[go: up one dir, main page]

RU2176689C2 - Method of measuring crystal diameter in crystal growth unit - Google Patents

Method of measuring crystal diameter in crystal growth unit Download PDF

Info

Publication number
RU2176689C2
RU2176689C2 RU98111901A RU98111901A RU2176689C2 RU 2176689 C2 RU2176689 C2 RU 2176689C2 RU 98111901 A RU98111901 A RU 98111901A RU 98111901 A RU98111901 A RU 98111901A RU 2176689 C2 RU2176689 C2 RU 2176689C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
crystal
melt
diameter
measuring
boundary
Prior art date
Application number
RU98111901A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU98111901A (en
Inventor
С.А. Кузнецов
В.Е. Зюбин
Д.В. Булавский
Original Assignee
Институт автоматики и электрометрии СО РАН
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт автоматики и электрометрии СО РАН filed Critical Институт автоматики и электрометрии СО РАН
Priority to RU98111901A priority Critical patent/RU2176689C2/en
Publication of RU98111901A publication Critical patent/RU98111901A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2176689C2 publication Critical patent/RU2176689C2/en

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

FIELD: crystal growth in crystal growth units. SUBSTANCE: method includes determination of position of boundary between crystal and melt by measuring device installed at an angle to melt. At the same time, position of boundary between crystal and melt is determined by means of other identical measuring device installed in plane running through axis if crystal rotation and axis of measuring device. Crystal diameter and melt level are calculated on basis of obtained data. EFFECT: higher reliability and accuracy of measurement of crystal diameter and concurrent determination of melt level. 1 dwg, 1 ex

Description

Изобретение относится к области выращивания кристаллов и может быть использовано в ростовых установках для измерения диаметра кристалла и уровня расплава. The invention relates to the field of growing crystals and can be used in growth plants for measuring the diameter of the crystal and the level of the melt.

Измерение и отслеживание величины диаметра выращиваемого кристалла, а также определение уровня расплава имеют решающее значение для обеспечения работы автоматизированной системы управления ростовой установкой. Отказы в работе устройства для измерения диаметра кристалла и недостаточная точность его работы, а также ненадежная работа датчика уровня расплава приводят к нарушению технологического процесса выращивания и появлению некачественных (бракованных) кристаллов. Measurement and tracking of the diameter of the grown crystal, as well as determining the level of the melt, are crucial to ensure the operation of the automated control system of the growth plant. Failures in the operation of the device for measuring the diameter of the crystal and the insufficient accuracy of its operation, as well as the unreliable operation of the melt level sensor lead to disruption of the technological process of growing and the appearance of low-quality (defective) crystals.

Известны различные способы измерения диаметра кристалла, среди которых аналогами данного изобретения являются способы, описания которых опубликованы в заявках на патенты и патентах, рассмотренных ниже. Various methods are known for measuring the diameter of a crystal, among which analogues of the present invention are methods whose descriptions are published in patent applications and patents discussed below.

Способ регулирования диаметра монокристалла (заявка на патент, Япония, N 57-143323, МКИ C 30 B 15/28, 1991 г., "Изобретения стран мира", МКИ C 30, N 6, 1993), в соответствии с которым в процессе выращивания кристалла измерение и регулировку его диаметра осуществляют путем измерения массы вытягиваемого монокристалла. The method of controlling the diameter of the single crystal (patent application, Japan, N 57-143323, MKI C 30 B 15/28, 1991, "Inventions of the world", MKI C 30, N 6, 1993), according to which in the process Crystal growing measurement and adjustment of its diameter is carried out by measuring the mass of the drawn single crystal.

Способ и устройство для измерения диаметра кристалла, используемые в автоматически регулируемом процессе выращивания кристаллов (заявка на патент, ЕПВ, N 0450502, МКИ C 30 B 15/26, 1991 г., "Изобретения стран мира", МКИ C 30, N 2, 1993). Для измерения диаметра кристалла с помощью видеокамеры получают изображение растущего участка кристалла и определяют наружный диаметр светлого кольца на изображении и используют полученное значение для регулирования диаметра кристалла. Method and device for measuring the diameter of a crystal used in an automatically controlled crystal growing process (patent application EPO N 0450502 MKI C 30 B 15/26, 1991, "Inventions of the World", MKI C 30, N 2, 1993). To measure the diameter of the crystal using a video camera, an image of the growing section of the crystal is obtained and the outer diameter of the light ring in the image is determined and the obtained value is used to control the diameter of the crystal.

