RU2180472C2 - Vacuum-arc plasma source - Google Patents
Vacuum-arc plasma source Download PDFInfo
- Publication number
- RU2180472C2 RU2180472C2 RU2000103758/06A RU2000103758A RU2180472C2 RU 2180472 C2 RU2180472 C2 RU 2180472C2 RU 2000103758/06 A RU2000103758/06 A RU 2000103758/06A RU 2000103758 A RU2000103758 A RU 2000103758A RU 2180472 C2 RU2180472 C2 RU 2180472C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- vacuum
- arc
- plasma source
- screen
- Prior art date
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
Description
Изобретение относится к области вакуумно-плазменной технологии и может быть использовано для нанесения покрытий. The invention relates to the field of vacuum-plasma technology and can be used for coating.
В последнее время широкое применение получила технология нанесения покрытия, основанная на применении вакуумно-дуговых устройств с интегрально-холодным катодом. Использование данной технологии позволяет интенсифицировать процесс нанесения покрытий, обеспечить высокую их чистоту и хорошую адгезию. Recently, coating technology based on the use of vacuum-arc devices with an integrated cold cathode has gained widespread application. Using this technology allows you to intensify the coating process, to ensure their high purity and good adhesion.
Вакуумно-дуговой разряд горит в парах материала катода. Разряд привязан к поверхности катода микропятнами, в зоне которых температура материала катода, как правило, превышает температуру кипения. Плотность тока в катодных пятнах имеет порядок 109...1010 А/м2, что и вызывает интенсивное испарение катода, обеспечивающее высокую эффективность процесса горения разряда [1, 2] .A vacuum arc discharge burns in the vapor of the cathode material. The discharge is attached to the surface of the cathode by microspots, in the zone of which the temperature of the cathode material usually exceeds the boiling point. The current density in the cathode spots is of the order of 10 9 ... 10 10 A / m 2 , which causes intense evaporation of the cathode, which ensures high efficiency of the discharge burning process [1, 2].
Вакуумно-дуговой разряд является устойчивым, если поддерживается динамическое равновесие между процессами распада и возникновением катодных пятен. Время жизни отдельной ячейки является величиной случайной, поэтому и продолжительность горения дуги также оказывается случайной величиной. О стационарном горении дуги можно говорить тогда, когда величина тока и общее количество элементарных ячеек достаточно велики. Поддержание разряда осуществляется напряжением, превышающим потенциал ионизации материала катода [3]. Основную часть этого напряжения составляет его катодное падение. Получаемые осциллограммы напряжения показывают наличие постоянной составляющей и большого числа флуктуаций, связанных с колебаниями разрядного тока. Уменьшение разрядного тока ведет к уменьшению постоянной составляющей с сопутствующим ростом амплитуды шумов. A vacuum arc discharge is stable if a dynamic equilibrium is maintained between the decay processes and the occurrence of cathode spots. The lifetime of an individual cell is a random variable; therefore, the duration of arc burning also turns out to be a random variable. We can speak of stationary arc burning when the magnitude of the current and the total number of unit cells are large enough. The discharge is maintained by a voltage exceeding the ionization potential of the cathode material [3]. The main part of this voltage is its cathodic drop. The obtained voltage waveforms show the presence of a constant component and a large number of fluctuations associated with fluctuations in the discharge current. A decrease in the discharge current leads to a decrease in the constant component with a concomitant increase in the noise amplitude.
При горении дугового разряда наблюдаемые физические процессы определяются исключительно поведением катодных пятен, которые являются принципиально неустойчивыми плазменными образованиями и характеризуются некоторым среднестатистическим временем жизни. В промежуток времени от образования катодного пятна до его гибели оно постоянно находится в хаотическом перемещении по поверхности катода, скорость которого лежит в диапазоне от десятков долей до нескольких десятков метров в секунду. Технологическое вакуумно-дуговое устройство выполняет свое функциональное предназначение лишь в том случае, если зоной вероятного существования пятна является исключительно рабочая поверхность катода. When burning an arc discharge, the observed physical processes are determined solely by the behavior of the cathode spots, which are fundamentally unstable plasma formations and are characterized by some average statistical lifetime. In the period from the formation of the cathode spot to its death, it is constantly in chaotic movement along the surface of the cathode, the speed of which lies in the range from tens of fractions to several tens of meters per second. The technological vacuum-arc device fulfills its functional purpose only if the zone of the likely existence of the spot is exclusively the working surface of the cathode.
