RU2200351C2 - Superhigh-speed superintegrated large-scale metal-oxide-superconductor random-access memory built around avalanche transistors - Google Patents
Superhigh-speed superintegrated large-scale metal-oxide-superconductor random-access memory built around avalanche transistors Download PDFInfo
- Publication number
- RU2200351C2 RU2200351C2 RU99122763/09A RU99122763A RU2200351C2 RU 2200351 C2 RU2200351 C2 RU 2200351C2 RU 99122763/09 A RU99122763/09 A RU 99122763/09A RU 99122763 A RU99122763 A RU 99122763A RU 2200351 C2 RU2200351 C2 RU 2200351C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- transistor
- avalanche
- emitter
- bus
- mos
- Prior art date
Links
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 title 1
- 240000000220 Panda oleosa Species 0.000 claims 1
- 235000016496 Panda oleosa Nutrition 0.000 claims 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 23
- 230000036039 immunity Effects 0.000 abstract description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000003758 nuclear fuel Substances 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
Данное изобретение относится к устройствам и структурам интегральной микроэлектроники, в частности к интегральным ячейкам статической памяти и оперативным запоминающим устройствам (ОЗУ) БИС и ЭВМ. This invention relates to devices and structures of integrated microelectronics, in particular to integrated cells of static memory and random access memory (RAM) LSI and computer.
Фундаментальной проблемой разработки элементной базы БИС и ЭВМ является увеличение уровня интеграции устройств динамической и статической памяти, увеличения плотности упаковки бистабильных ячеек (БЯ), уменьшения размеров БЯ, количества рабочих шин, а также снижение мощности потребления БЯ ОЗУ, увеличения их нагрузочной способности и соответствующего системного быстродействия в компоновочном пространстве БИС. Переход к субмикронным и глубокосубмикронным технологиям позволяет резко снизить размеры и рабочие площади БЯ, однако проблема увеличения рабочих частот при дальнейшем снижении и мощности потребления остается критической для перспективных ультраБИС (УБИС). The fundamental problem of developing the element base of LSI and computers is to increase the level of integration of dynamic and static memory devices, increase the packing density of bistable cells (BJ), reduce the size of the BJ, the number of working buses, as well as reduce the power consumption of the BJ RAM, increase their load capacity and the corresponding system performance in the LSI layout space. The transition to submicron and deep-submicron technologies can drastically reduce the size and working area of nuclear warheads, however, the problem of increasing operating frequencies with a further decrease in power consumption is still critical for promising ultra-high-speed VLSI (UBIS).
Увеличение рабочих частот микропроцессорных (МП) КМОП УБИС до 300-600 МГц, правда, ценой увеличения потребляемой мощности вплоть до 30-80 Вт/кристалл обострило проблематику разрыва в производительности логических МП систем и систем динамических запоминающих устройств (ДОЗУ, DRAM), рабочая частота которых определяется как F(ДОЗУ)=1/время выборки. Чтобы избежать потерь системного быстродействия перспективных процессорных глубокосубмикронных и наноэлектронных КБИ-КБИКМОП/КМОП УБИС для широкого класса ЭВМ от персональных до суперкомпьютеров с рабочими гигагерцовыми частотами, возможны две альтернативы развития. Во-первых, использование значительно более быстродействующих архитектур ДОЗУ - SDRAM, RAMBUS, SYNC LINK, реализованных по технологиям глубокого субмикрона. Во-вторых, использование стандартных экономичных по мощности и занимаемой площади глубоко субмикронных реализаций статической кэш-памяти ОЗУ (SRAM) для перспективных КМОП УБИС. В-третьих, поиск новых экономичных по мощности и занимаемой площади глубоко субмикронных реализаций сверхскоростной статической кэш-памяти ОЗУ (SRAM) для перспективных МП УБИС на новых физических принципах, например на (БЯ) с лавинными транзисторами и с управляющими МОП ключами. An increase in the operating frequencies of microprocessor (MP) CMOS UBIS to 300-600 MHz, however, at the cost of increasing power consumption up to 30-80 W / crystal, aggravated the problem of a gap in the performance of logical MP systems and systems of dynamic memory devices (DOS, DRAM), operating frequency which is defined as F (DOSE) = 1 / sampling time. To avoid the loss of system performance of promising processor deep-submicron and nanoelectronic KBI-KBIKMOP / CMOS UBIS for a wide class of computers from personal computers to supercomputers with working GHz frequencies, two development alternatives are possible. First, the use of significantly faster DOS architectures - SDRAM, RAMBUS, SYNC LINK, implemented using deep submicron technologies. Secondly, the use of standard power-saving and space-occupying deeply submicron realizations of static RAM cache (SRAM) for promising CMOS UBIS. Thirdly, the search for new low-power, space-efficient, deep-submicron realizations of ultra-high-speed static RAM cache (SRAM) for promising UBIS MPs based on new physical principles, for example, on (BN) with avalanche transistors and with MOS control keys.
