system | |
| CN110456533A (en) | An all-fiber acousto-optic modulation frequency shifter and an all-fiber heterodyne measurement system using the frequency shifter | |
| CN209166639U (en) | A kind of adjustable optical fiber raster vibration sensor of frequency | |
| US4017153A (en) | Polarization analyzers and duplexers | |
| Shaham et al. | Wood's anomaly beyond the Meixner-Schäfke theorem: Analytical and experimental investigation of sinusoidally modulated metasurfaces with normal susceptibilities | |
| CN104391384B (en) | A kind of all -fiber multipath delay line switching switch based on acousto-optic interaction | |
| Goy et al. | Millimeter-Submillimeter Vector Measurements in Free Space, and in Resonant Structures. Application to Dielectrics Characterization. | |
| Varlamov et al. | Search for optimal conditions of saw excitation by lithium niobate integrated optical te-tm mode convertor | |
| CN102798611B (en) | Method for measuring dielectric loss by utilizing pulse response time of electromagnetic evanescent wave irradiance | |
| CN102684054A (en) | Laser space-time mode improvement device | |
| Knuuttila et al. | High resolution laser-interferometric probing of SAW devices | |
| RU2617150C1 (en) | Method of automatic adjustment of technical characteristics in microwave instruments and complex of means for its implementation | |
| KR20110114245A (en) | Radio anechoic chamber with reflecting wall |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20110626 |