RU2114520C1 - Импульсная плазменная установка - Google Patents
Импульсная плазменная установка Download PDFInfo
- Publication number
- RU2114520C1 RU2114520C1 RU96119512A RU96119512A RU2114520C1 RU 2114520 C1 RU2114520 C1 RU 2114520C1 RU 96119512 A RU96119512 A RU 96119512A RU 96119512 A RU96119512 A RU 96119512A RU 2114520 C1 RU2114520 C1 RU 2114520C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- arc
- electrodes
- auxiliary
- electrode
- coil
- Prior art date
Links
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 16
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000012216 screening Methods 0.000 abstract description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 6
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 1
- 238000004157 plasmatron Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Изобретение относится к плазменной технике. Импульсная плазменная установка содержит два высоковольтных электрода, источник питания вспомогательной дуги, генератор импульсного тока, отражающую стенку из диэлектрического материала и обмотку магнитного дутья, при этом отрицательный электрод выполнен подвижным и жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом. Растяжение . дуги осуществляется за счет раздвижения электродов посредством электромагнита. При этом опорные точки дуги располагаются на концах электродов неподвижно, а паровая катодная струя, обтекая столб вспомогательной дуги, дополнительно стабилизирует ее электрофизические характеристики. По достижении вспомогательной дугой заданных параметров запускается источник питания обмотки магнитного дутья м между электродами инициируется высоковольтный разряд. Обмотка магнитного дутья размещена непосредственно за отражающей стенкой, в результате чего сгусток плазмы притягивается к холодной отражающей стенке и как бы раскатывается по ее поверхности в тонкую пленку. При этом существенно снижается экранирующее действие частиц плазмы и увеличивается излучающая поверхность, что обусловливает высокую интенсивность излучения. 1 ил.
Description
Изобретение относится к плазменной технике, а более точно к устройствам с косвенным нагревом дуговым разрядом, и может быть использовано как источник интенсивного светового излучения.
Известен импульсный плазменный ускоритель эрозионного типа (Гришин С.Д., Лесков Л.В., Козлов Н.П. Электрические ракетные двигатели. -М.: Машиностроение, 1975, с. 198 - 208), принятый в качестве прототипа. Который содержит плазмотрон, имеющий два высоковольтных электрода, генератор импульсного тока, источник инициирования вспомогательного разряда, блок управления, разрядную камеру и сопло. Ускорение потока плазмы достигается посредством создания высокого давления в камере устройства, а также за счет взаимодействия осевых холловских токов с азимутальным магнитным полем, образованным током, текущим по центральному электроду. Плазмообразующий газ получается непосредственно в камере ускорителя при действии электрического разряда на стенку камеры, выполненную из газогенерирующего материала (например, фибры, меди, оргстекла). При этом газодинамические и магнитные силы не уравновешивают друг друга, вследствие чего на срезе ускорителя образуется самосжимающаяся область повышенной температуры и плотности, так называемый плазменный фокус, являющийся источником интенсивного светового излучения.
Перемещение высоковольтного сильноточного импульсного разряда по электродам устройства в течение всего периода работы обусловливает их повышенный износ, а разрушение стенки разрядной камеры, имеющее место при генерации плазмообразующего газа, уменьшает ресурс работы устройства. Кроме того, взаимное экранирование частиц плазменного фокуса ограничивает интенсивность излучения. Снижение напряжения и мощности разряда, перемещающегося по электродам устройства, хотя и способно снизить термическую нагрузку на его элементы, однако, в свою очередь, чревато резким падением интенсивности излучения, кроме того, при движении дуги по направляющим электродам в поперечном магнитном поле практически невозможно обеспечить стабильность таких ее характеристик, как ток, удельная проводимость, скорость перемещения, постоянство формы (сечения, длины, радиуса кривизны), что ведет к разбросу параметров процесса разряда и генерации излучения.
По сравнению с устройством прототипа предлагаемое изобретение позволяет обеспечить заданную стабилизацию характеристик и формы дуги непосредственно в момент высоковольтного разряда, существенно повысить интенсивность излучения при сопоставимых энергетических затратах, а также значительно уменьшить термическую нагрузку на элементы устройства.
Это достигается тем, что предлагаемое устройство, содержащее положительный и отрицательный электроды, источник питания вспомогательной дуги и генератор импульсного тока, снабжено электромагнитом, отражающей стенкой из диэлектрического материала и обмоткой магнитного дутья, соединенной с источником выпрямленного напряжения, при этом отрицательный электрод жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом, а обмотка магнитного дутья размещена непосредственно за отражающей стенкой и присоединена к источнику выпрямленного напряжения.
