RU2154570C1

RU2154570C1 - Method of manufacturing electric shaver cutter-screen

Info

Publication number: RU2154570C1
Application number: RU99123341A
Authority: RU
Inventors: В.Н. Савкин; Ю.И. Пинус; В.В. Голюсов; В.С. Кабанов; Г.С. Опитин; Р.Ф. Пятибрат; О.В. Шубин
Original assignee: Общество с ограниченной ответственностью "Камир-М"
Priority date: 1999-11-04
Filing date: 1999-11-04
Publication date: 2000-08-20

Abstract

FIELD: mechanical engineering. SUBSTANCE: method includes screen electroforming in electrolyte with current density applied to matrix of 2-20 A/sq. dm and temperature of 40-60 C. Cathode is used in the form of matrix formed on textured substrate foiled with copper by application of photoresist in the form of dielectric to foil. Photoresist is exposed by mask with subsequent development and fixation. Produced perforations of photoresist are filled with successive layers of copper and nickel with formations of protrusions to which conducting layer is applied. Substrate is made of dielectric material. Texture of substrate showing-through metal layer to screen cutter is selected either latticed or with longitudinal, or transverse, or inclined lines. Matrix is given rocking or rotary motion. Anode is used either in the form of nickel plate, or bulk nickel, or nickel or cobalt. EFFECT: higher adaptability to manufacture; increased efficiency; reduced losses of nickel. 11 cl, 6 dwg

Description

Изобретение относится к легкой промышленности, а именно к производству ножей - сеток для электробритвы. The invention relates to light industry, namely to the production of knives - nets for electric shavers.

Известен способ изготовления лезвия бритвы с множеством отверстий, кромки которых заострены с применением штамповочного оборудования (RU 2119424 C1, 27.09.1998). A known method of manufacturing a razor blade with many holes, the edges of which are pointed using stamping equipment (RU 2119424 C1, 09.27.1998).

Однако такой способ требует дополнительного заострения кромок и последующей механической доводки лезвий бритвы. However, this method requires additional sharpening of the edges and subsequent mechanical fine-tuning of the razor blades.

Известен гальванопластический способ изготовления перфорированной режущей фольги путем осаждения никеля на матрицу с предварительно нанесенным слоем олова (SU 289621 A, 08.12.1970). Known electroforming method for the manufacture of perforated cutting foil by deposition of Nickel on a matrix with a pre-deposited tin layer (SU 289621 A, 08/08/1970).

Данный способ не позволяет получить нож-сетку для электробритвы. This method does not allow to obtain a knife-mesh for electric shavers.

Известны различные гальванопластические способы изготовления плоских перфорированных деталей (SU 618457 A, 05.08.1978, 789637 A, 23.12.1980, 876796 A, 30.10.1981). Однако они не пригодны для получения ножа-сетки для электробритвы. Various galvanoplastic methods for manufacturing flat perforated parts are known (SU 618457 A, 08/05/1978, 789637 A, 12/23/1980, 876796 A, 10/30/1981). However, they are not suitable for obtaining a mesh knife for electric shavers.

Известны способы изготовления матриц для гальванопластического формирования изделий (RU 2021395 C1, 15.10.1994, 2050423 C1, 20.12.1995, 2102536 C1, 20.01.1998). Однако во всех этих патентах используется токопроводящее основание либо из чистого металла, либо из металла с диэлектриком. Known methods for the manufacture of matrices for electroforming products (RU 2021395 C1, 10/15/1994, 2050423 C1, 12/20/1995, 2102536 C1, 01/20/1998). However, all of these patents use a conductive base of either pure metal or dielectric metal.

Известен гальванопластический способ изготовления многослойных матриц для прецизионных сит (SU 1788095 A1, 15.01.1993). Такая матрица, как и многие другие, не эффективна для получения ножа-сетки для электробритвы, так как в качестве матрицы используются стали марки 10Х1АГ или другие стали. Known electroforming method for the manufacture of multilayer matrices for precision sieves (SU 1788095 A1, 01/15/1993). Such a matrix, like many others, is not effective for obtaining a mesh knife for an electric shaver, since 10Kh1AG or other steel grades are used as a matrix.