Управление катодными пятнами и повышение надежности их удержания в заданной зоне эрозии является одной из самых актуальных проблем при разработке вакуумно-дуговых генераторов плазмы с интегрально-холодным катодом. По способу решения процесса стабилизации катодных пятен на рабочей поверхности катода дуговые источники плазмы можно разделить на источники: без применения специальных мер по удержанию катодного пятна [3] и источники с магнитной стабилизацией катодного пятна [4]. The control of cathode spots and increasing the reliability of their retention in a given erosion zone is one of the most pressing problems in the development of vacuum-arc plasma generators with an integrally cold cathode. According to the method for solving the process of stabilization of cathode spots on the cathode working surface, plasma arc sources can be divided into sources: without using special measures to hold the cathode spot [3] and sources with magnetic stabilization of the cathode spot [4].
Одиночное катодное пятно хаотически перемещается по поверхности катода. Если пятен несколько, то они взаимно отталкиваются, что проявляется в их движение к краям рабочей поверхности. Скорость движения пятен к периферии катода с ростом тока дуги увеличивается. Расхождение пятен после акта деления хорошо наблюдается на плоской поверхности протяженного катода. Взаимное отталкивание катодных пятен противоречит правилу Ампера. Этому же правилу противоречит и движение катодных пятен в магнитном поле. Как известно, на любой проводник с током, находящийся в магнитном поле, действует сила, поверхностная плотность которой связана с величиной плотности тока и магнитной индукции
В этом и проявляется характерный для катодных пятен эффект обратного движения в магнитном поле [5]. Скорость обратного движения катодных пятен не линейно увеличивается с ростом тока дуги и индукции магнитного поля. Наличие магнитного поля не является причиной перемещения катодных пятен, а лишь придает ему направленный характер. In this, the reverse motion in a magnetic field characteristic of cathode spots is manifested [5]. The rate of reverse motion of cathode spots does not linearly increase with increasing arc current and magnetic field induction. The presence of a magnetic field is not the cause of the movement of the cathode spots, but only gives it a directional character.
Таким образом, характер перемещения катодных пятен базируется на следующих закономерностях: катодное пятно смещается в направлении максимально локального значения магнитного поля, которое складывается из собственного магнитного поля пятна и внешнего магнитного поля, формируемого с целью управления процессами на катоде. При произвольно ориентированном векторе индукции магнитного поля катодное пятно смещается в сторону, определяемую минимальным углом вектора индукции к поверхности катода (правило острого угла). Thus, the nature of the movement of the cathode spots is based on the following patterns: the cathode spot is shifted in the direction of the maximum local value of the magnetic field, which is the sum of the intrinsic magnetic field of the spot and the external magnetic field formed to control processes at the cathode. With an arbitrarily oriented magnetic field induction vector, the cathode spot shifts to the side determined by the minimum angle of the induction vector to the cathode surface (acute angle rule).
Магнитная стабилизация вакуумной дуги включает в себя локализацию катодных пятен на рабочей поверхности катода при помощи магнитного поля, за счет чего достигается повышение устойчивости всего разряда в целом. В этом случае стационарное поддержание разряда возможно при токах, вдвое меньших, чем в автостабилизированных источниках. Magnetic stabilization of the vacuum arc involves the localization of cathode spots on the working surface of the cathode using a magnetic field, thereby achieving increased stability of the entire discharge as a whole. In this case, stationary discharge maintenance is possible at currents that are half as much as in self-stabilized sources.