Существенные отличия предлагаемого устройства от прототипа заключаются в том, что устройство предлагаемого изобретения содержит электромагнит, предназначенный для разведения электродов, отражающую стенку из диэлектрического материала, при контакте плазменного сгустка с которой происходит генерация интенсивного светового излучения, и обмотку магнитного дутья, обеспечивающую контакт плазмы и отражающей стенки, при этом отрицательный электрод выполнен подвижным и жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом. Это сделано ввиду того обстоятельства, что в устройстве предлагаемого изобретения дуга растягивается до момента достижения ею заданных энергетических и геометрических параметров, после чего осуществляется ее пробой высоковольтным разрядом. Растяжение дуги осуществляется за счет раздвижения электродов посредством электромагнита. При этом опорные точки дуги располагаются на концах электродов неподвижно, а паровая катодная струя, обтекая столб дуги, дополнительно стабилизирует ее электрофизические характеристики. Кроме того, размещение обмотки магнитного дутья непосредственно за отражающей стенкой улучшает динамический контакт плазмы с поверхностью стенки.
На чертеже представлена общая схема импульсной плазменной установки.
Установка содержит высоковольтные электроды 1 и 2 (1 - катод, 2 - анод), источник 3 питания вспомогательной дуги, представляющий собой регулируемый источник выпрямленного тока, дроссель 4, генератор импульсного тока, включающий высоковольтный конденсатор 5, источник 6 высокого выпрямленного напряжения, резистор 7, осциллятор 8 и разрядник 9, а также отражающую стенку 10 из диэлектрического материала, обмотку 11 магнитного дутья и электромагнит, состоящий из обмотки 12, якоря 13, пружины 14 и изолирующей втулки 15.
Отрицательный электрод 2 жестко связан с якорем 13 электромагнита, обмотка 12 которого включена между электродом 2 и отрицательным полюсом источника 3, причем с электродом она связана гибким проводом, а электрод 1 подключен к положительному полюсу источника 3 через дроссель 4. Высоковольтный конденсатор 5 связан с источником 6 через резистор 7 и через осциллятор 8 и разрядник 9 подключен параллельно электродам 1 и 2. Отражающая стенка 10 расположена вблизи разрядного промежутка 16, причем обмотка 11 магнитного дутья расположена непосредственно за отражающей стенкой. Цепи контроля и управления источника 3 связаны с цепью пуска осциллятора 8. Обмотка 11 питается от источника выпрямленного напряжения, который при необходимости может быть выполнен регулируемым (не показан).
Установка работает следующим образом.
В начальном положении электроды 1 и 2 сведены вместе. Перед включением источника 3 конденсатор 5 должен быть полностью заряжен. При запуске источника 3 образуется следующая цепь тока: положительный полюс источника 3, дроссель 4, электрод 1, электрод 2, обмотка 12 электромагнита, отрицательный полюс источника 3. В результате протекания тока через обмотку 12 якорь 13 втягивается в обмотку, одновременно перемещая электрод 2. В результате разведения электродов 1 и 2 между ними зажигается вспомогательная дуга, стабильность параметров которой (тока, удельной проводимости) обеспечивается за счет регулирующего действия источника 3 и дросселя 4. По достижении вспомогательной дугой заданной длины при условии стабильности ее электрических характеристик от источника 3 на осциллятор 8 и на источник питания обмотки магнитного дутья подается пусковой импульс, осциллятор срабатывает и пробивает промежуток разрядника 9, замыкая цепь разряда высоковольтного конденсатора 5 и инициируя высоковольтный разряд между электродами 1 и 2. Разрядник 9 в данной схеме предназначен для предотвращения возможности включения генератора импульсного тока при недостаточном заряде конденсатора. Время заряда конденсатора 5 определяется наряду с его емкостью величиной сопротивления резистора 7. В результате взаимодействия магнитных полей дуги и обмотки 11 магнитного дутья сгусток плазмы притягивается к холодной отражающей стенке и как бы раскатывается по ней в тонкую пленку, в связи с чем снижается экранирующее действие частиц плазмы. При этом ввиду малой толщины плазменной пленки и большой площади излучающей поверхности интенсивность излучения плазмы существенно усиливается.
Такая конструкция позволяет предварительно сформировать параметры вспомогательной дуги, однозначно определяющие характер процесса протекания высоковольтного разряда, благодаря чему высоковольтный разряд с заданными характеристиками формируется только в конце периода работы, что снижает термическую нагрузку на элементы устройства. Кроме того, механизм генерации излучения с применением отражающей стенки, реализованный в данном устройстве, позволяет существенно снизить экранирующий эффект частиц плазмы, что при сопоставимых энергетических затратах обеспечивает более высокую интенсивность излучения. В свою очередь, размещение обмотки магнитного дутья непосредственно за отражающей стенкой дополнительно улучшает динамический контакт плазмы с поверхностью стенки.