Наиболее близким аналогом является способ изготовления ножа-сетки электробритвы, включающий электроформование ее в электролите под током на матрице (FR 2267187 A1, 12.12.1975). The closest analogue is a method of manufacturing an electric razor knife-mesh, including electroforming it in an electrolyte under current on a matrix (FR 2267187 A1, 12.12.1975).

Однако данный способ не устраняет перечисленные выше недостатки. However, this method does not eliminate the above disadvantages.

Задачей изобретения является разработка способа получения ножа-сетки электробритвы, при использовании которого повышается технологичность и производительность изготовления, улучшаются условия труда за счет снижения веса, уменьшается материалоемкость и снижаются потери таких дорогостоящих материалов как никель и другие, а также обеспечивается возможность независимого регулирования процесса электроформования изделия, путем изменения электрического потенциала на катоде, а также получение изделия с отличительным визуальным признаком. The objective of the invention is to develop a method for producing a mesh knife of an electric razor, using which increases manufacturability and manufacturing productivity, working conditions are improved due to weight reduction, material consumption is reduced and losses of such expensive materials as nickel and others are reduced, and it is also possible to independently control the electroforming of the product by changing the electric potential at the cathode, as well as obtaining a product with a distinctive visual sign ohm

Этот технический результат в способе изготовления ножа-сетки электробритвы, включающий электроформование ее в электролите под током на матрице, достигается тем, что электроформование производят при плотности тока Дк = 2-20 А/дм² и температуре T = 40-60^oC, а в качестве катода используют комбинированную матрицу, сформированную на фольгированной медью текстурированной подложке, путем нанесения фоторезиста-диэлектрика, выполненного из материала с амортизирующими свойствами, на фольгу любым известным способом, экспонирования его по перфорированному фотошаблону контактным методом с последующим проявлением и закреплением изображения, после чего производят заполнение перфораций фоторезиста последовательными слоями меди и никеля с образованием над поверхностью фоторезиста выступов, на которые наносят разделительный токопроводящий слой, причем текстуру подложки, проступающую через слой металла на нож-сетку, выбирают либо сетчатой, либо с продольными, либо с поперечными, либо с наклонными линиями, при этом матрице сообщают либо качательное, либо вращательное движение, а в качестве анода используют либо никель, либо насыпной никель, либо никель и кобальт, причем площадь матрицы Sм выбирается по соотношению к площади пластины Sа как Sм : Sa = 0,25-0,5. Подложка выполнена из диэлектрического материала в виде последовательных слоев либо стеклоткани, либо бумаги или ткани со смолами. Толщина слоя фольгированной меди выбирается в пределах B = 5-50 мкм, при этом соотношение толщины подложки к толщине фольги определяется по выражению: C : B = 20-1000, где C - толщина подложки, B - толщина фольги. Фольгированную медью подложку обрабатывают в термостате под давлением не менее P = 0,3-0,5 кг/см² при температуре T = 60-140^oC с медленным охлаждением, после чего фольгированный слой меди последовательно обрабатывают раствором аммония надсернокислого в течении 0,1-3 мин, с дальнейшей гидроабразивной очисткой и окончательной зачисткой капроновыми щетками. Нанесение фоторезиста-диэлектрика производят например, сухой пленочный фоторезист, ламинированием при T = 70-120^oC и давлении P = 3-5 бар, а экспонирование его производят освещенностью не менее 35•10³ лк в течение 0,1-3 мин, с проявлением изображения в растворе кальцинированной соды в течение 0,3-2,5 мин и последовательными очисткой и закреплением. Заполнение перфорации фоторезиста производят в электролите под током, причем первоначальный слой меди формируют при плотности тока Дк = 0,5-6 А/дм², а покрытие блестящим никелем производят при плотности тока Дк = 1,5-10 А/дм² и T = 30-60^oC. Матрицу формируют с двух сторон подложки, снабженной слоями фольгированной меди. Перфорация фотошаблона может быть либо