RU2209483C2 - Электронно-ионный источник - Google Patents
Электронно-ионный источник Download PDFInfo
- Publication number
- RU2209483C2 RU2209483C2 RU2001114090/28A RU2001114090A RU2209483C2 RU 2209483 C2 RU2209483 C2 RU 2209483C2 RU 2001114090/28 A RU2001114090/28 A RU 2001114090/28A RU 2001114090 A RU2001114090 A RU 2001114090A RU 2209483 C2 RU2209483 C2 RU 2209483C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- electron
- elements
- source
- emission hole
- Prior art date
Links
- 229960002138 anisindione Drugs 0.000 title abstract 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=[N+]([O-])C1(CC1)CCC21N=C1C=CC=CC1=[N+]2[O-] BGPVFRJUHWVFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Изобретение относится к получению электронных и ионных пучков и может быть использовано в ускорительной технике. Техническим результатом изобретения является повышение ресурса работы источника при сохранении постоянства эмиссионных характеристик электронно-ионного источника и геометрических характеристик пучка. Электронно-ионный источник содержит эмиттерный катод с эмиссионным отверстием и расположенный против него второй катод, анод, систему вытягивания и систему электропитания. Отличительной особенностью нового источника является то, что он снабжен двумя керамическими элементами с отверстиями, при этом один из элементов установлен в устье полого катода, а другой - в эмиттерном катоде в области эмиссионного отверстия, оба элемента установлены соосно с остальными электродами. 2 ил.
Description
Изобретение относится к области получения электронных и ионных пучков и может быть использовано в ускорительной технике.
Известен электронно-ионный источник с продольным извлечением частиц из отражательного разряда с холодными катодами, содержащий эмиттерный катод 1 с эмиссионным отверстием и расположенный против него второй катод 2, анод 3, систему вытягивания 4 и систему электропитания (А.С. СССР 456322, кл. Н 01 J 3/04, Н 01 J 3/02, 1973) (фиг.1).
К причинам, препятствующим достижению указанного ниже технического результата при использовании известного источника, относится то, что в известном источнике происходит изменение апертуры эмиттерного катода и апертуры устья полого катода в результате его распыления ускоренными ионами, и, как следствие, нежелательное изменение эмиссионных характеристик электронного источника и геометрических характеристик пучка в процессе работы источника.
Задачей изобретения является повышение ресурса работы источника при сохранении постоянства эмиссионных характеристик электронно-ионного источника и геометрических характеристик пучка.
Технический результат при осуществлении заявляемого изобретения достигается за счет уменьшения скорости распыления устья полого катода и эмиттерного катода в области эмиссионного отверстия.
Указанный технический результат при осуществлении изобретения достигается таким образом: как и известный источник, заявляемый электронно-ионный источник содержит эмиттерный катод 1 с эмиссионным отверстием и расположенный против него второй катод 2, анод 3, систему вытягивания 4 и систему электропитания. Отличительной особенностью нового источника является то, что он снабжен двумя керамическими элементами с отверстиями, при этом один из элементов 7 установлен в устье полого катода 2, а другой 6 в эмиттерном катоде 1 в области эмиссионного отверстия, оба элемента установлены соосно остальным электродам.
На фиг.2 изображен заявляемый электронно-ионный источник.
Источник содержит холодный эмиттерный катод 1 с закрепленным в нем керамическим кольцом 6, полый катод 2 в устье которого закреплено керамическое кольцо 7, цилиндрический анод 3 и извлекающий электрод 4. Магнитное поле между катодами обеспечивается постоянным магнитом 5.
Источник работает следующим образом.
При подаче напряжения между катодами 1, 2 и анодом 3 зажигается отражательный разряд. С увеличением тока разряда, когда протяженность области катодного падения потенциала становится меньше радиуса апертуры полости в катоде 2, плазма проникает в полость, и зажигается разряд с полым катодом. При проникновении плазмы в полый катод и в область отверстия в эмиттерном катоде, керамические кольца 6 и 7 приобретают плавающий потенциал, который на 30-40 В ниже потенциала плазмы. В этих условиях энергия ионов, попадающих на кольцо, не превышает 30-40 эВ, поэтому интенсивность распыления керамических вставок существенно ниже, чем интенсивность распыления металлических поверхностей. В свою очередь коэффициент ионного распыления керамики существенно ниже, чем у металлов, что благоприятно сказывается на повышении долговечности эмиттерного катода и повышении стабильности его параметров во времени.