Несмотря на значительно меньшее внимание, уделяемое в литературе и потоке НИОКР по созданию сверхбыстродействующих МП систем, третья альтернатива развития нам представляется весьма перспективной, открывающей новые колоссальные возможности плотноупакованной кэш-памяти для технологий глубокого субмикрона при создании новейших типов ЭВМ широкого назначения с субгигагерцовыми рабочими частотами. Despite the much less attention paid in the literature and the R&D stream on the creation of ultrafast MP systems, the third development alternative seems to us very promising, opening up new tremendous opportunities for close-packed cache memory for deep submicron technologies when creating the latest types of general-purpose computers with sub-GHz operating frequencies.
Таким образом, известны типовые двухмерные и трехмерные БЯ ДОЗУ на одном МОП-приборе и одном конденсаторе, запоминающем один бит информации, которые характеризуются очень высокой плотностью компоновки, однако невысоким быстродействием и использованием нежелательных циклов регенерации хранимой информации. Известны статические ОЗУ на триггерных БЯ с перекрестными связями, выполненных на двух транзисторах с высокоомными коллекторными нагрузками, или четырех МОП транзисторах (двух КМОП инверторах), содержащие, как еще два ключа - МОП транзистора выборки, соединенных со входами инверторов. Данные БЯ и собственно ОЗУ имеют невысокую плотность компоновки при достаточно высоком быстродействии. Thus, typical two-dimensional and three-dimensional BYA dosages are known on one MOS device and one capacitor that stores one bit of information, which are characterized by a very high density of arrangement, but low speed and the use of undesirable regeneration cycles of stored information. There are known static RAMs on cross-linked trigger BBs made on two transistors with high-impedance collector loads, or four MOS transistors (two CMOS inverters) containing, as two more keys, a MOS sample transistor connected to the inputs of the inverters. The data of the base unit and the RAM itself have a low configuration density with a sufficiently high speed.
Для того чтобы попытаться реализовать сверхвысокую плотность компоновки статических схем памяти, в [2] предложена БЯ на одном лавинном транзисторе с управляющим МОП-ключом. Фрагмент ОЗУ, выбранного нами в качестве прототипа, наиболее близкого к заявляемому объекту конструкционного решения. содержит бистабильную ячейку на лавинном транзисторе, база которого соединена со стоком управляющего р-МОП транзистора, исток которого соединен с битовой шиной, а затвор - со словной шиной, причем эмиттер лавинного транзистора соединен с общей шиной, а коллектор - с источником коллекторного напряжения. In order to try to realize an ultrahigh density of the arrangement of static memory circuits, in [2], an BY was proposed on the same avalanche transistor with a control MOS key. A fragment of RAM selected by us as a prototype closest to the claimed object of the structural solution. contains a bistable cell on the avalanche transistor, the base of which is connected to the drain of the control p-MOS transistor, the source of which is connected to the bit bus, and the gate to the word bus, the emitter of the avalanche transistor connected to the common bus, and the collector to the source of collector voltage.
Потенциальные возможности данного типа БЯ достаточно велики: 1) при хранении информации в них в отличие от БЯ ДОЗУ практически отсутствуют помехи от токов утечек МОП-приборов, 2) реализуется сверхвысокая плотность компоновки, для 1 мкм - технологии БЯ занимала площадь на кристалле всего 8.58 мкм2 [1] . В то же время данные БЯ характеризуются низким системным быстродействием и значительной мощностью потребления в режиме хранения "1", около 0.45 мВт. Вопросы снижения статической мощности потребления БЯ и системной организации SRAM кэш-памяти при сохранении высокого потенциального быстродействия остаются открытыми.The potential possibilities of this type of Nuclear Warhead are quite large: 1) when information is stored in them, in contrast to the NW DOS, interference from leakage currents of MOS devices is practically absent, 2) an ultrahigh density of assembly is implemented, for 1 μm - the Nuclear Energy technology occupied an area on the crystal of only 8.58 μm 2 [1]. At the same time, the data from the nuclear fuel are characterized by low system speed and significant power consumption in storage mode "1", about 0.45 mW. The issues of decreasing the static power consumption of the base unit and the system organization of the SRAM cache while maintaining high potential performance remain open.
Для повышения степени интеграции и быстродействия перспективных статических ОЗУ на лавинных транзисторах, конкурентных по всей совокупности параметров стандартным статическим КМОП-ОЗУ, требуются БИМОП БЯ с минимальным количеством рабочих шин, обеспечивающие высокую нагрузочную способность и малую потребляемую мощность для микромощных быстродействующих УБИС ОЗУ. To increase the degree of integration and speed of promising static RAM on avalanche transistors, competitive in the entire set of parameters with standard static CMOS RAM, BIMOP BY with a minimum number of working buses are required, providing high load capacity and low power consumption for micropower high-speed UBIS RAM.