круглой, либо овальной, либо в виде многоугольника. Высота выступов над поверхностью фоторезиста выбирается в пределах 10-30 мкм. Разделительный токопроводящий слой формируют либо путем образования окисной пленки, либо гальваническим путем. Толщину фоторезиста-диэлектрика выбирают в пределах H = 5-50 мкм, при этом соотношение толщины фольги к толщине фоторезиста определяется по выражению: B : H = 0,1-10, где B - толщина фольги, H - толщина фоторезиста.This technical result in a method of manufacturing a razor knife-grid, including electroforming it in an electrolyte under current on a matrix, is achieved by electroforming at a current density of Dk = 2-20 A / dm ² and a temperature of T = 40-60 ^o C, and as a cathode, a combined matrix is used, formed on a copper foil textured substrate, by applying a photoresist dielectric made of a material with cushioning properties onto the foil by any known method, exposing it to perforate to the given photomask by the contact method, followed by the development and fixing of the image, after which the perforations of the photoresist are filled with successive layers of copper and nickel with the formation of protrusions over the photoresist surface, onto which a separating conductive layer is applied, and the substrate texture emerging through the metal layer on the knife mesh is selected either mesh, or with longitudinal, or with transverse, or with oblique lines, while the matrix is reported either rocking or rotational movement, and as The anodes use either nickel or bulk nickel, or nickel and cobalt, and the area of the matrix Sm is selected by the ratio to the area of the plate Sа as Sm: Sa = 0.25-0.5. The substrate is made of dielectric material in the form of successive layers of either fiberglass or paper or fabric with resins. The thickness of the layer of foil copper is selected within B = 5-50 μm, while the ratio of the thickness of the substrate to the thickness of the foil is determined by the expression: C: B = 20-1000, where C is the thickness of the substrate, B is the thickness of the foil. The foil-coated copper substrate is treated in a thermostat under a pressure of at least P = 0.3-0.5 kg / cm ² at a temperature of T = 60-140 ^° C with slow cooling, after which the foil layer of copper is successively treated with a solution of ammonium sulfate for 0, 1-3 min, with further waterjet cleaning and final cleaning with nylon brushes. The photoresist dielectric is applied, for example, by dry film photoresist, by lamination at T = 70-120 ^o C and pressure P = 3-5 bar, and exposure is performed by illumination of at least 35 • 10 ³ lux for 0.1-3 min, with the manifestation of the image in a solution of soda ash for 0.3-2.5 minutes and subsequent cleaning and fixing. The perforation of the photoresist is filled in an electrolyte under current, the initial copper layer being formed at a current density of Dk = 0.5-6 A / dm ² , and the coating with brilliant nickel is produced at a current density of Dk = 1.5-10 A / dm ² and T = 30-60 ^o C. the Matrix is formed on both sides of the substrate, provided with layers of foil copper. The perforation of the photomask can be either round, or oval, or in the form of a polygon. The height of the protrusions above the surface of the photoresist is selected in the range of 10-30 microns. The separation conductive layer is formed either by the formation of an oxide film, or galvanically. The thickness of the dielectric photoresist is selected within the range of H = 5-50 μm, and the ratio of the foil thickness to the thickness of the photoresist is determined by the expression: B: H = 0.1-10, where B is the foil thickness, H is the thickness of the photoresist.

На фиг. 1 представлена общая схема гальванопластического формования ножа-сетки электробритвы; на фиг. 2, 3, 4, 5 - этапы формирования матрицы для производства ножа-сетки электробритвы; на фиг. 5 - электроформование ножа-сетки; на фиг. 6 - нож-сетка, готовое изделие. In FIG. 1 is a general diagram of the electroforming of a razor knife-mesh; in FIG. 2, 3, 4, 5 - the steps of forming a matrix for the production of a razor knife-mesh; in FIG. 5 - electroforming of a mesh knife; in FIG. 6 - mesh knife, finished product.

