RU2192501C2 - Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку - Google Patents
Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку Download PDFInfo
- Publication number
- RU2192501C2 RU2192501C2 RU2000109697A RU2000109697A RU2192501C2 RU 2192501 C2 RU2192501 C2 RU 2192501C2 RU 2000109697 A RU2000109697 A RU 2000109697A RU 2000109697 A RU2000109697 A RU 2000109697A RU 2192501 C2 RU2192501 C2 RU 2192501C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- substrate
- coating
- cathode
- cleaning
- difference
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 16
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Turbine Rotor Nozzle Sealing (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение может быть использовано при изготовлении конструкций, работающих в энергетических установках при экстремальных условиях. Способ включает создание разности электрических потенциалов между подложкой и катодом и очистку поверхности подложки потоком ионов, снижение разности потенциалов и нанесение покрытия, проведение отжига покрытия путем повышения разности потенциалов, при этом ионный поток и поток испаряющегося материала, идущий от катода к подложке при очистке, экранируют, очистку проводят ионами инертного газа, после очистки экраны отводят и наносят покрытие с последующим отжигом неоднократно до требуемой толщины. Изобретение направлено на повышение плотности покрытия, прочности сцепления с подложкой и однородности по толщине. 7 з.п.ф-лы, 1 ил.
Description
Изобретение относится к технологии получения стойких в агрессивных средах покрытий на деталях преимущественно сложной конфигурации и выполненных из высоколегированных сплавов, содержащих легко испаряющиеся компоненты, и может использоваться при изготовлении конструкций, работающих в энергетических установках при экстремальных условиях.
Конструкции, применяемые в энергетических установках, например ротора, для успешной работы в экстремальных условиях должны быть защищены от воздействия агрессивной среды покрытиями, обладающими высокой коррозионной стойкостью, повышенной степенью сцепления с подложкой и толщиной слоя не менее 100 мкм. Наиболее приемлемым для получения таких покрытий является способ ионно-плазменного осаждения, так называемая конденсация с ионной бомбардировкой подложки, поскольку позволяет получать относительно плотные и равномерные по толщине покрытия.
Известен способ ионно-плазменного нанесения покрытий, включающий испарение в вакууме катода, выполненного из материала покрытия, под воздействием низковольтовой электродуги, при котором в камере образуется плазменный поток, содержащий ионы инертного газа, ионы и атомы материала покрытия, создание между катодом и подложкой напряжения, обеспечивающего ускорение в электрическом поле заряженных частиц плазмы и движение их к подложке, образуя на ее поверхности тонкий слой покрытия (см. "Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме" М., Машиностроение, 1991, стр. 79-83). Ускорение частиц плазменного потока создается за счет увеличения напряжения между катодом и подложкой, при этом происходит ионная бомбардировка поверхности подложки, приводящая к ее очистке, а также к осаждению частиц покрытия на ее разогретой поверхности. Создание слоя покрытия протекает при небольшом напряжении между катодом и подложкой. Были получены на стальных деталях слои, например, карбида титана толщиной до 30 мкм.
Однако при использовании указанного способа покрытия толщиной слоя более 100 мкм имеют недостаточную плотность и адгезию к поверхности подложки, что не позволяет применить их в энергетических установках.
Известен способ ионно-плазменного нанесения покрытий на стальные детали в вакуумной камере в тлеющем разряде инертного газа, при котором после формирования плазменного потока проводят ионную бомбардировку поверхности подложки ионами покрываемого материала с энергией порядка 20 кэВ, сообщенной им электрическим полем большого напряжения, в результате чего происходит как очистка поверхности подложки, так и внедрение в нее материала покрытия. После снижения напряжения между катодом и подложкой проводят нанесение покрытия на ее поверхность материала покрытия, при этом внедренные атомы сцепляются с этим материалом, что способствует повышению адгезии покрытия к детали. Напыленные детали, не вынимая из камеры, подвергают термическому отжигу при температуре ниже температуры плавления материалов подложки и покрытия (см. авторское свидетельство СССР 738424, С 23 С 14/48).
Данный способ позволяет достичь диффузионного сцепления покрытия с подложкой при нанесении относительно толстых слоев.
