RU2113775C1 - Плазмотрон газовоздушный высоковольтный - Google Patents
Плазмотрон газовоздушный высоковольтный Download PDFInfo
- Publication number
- RU2113775C1 RU2113775C1 RU96121767A RU96121767A RU2113775C1 RU 2113775 C1 RU2113775 C1 RU 2113775C1 RU 96121767 A RU96121767 A RU 96121767A RU 96121767 A RU96121767 A RU 96121767A RU 2113775 C1 RU2113775 C1 RU 2113775C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- anode
- cathode
- cone
- inter
- gas
- Prior art date
Links
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 abstract description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 abstract 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 abstract 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 238000004157 plasmatron Methods 0.000 description 14
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HOWJQLVNDUGZBI-UHFFFAOYSA-N butane;propane Chemical compound CCC.CCCC HOWJQLVNDUGZBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000002445 nipple Anatomy 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Изобретение относится к области порошковой металлургии и может использоваться для напыления покрытий и в плазменной технике. Завихритель плазмотрона выполнен в виде втулки из изолятора с тангенциальными боковыми пазами. Внутри втулки помещен катодный узел с затупленным термохимическим катодом, входящим внутрь межэлектродной вставки. Угол при вершине входного конуса межэлектродной вставки находится в пределах 120 - 130o. За счет этого удалось получить повышенное напряжение на дуге при относительно короткой межэлектродной вставке и пониженных значениях тока. Пробой между анодом и межэлектродной вставкой устраняется двойной газовой завесой. 3 ил., 1 табл. ^---^'е
Description
Изобретение относится к области порошковой металлургии, в частности напыления покрытий и плазменной техники.
Одно из перспективных направлений развития современных дуговых плазмотронов для напыления характеризуется повышением мощности и применением газовоздушных смесей для генерирования высокоскоростных плазменных струй.
Увеличение мощности разряда достигается за счет увеличения длины дуги и напряжения на ней.
Для упрощения конструкции и повышения надежности и ремонтоспособности плазмотронов с повышенным напряжением на дуге перспективной является схема с одиночной или сдвоенной межэлектродной вставкой (МЭВ) и закруткой плазмообразующей газовоздушной смеси [1].
К недостаткам одиночной МЭВ можно отнести опасность пробоя между МЭВ и анодом, увеличение потерь при длинной МЭВ (более 10d, где d - диаметр дугового канала).
Для предотвращения пробоя обычно предусматривается газовая завеса между МЭВ и анодом с противокруткой против основного потока, но нет достаточной информации об устройстве этого узла.
Целью изобретения является создание плазмотрона с относительно короткой МЭВ (длиной меньшей 10 d) и в то же время достаточно высоким напряжением на дуге, что позволяет снизить рабочий ток и поднять надежность работы электродов, устранить опасность пробоя между МЭВ и анодом. Эта цель достигается новыми конструкциями прикатодного закручивающего аппарата, системы подачи газовой завесы в зазор МЭВ - анод и конструкцией сопряжения корпусов анодного и для МЭВ.
Для увеличения напряжения на дуге за счет повышенного прикатодного напряжения завихритель выполнен в виде втулки из изолятора с тангенциальными боковыми пазами, внутри которой помещен катодный узел с затупленным термохимическим катодом, входящим внутрь межэлектродной вставки, при этом угол при вершине входного конуса межэлектродной вставки находится в пределах 120-130o.
Конструктивно корпус анодного узла навинчивается на промежуточный корпус с МЭВ, герметизируя ее полость охлаждения, а изолятор между ней и анодным узлом имеет пазы, разделяющие газовый поток противокрутки на два; один омывает МЭВ, другой - входной конус анода, причем конус изолятора совпадает с конусом анода, что устраняет опасность пробоя и воздействия излучения на изолятор.
На фиг. 1 показана конструкция заявляемого плазмотрона.
Упрощение конструкции плазмотрона удалось достичь, приняв за прототип компоновку плазмотрона без МЭВ, в котором все водяные и газовые коммуникации вынесены за пределы корпуса [2].
Заявляемый плазмотрон состоит из трех главных узлов: катодного, промежуточного с МЭВ и анодного.