В источниках с коаксиальной системой электродов внешняя магнитная система удерживает катодные пятна на рабочей торцевой поверхности конического или цилиндрического катода, но, несмотря на наличие стабилизирующей катушки, существует конечная вероятность сбрасывания катодного пятна на нерабочую поверхность [6]. In sources with a coaxial electrode system, an external magnetic system retains cathode spots on the working end surface of a conical or cylindrical cathode, but, despite the presence of a stabilizing coil, there is a finite probability of the cathode spot being dropped onto a non-working surface [6].
Однако данный тип источников генерирует сильно неоднородный, ограниченный по размерам плазменный поток, что существенно ограничивает возможность их практического применения. В связи с этим, для получения равномерного по сечению плазменного потока, например для обработки длинномерных и крупногабаритных изделий, требуется создание вакуумно-дуговых устройств протяженной геометрии, которые в настоящее время, в отличие от ранее рассмотренных испарителей, не имеют еще отработанных конструкционных решений. However, this type of source generates a highly heterogeneous, limited in size plasma flow, which significantly limits the possibility of their practical application. In this regard, in order to obtain a uniform plasma flow over the cross section, for example, for processing long and large-sized products, it is necessary to create vacuum-arc devices of extended geometry, which currently, unlike the previously considered evaporators, do not yet have worked out structural solutions.
Наиболее близким по совокупности признаков является вакуумно-дуговой источник плазмы, представленный в [7] и выбранный авторами за прототип. The closest set of features is a vacuum-arc plasma source, presented in [7] and selected by the authors for the prototype.
Указанный источник состоит из протяженного цилиндрического катода, дугогасящего экрана, произвольно расположенного со стороны токового ввода, анода и протяженной магнитной системы, ориентированной вдоль катода и установленной с противоположной стороны относительно генерируемого потока плазмы. The specified source consists of an extended cylindrical cathode, an arcing screen, arbitrarily located on the side of the current input, the anode and an extended magnetic system oriented along the cathode and mounted on the opposite side relative to the generated plasma stream.
При работе данного источника плазмы на поверхности катода у поджигающего электрода формируются катодные пятна, которые в магнитном поле петлевой обмотки перемещаются к токовому вводу. При попадании катодных пятен в зазор между катодом и дугогасящим экраном должно происходить погасание вакуумно-дугового разряда. Интервал между поджигающими импульсами больше или равен среднестатистическому времени жизни катодных пятен на поверхности катода. During operation of this plasma source, cathode spots are formed on the surface of the cathode at the ignition electrode, which move to the current input in the magnetic field of the loop winding. If cathode spots fall into the gap between the cathode and the arc-suppressing screen, the vacuum-arc discharge should be extinguished. The interval between igniting pulses is greater than or equal to the average lifetime of the cathode spots on the cathode surface.
Однако в ходе эксплуатации выявлены следующие недостатки. However, during operation, the following disadvantages were identified.
Технологический процесс требует проведения предварительной очистки обрабатываемой поверхности от жировых загрязнений и адсорбированных жидкостей и газов. Распыление материала проводится в режиме сильноточного аномального тлеющего разряда. Роль катода в этом случае выполняет обрабатываемое изделие и, в частности, сетка генераторной лампы. Для устранения возможности образования различных химических соединений на ее поверхности и интенсификации протекания процесса очистка проводится в среде инертного газа - аргона. The technological process requires preliminary cleaning of the treated surface from grease and adsorbed liquids and gases. Spraying of the material is carried out in the mode of a high-current anomalous glow discharge. The role of the cathode in this case is played by the workpiece and, in particular, the grid of the generator lamp. To eliminate the possibility of the formation of various chemical compounds on its surface and to intensify the process, the cleaning is carried out in an inert gas - argon.
При этих условиях осаждение распыляемого материала осуществляется не только на стенки вакуумной камеры, являющейся анодом, но и на поверхность цилиндрического катода. Данное условие приводит к загрязнению его рабочей поверхности, кроме того, на его поверхности могут формироваться как карбидные, так и оксидные слои, а также в промежуток времени от завершения технологического процесса напыления до начала повторного могут конденсироваться пары масел, попадающие в рабочий объем через откачную систему. Under these conditions, the deposition of the sprayed material is carried out not only on the walls of the vacuum chamber, which is the anode, but also on the surface of the cylindrical cathode. This condition leads to contamination of its working surface, in addition, both carbide and oxide layers can form on its surface, and also, during the period from the completion of the spraying process to the start of the re-vaporization, oil vapors that enter the working volume through the pumping system can condense .