Наиболее близким прототипом к предлагаемому изобретению по совокупности существенных признаков является устройство для измерения диаметра кристалла (патент США N 4794263, МКИ C 30 B 15/26, 1988 г., "Изобретения стран мира" МКИ C 30, N 9, 1989). Это устройство содержит оптический датчик, фиксирующий линию, которая пересекает в одной точке световое кольцо, образовавшееся на границе между кристаллом и расплавом. При этом устройство снабжено дискриминатором, выделяющим положение элементарной площадки с максимальной яркостью путем анализа изображения, переданного оптическим датчиком, и содержит датчик определения уровня расплава. На основе положения границы между кристаллом и расплавом, выделенной дискриминатором, и показаний датчика уровня рассчитывается диаметр кристалла. The closest prototype to the invention according to the set of essential features is a device for measuring the diameter of the crystal (US patent N 4794263, MKI C 30 B 15/26, 1988, "Inventions of the world" MKI C 30, N 9, 1989). This device contains an optical sensor that detects a line that intersects at one point the light ring formed at the boundary between the crystal and the melt. Moreover, the device is equipped with a discriminator that distinguishes the position of the elementary area with maximum brightness by analyzing the image transmitted by the optical sensor, and contains a sensor for determining the melt level. Based on the position of the boundary between the crystal and the melt identified by the discriminator, and the readings of the level sensor, the crystal diameter is calculated.

Сущность известного способа измерения диаметра заключается в том, что с помощью измерителя, установленного под некоторым углом к поверхности расплава, определяют положение границы между кристаллом и расплавом и одновременно посредством датчика уровня определяют уровень расплава и в соответствии с полученными значениями рассчитывают диаметр кристалла. The essence of the known method for measuring the diameter is that using a meter installed at a certain angle to the surface of the melt, determine the position of the boundary between the crystal and the melt and at the same time determine the melt level by means of a level sensor and calculate the crystal diameter in accordance with the obtained values.

Недостатком известного способа измерения диаметра кристалла является то, что в результате расчета диаметра возникают существенные погрешности или сбои. Это объясняется тем, что датчик уровня в независимости от принципа его действия работает ненадежно и не обеспечивает стабильных результатов, так как определение уровня расплава осуществляется в зоне, удаленной от границы между кристаллом и расплавом, и где при вращении тигля поверхность расплава принимает форму параболоида и на ней возникают волны. The disadvantage of this method of measuring the diameter of the crystal is that as a result of calculating the diameter, significant errors or malfunctions occur. This is explained by the fact that, regardless of the principle of its action, the level sensor does not work reliably and does not provide stable results, since the melt level is determined in the zone remote from the boundary between the crystal and the melt, and where the melt surface takes the form of a paraboloid and waves arise in it.

Целью настоящего изобретения является повышение надежности и точности измерения диаметра кристалла, а также возможность одновременно определять уровень расплава. The aim of the present invention is to increase the reliability and accuracy of measuring the diameter of the crystal, as well as the ability to simultaneously determine the level of the melt.

Сущность изобретения заключается в том, что с помощью измерителя, установленного под некоторым углом к расплаву, определяют положение границы между кристаллом и расплавом и одновременно определяют положение этой границы посредством другого идентичного измерителя, установленного в плоскости, проходящей через ось вращения кристалла и ось измерителя, и в соответствии с полученными данными рассчитывают диаметр кристалла и уровень расплава. The essence of the invention lies in the fact that using a meter installed at a certain angle to the melt, determine the position of the boundary between the crystal and the melt and at the same time determine the position of this border by another identical meter installed in a plane passing through the axis of rotation of the crystal and the axis of the meter, and in accordance with the data obtained, the crystal diameter and melt level are calculated.

На чертеже изображена схема предлагаемого способа измерения диаметра кристалла в ростовой установке. The drawing shows a diagram of the proposed method for measuring the diameter of the crystal in a growth installation.

В соответствии с предлагаемым способом посредством двух измерителей 1 и 2, выполненных, например, в виде оптических приборов с фотоприемными линейками и расположенных в вертикальной плоскости, проходящей через ось вращения кристалла 3, под разными углами к поверхности расплава 4, определяют положение границы E между кристаллом и расплавом в виде углов A и B (рад) и с учетом расстояний a и b (м) соответственно от измерителей 1 и 2 до оси вращения кристалла и расстояния c (м) между измерителями, измеренного в вертикальном направлении, определяют диаметр кристалла d (м) по формуле