Способ осуществляется следующим образом. Перед электроформированием ножа-сетки в электролите изготавливают матрицу, с помощью которой производят готовую продукцию. Для решения поставленной задачи матрица должна обеспечить качественное получение ножа-сетки, при этом сама матрица не должна подвергаться разрушению при длительном ее использовании в электролите, не взаимодействовать с ним и химически не загрязнять его. Таким требованиям соответствует матрица, формирование которой описано ниже. Диэлектрическая подложка 1 выполнена из последовательно соединенных посредством смол слоев либо стеклоткани, либо бумаги, либо ткани. Такая подложка обеспечивает жесткость и прочность матрице. Каждый из перечисленных материалов имеет определенную структуру, которая проявляется на готовом изделии. В зависимости от необходимости выбирают ту или иную текстуру - либо сетчатую, либо с продольными, либо с поперечными линиями, либо имеющую другой узор. Сформированную подложку фольгируют слоем меди 2, причем слой меди выбирают в пределах B = 5-50 мкм, при этом соотношение толщины подложки к толщине фольги определяется по выражению: C : B = 20-1000, где C - толщина подложки, B - толщина фольги. Подложка может быть фольгирована как с одной стороны, так и с двух, что повышает производительность изготовления ножей - сетки. Полученный таким образом листовой материал разрезают на заготовки в размер матрицы, который соответствует размеру готового изделия. Полученные заготовки подвергают термообработке при T = 60-140^oC и давлении не менее P = 0,3-0,5 кг/см², в течение t = 0,5-1 час с последующим медленным охлаждением. Затем обрабатывают фольгированную поверхность заготовок в растворе аммония надсернокислого (NH₄)₂S₂O₂ в течение 0,1-3 мин. При температуре T = 18-25^oC и производят последующую гидроабразивную очистку струей воды с абразивом из молотой пензы под давлением струи воды P = 0,3 МПА в течение 0,2-3 мин, и снимают заусенцы щетками в струе воды с молотой пензой, при этом давление струи воды P = 0,15 МПА в течение 0,3-3 мин. На обработанные поверхности заготовок наносят фоторезист-диэлектрик 3 любым известным способом, например, сухой пленочный фоторезист наносят ламинированием под давлением P = 3-5 бар, предварительно нагрев заготовки до температуры T = 70-120^oC. Толщину сухого пленочного фоторезиста выбирают в пределах H = 5-50 мкм, при этом соотношение толщины фольги к толщине фоторезиста определяется по выражению: B : H = 0,1-10, где B - толщина фольги, H - толщина фоторезиста. Перфорации фотошаблона могут быть различными либо круглыми, либо овальными, либо в виде многоугольника. Экспонируют фоторезист по фотошаблону 4 контактным методом, с последовательным проявлением и закреплением изображения. Например, сухой пленочный фоторезист экспонируют при освещенности 35•10³ лк в течение 0,1-3 мин, а проявление изображения производят в растворе кальцинированной соды Na₂CO₃ в течение 0,3-2,5 мин, с последующей очисткой полученной поверхности щетками из капрона под струей воды с молотой пемзой при давлении струи воды P = 0,15 МПА в течение 0,3-3 мин, закрепление изображения производят в термостате при температуре T = 80-110^oC в течение 0,2-0,5 час. В результате проведенных операций получены перфорации в фоторезисте, которые заполняют последовательными слоями меди и никеля с образованием над поверхностью фоторезиста выступов 5, высота которых выбирается в пределах 10-30 мкм. Слои меди и никеля формируют в электролите под током, причем первоначальный слой меди формируют при плотности тока Дк = 0,5-6 А/дм², а покрытие блестящим никелем производят при плотности тока Дк = 1,5-10 А/дм² и температуре 30-60^oC. На поверхность образованных выступов 5 наносят разделительный токопроводящий слой либо путем образования окисной пленки в растворе бихромата калия, либо гальваническим путем.The method is as follows. Before electroforming the knife-grid in the electrolyte, a matrix is made with the help of which the finished product is produced. To solve this problem, the matrix must ensure the quality of the knife-net, while the matrix itself should not be destroyed during prolonged use in the electrolyte, not interact with it and not chemically contaminate it. These requirements are met by the matrix, the formation of which is described below. The dielectric substrate 1 is made of layers of either fiberglass, paper, or fabric connected in series by means of resins. Such a substrate provides rigidity and strength to the matrix. Each of the listed materials has a certain structure, which is manifested on the finished product. Depending on the need, one or another texture is chosen - either mesh, or with longitudinal, or with transverse lines, or having a different pattern. The formed substrate is foiled with a copper layer 2, and the copper layer is selected within B = 5-50 μm, while the ratio of the thickness of the substrate to the thickness of the foil is determined by the expression: C: B = 20-1000, where C is the thickness of the substrate, B is the thickness of the foil . The substrate can be foil both on one side and on two, which increases the productivity of the manufacture of knives - mesh. Thus obtained sheet material is cut into blanks in the size of the matrix, which corresponds to the size of the finished product. The resulting preforms are subjected to heat treatment at T = 60-140 ^o C and a pressure of at least P = 0.3-0.5 kg / cm ² for t = 0.5-1 hour, followed by slow cooling. Then, the foil surface of the preforms is treated in a solution of ammonium sulfate (NH ₄ ) ₂ S ₂ O ₂ for 0.1-3 minutes. At a temperature of T = 18-25 ^o C and subsequent water-jet cleaning is carried out with a jet of water with an abrasive from ground penza under a pressure of a stream of water P = 0.3 MPA for 0.2-3 minutes, and the burrs are removed with brushes in a stream of water with ground foam while the pressure of the water jet P = 0.15 MPA for 0.3-3 minutes A photoresist dielectric 3 is applied onto the treated surfaces of the preforms by any known method, for example, a dry film photoresist is applied by lamination under a pressure of P = 3-5 bar, pre-heating the preform to a temperature of T = 70-120 ^o C. The thickness of the dry film photoresist is selected within H = 5-50 μm, while the ratio of the thickness of the foil to the thickness of the photoresist is determined by the expression: B: H = 0.1-10, where B is the thickness of the foil, H is the thickness of the photoresist. Perforations of the photo template can be different either round, or oval, or in the form of a polygon. A photoresist is exposed using a photo mask 4 using the contact method, with sequential development and fixing of the image. For example, a dry film photoresist is exposed under illumination of 35 • 10 ³ lux for 0.1-3 minutes, and the image is developed in a solution of soda ash Na ₂ CO ₃ for 0.3-2.5 minutes, followed by cleaning the resulting surface with kapron brushes under a stream of water with pumice powder at a pressure of a stream of water P = 0.15 MPA for 0.3-3 minutes, the image is fixed in a thermostat at a temperature of T = 80-110 ^o C for 0.2-0, 5 hours As a result of the operations, perforations in the photoresist are obtained, which are filled with successive layers of copper and nickel with the formation of protrusions 5 above the surface of the photoresist, the height of which is selected in the range of 10-30 μm. Layers of copper and nickel are formed in the electrolyte under current, and the initial copper layer is formed at a current density of Dk = 0.5-6 A / dm ² , and a coating of brilliant nickel is produced at a current density of Dk = 1.5-10 A / dm ² and a temperature of 30-60 ^o C. On the surface of the formed protrusions 5 put a separation conductive layer either by the formation of an oxide film in a solution of potassium dichromate, or galvanically.