Катодный узел в рабочем объеме расположен таким образом, что нерабочая поверхность катода оказывается вблизи стенки вакуумной камеры. При срабатывании поджигающего устройства на поверхности катода возникают скоростные катодные пятна первого рода, которые, не взирая на накладываемое внешнее магнитное поле, осуществляют хаотические перемещения по поверхности катода с целью его очистки, в том числе и на его нерабочей части. Данная поверхность но своей величине превосходит рабочую, и с ее стороны возникают оптимальные условия для поддержания разряда между катодом и анодом. В связи с этим дуговой разряд горит на нерабочей поверхности, что приводит к сильному разогреву стенки анода, принимающему всю выделяющуюся мощность разряда. Такой режим работы является аварийным и ведет к нарушению работоспособности установки и загрязнению обрабатываемых деталей. The cathode assembly in the working volume is located so that the non-working surface of the cathode is near the wall of the vacuum chamber. When the firing device is triggered, first-order high-speed cathode spots appear on the cathode surface, which, despite the superimposed external magnetic field, carry out random movements on the cathode surface to clean it, including on its non-working part. This surface is superior in size to the working one, and on its part, optimal conditions arise for maintaining the discharge between the cathode and anode. In this regard, the arc discharge burns on a non-working surface, which leads to a strong heating of the anode wall, which takes all the released discharge power. This mode of operation is emergency and leads to disruption of the installation and the contamination of the workpiece.
В процессе эксплуатации было также выявлено, что произвольно расположенный у токового ввода дугогасящий экран оказывает существенное влияние на конечное время жизни катодных пятен на рабочей поверхности. Наблюдаемая задержка катодных пятен в области дугогасящего экрана до 2...4 τ, где τ - оптимальное время их пробега, приводит к неравномерной эрозии плазмообразующего материала катода. Следует отметить, что даже при своевременном погасании разряда перед дугогасящим экраном образуется выемка, приводящая в последующем к задержке катодных пятен в этой зоне, дальнейшему росту углубления в материале катода и, как следствие, к неэффективному использованию плазмообразующего материала и к существенному увеличению в этой области толщины формируемого покрытия на обрабатываемом изделии. During operation, it was also revealed that an arcing screen arbitrarily located at the current input has a significant effect on the finite lifetime of the cathode spots on the working surface. The observed delay of the cathode spots in the region of the extinguishing screen to 2 ... 4 τ, where τ is the optimal travel time, leads to uneven erosion of the plasma-forming cathode material. It should be noted that even with the timely discharge quenching, an indentation is formed in front of the arcing screen, which subsequently leads to a delay in the cathode spots in this zone, a further increase in the depression in the cathode material and, as a result, to inefficient use of the plasma-forming material and to a significant increase in the thickness in this region formed coating on the workpiece.
Задачей заявляемого изобретения является создание безаварийного вакуумно-дугового источника плазмы протяженной конструкции с прямолинейным характером движения катодных пятен по рабочей поверхности и надежным дугогашением. Решение поставленной задачи позволит обеспечить следующие технические результаты:
1. Повысить надежность работоспособности источника плазмы.The objective of the invention is the creation of a trouble-free vacuum-arc plasma source of an extended design with a straightforward nature of the movement of the cathode spots on the working surface and reliable arc suppression. The solution of the problem will provide the following technical results:
1. To increase the reliability of the plasma source.
2. Обеспечить равномерность толщины формируемого покрытия на обрабатываемых изделиях. 2. Ensure uniform thickness of the formed coating on the processed products.
