RU2206937C1 - Field-emission ion source for reduced operating voltage - Google Patents
Field-emission ion source for reduced operating voltage Download PDFInfo
- Publication number
- RU2206937C1 RU2206937C1 RU2001129654/28A RU2001129654A RU2206937C1 RU 2206937 C1 RU2206937 C1 RU 2206937C1 RU 2001129654/28 A RU2001129654/28 A RU 2001129654/28A RU 2001129654 A RU2001129654 A RU 2001129654A RU 2206937 C1 RU2206937 C1 RU 2206937C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- ion
- ion source
- field
- operating voltage
- reduced operating
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области разработки автоэмиссионных ионных источников с полевой ионизацией вещества и решает задачу снижения величины необходимого рабочего электрического напряжения. The invention relates to the field of development of field-emission ion sources with field ionization of a substance and solves the problem of reducing the magnitude of the required working electrical voltage.
Актуальность этой задачи определяется тем, что ионные источники данного типа обладают рядом уникальных параметров, в частности наименьшими разбросом энергии и ценой иона [1]. Однако высокое электрическое напряжение, которое необходимо прикладывать, представляет опасность для персонала (поражение электрическим током, рентгеновское излучение), вызывает необходимость в наличии высоковольтной изоляции, высоковольтных преобразователей и способствует ускоренному выходу из строя элементов оборудования за счет катодного распыления ионами остаточных газов. The relevance of this task is determined by the fact that ion sources of this type have a number of unique parameters, in particular, the smallest dispersion of energy and ion cost [1]. However, the high electrical voltage that must be applied poses a danger to personnel (electric shock, x-ray radiation), necessitates the presence of high-voltage insulation, high-voltage converters and contributes to the accelerated failure of equipment elements due to cathodic sputtering of residual gas ions.
Разработано большое количество вариантов автоэмиссионных источников ионов такого типа. Общими элементами в них являются ионизирующий электрод типа острия, вытягивающий электрод и рабочее вещество. Ряд усовершенствований позволяют увеличить ток ионов, не увеличивая электрическое напряжение. Так, в [2] предложено охлаждать острие до температуры сжижения рабочего вещества. Это способствует миграции вещества в область ионизации и увеличению потока ионов. Недостатком является сложность поддержания низкой температуры. В [3] предлагается сделать острие пористым и прокачивать через него рабочее вещество. Очевидно, что плотность потока должна возрасти при том же напряжении, но технология приготовления пористых острий достаточно высокого качества по-видимому пока слабо разработана. A large number of variants of field emission sources of ions of this type have been developed. Common elements in them are the tip type ionizing electrode, the drawing electrode and the working substance. A number of improvements allow increasing the ion current without increasing the electric voltage. So, in [2] it was proposed to cool the tip to the liquefaction temperature of the working substance. This contributes to the migration of the substance into the ionization region and an increase in the ion flux. The disadvantage is the difficulty of maintaining a low temperature. In [3], it is proposed to make the tip porous and pump the working substance through it. Obviously, the flux density should increase at the same voltage, but the technology for preparing porous tips of a sufficiently high quality is apparently poorly developed.
Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности и достигаемому результату (прототипом) является решение [4] в котором предлагается оптимизировать конструкцию за счет напыления на поверхность острия пленки из тугоплавкого металла, который инертен по отношению к рабочему веществу. The closest to the proposed technical essence and the achieved result (prototype) is the solution [4] in which it is proposed to optimize the design by spraying on the surface of the tip of the film of refractory metal, which is inert with respect to the working substance.
Недостатками этого решения являются сложность нанесения покрытия и необходимость периодического восстановления его в процессе эксплуатации. The disadvantages of this solution are the complexity of the coating and the need for periodic recovery during operation.
Задача настоящего изобретения - снижение величины электрического напряжения, необходимого для ионизации (или, что одно и тоже, повышение плотности тока при заданном напряжении). The objective of the present invention is to reduce the magnitude of the electrical voltage required for ionization (or, which is the same thing, increase the current density at a given voltage).
Поставленная задача решается за счет добавки в вакуумный промежуток между электродами следов летучих молекул с высоким дипольным моментом (например, нафталина), которые выполняют роль посредника при поверхностной ионизации атомов рабочего газа. The problem is solved by adding traces of volatile molecules with a high dipole moment (for example, naphthalene) into the vacuum gap between the electrodes, which act as an intermediary in the surface ionization of working gas atoms.