Однако известный способ не позволяет использовать в качестве подложки деталей, выполненных из высоколегированных сплавов, содержащих такие элементы, как алюминий, титан, вольфрам, молибден, ниобий, поскольку плазменный поток ионов с энергией в 20 кэВ, внедряясь в подложку, селективно выбивает с поверхности атомы компонентов сплава и в первую очередь атомы с меньшей энергией связи в кристаллической решетке материала подложки. Атомы с большей энергией связи, оставшиеся на поверхности подложки, приходят в активное состояние и при достаточно высоком сродстве их к остаточным в камере газам способны образовать химические соединения, например окислы, нитриды. В результате поверхность подложки из высоколегированного сплава насыщается высокотемпературными соединениями, имеющими рыхлую структуру в виде мелкодисперсных частиц. Кроме того, содержащиеся в плазменном потоке атомы катода в процессе ионной очистки закрывают часть поверхности подложки, оставляя ее неочищенной от окислов и других трудно удаляемых загрязнений. Эти обстоятельства не позволяют получить покрытие с прочным сцеплением по всей поверхности подложки, в особенности имеющей сложную конфигурацию.
Задача изобретения - дальнейшее совершенствование технологического процесса ионно-плазменного нанесения покрытий на деталях, который обеспечил бы повышение плотности и равномерности распределения по всей поверхности детали слоев покрытия толщиной 100 мкм с высокой адгезией покрытия.
Задача решена за счет того, что в способе вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку в среде инертного газа, включающем создание разности электрических потенциалов между подложкой и катодом и очистку поверхности подложки потоком ионов, снижение разности потенциалов и нанесение покрытия, проведение отжига покрытия путем повышения разности потенциалов, ионный поток и поток испаряющегося материала, идущий от катода к подложке, экранируют, очистку подложки проводят ионами инертного газа, после очистки экраны отводят и наносят покрытие с последующим отжигом неоднократно до требуемой толщины.
Другими отличиями является то, что
- экранирование ионного потока и потока испаряющегося материала прекращают после завершения процесса очистки поверхности подложки;
- подложка выполнена из высоколегированного сплава на никелевой основе;
- в качестве материала катода используют никель;
- в качестве инертного газа используют аргон;
- для подложек сложной конфигурации очистку поверхности, нанесение покрытия и отжиг осуществляют при вращении подложки;
- очистку поверхности подложки проводят при напряжении между катодом и подложкой 1000-1500 В при разрежении в камере 5•10-3-1•10-4 мм рт.ст.;
- нанесение покрытия на подложку проводят при напряжении 100 200 В между ней и катодом;
- отжиги слоев покрытия проводят при напряжении 1250 - 1500 В между подложкой и катодом.
- экранирование ионного потока и потока испаряющегося материала прекращают после завершения процесса очистки поверхности подложки;
- подложка выполнена из высоколегированного сплава на никелевой основе;
- в качестве материала катода используют никель;
- в качестве инертного газа используют аргон;
- для подложек сложной конфигурации очистку поверхности, нанесение покрытия и отжиг осуществляют при вращении подложки;
- очистку поверхности подложки проводят при напряжении между катодом и подложкой 1000-1500 В при разрежении в камере 5•10-3-1•10-4 мм рт.ст.;
- нанесение покрытия на подложку проводят при напряжении 100 200 В между ней и катодом;
- отжиги слоев покрытия проводят при напряжении 1250 - 1500 В между подложкой и катодом.
Технический результат - повышение плотности покрытия, степени его равномерности по толщине слоя более 100 мкм, а также прочности сцепления с подложкой, которая может быть выполнена из высоколегированного сплава, содержащего легко испаряющиеся компоненты, и имеющей сложную конфигурацию.
Предложенный способ осуществляют следующим образом.