Поставленная задача решается за счет того, что в вакуумно-дуговом источнике плазмы, содержащем протяженный катод, дугогасящий экран, поджигающий электрод, анод и протяженную магнитную систему, выполненную таким образом, что составляющие вектора магнитного поля по длине рабочей зоны катода лежат в плоскости, перпендикулярной его оси, протяженный катод снабжен дополнительным экраном, охватывающим поверхность катода, с образованием продольного окна, формирующего рабочую поверхность на катоде от поджигающего электрода до дугогасящего экрана, установленного у токового ввода по срезу катода. The problem is solved due to the fact that in a vacuum-arc plasma source containing an extended cathode, an arcing screen, an ignition electrode, an anode and an extended magnetic system, made in such a way that the components of the magnetic field vector along the length of the cathode working zone lie in a plane perpendicular to along its axis, the extended cathode is equipped with an additional screen covering the cathode surface, with the formation of a longitudinal window forming a working surface on the cathode from the ignition electrode to the extinguishing electrode ana installed at the current input on the falling edge of the cathode.
Предлагаемое устройство отличается от известного следующим: в известном устройстве перемещение катодных пятен от поджигающего электрода к токовому вводу осуществляется в магнитном поле протяженной магнитной системы, что не обеспечивает надежной их стабилизации на рабочей поверхности, и, кроме того, произвольно расположенный дугогасящий экран не обеспечивает надежного гашения разряда. The proposed device differs from the known one in the following: in the known device, the movement of the cathode spots from the ignition electrode to the current input is carried out in the magnetic field of an extended magnetic system, which does not provide reliable stabilization on the working surface, and, moreover, an arbitrarily located arc suppression screen does not provide reliable extinction discharge.
В заявляемом устройстве движение катодных пятен от поджигающего электрода к токовому вводу осуществляется в магнитном поле протяженного соленоида по рабочей поверхности катода, сформированной дополнительным экраном, полностью исключающего возможность отклонения катодных пятен от прямолинейной траектории при любых режимах работы испарителя. Расположение дугогасящего экрана у токового ввода по нижнему срезу цилиндрического катода обеспечивает надежное гашение дугового разряда. In the claimed device, the movement of the cathode spots from the ignition electrode to the current input is carried out in the magnetic field of an extended solenoid along the cathode working surface formed by an additional screen, which completely eliminates the possibility of deviation of the cathode spots from a straight path in any mode of operation of the evaporator. The location of the arc-suppression screen at the current input along the lower cut of the cylindrical cathode provides reliable extinction of the arc discharge.
Для известного и предлагаемого устройств указанные отличия принципиальны. For the known and proposed devices, these differences are fundamental.
Заявляемая совокупность признаков изобретения авторам неизвестна. Вся заявляемая совокупность признаков позволила достичь технических результатов, указанных выше. The claimed combination of features of the invention is unknown to the authors. The entire claimed combination of features allowed to achieve the technical results indicated above.
На чертеже представлена конструкция вакуумно-дугового источника плазмы. The drawing shows the design of a vacuum-arc plasma source.
Конструкция вакуумно-дугового источника плазмы состоит из протяженного цилиндрического катода 1, размещенного внутри тонкостенного цилиндрического дополнительного экрана 2, превышающего длину катода и имеющего вдоль оси катода окно 3, за счет которого по длине катода от поджигающего электрода 4 до дугогасящего экрана 5 формируется рабочая поверхность. Дугогасящий экран 5 с зазором расположен у токового ввода 6 по срезу цилиндрического катода 1. Вакуумная камера 7 выполняет функции анода. Протяженная магнитная система выполнена в виде петлевой обмотки 8, которая расположена с внешней стороны камеры. Данное условие позволяет устранить влияние ее теплового воздействия в процессе работы на величину достигаемого вакуума 5-10-5 мм рт.ст. В рабочем объеме расположено обрабатываемое изделие 9, установленное на электрически изолированном диске 10, вращение которого обеспечивает электродвигатель 11.The design of the vacuum arc plasma source consists of an extended cylindrical cathode 1 located inside a thin-walled cylindrical additional screen 2, exceeding the length of the cathode and having a window 3 along the cathode axis, due to which a working surface is formed along the length of the cathode from the ignition electrode 4 to the arcing screen 5. The arc suppression screen 5 with a gap is located at the current input 6 along the slice of the cylindrical cathode 1. The vacuum chamber 7 performs the functions of the anode. The extended magnetic system is made in the form of a loop winding 8, which is located on the outside of the camera. This condition allows you to eliminate the influence of its thermal effects during operation on the value of the achieved vacuum 5-10 -5 mm RT.article. In the working volume is located the workpiece 9 mounted on an electrically isolated disk 10, the rotation of which is provided by the electric motor 11.