Полученную описанным способом матрицу используют в производстве ножа-сетки электробритвы. Несколько матриц объединяют в одну общую панель, что также повышает производительность получения готовой продукции. Панель, сформированную из матриц, опускают в электролит, состоящий из водного раствора солей никеля, или никеля и кобальта в зависимости от заданного материала ножа-сетки. В электролит введены добавки, влияющие на электрохимический процесс и на формирование структуры металла изделия. Матрицу используют в качестве катода, к нему подводят отрицательный потенциал, на ней осаждаются положительно заряженные ионы металлов из электролита, через который пропускают постоянный электрический ток. В качестве анода используют либо пластины из никеля, либо насыпной никель, либо никель и кобальт. Матрицу в электролите располагают напротив анода, при этом площадь матрицы Sм (катода) выбирается в зависимости от площади анода Sa как Sм : Sa = 0,25-0,5. Процесс электролиза протекает при следующих режимах: плотность тока на матрице (катоде) Дк = 2-20 А/дм², и T = 40-60^oC. Плотность тока зависит от состава электролита. В процессе электролиза необходимо непрерывное его перемешивание, фильтрация и селективная проработка, а также качание или вращение матрицы для удаления с нее пузырьков водорода, выделяющихся при электролизе. В процессе электролиза металл осаждается на выступах 5, при этом режущая кромка (футерка) 6 формируется на фоторезисте за счет бокового роста кристаллизации. Текстура подложки проступает на перемычки 7 ножа-сетки через выступы 5 и не проявляется на режущих кромках (футерках) за счет амортизирующих свойств материала фоторезиста. При достижении необходимой толщины изделия 50-70 мкм по футерке матрицу извлекают из электролита. Далее ее промывают в воде и снимают готовое изделие нож-сетку. При использовании разделительного слоя в виде окисной пленки, ее каждый раз обновляют в растворе бихромата калия.The matrix obtained by the described method is used in the manufacture of a razor knife-mesh. Several matrices are combined into one common panel, which also increases the productivity of obtaining finished products. A panel formed of matrices is dipped into an electrolyte consisting of an aqueous solution of nickel salts, or nickel and cobalt, depending on the specified material of the mesh knife. Additives are introduced into the electrolyte that affect the electrochemical process and the formation of the metal structure of the product. The matrix is used as a cathode, a negative potential is supplied to it, positively charged metal ions are deposited on it from the electrolyte, through which a constant electric current is passed. Either nickel plates or bulk nickel, or nickel and cobalt are used as the anode. The matrix in the electrolyte is placed opposite the anode, while the area of the matrix Sm (cathode) is selected depending on the area of the anode Sa as Sm: Sa = 0.25-0.5. The electrolysis process proceeds under the following conditions: current density on the matrix (cathode) Dk = 2-20 A / dm ² , and T = 40-60 ^o C. The current density depends on the composition of the electrolyte. In the process of electrolysis, it is necessary to continuously mix, filter and selectively study it, as well as swing or rotate the matrix to remove hydrogen bubbles released from it during electrolysis. In the process of electrolysis, the metal is deposited on the protrusions 5, while the cutting edge (lining) 6 is formed on the photoresist due to lateral growth of crystallization. The texture of the substrate emerges on the jumper 7 of the mesh knife through the protrusions 5 and does not appear on the cutting edges (liners) due to the cushioning properties of the photoresist material. Upon reaching the required thickness of the product 50-70 μm along the lining, the matrix is removed from the electrolyte. Then it is washed in water and the finished product is removed knife-mesh. When using a separation layer in the form of an oxide film, it is updated each time in a solution of potassium dichromate.