Задачей изобретения является создание БЯ и фрагментов ОЗУ на лавинных транзисторах, обеспечивающих микромощный режим потребления статических мощностей (единицы - десятки нановатт), приемлемую помехоустойчивость работы, высокие рабочие частоты, уменьшение рабочей площади малокомпонентной БЯ для плотноупакованных УБИС. Дополнительными целями, ставящими достижение сверхинтеграции и сверхбыстродействия УБИС на заявляемых ОЗУ, являются: дополнительное значительное уменьшения площади кристалла при реализации совмещенных функционально-интегрированных БИКМОП структур, а также обеспечивающих сокращение площади кристалла, затрачиваемой на шинное соединение приборов и ячеек и на разводку питания. The objective of the invention is the creation of the core and fragments of RAM on avalanche transistors, providing a micropower mode of consumption of static powers (units - tens of nanowatts), acceptable noise immunity, high operating frequencies, reducing the working area of a small component base for close-packed UBIS. Additional goals that set the goal of achieving ultra-integration and ultra-fast performance of UBIS on the claimed RAM are: additional significant reduction in the crystal area when implementing combined functionally integrated BICMOS structures, as well as reducing the crystal area spent on bus connection of devices and cells and on power wiring.
Указанная задача достигается тем, что: 1) сверхбыстродействующее сверхинтегрированное БИМОП ОЗУ на лавинных транзисторах, содержащее бистабильные ячейки на лавинных транзисторах, база каждого из которых в ячейке соединена со стоком управляющего р-МОП транзистора, исток которого соединен с битовой шиной, а затвор - со словной шиной, отличающийся тем, что лавинный транзистор выполнен в виде двухэмиттерного транзистора, коллектор которого соединен с источником напряжения и каналом управляющего р-МОП транзистора, первый эмиттер соединен с битовой шиной, выходом ячейки и стоком общего для группы ячеек первого n-МОП транзистора считывания с соответствующими цепями смещающих напряжений на истоке и затворе, а второй эмиттер лавинного транзистора соединен с шиной первого генератора тока и стоком общего для группы ячеек второго n-МОП транзистора первого генератора тока с соответствующими цепями смещающих напряжений на затворе и истоке; 2) сверхбыстродействующее сверхинтегрированное БИМОП ОЗУ на лавинных транзисторах, содержащее бистабильные ячейки на лавинных транзисторах, база каждого из которых в ячейке соединена со стоком управляющего р-МОП транзистора, отличающийся тем, что лавинный транзистор выполнен в виде двухэмиттерного транзистора, коллектор которого соединен со словной шиной и затвором управляющего р-МОП транзистора, канал которого изолирован от других областей активных приборов, первый эмиттер соединен с битовой шиной, выходом ячейки и стоком общего для группы ячеек первого n-МОП транзистора считывания с соответствующими цепями смещающих напряжений на истоке и затворе, а второй эмиттер лавинного транзистора соединен с шиной первого генератора тока и стоком общего для группы ячеек второго п- МОП транзистора первого генератора тока с соответствующими цепями смещающих напряжений на затворе и истоке; 3) устройство по пп.1,2, отличающееся тем, что битовая шина соединена с базой входного транзистора переключателя тока, эмиттер которого соединен со вторым генератором тока и эмиттером опорного транзистора, коллектор которого соединен с выходом и через резистор с общей шиной, соединенной с коллектором входного транзистора, а база опорного транзистора - с источником варьируемого опорного напряжения. This problem is achieved by the fact that: 1) ultra-fast superintegrated BIMOP RAM on avalanche transistors containing bistable cells on avalanche transistors, the base of each of which in the cell is connected to the drain of the control p-MOS transistor, the source of which is connected to the bit bus, and the gate is connected to the bit bus bus, characterized in that the avalanche transistor is made in the form of a two-emitter transistor, the collector of which is connected to a voltage source and the channel of the control p-MOS transistor, the first emitter is connected to bus, cell output and drain common for a group of cells of the first n-MOS sensing transistor with the corresponding bias voltage circuits at the source and gate, and the second emitter of the avalanche transistor is connected to the bus of the first current generator and drain common to the group of cells of the second n-MOS transistor of the first a current generator with corresponding bias voltage circuits at the gate and source; 2) ultra-fast superintegrated BIMOP RAM on avalanche transistors, containing bistable cells on avalanche transistors, the base of each of which in the cell is connected to the drain of the control p-MOS transistor, characterized in that the avalanche transistor is made in the form of a two-emitter transistor, the collector of which is connected to the word and the gate of the control p-MOS transistor, the channel of which is isolated from other areas of active devices, the first emitter is connected to the bit bus, the output of the cell, and the drain common to groups of cells of the first n-MOSFET transistor with corresponding bias voltage circuits at the source and gate, and the second emitter of the avalanche transistor is connected to the bus of the first current generator and a drain common to the group of cells of the second p-MOSFET transistor of the first current generator with corresponding bias voltage circuits of the gate and source; 3) the device according to