В камере создают высокий вакуум порядка 1•10-5 мм рт.ст., через дозатор вводят в нее инертный газ до давления 1•10-3-1•10-4 мм рт.ст. и располагают экраны между катодом и подложкой. Если подложка имеет сложную конфигурацию, то перед созданием разности потенциалов между подложкой и катодом для проведения ионной очистки поверхности подложки ей придают вращение. Далее на катоде поджигают низковольтную дугу, с помощью которой формируется на нем плазменный поток, содержащий ионы и атомы распыляемого материала. Одновременно происходит ионизация инертного газа во всем объеме вакуумной камеры. Бомбардировку поверхности подложки с целью очистки ее от загрязнений проводят преимущественно ионами инертного газа. Для этого между катодом и подложкой поднимают напряжение выше 1000 В. В результате создается поток ионов инертного газа с высокой энергией, который вместе с частицами материала катода направляется к поверхности подложки, выполненной из высоколегированного сплава, например, на никелевой основе. Ионы и атомы частиц покрываемого материала ударяются об экраны и основное их количество осаждается на поверхности этих экранов. В результате происходит бомбардировка подложки преимущественно ионами инертного газа и незначительной частью плазменного потока ионов испаряемого материала. Процесс, протекающий в высоком вакууме, вызывает физическую и химическую очистку поверхности подложки от загрязнений. При этом энергия ионного потока такова, что селективного испарения легирующих элементов со слабой энергией связи в кристаллической решетке не происходит. По окончании процесса очистки напряжение между катодом и подложкой снижают, экраны между ними отводят и далее осуществляют ионно-плазменное нанесение покрытия. При этом ионы и нейтральные частицы покрываемого материала под действием электрического поля достигают поверхности подложки, конденсируясь на ней. Процесс проводят до образования слоя толщиной не менее 10 мкм. Выбор указанной толщины слоя обусловлен необходимостью избежать селективного испарения легирующих компонентов, которое может произойти при толщине слоя менее 10 мкм под воздействием температуры и высокоэнергетического потока частиц покрываемого материала во время дальнейшего разогрева подложки. Полученный слой покрытия подвергают отжигу при температуре выше температуры его нанесения. Подъем температуры осуществляют путем повышения напряжения между катодом и подложкой. При отжиге происходит упорядочение кристаллической решетки покрытия и формирование первичного диффузионного слоя. Далее процесс продолжают при пониженном напряжении между катодом и подложкой, например, в два или более циклов до получения слоя заданной толщины. Полученный слой покрытия отжигают при той же температуре, что и предыдущий, что способствует улучшению структуры нанесенного материала. После охлаждения подложки и удаления из камеры ее подвергают диффузионному отжигу в вакууме не ниже 1•10-3 мм рт.ст. для формирования заданной толщины диффузионной зоны на границе слоя покрытия и подложки.
Описанный выше способ нанесения покрытий может быть также применен при использовании подложки, выполненной из однородного металла или малолегированного сплава, с целью получения слоев покрытия толщиной до 300 мм и более.
Ниже приведен пример осуществления предложенного способа.
В качестве подложки использовано рабочее колесо турбины энергетической установки, имеющее сложную конфигурацию и выполненное из высоколегированного сплава на основе никеля, содержащего такие компоненты, как алюминий, титан, вольфрам, ниобий и другие легко окисляемые элементы. В качестве материала катода использован никель.
Перед началом проведения процесса нанесения покрытия между катодом и деталью - колесом газовой турбины - располагали экраны, в камере создавали вакуум 1•10-5 мм рт. ст. и после этого вводили в нее аргон до достижения давления 4•10-4 мм рт. ст. и подвергали деталь вращению. Далее на катоде поджигали злектродугу напряжением около 30 В, обеспечивающую формирование ионно-плазменного потока, содержащего ионы аргона, ионы и атомы никеля. С увеличением напряжения до 1000-1500 В между катодом и деталью осуществлялся процесс очистки поверхности детали ионами аргона. После полной очистки ее поверхности от загрязнений и удаления экранов проводили ионно-плазменное нанесение никелевого покрытия толщиной 10-35 мкм при разности потенциалов между катодом и деталью, равной 200 В. Затем разность потенциалов повышали до 1300 В и проводили термический отжиг покрытия при температуре ниже температуры фазовых превращений сплава рабочего колеса турбины. Далее напряжение снижали и проводили процесс нанесения покрытия до получения слоя толщиной 50±20 мкм. Полученный слой отжигали по тому же режиму, что и первый. Процесс нанесения слоя покрытия с последующим отжигом осуществляли неоднократно до получения покрытия заданной толщины. Приведенный выше технологический процесс представлен на чертеже. Из данной иллюстрации процесса видно, что вся технология получения слоя покрытия, равного 200-300 мкм, был осуществлен за 3 цикла.
Отожженную деталь охлаждали до комнатной температуры, после чего удаляли из камеры, а затем в вакуумной печи подвергали диффузионному отжигу при температуре 1000±50oС при разрежении не ниже 1•10-3 мм рт.ст.
Были проведены испытания на определение плотности полученного покрытия, его прочности сцепления с деталью и степени равномерности по толщине по всей геометрии поверхности. Металлографические исследования показали на отсутствие пористости и трещин по толщине слоя покрытия, а также на удовлетворительную его равномерность по всей поверхности детали. При механических испытаниях покрытия на разрыв было установлено, что адгезия имела величину не менее 25 кг/мм, что доказывает достаточную прочность его сцепления с деталью и возможность ее использования в экстремальных условиях.