Схема устройства показана на фиг.1, где
1 - острие,
2 - молекулы - посредники,
3 - ионный поток,
4 - экран, светящийся под действием ионной бомбардировки.The device diagram is shown in figure 1, where
1 - point,
2 - molecules - intermediaries,
3 - ion flow
4 - screen, glowing under the influence of ion bombardment.
Работа устройства происходит следующим образом. The operation of the device is as follows.
На острие подают высокий потенциал (положительный относительно экрана). При этом молекулы-посредники за счет своего высокого дипольного момента притягиваются к поверхности острия, выталкивают оттуда любые другие молекулы и образуют устойчивую мономолекулярную пленку. (Согласно существующим теоретическим представлениям молекула, приблизившаяся к заряженной металлической поверхности ближе некоторого критического расстояния, не может ионизоваться, если ее верхний электронный уровень окажется ниже уровня Ферми металла [5]). У свободных концов молекул напряженность электрического поля оказывается многократно повышенной по сравнению со средним уровнем на поверхности острия (оценки даны в [6]). Здесь и происходит ионизация атомов рабочего газа. At the tip serves a high potential (positive relative to the screen). In this case, the intermediary molecules due to their high dipole moment are attracted to the surface of the tip, push out any other molecules from there and form a stable monomolecular film. (According to existing theoretical concepts, a molecule that approaches a charged metal surface closer than a certain critical distance cannot ionize if its upper electronic level is below the metal Fermi level [5]). At the free ends of the molecules, the electric field strength is many times higher than the average level on the surface of the tip (estimates are given in [6]). This is where the ionization of the working gas atoms takes place.
ПРИМЕР. Был изготовлен и опробован источник с подложкой-острием из нержавеющей стали и вольфрама, молекулами нафталина в качестве посредников, гелием или азотом в качестве рабочего газа. Испытания показали, что при напряженности поля у поверхности ≈5•109В/м образуется устойчивая мономолекулярная пленка на поверхности, посредством которой происходит облегченная ионизация атомов рабочего газа. На фиг.2А показаны четыре молекулы нафталина, сидящие на поверхности и посылающие пучки ионов на экран, который под действием этих пучков светится, и мы видим поэтому эти молекулы. На фиг.2Б показана структура ионного пучка при полностью сформированной мономолекулярной пленке. Тот факт, что пучок имеет гранулированную структуру, может быть полезен при производстве ядерных фильтров с особыми параметрами (например, повышенной толщины). На фиг.2В представлено ионизирующее острие-подложка, полученное путем контролируемого электрического разряда в вакууме.EXAMPLE. A source with a tip-tip made of stainless steel and tungsten, naphthalene molecules as intermediaries, helium or nitrogen as the working gas was made and tested. Tests have shown that at a field strength of ≈5 • 10 9 V / m, a stable monomolecular film forms on the surface, through which light ionization of the working gas atoms occurs. On figa shows four naphthalene molecules sitting on the surface and sending ion beams to a screen that glows under the influence of these beams, and therefore we see these molecules. On figb shows the structure of the ion beam with a fully formed monomolecular film. The fact that the beam has a granular structure can be useful in the manufacture of nuclear filters with special parameters (for example, increased thickness). On figv presents an ionizing tip-substrate obtained by a controlled electric discharge in vacuum.
Список использованной литературы
1. Я.Браун. Физика и технология источников ионов. М.: Мир, 1998, 496 с.List of references
1. J. Brown. Physics and technology of ion sources. M.: Mir, 1998, 496 p.
2. Патент JP 1189839 "lonization of electric field ionized gas and ion source thereof H 01 J 27/26, OCHIAI YUKINORI. 2. Patent JP 1189839 "lonization of electric field ionized gas and ion source thereof H 01 J 27/26, OCHIAI YUKINORI.
3. Патент JP 63174243 "Field emission type gas ion source" H 01 J 27/26, OCU GOJI. 3. Patent JP 63174243 "Field emission type gas ion source" H 01 J 27/26, OCU GOJI.
4. Патент US 4551650 "Field emission ion source with spiral shaped filament heater" H 01 J 27/26, NODA TAMOTSU. 4. Patent US 4551650 "Field emission ion source with spiral shaped filament heater" H 01 J 27/26, NODA TAMOTSU.