Сущность изобретения и его отличительные от прототипа признаки заключаются в уникальной возможности обеспечения сверхбыстродействия в микромощном режиме, высокой помехоустойчивости и работоспособности БЯ на биполярных двухэмиттерных лавинных транзисторах в используемой схемотехнике эмиттерного повторителя, где в силу эффективного обнуления базового тока и связанного с этим увеличения коэффициента передачи тока В базовое сопротивление ни дает никакого вклада в потери системного быстродействия; при этом происходит максимально быстрая перезарядка нагрузочной емкости (битовой шины и др.). Реализуемый в БЯ и всем ОЗУ принцип функциональной интеграции - совмещения рабочих областей приборов и шин: битовой и выходной, словной и напряжения питания позволяет достичь сверхплотной упаковки БЯ, сравнимой с плотностью, достигаемой в ДОЗУ. Этому же способствует использование для многих БЯ единых генераторов тока и n-МОП транзистора разрядки, что при обеспечении малых площадей в статическом ОЗУ позволяет реализовать высокую работоспособность на высоких частотах в режиме нескольких единиц ГГЦ в микромощном режиме единиц ватт БЯ. Компромисс обеспечения требуемой помехоустойчивости в диапазоне высоких рабочих частот, реализуемый с помощью вводимого в ОЗУ порогового устройства на переключателе тока с переменным порогом в виде варьируемого опорного напряжения позволяет максимально реализовать высокий потенциал системного быстродействия, помехоустойчивости и надежности статических сверхинтегрированных ОЗУ. The essence of the invention and its distinguishing features from the prototype are the unique possibility of providing ultra-fast operation in micropower mode, high noise immunity and operational efficiency of bi-electric bipolar two-emitter avalanche transistors in the used emitter follower circuitry, where due to the effective zeroing of the base current and the associated increase in current transfer coefficient B basic resistance makes no contribution to the loss of system performance; In this case, the fastest reloading of the load capacity (bit bus, etc.) occurs. The principle of functional integration implemented in the base unit and all RAM is the combination of the working areas of the devices and buses: bit and output, word and supply voltage allows you to achieve super-dense packing of the base unit, comparable to the density achieved in the dose. This is also facilitated by the use of single current generators and an n-MOS discharge transistor for many BJs, which, while providing small areas in static RAM, allows for high performance at high frequencies in the mode of several GHz units in the micropower mode of units of watts of BJ. The compromise of ensuring the required noise immunity in the high operating frequency range, implemented by means of a threshold device introduced into RAM on a current switch with a variable threshold in the form of a variable reference voltage, maximizes the high potential of system performance, noise immunity, and reliability of static superintegrated RAM.
Рассмотрим перечень фигур графического изображения и примеры конкретного выполнения заявленного ОЗУ согласно пунктам изобретения в виде функционально-интегрированного конструктивного воплощения БЯ в кристалле пунктам формулы изобретения. Consider the list of figures of the graphic image and examples of specific performance of the claimed RAM according to the points of the invention in the form of a functionally integrated structural embodiment of the BY in the crystal to the claims.
На фиг.1 приведена принципиальная обобщенная схема главного фрагмента БЯ 1 сверхбыстродействующего сверхинтегрированного БИМОП ОЗУ на лавинном двухэмиттерном транзисторе 2, его база 3 соединена со стоком управляющего р-МОП транзистора 4, исток 5 которого соединен с битовой шиной 6, а затвор 7 - со словной шиной 8. Коллектор 9 двухэмиттерного транзистора 2 соединен с источником напряжения 10 и каналом 11 р-МОП транзистора 4. Первый эмиттер 12 лавинного транзистора 2 соединен с битовой шиной 6, выходом ячейки и стоком первого n-МОП транзистора считывания 13 с соответствующими цепями смещающих напряжений на истоке и затворе, а второй эмиттер 14 транзистора 2 соединен с шиной 15 общего для группы ячеек первого генератора тока и стоком второго n-МОП транзистора 16 с соответствующими цепями смещающих напряжений на затворе и истоке. Figure 1 shows a schematic generalized diagram of the main fragment of the
На фиг.2 приведена модифицированная схема главного фрагмента БЯ 1 сверхбыстродействующего сверхинтегрированного БИМОП ОЗУ на лавинном двухэмиттерном транзисторе 2. Коллектор 9 двухэмиттерного транзистора 2 в каждой ячейке соединен со словной шиной 8 ( совмещенной с шиной источника напряжения 10), затвором управляющего р-МОП транзистора 7, канал которого 11 изолирован от других областей активных приборов. Первый эмиттер 12 лавинного транзистора 2 соединен с битовой шиной 6, выходом ячейки и стоком общего для группы ячеек n-МОП транзистора разрядки 13 с соответствующими цепями смещающих напряжений на истоке и затворе, а второй эмиттер 14 транзистора 2 соединен с шиной 15 общего для группы ячеек первого генератора тока и стоком второго n-МОП транзистора 16 с соответствующими цепями смещающих напряжений на затворе и истоке. Figure 2 shows a modified circuit of the main fragment of the
На фиг. 3 приведена обобщенная схема сверхбыстродействующего сверхинтегрированного БИМОП ОЗУ на базе технического решения БЯ (фиг.1) с использованием порогового устройства на переключателе тока. Битовая шина 6 соединена с базой входного транзистора 17 переключателя тока, эмиттер которого соединен с генератором тока 19 и эмиттером опорного транзистора 18, коллектор которого соединен с выходом и через резистор 20 с общей шиной, соединенной с коллектором входного транзистора 17, а база - с источником варьируемого опорного напряжения 21. In FIG. Figure 3 shows a generalized diagram of a superfast superintegrated BIMOP RAM based on the technical solution of the BN (Fig. 1) using a threshold device on a current switch.