Катодный узел состоит из корпуса 1, к верхней части которого приварены штуцер 2 для подключения катодного кабель-шланга (кабель с водой, поступающей в катодный узел), ниппель 3 и внутренний стержень 4, разделяющий поток воды. Нижняя часть корпуса имеет резьбу, на которую навинчена гайка 5, прижимающая термохимический катод 6 к резиновой прокладке 7.
Катодный узел помещен внутри двух втулок из капролона 8 и 9, между которыми есть резиновая прокладка 10. Втулка 9 имеет тангенциальные пазы (фиг. 2), втулка 8 - отверстия в верхней части с резьбой М6, в которую ввинчены стопорные болты 11.
Катодный узел с втулками помещен в промежуточный корпус 12, причем втулка 9 упирается торцом с пазами в МЭВ, втулка 8 прижимается гайкой 13. Термохимический катод 6 входит в цилиндрическую верхнюю часть МЭВ.
Пространство для охлаждения МЭВ герметизируется двумя прокладками - одна во внутренней расточке промежуточного корпуса 14, другая 15 - в нижней части МЭВ. В нижней части корпуса снаружи предусмотрена резьба, на которую навинчивается анодный узел через изолирующее капролоновое кольцо 16 с резьбами внутри и снаружи.
Корпус анодного узла 17 снабжен двумя штуцерами 18 для подключения анодного кабель-шланга и вывода воды, и ниппелем 19 для подвода газовоздушной смеси. Анод 20 поджимается специальной шайбой 21 с отверстиями для подачи порошка. В верхней части анодного узла помещена шайба-изолятор 22 с пазами.
Работа плазмотрона происходит следующим образом.
В камере для напыления, где находится плазмотрон, включается вентиляция, вода, воздух. Воздух подается через тройник в промежуточный корпус и корпус анода (возможна раздельная подача газов). В промежуточном корпусе имеется внутренняя кольцевая расточка, в которую поступает воздух и далее через боковые тангенциальные пазы втулки закрученный поток, омывая термохимический катод, устремляется через кольцевой зазор 1,5 - 1,7 мм в центральное отверстие МЭВ, через входной конус, имеющий угол при вершине 100o - 180o.
На выходе МЭВ центральный воздушный поток встречается с потоком воздуха, идущего через боковой паз анодного корпуса и закручивающегося через пазы в шайбе-изоляторе 22 против направления крутки центрального потока, причем, благодаря пазам с обеих сторон шайбы - изолятора (фиг. 3) поток воздуха разделяется на два: один омывает поверхность МЭВ, другой - входной конус анода.
Конструктивно МЭВ своим нижним конусом входит в конус анода так, что зазор между ними составляет 3 - 4 мм. Для устранения воздействия излучения дуги на шайбу-изолятор последняя имеет конусную расточку.
При включении выпрямителя вначале срабатывает осциллятор, вспыхивает дежурная дуга между катодом и МЭВ и плазменная струя как проводник замыкает катод и анод, после чего начинает гореть основная дуга, дежурная отключается.
После включения на воздухе основной дуги через специальный клапан-смеситель подается пропан-бутан (или природный газ), под срез сопла или в анод подается порошок в обесточенную плазменную струю и начинается процесс нанесения покрытия.
После работы в течение одного года в автобусном парке N 9 г. Москвы на восстановлении деталей к автобусу " Икарус" заявляемый плазмотрон выдержал более 500 включений на один катод, в сумме отработал более 600 ч, после чего эрозия анода была в допустимых пределах. За этот срок не было ни разу протечек воды, капролоновые детали и асбоцементная шайба - изолятор не подверглась воздействию излучения дуги.
При работе на серийном плазмотроне ПУН-1 к установке "Киев-7" (также с МЭВ) через 1 - 2 дня приходилось менять прокладки, электроды менялись через 10 - 20 ч.
В таблице приведены некоторые показатели этих испытаний.
Сравнительные испытания плазмотрона ПУН-1 и заявляемого показали заметное преимущество последнего.
Плазмотроны работали на одной установке "Киев-7", частота вращения детали диаметром 80 мм составляла 1.7 с-1, скорость перемещения плазмотронов 30 мм/с. Напылялась порошковая смесь ПРН70Х-17 и ПТЮ10Н (30%), диаметр сопла в обоих плазмотронах 8 мм, порошки подавались под срез сопла.