Принцип действия предлагаемого источника плазмы протяженной конструкции основан на устранении возможности ухода катодных пятен на боковую, нерабочую, поверхность катода за счет установки дополнительного экрана, ориентированного вдоль катода и расположенного с внешней его стороны. Окно на боковой поверхности дополнительного экрана формирует на поверхности катода от поджигающего электрода до дугогасящего экрана прямолинейный участок рабочей поверхности, с которого и происходит эрозия плазмообразующего материала. Дополнительный экран выполнен в виде тонкостенного цилиндра из немагнитного материала, который электрически изолирован от катода. При горении дугового разряда экран приобретает плавающий потенциал. The principle of operation of the proposed plasma source with an extended design is based on eliminating the possibility of cathode spots leaving on the side, non-working, surface of the cathode by installing an additional screen oriented along the cathode and located on its outer side. A window on the side surface of the additional screen forms on the cathode surface from the ignition electrode to the extinguishing screen a rectilinear portion of the working surface from which the plasma-forming material is eroded. An additional screen is made in the form of a thin-walled cylinder of non-magnetic material, which is electrically isolated from the cathode. When burning an arc discharge, the screen acquires a floating potential.
Источник плазмы работает следующим образом: на поверхности катода 1 от поджигающего устройства 4 формируются катодные пятна, которые в магнитном поле петлевой обмотки 8 перемещаются к токовому вводу 6 по рабочей поверхности катода, сформированной дополнительным экраном 2. При попадании катодных пятен в зазор катод 1 - дугогасящий экран 5 происходит погасание вакуумно-дугового разряда. Интервал между поджигающими импульсами больше или равен среднестатистическому времени жизни катодного пятна на поверхности катода. The plasma source operates as follows: on the surface of the cathode 1 from the ignition device 4, cathode spots are formed, which in the magnetic field of the loop winding 8 are moved to the current input 6 along the working surface of the cathode formed by an additional screen 2. When the cathode spots get into the gap, the cathode 1 is an extinguishing screen 5 extinction of the vacuum-arc discharge. The interval between igniting pulses is greater than or equal to the average lifetime of the cathode spot on the cathode surface.
Осаждение заряженной компоненты плазменного потока осуществляется на обрабатываемом изделии 9, расположенном на пути ее движения. Скорость роста наносимого покрытия связана с параметрами плазменного потока следующим образом:
где ji - плотность тока ионов на изделие; χ(Ei) и S(Ei) - коэффициенты аккомодации и распыления, зависящие от энергии ионов; е - заряд; ξ - среднее зарядовое число; n0 - концентрация атомов в наносимом покрытии.The deposition of the charged components of the plasma stream is carried out on the workpiece 9, located on the path of its movement. The growth rate of the applied coating is related to the plasma flow parameters as follows:
where j i is the ion current density on the product; χ (E i ) and S (E i ) are the accommodation and sputtering coefficients, depending on the ion energy; e is the charge; ξ is the average charge number; n 0 is the concentration of atoms in the applied coating.
Распределение плотности ионного тока вдоль оси катода имеет равномерный характер, при этом неравномерность не превышает единиц процентов. Характер движения катодных пятен на поверхности катода по прямолинейной траектории обеспечивает получение равномерного покрытия на обрабатываемом изделии. The distribution of the ion current density along the axis of the cathode is uniform, while the non-uniformity does not exceed units of percent. The nature of the movement of the cathode spots on the surface of the cathode along a rectilinear trajectory provides uniform coverage on the workpiece.