5. И.Миллер. Macс-анализ в автоионной микроскопии. М.: Мир, 1993, 230 с. 5. I. Miller. Max analysis in autoion microscopy. M .: Mir, 1993, 230 p.
6. И.Н. Сливков. Процессы при высоком напряжении в вакууме. М.: Энергия, 1986, 256 с. 6. I.N. Cream Processes under high voltage in a vacuum. M .: Energy, 1986, 256 pp.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2001129654/28A RU2206937C1 (en) | 2001-11-01 | 2001-11-01 | Field-emission ion source for reduced operating voltage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2001129654/28A RU2206937C1 (en) | 2001-11-01 | 2001-11-01 | Field-emission ion source for reduced operating voltage |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2206937C1 true RU2206937C1 (en) | 2003-06-20 |
Family
ID=29210785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2001129654/28A RU2206937C1 (en) | 2001-11-01 | 2001-11-01 | Field-emission ion source for reduced operating voltage |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2206937C1 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4328667A (en) * | 1979-03-30 | 1982-05-11 | The European Space Research Organisation | Field-emission ion source and ion thruster apparatus comprising such sources |
| US4551650A (en) * | 1981-11-24 | 1985-11-05 | Hitachi, Ltd. | Field-emission ion source with spiral shaped filament heater |
| SU1484182A1 (en) * | 1987-09-21 | 1994-02-15 | Ю.В. Бармин | Material for autoemission cathode |
-
2001
- 2001-11-01 RU RU2001129654/28A patent/RU2206937C1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4328667A (en) * | 1979-03-30 | 1982-05-11 | The European Space Research Organisation | Field-emission ion source and ion thruster apparatus comprising such sources |
| US4551650A (en) * | 1981-11-24 | 1985-11-05 | Hitachi, Ltd. | Field-emission ion source with spiral shaped filament heater |
| SU1484182A1 (en) * | 1987-09-21 | 1994-02-15 | Ю.В. Бармин | Material for autoemission cathode |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6768120B2 (en) | Focused electron and ion beam systems | |
| Gavrilov et al. | Development of technological sources of gas ions on the basis of hollow-cathode glow discharges | |
| Gushenets et al. | Electrostatic plasma lens focusing of an intense electron beam in an electron source with a vacuum arc plasma cathode | |
| Harris | A tutorial on vacuum surface flashover | |
| Gavrilov et al. | High-current pulse sources of broad beams of gas and metal ions for surface treatment | |
| Frolova et al. | Deuterium ions in vacuum arc plasma with composite gas-saturated zirconium cathode in a magnetic field | |
| KR20220019827A (en) | Ion gun and ion milling device | |
| Sherman et al. | The voltage, self-generated magnetic field and current distribution in a high-current vacuum arc | |
| RU2206937C1 (en) | Field-emission ion source for reduced operating voltage | |
| Keller et al. | Metal beam production using a high current ion source | |
| Zemskov et al. | Instabilities of electrical properties of He-induced W “fuzz” within the pre-breakdown and breakdown regimes | |
| US11251010B1 (en) | Shaped repeller for an indirectly heated cathode ion source | |
| US1137964A (en) | Method of and means for producing electrically-charged particles. | |
| US3313934A (en) | Field ion source for mass spectrometry with elongated emitter | |
| JP2024540934A (en) | Mismatched optics for angular control of extracted ion beams. | |
| Bakeev et al. | Focused electron beam transport through a long narrow metal tube at elevated pressures in the forevacuum range | |
| Shi et al. | The combined influence of contact gap and axial magnetic field on the expansion speed of cathode spots in high-current triggered vacuum arc | |
| RU2796652C1 (en) | Device for forming a beam of cluster or atomic ions of gas | |
| CN112582248B (en) | Electron gun device for mercury ion microwave frequency standard | |
| Liu et al. | Discussion on Mechanism of the Gas Medium on Self-breakdown Probability of High-Power Gas Switch | |
| KR20250103610A (en) | Compact high voltage electrical feedthrough | |
| Kazakov et al. | Features of Electron Emission in Pulsed Forevacuum Plasma-Cathode Electron Beam Sources Based on a Cathodic Arc and a Constricted Arc Discharge | |
| JP2009179835A (en) | Coaxial vacuum arc deposition source and vacuum deposition equipment | |
| Biri et al. | Production of highly charged ions in electron cyclotron resonance ion sources using an electrode in two modes | |
| York et al. | Development of a multicusp H− ion source for accelerator applications |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20051102 |