Claims (8)
1. Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку в среде инертного газа, включающий создание разности электрических потенциалов между подложкой и катодом и очистку поверхности подложки потоком ионов, снижение разности потенциалов и нанесение покрытия, проведение отжига покрытия путем повышения разности потенциалов, отличающийся тем, что ионный поток и поток испаряющегося материала, идущий от катода к подложке, экранируют, очистку проводят ионами инертного газа, после очистки экраны отводят и наносят покрытие с последующим отжигом неоднократно до требуемой толщины.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что подложка выполнена из высоколегированного сплава на никелевой основе.
3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что в качестве материала катода используют медь.
4. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что в качестве инертного газа используют аргон.
5. Способ по любому из пп. 1-4, отличающийся тем, что для подложек сложной конфигурации очистку поверхности, нанесение покрытия и отжиг осуществляют при вращении подложки.
6. Способ по любому из пп. 1-5, отличающийся тем, что очистку поверхности подложки проводят при разности электрических потенциалов между катодом и подложкой 1000-1500 В при вакууме в камере 5•10-3 - 1•10-4 мм рт. ст.
7. Способ по любому из пп. 1-6, отличающийся тем, что нанесение покрытия на подложку проводят при разности электрических потенциалов между катодом и подложкой 100-200 В.
8. Способ по любому из пп. 1-7, отличающийся тем, что отжиг покрытия проводят при разности электрических потенциалов между катодом и подложкой 1250-1500 В.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000109697A RU2192501C2 (ru) | 2000-04-20 | 2000-04-20 | Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000109697A RU2192501C2 (ru) | 2000-04-20 | 2000-04-20 | Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2000109697A RU2000109697A (ru) | 2002-04-10 |
| RU2192501C2 true RU2192501C2 (ru) | 2002-11-10 |
Family
ID=20233489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2000109697A RU2192501C2 (ru) | 2000-04-20 | 2000-04-20 | Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2192501C2 (ru) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2299927C1 (ru) * | 2005-11-17 | 2007-05-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Оренбургский государственный университет" | Способ подготовки поверхности перед нанесением ионно-плазменных покрытий |
| RU2334826C2 (ru) * | 2006-10-20 | 2008-09-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный архитектурно-строительный университет" (СГАСУ) | Способ получения защитно-декоративных покрытий в вакууме из нитрида титана на поверхности материалов и изделий |
| RU2370570C1 (ru) * | 2008-01-09 | 2009-10-20 | Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" | Способ комбинированной ионно-плазменной обработки изделий из сталей и твердых сплавов |
| RU2375493C1 (ru) * | 2008-05-04 | 2009-12-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Способ нанесения ионно-плазменного покрытия |
| RU2392351C2 (ru) * | 2008-08-13 | 2010-06-20 | Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" | Способ нанесения антифрикционного износостойкого покрытия на изделие из металла или сплава |
| RU2403316C2 (ru) * | 2008-05-13 | 2010-11-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Способ нанесения ионно-плазменного покрытия |
| RU2451770C2 (ru) * | 2010-05-21 | 2012-05-27 | Открытое акционерное общество "Научно-производственное объединение Энергомаш имени академика В.П. Глушко" | Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий |
| RU2478140C2 (ru) * | 2011-06-02 | 2013-03-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Способ получения ионно-плазменного покрытия на лопатках компрессора из титановых сплавов |
| RU2502828C1 (ru) * | 2012-06-18 | 2013-12-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" | Способ нанесения антифрикционного износостойкого покрытия на титановые сплавы |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4622919A (en) * | 1983-12-29 | 1986-11-18 | Nissin Electric Co., Ltd. | Film forming apparatus |
| WO1993013238A1 (fr) * | 1988-01-13 | 1993-07-08 | Tadahiro Ohmi | Procede et appareil de traitement de surface sous vide |
| RU2096493C1 (ru) * | 1994-10-17 | 1997-11-20 | Уфимский государственный авиационный технический университет | Способ обработки детали |
| GB2323855A (en) * | 1997-04-01 | 1998-10-07 | Ion Coat Ltd | Depositing a coating on a conductive substrate using positive bias and electron bombardment |