Figure 00000002

Преимущество предложенного способа измерения диаметра кристалла в ростовой установке по сравнению с известным заключается в том, что измерение осуществляют только в зоне стабильного состояния расплава и поэтому повышаются как надежность, так и точность измерения диаметра кристалла.In accordance with the proposed method, by means of two meters 1 and 2, made, for example, in the form of optical devices with photodetector arrays and located in a vertical plane passing through the axis of rotation of the crystal 3, at different angles to the surface of the melt 4, determine the position of the boundary E between the crystal and the melt in the form of angles A and B (rad) and taking into account the distances a and b (m), respectively, from meters 1 and 2 to the axis of rotation of the crystal and the distance c (m) between the meters, measured in the vertical direction, determine the diameter crystal d (m) according to the formula
Figure 00000002

The advantage of the proposed method for measuring the diameter of a crystal in a growth installation compared to the known one is that the measurement is carried out only in the zone of a stable state of the melt and therefore both the reliability and accuracy of measuring the diameter of the crystal are increased.

Кроме того, предложенный способ измерения диаметра кристалла позволяет одновременно измерять и уровень расплава h (м), который может быть определен по формуле

Figure 00000003

Благодаря указанным достоинствам предлагаемый способ может быть применен в любой действующей ростовой установке для измерения диаметра кристалла и определения уровня расплава.In addition, the proposed method for measuring the diameter of the crystal allows you to simultaneously measure the melt level h (m), which can be determined by the formula
Figure 00000003

Due to these advantages, the proposed method can be applied in any existing growth installation for measuring the diameter of the crystal and determining the level of the melt.

В подтверждение корректности заявленных формул рассмотрим пример конкретного расчета по ним диаметра кристалла и уровня расплава. In confirmation of the correctness of the claimed formulas, we consider an example of a specific calculation of the crystal diameter and melt level.

Исходные данные для расчета:
1. Расстояния, характеризующие места расположения измерителей, a - 0,2 м, b - 0,3 м, c - 0,05 м.
The initial data for the calculation:
1. Distances characterizing the location of the meters, a - 0.2 m, b - 0.3 m, c - 0.05 m.

2. Углы A и B, величины которых определены посредством измерителей, A - 1,325818 рад, B - 1,144169 рад. 2. Angles A and B, the values of which are determined by means of measuring instruments, A - 1.325818 rad, B - 1.144169 rad.

Определяем диаметр кристалла d и уровень расплава h по формулам

Figure 00000004

Figure 00000005

После подстановки значений a, b, c, A и B получаем
Figure 00000006

Figure 00000007
оWe determine the crystal diameter d and the melt level h by the formulas
Figure 00000004

Figure 00000005

After substituting the values a, b, c, A and B, we obtain
Figure 00000006

Figure 00000007
about

Claims (1)

Способ измерения диаметра кристалла в ростовой установке, в котором с помощью измерителя, установленного под некоторым углом к расплаву, определяют положение границы между кристаллом и расплавом, отличающийся тем, что одновременно определяют положение границы между кристаллом и расплавом посредством другого измерителя, установленного в плоскости, проходящей через ось вращения кристалла и ось измерителя, и в соответствии с полученными данными рассчитывают диаметр кристалла d и уровень расплава h по формулам
Figure 00000008

Figure 00000009

где a, b, с - постоянные величины, характеризующие места расположения измерителей, м;
А и В - значения углов, снятых с измерителей и определяющих положение границы между кристаллом и расплавом, рад.
A method for measuring the diameter of a crystal in a growth installation, in which using the meter installed at a certain angle to the melt, determine the position of the boundary between the crystal and the melt, characterized in that at the same time determine the position of the boundary between the crystal and the melt by means of another meter installed in a plane passing through the axis of rotation of the crystal and the axis of the meter, and in accordance with the data obtained, calculate the diameter of the crystal d and the melt level h according to the formulas
Figure 00000008

Figure 00000009

where a, b, c are constant values characterizing the location of the meters, m;
A and B are the values of the angles taken from the meters and determining the position of the boundary between the crystal and the melt, rad.
RU98111901A 1998-06-16 1998-06-16 Method of measuring crystal diameter in crystal growth unit RU2176689C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU98111901A RU2176689C2 (en) 1998-06-16 1998-06-16 Method of measuring crystal diameter in crystal growth unit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU98111901A RU2176689C2 (en) 1998-06-16 1998-06-16 Method of measuring crystal diameter in crystal growth unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU98111901A RU98111901A (en) 2000-04-10
RU2176689C2 true RU2176689C2 (en) 2001-12-10

Family

ID=20207560

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU98111901A RU2176689C2 (en) 1998-06-16 1998-06-16 Method of measuring crystal diameter in crystal growth unit

