[go: up one dir, main page]

RU2010107275A - Способ получения высокочистого элементного кремния - Google Patents

Способ получения высокочистого элементного кремния Download PDF

Info

Publication number
RU2010107275A
RU2010107275A RU2010107275/05A RU2010107275A RU2010107275A RU 2010107275 A RU2010107275 A RU 2010107275A RU 2010107275/05 A RU2010107275/05 A RU 2010107275/05A RU 2010107275 A RU2010107275 A RU 2010107275A RU 2010107275 A RU2010107275 A RU 2010107275A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
earth metal
alkaline earth
alkali
silicon
chloride salt
Prior art date
Application number
RU2010107275/05A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2451635C2 (ru
Inventor
Эндрю МАТЕСОН (US)
Эндрю МАТЕСОН
Джон В. КЁНИТЦЕР (US)
Джон В. КЁНИТЦЕР
Original Assignee
Бостон Силикон Матириалз Ллк (Us)
Бостон Силикон Матириалз Ллк
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Бостон Силикон Матириалз Ллк (Us), Бостон Силикон Матириалз Ллк filed Critical Бостон Силикон Матириалз Ллк (Us)
Publication of RU2010107275A publication Critical patent/RU2010107275A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2451635C2 publication Critical patent/RU2451635C2/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/027Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material
    • C01B33/033Preparation by decomposition or reduction of gaseous or vaporised silicon compounds other than silica or silica-containing material by reduction of silicon halides or halosilanes with a metal or a metallic alloy as the only reducing agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

1. Способ получения высокочистого элементного кремния, содержащий следующие стадии: ! (a) загрузка в первый реакционный аппарат жидкого тетрахлорида кремния и щелочного или щелочноземельного металлического восстанавливающего агента в жидкой форме при температурах ниже температуры кипения данного щелочного или щелочноземельного металла, в результате чего получают смесь хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла и элементного кремния, и ! (b) отделение хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла от элементного кремния во втором реакционном аппарате. ! 2. Способ по п.1, дополнительно содержащий предварительную стадию, которую проводят перед стадией (а), на которой осуществляют хлорирование кремнийсодержащего материала с образованием жидкого тетрахлорида кремния. ! 3. Способ по п.1 или 2, в котором смесь хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла и элементного кремния разделяют путем нагрева второго реакционного аппарата до температуры выше температуры кипения хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла. ! 4. Способ по п.3, в котором смесь хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла и элементного кремния разделяют с использованием воды для растворения хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла во втором реакционном аппарате. ! 5. Способ по п.3, в котором смесь хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла и элементного кремния разделяют путем нагрева второго реакционного аппарата до температур в диапазоне от 600°С до температуры кипения хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла с применением вакуума ниже 100 мкм с �

Claims (13)

1. Способ получения высокочистого элементного кремния, содержащий следующие стадии:
(a) загрузка в первый реакционный аппарат жидкого тетрахлорида кремния и щелочного или щелочноземельного металлического восстанавливающего агента в жидкой форме при температурах ниже температуры кипения данного щелочного или щелочноземельного металла, в результате чего получают смесь хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла и элементного кремния, и
(b) отделение хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла от элементного кремния во втором реакционном аппарате.
2. Способ по п.1, дополнительно содержащий предварительную стадию, которую проводят перед стадией (а), на которой осуществляют хлорирование кремнийсодержащего материала с образованием жидкого тетрахлорида кремния.
3. Способ по п.1 или 2, в котором смесь хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла и элементного кремния разделяют путем нагрева второго реакционного аппарата до температуры выше температуры кипения хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла.
4. Способ по п.3, в котором смесь хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла и элементного кремния разделяют с использованием воды для растворения хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла во втором реакционном аппарате.
5. Способ по п.3, в котором смесь хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла и элементного кремния разделяют путем нагрева второго реакционного аппарата до температур в диапазоне от 600°С до температуры кипения хлоридной соли щелочного или щелочноземельного металла с применением вакуума ниже 100 мкм с целью удаления соли щелочного или щелочноземельного металла.
6. Способ по п.3, в котором щелочным или щелочноземельным металлическим восстанавливающим агентом являются натрий, калий, магний, кальций или комбинация из двух или более этих металлов.
7. Способ по п.3, в котором щелочным или щелочноземельным металлическим восстанавливающим агентом является металлический натрий.
8. Способ по п.1 или 2, в котором очистку элементного кремния полностью осуществляют в первом реакционном аппарате.
9. Способ по п.1 или 2, в котором очистку элементного кремния частично осуществляют в первом реакционном аппарате, а завершающую очистку производят во втором аппарате.
10. Материал элементного кремния, полученный способом по п.1 или 2, в котором чистота кремния лежит в пределах от 99,99% до 99,9999%.
11. Материал элементного кремния по п.10, в котором материал содержит кремний при суммарном уровне бора и фосфора в пределах от менее 10 ч./млн до менее 0,0001 ч./млн.
12. Слиток кремния, полученный из материала по п.10, изготовленный способом разливки материала элементного кремния.
13. Слиток кремния по п.12, в котором способ разливки выбирают из вакуумно-дуговой переплавки и электронно-лучевой плавки.
RU2010107275/05A 2007-08-01 2008-07-31 Способ получения высокочистого элементного кремния RU2451635C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US95345007P 2007-08-01 2007-08-01
US60/953,450 2007-08-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2010107275A true RU2010107275A (ru) 2011-09-10
RU2451635C2 RU2451635C2 (ru) 2012-05-27