Практически предлагаемая конструкция вакуумно-дугового устройства с протяженным цилиндрическим катодом длиной 500 мм была опробована в серийном производстве для нанесения покрытий на сетки генераторных ламп. В этом случае неравномерность получаемого покрытия как по длине, так и по внешней стороне не превышала единиц процентов. The practically proposed design of a vacuum-arc device with an extended cylindrical cathode 500 mm long has been tested in serial production for coating coatings of generator lamps. In this case, the unevenness of the resulting coating both in length and on the outside did not exceed units of percent.
Литература
1. Мойжес Б.Я., Немчинский В.А. Эрозия и катодные струи вакуумной дуги. //ЖТФ. 1980. Т.50, 1. С.78-86.Literature
1. Moizhes B.Ya., Nemchinsky V.A. Erosion and cathode jets of a vacuum arc. // ZhTF. 1980.V.50, 1. S. 78-86.
2. Бейлис И.И., Любимов Г.А. О параметрах прикатодной области вакуумной дуги.//ТВТ. 1975, 6. С. 1137-1145. 2. Beilis I.I., Lyubimov G.A. On the parameters of the near-cathode region of a vacuum arc. // TVT. 1975, 6. S. 1137-1145.
3. Аксенов И.И., Хороших В.М. Потоки частиц и массоперенос в вакуумной дуге: Обзор. М.: ЦНИИатоминформ, 1984. 3. Aksenov I.I., Khoroshikh V.M. Particle Flows and Mass Transfer in a Vacuum Arc: Overview. M .: TsNIIatominform, 1984.
4. Дороднов А.М., Петросов В.А. О физических принципах и типах вакуумных технологических плазменных устройств. // ЖТФ. 1981. Т. 51. 3. С.504-524. 4. Dorodnov A.M., Petrosov V.A. On the physical principles and types of vacuum technological plasma devices. // ZhTF. 1981.V. 51. 3.P. 504-524.
5. Кесаев И.Г. Катодные процессы электрической дуги. М.: Наука, 1968. 5. Kesaev I.G. Cathode processes of an electric arc. M .: Nauka, 1968.
6. Саксаганский Г.Л. Вакуумные электрофизичекие насосы. М.: Энергоатомиздат, 1988. 280 с. 6. Saksagansky G.L. Vacuum electrophysical pumps. M .: Energoatomizdat, 1988.280 s.
6. Любимов Г.А., Раховский В.И. Катодное пятно вакуумной дуги. // УФИ. 1978. Т.125. 4. С.665-706. 6. Lyubimov G.A., Rakhovsky V.I. Cathode spot of a vacuum arc. // UVI. 1978.V. 125. 4. S.665-706.
7. Патент 2072642. Россия. МКИ3 Н 05 Н 1/50, С 23 С 14/35. Вакуумно-дуговой источник плазмы. //. Абрамов И.С., Быстров Ю.А., Лисенков А.А., Павлов Б. В. , Шаронов В.И. (Россия) - 94021421/25. Заявл. 07.06.94. Опубл. Бюл. 3. 27.01.97.7. Patent 2072642. Russia. MKI 3 Н 05 Н 1/50, С 23 С 14/35. Vacuum-arc plasma source. //. Abramov I.S., Bystrov Yu.A., Lisenkov A.A., Pavlov B.V., Sharonov V.I. (Russia) - 94021421/25. Claim 06/07/94. Publ. Bull. 3.01.01.97.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000103758/06A RU2180472C2 (en) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | Vacuum-arc plasma source |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| RU2000103758/06A RU2180472C2 (en) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | Vacuum-arc plasma source |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2000103758A RU2000103758A (en) | 2002-01-20 |
| RU2180472C2 true RU2180472C2 (en) | 2002-03-10 |
Family
ID=20230687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2000103758/06A RU2180472C2 (en) | 2000-02-07 | 2000-02-07 | Vacuum-arc plasma source |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| RU (1) | RU2180472C2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2382118C1 (en) * | 2009-01-28 | 2010-02-20 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" | Vacuum-arc source of plasma |
| RU2449513C1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-04-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)" | Vacuum-arc device |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2032281C1 (en) * | 1992-09-29 | 1995-03-27 | Акционерное общество - Научно-производственная фирма "Аз" | Method of formation of plasma flux and device for its realization |