На фиг. 4 приведена обобщенная схема сверхбыстродействующго сверхинтегрированного БИМОП ОЗУ на базе технического решения БЯ (фиг.2) с использованием порогового устройства на переключателе тока. Битовая шина 6 соединена с базой входного транзистора 17 переключателя тока, эмиттер которого соединен с генератором тока 19 и эмиттером опорного транзистора 18, коллектор которого соединен с выходом и через резистор 20 с общей шиной, соединенной с коллектором входного транзистора, а база - с источником варьируемого опорного напряжения 21. In FIG. Figure 4 shows a generalized diagram of a superfast superintegrated BIMOP RAM based on the technical solution of the BN (Fig. 2) using a threshold device on a current switch.
Устройство на фиг. 1 работает следующим образом. При помощи МОП 4 и 13 ключей производится режим выбора БЯ для записи и считывания соответственно. В обратно смещенном коллекторном переходе транзистора 2 происходит лавинное умножение коллекторного тока. При некотором обратном коллекторном напряжении Ua добавочный лавинный коллекторный ток компенсирует компоненту диффузионного тока рекомбинации базы транзистора 2, что приводит к нулевому базовому току транзистора. Этому режиму соответствует хранение "1" БЯ. Хранение "0" происходит в режиме полного запирания транзистора 2. В первом случае потенциал базы равен Up-Ua, а протекающий сквозной ток определяется разностью этого потенциала и потенциала эмиттера; во втором случае потенциал базы равен нулю и сквозной ток равен нулю (за исключением утечек). В отличие от чисто динамических элементов памяти рассматриваемая БЯ (фиг.1) при хранении способна компенсировать постоянные помехи типа утечек тем большей величины, чем больше сквозной ток в режиме хранения "1". The device of FIG. 1 works as follows. Using the
В режиме записи в БЯ осуществляется отпирание входного ключа на МОП-приборе и установка на информационной шине логического уровня, соответствующего стационарному напряжению на базе транзистора 2. При этом происходит перезарядка в основном коллекторной барьерной емкости через сопротивление входного ключа на МОП-приборе. Причем в отличие от динамического элемента, где для долговременного хранения необходимо использовать большую запоминающую емкость, здесь емкость значительно меньше, что приводит, во-первых, к экономии места на кристалле и, во-вторых, уменьшению времени ее перезарядки. При считывании информации осуществляют отпирание выходного ключа на МОП-приборе. При этом по активному фронту БЯ осуществляет перезарядку нагрузочной емкости в режиме эмиттерного повторителя (ЭП) с очень большим эффективным коэффициентом усиления по току В, в режиме эффективного нулевого базового тока при лавинном пробое. При работе на большую емкость поведение как ЭП, так и рассматриваемой БЯ по отношению к напряжению U (отклонение напряжения эмиттер-база от стационарного) и выходному току I можно аппроксимировать соотношением:
I=I0[EXP(U/Uт)-1], (1)
где I0 - статический эмиттерный ток. Отклонение напряжения на нагрузочной емкости СL совпадает по абсолютной величине с U и имеет противоположный знак. Поэтому с учетом (1) для переходного процесса справедливо следующее соотношение:
CLdU/dt=-I=-I0[EXP(U/(Uт)-1]. (2)
При этом U(0) = ±Uл. Пусть время tk таково, что напряжение U опустилось до k-й части UЛ, т.е. U(tk)=kUЛ, тогда соотношение (2) может быть преобразовано к виду для времени переключения по уровню 1/2 логического перепада
t(1/2)=Т0 ЕХР(-m/2)/m=t0 EXP(-m/2). (3)
Это время оказывается экспоненциально мало с увеличением величины логического перепада. Например, при Uл, равном 0,4 В, m равно примерно 15 и ЕХР(-m/2) равно 4•6(10-4), т.е. наблюдается уменьшение t1/2 более чем на 4 порядка. Величину tk можно записать и по-другому:
tk=(T0EXP(-km)/m=CL(Uт/Ik). (4)
Следовательно, tk в (4) можно трактовать как характерное время перезарядки нагрузочной емкости на малом сигнале через дифференциальное сопротивление эмиттерного перехода при токе Ik. При больших величинах U и больших токах может оказаться, что главную роль играет не эмиттерный переход, а балластные сопротивления транзистора 2. В случае ЭП эти сопротивления складываются из сопротивления тела эмиттера и эффективного базового сопротивления, уменьшенного в В раз, которое в свою очередь складывается из собственно базового сопротивления и выходного сопротивления схемы задающей сигнал. В силу эффективного обнуления базового тока и связанного с этим увеличения В базовое сопротивление не дает никакого вклада.In the recording mode in the BC, the input key is unlocked on the MOS device and the logic level corresponding to the stationary voltage on the base of
I = I 0 [EXP (U / Ut) -1], (1)
where I 0 is the static emitter current. The voltage deviation at the load capacitance C L coincides in absolute value with U and has the opposite sign. Therefore, taking into account (1) for the transition process, the following relation holds:
C L dU / dt = -I = -I 0 [EXP (U / (Ut) -1]. (2)