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2176689C2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2227819C1 (en) * 2003-03-06 2004-04-27 Сидельников Сергей Алексеевич Method of control of level of melt in crucible in the course of crystal growth
RU2261298C2 (en) * 2003-10-27 2005-09-27 Институт автоматики и электрометрии Сибирского отделения Российской Академии наук (ИАиЭ СО РАН) Method of measuring crystal diameter in growth apparatus
RU2263165C1 (en) * 2004-03-22 2005-10-27 Институт автоматики и электрометрии Сибирского отделения Российской Академии наук (ИАиЭ СО РАН) Method of measurement of level of melt and diameter of crystal in crystal growth plant

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4350557A (en) * 1974-06-14 1982-09-21 Ferrofluidics Corporation Method for circumferential dimension measuring and control in crystal rod pulling
US4617173A (en) * 1984-11-30 1986-10-14 General Signal Corporation System for controlling the diameter of a crystal in a crystal growing furnace
US4794263A (en) * 1986-10-29 1988-12-27 Shinetsu Handotai Kabushiki Kaisha Apparatus for measuring crystal diameter
WO1998009007A1 (en) * 1996-08-30 1998-03-05 Sumitomo Metal Industries., Ltd. Method and apparatus for pulling single crystal

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4350557A (en) * 1974-06-14 1982-09-21 Ferrofluidics Corporation Method for circumferential dimension measuring and control in crystal rod pulling
US4617173A (en) * 1984-11-30 1986-10-14 General Signal Corporation System for controlling the diameter of a crystal in a crystal growing furnace
US4794263A (en) * 1986-10-29 1988-12-27 Shinetsu Handotai Kabushiki Kaisha Apparatus for measuring crystal diameter
WO1998009007A1 (en) * 1996-08-30 1998-03-05 Sumitomo Metal Industries., Ltd. Method and apparatus for pulling single crystal

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
КОЗЛОВСКИЙ Г.П. и др. Оптическое устройство контроля диаметра кристалла на установках "Редмет-8". Тр. Всесоюзного научно-исследовательского и конструкторского института "Цветметавтоматика". 1975, вып.8, с. 62-64. *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2227819C1 (en) * 2003-03-06 2004-04-27 Сидельников Сергей Алексеевич Method of control of level of melt in crucible in the course of crystal growth
RU2261298C2 (en) * 2003-10-27 2005-09-27 Институт автоматики и электрометрии Сибирского отделения Российской Академии наук (ИАиЭ СО РАН) Method of measuring crystal diameter in growth apparatus
RU2263165C1 (en) * 2004-03-22 2005-10-27 Институт автоматики и электрометрии Сибирского отделения Российской Академии наук (ИАиЭ СО РАН) Method of measurement of level of melt and diameter of crystal in crystal growth plant

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070182952A1 (en) Automatic collimation device for surveying apparatus
CN208254753U (en) A kind of device measuring bridge dynamic deflection
WO1993009407A1 (en) Method for liquid flow measuring and apparatus to practise this method
CN101472796A (en) Position detector
JP3347035B2 (en) Optical declination measuring device and underground excavator position measuring device
CN107014296A (en) Comprehensive inspection car OCS inspecting system high speed orientation triggering method and device
RU2176689C2 (en) Method of measuring crystal diameter in crystal growth unit
US4978221A (en) Laser distance and altitude measuring apparatus
CN109799078B (en) A device and method for measuring the focal length of a collimator by using moire fringe magnification
JP2001221636A (en) Three-dimensional coordinate measuring method and measuring device
RU2542292C2 (en) Method of measuring level of melt and rotational speed thereof when growing crystals
JPS61172032A (en) Optical raindrop and snow flake discrimination apparatus
JPH08210854A (en) Method for determining slant angle of coded level-surveying pole
RU2263165C1 (en) Method of measurement of level of melt and diameter of crystal in crystal growth plant
JP3009097B2 (en) Excavation direction control method and excavation direction display device
RU2281349C2 (en) Method for measuring melt level at growing crystals
JP3421922B2 (en) Alignment fluctuation measurement device
JP3239682B2 (en) Segment position measurement method
CN113238242A (en) Self-adaptive constant gain laser scanning range finder
RU2208166C1 (en) Device for determination of tunneling shield position
JPH04300283A (en) Method for measuring liquid surface level in cz method
CN220795465U (en) Laser radar course angle detection device
RU2261298C2 (en) Method of measuring crystal diameter in growth apparatus
SU1753273A1 (en) Device for determining coordinates of object
JPH0446371B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20100617