-
2000
- 2000-04-20 RU RU2000109697A patent/RU2192501C2/ru active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4622919A (en) * | 1983-12-29 | 1986-11-18 | Nissin Electric Co., Ltd. | Film forming apparatus |
| WO1993013238A1 (fr) * | 1988-01-13 | 1993-07-08 | Tadahiro Ohmi | Procede et appareil de traitement de surface sous vide |
| RU2096493C1 (ru) * | 1994-10-17 | 1997-11-20 | Уфимский государственный авиационный технический университет | Способ обработки детали |
| GB2323855A (en) * | 1997-04-01 | 1998-10-07 | Ion Coat Ltd | Depositing a coating on a conductive substrate using positive bias and electron bombardment |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме. - М.: Машиностроение, 1991, с. 79-83. * |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2299927C1 (ru) * | 2005-11-17 | 2007-05-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Оренбургский государственный университет" | Способ подготовки поверхности перед нанесением ионно-плазменных покрытий |
| RU2334826C2 (ru) * | 2006-10-20 | 2008-09-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Самарский государственный архитектурно-строительный университет" (СГАСУ) | Способ получения защитно-декоративных покрытий в вакууме из нитрида титана на поверхности материалов и изделий |
| RU2370570C1 (ru) * | 2008-01-09 | 2009-10-20 | Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" | Способ комбинированной ионно-плазменной обработки изделий из сталей и твердых сплавов |
| RU2375493C1 (ru) * | 2008-05-04 | 2009-12-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Способ нанесения ионно-плазменного покрытия |
| RU2403316C2 (ru) * | 2008-05-13 | 2010-11-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Способ нанесения ионно-плазменного покрытия |
| RU2392351C2 (ru) * | 2008-08-13 | 2010-06-20 | Государственное образовательное учреждение Высшего профессионального образования "Томский государственный университет" | Способ нанесения антифрикционного износостойкого покрытия на изделие из металла или сплава |
| RU2451770C2 (ru) * | 2010-05-21 | 2012-05-27 | Открытое акционерное общество "Научно-производственное объединение Энергомаш имени академика В.П. Глушко" | Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий |
| RU2478140C2 (ru) * | 2011-06-02 | 2013-03-27 | Общество с ограниченной ответственностью "Научно-производственное предприятие "Уралавиаспецтехнология" | Способ получения ионно-плазменного покрытия на лопатках компрессора из титановых сплавов |
| RU2502828C1 (ru) * | 2012-06-18 | 2013-12-27 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Национальный исследовательский Томский государственный университет" | Способ нанесения антифрикционного износостойкого покрытия на титановые сплавы |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8036341B2 (en) | Stationary x-ray target and methods for manufacturing same | |
| McCafferty et al. | Naval research laboratory surface modification program: ion beam and laser processing of metal surfaces for improved corrosion resistance | |
| JP4619464B2 (ja) | 低電圧アーク放電からのイオンを用いて基体を処理するための方法および装置 | |
| JPH02285072A (ja) | 加工物表面のコーティング方法及びその加工物 | |
| US20120114871A1 (en) | Method And Apparatus For Producing An Ionized Vapor Deposition Coating | |
| EP1036211A1 (en) | Sputtering target | |
| JP2014181406A (ja) | 減圧アークプラズマ浸漬皮膜蒸着及びイオン処理 | |
| RU2192501C2 (ru) | Способ вакуумного ионно-плазменного нанесения покрытий на подложку | |
| JPH0744080B2 (ja) | 金属蒸着処理方法及びその処理炉 | |
| JP2007247042A (ja) | 半導体加工装置用セラミック被覆部材 | |
| CN101158041A (zh) | 金属表面形成ZrO2陶瓷复合材料的方法 | |
| KR101353451B1 (ko) | 도금강판 및 이의 제조방법 | |
| JP2022523357A (ja) | 物理的気相成長（ｐｖｄ）用ターゲットの製造方法 | |
| Beilis et al. | Thin-film deposition with refractory materials using a vacuum arc | |
| KR100436565B1 (ko) | 실리콘을 함유한 초경질 다이아몬드상 탄소박막 및 그제조방법 | |
| CN113825857B (zh) | 在金属基材表面形成氧化铝层的方法 | |
| JPH01136962A (ja) | 被覆方法 | |
| RU2089655C1 (ru) | Способ получения защитного покрытия | |
| WO2014022075A1 (en) | Device for the elimination of liquid droplets from a cathodic arc plasma source | |
| JP2001521990A (ja) | ＭｏＳｉ２含有層を製造するためのガスジェットＰＶＤ法 | |
| RU2165474C2 (ru) | Способ обработки поверхности металлических изделий | |
| TW201705180A (zh) | 利用離子照射所進行的被覆材之脫膜方法及脫膜裝置 | |
| CN114032513A (zh) | 一种基于磁过滤阴极真空弧法制备焊丝涂层的方法 | |
| JP3305786B2 (ja) | 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 | |
| RU2379378C2 (ru) | Способ ионно-плазменного нанесения многокомпонентных пленочных покрытий и установка для его осуществления |