Moreover, U (0) = ± U l . Let time tk be such that the voltage U drops to the kth part of U Л , i.e. U (tk) = kU Л , then relation (2) can be converted to the form for the switching time at the
t (1/2) = T 0 EXP (-m / 2) / m = t 0 EXP (-m / 2). (3)
This time is exponentially small with an increase in the logical difference. For example, with U l equal to 0.4 V, m is approximately 15 and EXP (-m / 2) is 4 • 6 (10-4), i.e. a decrease in t1 / 2 by more than 4 orders of magnitude is observed. The value of tk can be written in another way:
tk = (T 0 EXP (-km) / m = C L (Ut / Ik). (4)
Therefore, tk in (4) can be interpreted as the characteristic time of recharging the load capacitance on a small signal through the differential resistance of the emitter junction at current Ik. For large values of U and high currents, it may turn out that the main role is played not by the emitter junction, but by the ballast resistances of
Сформулируем ряд требований к сигналам на всех шинах фрагментов ОЗУ, представленных на фиг.1,3. В режимах хранения и записи на шине 10 установлено напряжение питания 3 В, в режиме считывания из ячеек, присоединенных к данной шине, на эту шину подается повышенное напряжение (увеличенное на 1.2 В). В режиме хранения и считывания столбца БЯ для закрытого ключа на затвор 7 р-МОП транзистора 4 подается высокое напряжение. В режиме записи столбца БЯ на затвор 7 р-МОП транзистора 4 подается низкое напряжение. Для битовой шины 6 в режиме хранения поддерживается напряжение Еп1, соответствующее логическому нулю при чтении. В режимах записи и считывания ключ на транзисторе 13 запирается, при записи на этой шине устанавливается напряжение на базе 3 лавинного транзистора 2 при хранении записываемого значения. Для битовой шины 6 при чтении записанного нуля на ней реализуется низкое напряжение менее Eon - при чтении будет большее напряжение, чем Еоп (фиг.3). We formulate a number of requirements for signals on all buses of RAM fragments, presented in Fig.1,3. In the storage and recording modes on the
В схеме фрагментов ОЗУ, представленной на фиг.2, поз.4, достигнуто сокращение рабочих шин за счет совмещения шины 8 (на фиг.1) с шиной 10,что позволит увеличить интеграционный потенциал БЯ всего ОЗУ. В режиме хранения и чтения напряжения на шине 10 идентичны напряжениям на шине 10 схем на фиг.1, поз.3. В режиме записи на шину 10 подается низкое напряжение. Принцип работы схем на фиг.2, 4 идентичен принципу работы схемам на фиг.1, поз.3. In the scheme of RAM fragments presented in FIG. 2,
Включением порогового устройства (на битовую шину БЯ) на переключателе тока, выполненном на транзисторах 17 и 18, установкой опорного напряжения 21 мы задаем уровень детектирования считываемых сигналов на битовой шине. Этим достигается компромисс обеспечения требуемой помехоустойчивости и диапазоне высоких рабочих частот, что позволяет максимально реализовать высокий потенциал системного быстродействия, помехоустойчивости и надежности статических сверхинтегрированных ОЗУ. By turning on the threshold device (on the BY-bit) on the current switch made on
На фиг.5 представлено сечение функционально-интегрированной интегральной конструкции из двух БЯ с диэлектрической изоляцией для схемотехнических решений 1,3. Область базы биполярного транзистора 2 совмещена с областью 4 стока, область коллектора 9 совмещена с областью канала 11 р-МОП ключа. Столбцы ячеек разделены вертикальными канавками, заполненными окислом 22, все ячейки столбца имеют общий коллектор 9 (сильнолегированная шина 10). В третьем направлении Z в области базы 3 сформированы две эмиттерные области, первая 12 (указана на фиг.5) и 14 ( не указана на фиг.5). Эмиттеры 14 подключены к шине 15. Все эмиттеры 12 строки БЯ подключены к битовой шине 5. Словная шина 8 формирует затвор 7 р-МОП ключа. Figure 5 shows a cross section of a functionally integrated integrated design of two bytes with dielectric insulation for
Предложеннная в заявке новая схемотехника сверхбыстродействующей, микромощной БЯ (фиг.1, 3) была промоделирована для технологии 0.15 мкм и функционально-интегрированной конструкции БЯ на двухэмит-терном транзисторе (фиг. 5). С помощью инструментария адекватного численного двумерного приборно-схемотехнического моделирования [2] проведен анализ возможностей по быстродействию и мощности, а также физических ограничений БЯ на масштабированных лавинных транзисторах в микромощном режиме Рс = 0.1-10 нВт. На фиг.6 представлены переходные процессы при считывании из БЯ при различных нагрузочных емкостях. На фиг.7, 8 представлены зависимости времени задержки от величины порога детектирования Еоп считываемого выходного потенциала (фиг.6) для различных емкостей и от нагрузочной емкости для различных пороговых напряжений Uon (и задаваемых уровней помехоустойчивости). Для увеличения интеграции УБИС ОЗУ необходимо максимально понижать статическую мощность БЯ. Уменьшения статического сквозного тока в БЯ осуществляется