При производстве ножей-сеток для электробритв вышеописанным способом с использованием предложенной матрицы повышается технологичность изготовления ножа-сетки на всех стадиях, за счет уменьшения материалоемкости и снижения веса матрицы. Благодаря тому, что матрица сформирована на фольгированной медью диэлектрической подложке, обеспечивается быстрый прогрев ее поверхности, обеспечивается хорошая адгезия при нанесении фоторезиста-диэлектрика и малое электрическое сопротивление, что позволяет работать при плотностях тока до Дк = 20 А/дм², обеспечивается также хорошая способность к травлению и механической обработке. Использование двусторонней матрицы обеспечивает возможность независимой регулировки плотности тока для каждой стороны матрицы-катода. Изготовленная данным способом нож-сетка имеет отличительный признак - декор поверхности, делающий ее узнаваемой среди других аналогов.In the manufacture of mesh knives for electric razors in the above-described manner using the proposed matrix, the manufacturability of the mesh knife at all stages is increased by reducing material consumption and reducing the weight of the matrix. Due to the fact that the matrix is formed on a dielectric substrate foiled with copper, its surface is quickly heated, good adhesion when applying a photoresist-dielectric and low electrical resistance is ensured, which allows working at current densities up to Dc = 20 A / dm ² , and good ability is also provided to pickling and machining. The use of a two-sided matrix allows independent adjustment of the current density for each side of the matrix-cathode. The knife-mesh made in this way has a distinctive feature - surface decor, which makes it recognizable among other analogues.