Толщина напыленных покрытий в обоих случаях 1,5 мм. Покрытия, напыленные заявляемым плазмотроном, показали меньшую пористость, особенно при увеличении подачи воздуха до 11 - 13 м3/ч.
Напряжение на дуге в обоих плазмотронах зависит от их конструкции и концентрации пропан-бутана в газовой смеси.
При наличии в заявляемом плазмотроне входного конуса в МЭВ, равного 120o, при работе на воздухе напряжение на дуге составляло более 280 В и далее установка отключалась, так как напряжение холостого хода БЭП-80 300 В.
Для обеспечения сравнимых результатов пришлось в МЭВ заявляемый плазмотрон расточить второй конус (см. пунктирные линии на чертеже МЭВ), напряжение на воздухе упало до 200 В, далее при добавлении 10% пропан-бутана напряжение поднялось до 280 В.
При необходимости уменьшить количество пропан-бутана для поддержания максимально высокого напряжения на дуге (280 В при напряжении холостого хода 300 В) входной конус МЭВ увеличить до 100o и более, при отсутствии пропан-бутана, как мы уже показали, угол должен быть в пределах 120o - 130o.
Оптимальностью выбранной геометрии разрядного пространства в заявляемом плазмотроне подтверждается возможность достаточного нагрева такого количества газовоздушной смеси (13 м3/ч), при котором реализуется сверхзвуковое истечение плазменной струи с относительно небольшой мощностью на дуге - менее 50 кВт и пониженной силе тока. Оксид алюминия при подаче в нижнюю часть анода напылялся при дистанции напыления до 450 - 500 мм, при коэффициенте использования до 50%.
Литература.
1. Петров С. В. , Карп Н.Н. Плазменное газовоздушное напыление. Киев, "Наукова Думка", 1993, с. 100, с. 164 - 167.
2. Фридлянд М. Г., Першин В.А. Плазмотрон с постоянно возобновляющимся катодом для нанесения покрытий. Автоматическая сварка, 1985, N 1, с. 58 - 61.
Claims (2)
1. Плазмотрон газовоздушный высоковольтный, включающий катодный узел, промежуточный корпус с межэлектродной вставкой и анодный узел, завихритель у входа в межэлектродную вставку и антизавихритель между ней и анодом, причем узлы конструктивно независимы и раздельно охлаждаются, отличающийся тем, что завихритель выполнен в виде втулки из изолятора с тангенциальными боковыми пазами, внутри которой помещен катодный узел с затупленным термохимическим катодом, входящим внутрь межэлектродной вставки, при этом угол при вершине входного конуса межэлектродной вставки находится в пределах 120 - 130oС.
2. Плазмотрон по п.1, отличающийся тем, что корпус анодного узла, навинчивающегося на промежуточный корпус с межэлектродной вставкой, герметизирует ее полость охлаждения, а изолятор между ней и анодным узлом имеет пазы, разделяющие газовый поток противозакрутки на два - один омывает межэлектродную вставку, другой - входной корпус анода, причем конус изолятора совпадает с конусом анода.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU96121767A RU2113775C1 (ru) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Плазмотрон газовоздушный высоковольтный |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU96121767A RU2113775C1 (ru) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Плазмотрон газовоздушный высоковольтный |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2113775C1 true RU2113775C1 (ru) | 1998-06-20 |
| RU96121767A RU96121767A (ru) | 1999-01-10 |
Family
ID=20187190
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU96121767A RU2113775C1 (ru) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Плазмотрон газовоздушный высоковольтный |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2113775C1 (ru) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2169064C2 (ru) * | 1999-05-26 | 2001-06-20 | Институт физико-технических проблем Севера СО РАН | Плазмотрон |
| RU2216133C1 (ru) * | 2002-07-16 | 2003-11-10 | Шестаков Александр Иванович | Плазмотрон газовоздушный низковольтный |
| RU2225084C1 (ru) * | 2003-04-25 | 2004-02-27 | Суслов Виктор Иванович | Плазматрон |
| RU2340125C2 (ru) * | 2006-07-10 | 2008-11-27 | Анатолий Тимофеевич Неклеса | Электродуговой плазмотрон |