Claims (1)
- Импульсная плазменная установка, содержащая положительный и отрицательный электроды, источник питания вспомогательной дуги и генератор импульсного тока, отличающаяся тем, что она снабжена электромагнитом, отражающей стенкой из диэлектрического материала и обмоткой магнитного дутья, соединенной с источником выпрямленного напряжения, при этом отрицательный электрод жестко связан с якорем электромагнита, обмотка которого включена между указанным электродом и отрицательным полюсом источника питания вспомогательной дуги, причем с электродом она связана гибким проводом, а обмотка магнитного дутья размещена непосредственно за отражающей стенкой.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU96119512A RU2114520C1 (ru) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | Импульсная плазменная установка |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU96119512A RU2114520C1 (ru) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | Импульсная плазменная установка |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2114520C1 true RU2114520C1 (ru) | 1998-06-27 |
| RU96119512A RU96119512A (ru) | 1998-11-20 |
Family
ID=20186083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU96119512A RU2114520C1 (ru) | 1996-09-30 | 1996-09-30 | Импульсная плазменная установка |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2114520C1 (ru) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2253194C2 (ru) * | 2000-10-16 | 2005-05-27 | Саймер, Инк. | Источник излучения на основе плазменного фокуса с улучшенной системой импульсного питания |
| RU2343651C1 (ru) * | 2007-06-13 | 2009-01-10 | Государственное Научное Учреждение "Институт Физики Имени Б.И. Степанова Национальной Академии Наук Беларуси" | Импульсно-периодический плазмотрон |
| RU2457638C2 (ru) * | 2010-10-26 | 2012-07-27 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" | Плазменный источник светового излучения |
| RU2529056C2 (ru) * | 2012-12-14 | 2014-09-27 | Общество с ограниченной ответственностью "НИТ" | Высоковольтный плазмотрон |
-
1996
- 1996-09-30 RU RU96119512A patent/RU2114520C1/ru active
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Гришин С.Д., Лесков Л.В., Козлов И.П. Электрические ракетные двигатели.- М.: Машиностроение, 1975, с. 198-208. * |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2253194C2 (ru) * | 2000-10-16 | 2005-05-27 | Саймер, Инк. | Источник излучения на основе плазменного фокуса с улучшенной системой импульсного питания |
| RU2343651C1 (ru) * | 2007-06-13 | 2009-01-10 | Государственное Научное Учреждение "Институт Физики Имени Б.И. Степанова Национальной Академии Наук Беларуси" | Импульсно-периодический плазмотрон |
| RU2457638C2 (ru) * | 2010-10-26 | 2012-07-27 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" | Плазменный источник светового излучения |
| RU2529056C2 (ru) * | 2012-12-14 | 2014-09-27 | Общество с ограниченной ответственностью "НИТ" | Высоковольтный плазмотрон |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0876663B1 (en) | Apparatus for generating a plasma | |
| EP0901572B1 (en) | Traveling spark ignition system and ignitor therefor | |
| TW505734B (en) | Add-on unit to conventional ignition systems to provide a follow-on current through a spark plug | |
| US2919370A (en) | Electrodeless plasma torch and method | |
| JP7271489B2 (ja) | 高エネルギー効率、高出力のプラズマトーチ | |
| JPH03500042A (ja) | 燃料ガス製造及び該燃料ガスからの熱エネルギーの放出強化のための方法及び装置 | |
| JP2009008100A (ja) | 可燃性の気体混合物に点火するための、コロナ放電を生成し持続させるための点火システムと点火方法 | |
| WO1997012372A9 (en) | A compound plasma configuration, and method and apparatus for generating a compound plasma configuration | |
| US8259771B1 (en) | Initiating laser-sustained plasma | |
| NL2008208C2 (en) | Spark ablation device. | |
| US3586905A (en) | Plasma arc heating apparatus | |
| CN101828433B (zh) | 用于脉冲等离子体生成的阴极组件和方法 | |
| US4475063A (en) | Hollow cathode apparatus | |
| RU2114520C1 (ru) | Импульсная плазменная установка | |
| US3556706A (en) | Oil burner spark ignition system | |
| Kohno et al. | Cable guns as a plasma source in a plasma opening switch | |
| US4639635A (en) | Spark plug | |
| US2909695A (en) | Coaxial magnetohydrodynamics switch device | |
| RU2045102C1 (ru) | Плазменный эмиттер ионов | |
| RU2762196C2 (ru) | Электродуговой плазмотрон | |
| EP4086224A1 (en) | Plasma reactor for plasma-based gas conversion comprising an effusion nozzle | |
| RU2183311C2 (ru) | Коаксиальный ускоритель | |
| RU2838397C1 (ru) | Устройство поджигания плазмы в высокочастотном источнике плазмы | |
| Prozorov et al. | Dynamics studies of cathode spots in a vacuum-arc discharge with ring electrodes | |
| RU2343650C2 (ru) | Способ создания высокоэнтальпийной газовой струи на основе импульсного газового разряда |