Claims

1. A method of manufacturing a razor knife-grid, including electroforming it in an electrolyte under current on a matrix, characterized in that the electroforming is performed at a current density of Dk = 2 - 20 A / dm ² and a temperature of 40 - 60 ^o C, and use as a cathode a combined matrix formed on a copper foil textured substrate by applying a photoresist made of a material with cushioning properties to the foil, exposing it by a perforated photo mask with subsequent development and fixing image of the image, after which the perforations of the photoresist are filled with successive layers of copper and nickel with the formation of protrusions above the surface of the photoresist, on which a separating conductive layer is applied, and the texture of the substrate that exits through the metal layer onto the knife-mesh is either mesh or longitudinal, or with transverse or with inclined lines, in this case either the oscillating or rotational motion is reported to the matrix, and nickel, or nickel and cobalt are used as the anode.

2. The method according to claim 1, characterized in that the substrate is made of a dielectric material in the form of successive layers, or fiberglass, or paper or fabric with resins.

3. The method according to claim 1, characterized in that the thickness of the layer of foil copper is selected within B = 5 - 50 μm, while the ratio of the thickness of the substrate to the thickness of the foil is determined by the expression C: B = 20 - 1000, where C is the thickness of the substrate ; B is the thickness of the foil.

4. The method according to claim 1, characterized in that the copper foil substrate is treated in a thermostat under a pressure of at least P = 0.3 - 0.5 kg / cm ² at T = 60 - 110 ^o C with slow cooling, followed by foil the copper layer is sequentially treated with a solution of ammonium sulfate for 0.1 to 3 minutes, with further waterjet cleaning and final cleaning with nylon brushes.

5. The method according to claim 1, characterized in that the application of a photoresist made of a material with shock-absorbing properties, for example, produce a dry film photoresist - at T = 70 - 120 ^o C and pressure P = 3 - 5 bar, and exposing it produce illumination of at least 35 • 10 ³ lux for 0.1 - 3 minutes, with the manifestation of the image and subsequent cleaning and fixing.

6. The method according to claim 1, characterized in that the perforation of the photoresist is filled in an electrolyte under current, the initial copper layer being formed at a current density of Dk = 0.5 - 6 A / dm ² , and the coating with brilliant nickel is produced at a current density of Dk = 1.5 - 10 A / dm ² and T = 30 - 60 ^o C.

7. The method according to claim 1, characterized in that the matrix is formed on both sides of the substrate, provided with layers of foil copper.

8. The method according to claim 1, characterized in that the perforation of the photomask can be either round, or oval, or in the form of a polygon.

9. The method according to claim 1, characterized in that the height of the protrusions above the surface of the photoresist is selected in the range of 10-30 microns.

10. The method according to claim 1, characterized in that the separation of the conductive layer is formed either by the formation of an oxide film or galvanically.

11. The method according to p. 1, characterized in that the thickness of the photoresist made of a material with shock-absorbing properties is selected within the range of H = 20-50 microns, while the ratio of the thickness of the foil to the thickness of the photoresist is determined by the expression B: H = 0.1 - 3, where B is the thickness of the foil; H is the thickness of the photoresist.