| RU2361964C2 (ru) * | 2006-07-26 | 2009-07-20 | Александр Иванович Шестаков | Способ экономичного плазменного сверхзвукового напыления высокоплотных порошковых покрытий и плазмотрон для его осуществления (варианты) |
| RU2374791C1 (ru) * | 2008-04-17 | 2009-11-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Исследовательский Центр имени М.В. Келдыша" | Электродуговой плазмотрон переменного тока |
-
1996
- 1996-11-05 RU RU96121767A patent/RU2113775C1/ru not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Фридлянд М.Г., Першин В.А. Плазмотрон с постоянно возобновляющимся катодо м для нанесения покрытий. Автоматическая сварка. - 1985, N1, с. 58-61. Пет ров С.В., Карп Н.Н. Плазменное газовоздушное напыление. - Киев: Наукова Ду мка, 1993, с. 100, 164-167. * |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2169064C2 (ru) * | 1999-05-26 | 2001-06-20 | Институт физико-технических проблем Севера СО РАН | Плазмотрон |
| RU2216133C1 (ru) * | 2002-07-16 | 2003-11-10 | Шестаков Александр Иванович | Плазмотрон газовоздушный низковольтный |
| RU2225084C1 (ru) * | 2003-04-25 | 2004-02-27 | Суслов Виктор Иванович | Плазматрон |
| RU2340125C2 (ru) * | 2006-07-10 | 2008-11-27 | Анатолий Тимофеевич Неклеса | Электродуговой плазмотрон |
| RU2361964C2 (ru) * | 2006-07-26 | 2009-07-20 | Александр Иванович Шестаков | Способ экономичного плазменного сверхзвукового напыления высокоплотных порошковых покрытий и плазмотрон для его осуществления (варианты) |
| RU2374791C1 (ru) * | 2008-04-17 | 2009-11-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Исследовательский Центр имени М.В. Келдыша" | Электродуговой плазмотрон переменного тока |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11116069B2 (en) | High power DC non transferred steam plasma torch system | |
| CA1271229A (en) | Plasma flame spray gun method and apparatus with adjustable ratio of radial and tangential plasma gas flow | |
| US4762977A (en) | Double arc prevention for a transferred-arc flame spray system | |
| US4841114A (en) | High-velocity controlled-temperature plasma spray method and apparatus | |
| US3313908A (en) | Electrical plasma-torch apparatus and method for applying coatings onto substrates | |
| RU2569861C2 (ru) | Система термического плазменно-дугового проволочного напыления | |
| US6706993B1 (en) | Small bore PTWA thermal spraygun | |
| EP0427194A2 (en) | Multiple torch type plasma generation device and method of generating plasma using the same | |
| US6515252B1 (en) | Plasma torch cartridge and plasma torch equipped therewith | |
| JP2002500818A (ja) | プラズマ表面処理装置 | |
| MXPA04008229A (es) | Distribuidor de punta de gas. | |
| RU2113775C1 (ru) | Плазмотрон газовоздушный высоковольтный | |
| US4672171A (en) | Plasma transfer welded arc torch | |
| RU2677638C2 (ru) | Усовершенствованные системы для плазменно-дуговой резки, расходные компоненты и способы работы | |
| US2941063A (en) | Plasma-jet torch apparatus and method relating to increasing the life of the back electrode | |
| JPH0533520B2 (ru) | ||
| GB1298680A (en) | Improvements in or relating to apparatus and a process for producing plasma | |
| US3375392A (en) | Plasma generator utilizing a ribbonshaped stream of gas | |
| RU2115269C1 (ru) | Способ формирования электродугового разряда в плазмотроне и устройство для его осуществления | |
| RU93045033A (ru) | Плазматрон | |
| US3378391A (en) | Method for coating plastics onto a substrate employing a plasma | |
| RU2672054C1 (ru) | Электродуговой плазмотрон для нанесения покрытий из тугоплавких дисперсных материалов | |
| RU37334U1 (ru) | Плазмотрон для резки и установка для плазменно-дуговой резки | |
| KR102261461B1 (ko) | 유해가스 처리용 플라즈마 토오치 | |
| RU2361964C2 (ru) | Способ экономичного плазменного сверхзвукового напыления высокоплотных порошковых покрытий и плазмотрон для его осуществления (варианты) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20131106 |