уменьшением тока генератора тока на n-МОП транзисторе 16. При этом можно избежать снижения быстродействия БЯ незначительным увеличением импульса коллекторного (а следовательно, и базового) напряжения, подаваемого при считывании. Снижение статического тока I0 ограничено токами утечек Iу, соответственно необходимо, чтобы I0>>Iу и не терялась информация в БЯ. При этом для статических мощностей БЯ менее 0.3-1 нВт, в рамках предлагаемых иерархических гигабитных архитектур статических ОЗУ реально достижимы f=1/Тдоступа свыше 3-5 ГГц, Рс(tд (БЯ))<2 •10-19 Дж.The new circuitry proposed in the application for ultra-fast, micropowerful BJ (Figs. 1, 3) was modeled for 0.15 μm technology and a functionally integrated design of the BJ on a two-emitter transistor (Fig. 5). Using the tools of adequate numerical two-dimensional instrumentation and circuit simulation [2], the analysis of the speed and power capabilities, as well as the physical limitations of the BJ on scaled avalanche transistors in the micropower mode, Pc = 0.1-10 nW. Figure 6 presents the transients during reading from the BJ at various load capacities. Figures 7, 8 show the dependences of the delay time on the detection threshold value Eop of the read output potential (Fig. 6) for different capacities and on the load capacitance for different threshold voltages Uon (and specified noise immunity levels). To increase the integration of UBIS RAM, it is necessary to maximize the static power of the base unit. The reduction of the static through current in the BJ is achieved by decreasing the current of the current generator on the n-
Технико-экономический эффект изобретения заключается в значительном увеличении системного быстродействия микромощных вариантов сверхинтегрированных ячеек памяти статических ОЗУ УБИС, а также возможности работы фрагментов ОЗУ при приемлемой помехоустойчивости, что весьма важно при построении сверхскоростных УБИС для перспективных микропроцессорных, супер-ЭВМ высших поколений, работающих с рабочими частотами в единицы-десятки ГГц для интеллектуальных систем наземного и космического базирования. The technical and economic effect of the invention is to significantly increase the system speed of micropower variants of ultra-integrated memory cells of static RAM UBIS, as well as the possibility of working fragments of RAM with acceptable noise immunity, which is very important when building ultra-high speed UBIS for advanced microprocessor, super-computers of higher generations working with workers frequencies of several tens of GHz for intelligent systems of ground and space based.
Источники
1. Sakui К., Hasegawa Т. et. al. A New Static Memory Cell Based on the Reverse Base Current Effect of Bipolar Transistors.- IEEE Trans., V.ED-36, pp.125-127 (прототип).Sources
1. Sakui K., Hasegawa T. et. al. A New Static Memory Cell Based on the Reverse Base Current Effect of Bipolar Transistors. - IEEE Trans., V.ED-36, pp. 125-127 (prototype).
2. Бубенников А.Н., Черняев А.В. Приборно-схемотехническое моделирование в САПР БИС. - Ассоциация разработчиков САПР БИС, ТРТИ, Таганрог, 1992. 2. Bubennikov A.N., Chernyaev A.V. Instrumentation and simulation in CAD BIS. - Association of CAD Developers BIS, TRTI, Taganrog, 1992.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU99122763/09A RU2200351C2 (en) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | Superhigh-speed superintegrated large-scale metal-oxide-superconductor random-access memory built around avalanche transistors |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU99122763/09A RU2200351C2 (en) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | Superhigh-speed superintegrated large-scale metal-oxide-superconductor random-access memory built around avalanche transistors |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU99122763A RU99122763A (en) | 2001-08-27 |
| RU2200351C2 true RU2200351C2 (en) | 2003-03-10 |
Family
ID=20226347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU99122763/09A RU2200351C2 (en) | 1999-10-29 | 1999-10-29 | Superhigh-speed superintegrated large-scale metal-oxide-superconductor random-access memory built around avalanche transistors |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2200351C2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2234762C1 (en) * | 2003-03-11 | 2004-08-20 | Федеральное Государственное Унитарное Предприятие Научно-Исследовательский Институт "Волга" | Flat evacuated fluorescent display |
| RU2240625C1 (en) * | 2003-12-08 | 2004-11-20 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт газоразрядных приборов "Плазма" | Ac gas panel |
| RU2245003C1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-01-20 | Уральский государственный университет путей сообщения (УрГУПС) | Information display device |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0435457A1 (en) * | 1989-11-24 | 1991-07-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device and preparation of the same |