Claims (1)
- Электронно-ионный источник с продольным извлечением частиц из отражательного разряда с холодными катодами, содержащий эмиттерный катод с эмиссионным отверстием и расположенный против него второй катод, анод, систему вытягивания и систему электропитания, отличающийся тем, что он снабжен двумя керамическими элементами с отверстиями, при этом один из элементов установлен в устье полого катода, а другой - в эмиттерном катоде в области эмиссионного отверстия, оба элемента установлены соосно с остальными электродами.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2001114090/28A RU2209483C2 (ru) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | Электронно-ионный источник |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2001114090/28A RU2209483C2 (ru) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | Электронно-ионный источник |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2001114090A RU2001114090A (ru) | 2003-07-10 |
| RU2209483C2 true RU2209483C2 (ru) | 2003-07-27 |
Family
ID=29209672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2001114090/28A RU2209483C2 (ru) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | Электронно-ионный источник |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2209483C2 (ru) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2378732C1 (ru) * | 2008-05-19 | 2010-01-10 | Учреждение Российской Академии Наук Институт Физики Прочности И Материаловедения Сибирского Отделения Ран (Ифпм Со Ран) | Электронно-ионный источник |
| RU2740146C1 (ru) * | 2019-10-10 | 2021-01-11 | Евгений Олегович Щербаков | Ионный источник (ионная пушка) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0264709A2 (en) * | 1986-10-23 | 1988-04-27 | MILJEVIC, Vujo, Dr. | Hollow-anode ion-electron source |
-
2001
- 2001-05-22 RU RU2001114090/28A patent/RU2209483C2/ru not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0264709A2 (en) * | 1986-10-23 | 1988-04-27 | MILJEVIC, Vujo, Dr. | Hollow-anode ion-electron source |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2378732C1 (ru) * | 2008-05-19 | 2010-01-10 | Учреждение Российской Академии Наук Институт Физики Прочности И Материаловедения Сибирского Отделения Ран (Ифпм Со Ран) | Электронно-ионный источник |
| RU2740146C1 (ru) * | 2019-10-10 | 2021-01-11 | Евгений Олегович Щербаков | Ионный источник (ионная пушка) |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Oks et al. | Development of plasma cathode electron guns | |
| EP2057300A2 (en) | Ion source with recess in electrode | |
| US6987364B2 (en) | Floating mode ion source | |
| RU2167466C1 (ru) | Плазменный источник ионов и способ его работы | |
| CN112635287A (zh) | 一种新型离子源等离子体中和器 | |
| RU2209483C2 (ru) | Электронно-ионный источник | |
| US4871918A (en) | Hollow-anode ion-electron source | |
| JPH1192919A (ja) | 金属イオンプラズマ発生装置 | |
| CN214012896U (zh) | 一种新型离子源等离子体中和器 | |
| JP3079869B2 (ja) | イオン源 | |
| JPS60130039A (ja) | イオン源 | |
| RU2237942C1 (ru) | Сильноточная электронная пушка | |
| RU2231162C2 (ru) | Источник с катодным конусом высокочастотных импульсов ионов водорода | |
| RU2176834C2 (ru) | Плазменный эмиттер ионов | |
| SU551948A2 (ru) | Электронно-ионный источник | |
| JPH10275566A (ja) | イオン源 | |
| RU2371803C1 (ru) | Плазменный источник ионов | |
| JP2586836B2 (ja) | イオン源装置 | |
| SU1271134A1 (ru) | Источник ионов дл обработки подложек в вакууме | |
| SU1633467A1 (ru) | Плазменный источник зар женных частиц | |
| RU2067784C1 (ru) | Ионный источник | |
| RU2034356C1 (ru) | Источник ионов | |
| SU1294189A1 (ru) | Ионный источник | |
| JP4263806B2 (ja) | イオン発生方法およびイオン源 | |
| KR960000144Y1 (ko) | 이온주입기의 이온소오스 생성장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20050523 |