| RU2059344C1 (en) * | 1993-01-27 | 1996-04-27 | Акционерное общество Научно-производственная фирма "АЗ" | Plasma current generating device |
| RU2072642C1 (en) * | 1994-06-07 | 1997-01-27 | Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет | Vacuum-arc plasma source |
| RU2091989C1 (en) * | 1994-02-10 | 1997-09-27 | Институт сверхтвердых материалов им.В.Н.Бакуля АН Украины | Method of application of coating in vacuum and device required for its realization |
| US5814942A (en) * | 1997-03-28 | 1998-09-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method and apparatus for generating high-density sheet plasma mirrors using a slotted-tube cathode configuration |
-
2000
- 2000-02-07 RU RU2000103758/06A patent/RU2180472C2/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2032281C1 (en) * | 1992-09-29 | 1995-03-27 | Акционерное общество - Научно-производственная фирма "Аз" | Method of formation of plasma flux and device for its realization |
| RU2059344C1 (en) * | 1993-01-27 | 1996-04-27 | Акционерное общество Научно-производственная фирма "АЗ" | Plasma current generating device |
| RU2091989C1 (en) * | 1994-02-10 | 1997-09-27 | Институт сверхтвердых материалов им.В.Н.Бакуля АН Украины | Method of application of coating in vacuum and device required for its realization |
| RU2072642C1 (en) * | 1994-06-07 | 1997-01-27 | Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет | Vacuum-arc plasma source |
| US5814942A (en) * | 1997-03-28 | 1998-09-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method and apparatus for generating high-density sheet plasma mirrors using a slotted-tube cathode configuration |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2382118C1 (en) * | 2009-01-28 | 2010-02-20 | Открытое акционерное общество "Национальный институт авиационных технологий" | Vacuum-arc source of plasma |
| RU2449513C1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-04-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)" | Vacuum-arc device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4551221A (en) | Vacuum-arc plasma apparatus | |
| JP5160730B2 (en) | Beam plasma source | |
| EP1055013B1 (en) | Cathode arc vapor deposition | |
| EP2639330B1 (en) | Method and device for transporting vacuum arc plasma | |
| CA2305938C (en) | Filtered cathodic arc deposition method and apparatus | |
| US6929727B2 (en) | Rectangular cathodic arc source and method of steering an arc spot | |
| KR20090023352A (en) | Dual Plasma Beam Sources and Methods | |
| JP2004537825A (en) | Magnetic mirror plasma source | |
| Coll et al. | Design of vacuum arc-based sources | |
| WO1998045871A1 (en) | Producing electric arc plasma in a curvilinear plasmaguide and substrate coating | |
| AU3950900A (en) | Rectangular cathodic arc source and method of steering an arc spot | |
| UA101678C2 (en) | Vacuum arc evaporator FOR GENERATING cathode plasma | |
| US6936145B2 (en) | Coating method and apparatus | |
| JP2002008893A (en) | Plasma machining method | |
| RU2058429C1 (en) | Method for film spraying | |
| RU2180472C2 (en) | Vacuum-arc plasma source | |
| RU2072642C1 (en) | Vacuum-arc plasma source | |
| RU2098512C1 (en) | Vacuum-arc plasma source | |
| RU2113538C1 (en) | Method of pulse-periodic ion and plasma treatment of product and device for its realization | |
| RU2116707C1 (en) | Device for generation of low-temperature gas- discharge plasma | |
| RU2207399C2 (en) | Vacuum electric arc device | |
| CN102296274A (en) | Shielding device for cathode arc metal ion source | |
| RU2657896C1 (en) | Device for coating synthesis | |
| RU2607398C2 (en) | Method of coatings application by plasma spraying and device for its implementation | |
| RU2096520C1 (en) | Electric-arc evaporator |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20050208 |
|
| HK4A | Changes in a published invention | ||
| MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20070208 |