| DE4121445A1 (en) * | 1990-06-29 | 1992-01-23 | Digital Equipment Corp | STORAGE CELL WITH BIPOLAR TRANSISTORS AND METHOD |
| DE4209364A1 (en) * | 1991-03-23 | 1992-10-22 | Sony Corp | CMOS SRAM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
| US5324961A (en) * | 1991-01-30 | 1994-06-28 | Texas Instruments Incorporated | Stacked capacitor SRAM cell |
| EP0952614A1 (en) * | 1990-05-31 | 1999-10-27 | STMicroelectronics, Inc. | Field effect device with polycrystaline silicon channel |
-
1999
- 1999-10-29 RU RU99122763/09A patent/RU2200351C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0435457A1 (en) * | 1989-11-24 | 1991-07-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device and preparation of the same |
| EP0952614A1 (en) * | 1990-05-31 | 1999-10-27 | STMicroelectronics, Inc. | Field effect device with polycrystaline silicon channel |
| DE4121445A1 (en) * | 1990-06-29 | 1992-01-23 | Digital Equipment Corp | STORAGE CELL WITH BIPOLAR TRANSISTORS AND METHOD |
| US5324961A (en) * | 1991-01-30 | 1994-06-28 | Texas Instruments Incorporated | Stacked capacitor SRAM cell |
| DE4209364A1 (en) * | 1991-03-23 | 1992-10-22 | Sony Corp | CMOS SRAM AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| SAKUI К., HASEGAWA Т. et al., A New Static Memory Cell Based on the Reverse Base Current Effect of Bipolar Transistors, IEEE Trans, 1989, v.ED-36, р.1215-1217. Сверхбыстродействующие интегральные микросхемы оперативных запоминающих устройств/Под ред. ВЕРНЕРА В.Д. - М.: Радио и связь, 1991, с.91-93. * |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2234762C1 (en) * | 2003-03-11 | 2004-08-20 | Федеральное Государственное Унитарное Предприятие Научно-Исследовательский Институт "Волга" | Flat evacuated fluorescent display |
| RU2240625C1 (en) * | 2003-12-08 | 2004-11-20 | Открытое акционерное общество "Научно-исследовательский институт газоразрядных приборов "Плазма" | Ac gas panel |
| RU2245003C1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-01-20 | Уральский государственный университет путей сообщения (УрГУПС) | Information display device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Goyal et al. | Low leakage zero ground bounce noise nanoscale full adder using source biasing technique | |
| Lorenzo et al. | Single bit‐line 11T SRAM cell for low power and improved stability | |
| Shibata et al. | A 0.5-V 25-MHz 1-mW 256-kb MTCMOS/SOI SRAM for solar-power-operated portable personal digital equipment-sure write operation by using step-down negatively overdriven bitline scheme | |
| Wade et al. | Dynamic cross-coupled bit-line content addressable memory cell for high-density arrays | |
| Ukita et al. | A single-bit-line cross-point cell activation (SCPA) architecture for ultra-low-power SRAM's | |
| Siddiqui et al. | A 16-kb 9T ultralow-voltage SRAM with column-based split cell-VSS, data-aware write-assist, and enhanced read sensing margin in 28-nm FDSOI | |
| Bharti et al. | Rooting of PPN technique on 8T-SRAM for low power multimedia applications | |
| RU2200351C2 (en) | Superhigh-speed superintegrated large-scale metal-oxide-superconductor random-access memory built around avalanche transistors | |
| Feki et al. | Sub-threshold 10T SRAM bit cell with read/write XY selection | |
| Elakkumanan et al. | NC-SRAM-A low-leakage memory circuit for ultra deep submicron designs | |
| Wang et al. | A new current-mode sense amplifier for low-voltage low-power SRAM | |
| CA1170363A (en) | Mos memory cell | |
| Uemura et al. | Design and analysis of resonant-tunneling-diode (RTD) based high performance memory system | |
| Dutt et al. | Design and performance analysis of high-performance low power voltage mode sense amplifier for static RAM | |
| Mishra et al. | Design and mathematical analysis of a 7t sram cell with enhanced read snm using pmos as an access transistor | |
| Nobakht et al. | A new 7T SRAM cell in sub‐threshold region with a high performance and small area with bit interleaving capability | |
| Huang et al. | 0.339 fJ/bit/search energy-efficient TCAM macro design in 40nm LP CMOS | |
| Reddy et al. | Sub-0.2 pJ/access Schmitt trigger based 1-kb 8T SRAM implemented using 40-nm CMOS process | |
| Natarajan et al. | A hybrid adiabatic content addressable memory for ultra low-power applications | |
| sri Penugonda et al. | Design of low power SRAM cell using adiabatic logic | |
| Ochii et al. | An ultralow power 8Kx8-bit full CMOS RAM with a six-transistor cell | |
| Boll et al. | Design of a high-performance 1024-b switched capacitor p-channel IGFET memory chip | |
| Siddaiah et al. | Performance analysis of low-power multi-threshold CMOS-based 10T SRAM cell | |
| Madelo et al. | Design of Low Power P-Gated Schmitt Trigger SRAM in 65nm CMOS Technology | |
| Rani et al. | Minimization of Leakage Currents in Dram 4x4 Using SVL Technique |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20031030 |