Family

ID=40304870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010107275/05A RU2451635C2 (ru) 2007-08-01 2008-07-31 Способ получения высокочистого элементного кремния

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20100154475A1 (ru)
EP (1) EP2173658A4 (ru)
JP (1) JP2010535149A (ru)
CN (1) CN101801847A (ru)
AU (1) AU2008282166A1 (ru)
BR (1) BRPI0814309A2 (ru)
RU (1) RU2451635C2 (ru)
WO (1) WO2009018425A1 (ru)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2408714A1 (en) * 2009-03-20 2012-01-25 Boston Silicon Materials LLC Method for the manufacture of photovoltaic grade silicon metal
WO2011009017A2 (en) * 2009-07-17 2011-01-20 Boston Silicon Materials Llc Process for the formation of silicon metal sheets
WO2012158600A1 (en) * 2011-05-16 2012-11-22 Boston Silicon Materials, Llc Manufacturing and applications of silicon metal
SG2014013692A (en) 2011-08-26 2014-05-29 Consarc Corp Purification of a metalloid by consumable electrode vacuum arc remelt process
CN102923747A (zh) * 2012-11-28 2013-02-13 东北大学 一种利用煤矸石生产氯化铝、氯化硅和氯化铁的方法
US9656243B2 (en) * 2013-07-10 2017-05-23 The Penn State Research Foundation Mesoporous silicon synthesis and applications in Li-ion batteries and solar hydrogen fuel cells
CN108622882B (zh) * 2017-03-18 2022-02-18 深圳格林德能源集团有限公司 一种石墨烯的液相共沉积制备方法
US10683279B2 (en) 2017-05-12 2020-06-16 Enanta Pharmaceuticals, Inc. Apoptosis signal-regulating kinase 1 inhibitors and methods of use thereof
RU2729691C2 (ru) * 2018-12-05 2020-08-11 ООО "Современные химические и металлургические технологии" (ООО "СХИМТ") Способ алюмотермического получения металлических порошков и устройство для его осуществления

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1858100A (en) * 1928-07-23 1932-05-10 Internat Silica Corp Process of treating silica-bearing materials
DE1030816B (de) * 1953-11-10 1958-05-29 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung reinsten Siliziums oder Germaniums oder anderer Halbleiterstoffe
NL101577C (ru) * 1957-12-31 1900-01-01
US4102767A (en) * 1977-04-14 1978-07-25 Westinghouse Electric Corp. Arc heater method for the production of single crystal silicon
US4150248A (en) * 1978-03-09 1979-04-17 Westinghouse Electric Corp. Arc heater with silicon lined reactor
US4188368A (en) * 1978-03-29 1980-02-12 Nasa Method of producing silicon
US4237103A (en) * 1978-06-29 1980-12-02 Combustion Engineering, Inc. Method for disposal of sodium waste material
US4239740A (en) * 1979-05-25 1980-12-16 Westinghouse Electric Corp. Production of high purity silicon by a heterogeneous arc heater reduction
US5021221A (en) * 1980-10-20 1991-06-04 Aero Chem Research Lab., Inc. Apparatus for producing high purity silicon from flames of sodium and silicon tetrachloride
CA1198581A (en) * 1980-10-20 1985-12-31 Robert K. Gould Method and apparatus for producing high purity silicon from flames of sodium and silicon tetrachloride
US4446120A (en) * 1982-01-29 1984-05-01 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Method of preparing silicon from sodium fluosilicate
US4781565A (en) * 1982-12-27 1988-11-01 Sri International Apparatus for obtaining silicon from fluosilicic acid
US4748014A (en) * 1982-12-27 1988-05-31 Sri International Process and apparatus for obtaining silicon from fluosilicic acid
US4590043A (en) * 1982-12-27 1986-05-20 Sri International Apparatus for obtaining silicon from fluosilicic acid
FI72952C (fi) * 1985-03-11 1987-08-10 Kemira Oy Foerfarande foer framstaellning av kisel.
US4676968A (en) * 1985-07-24 1987-06-30 Enichem, S.P.A. Melt consolidation of silicon powder
JP3844856B2 (ja) * 1997-09-11 2006-11-15 住友チタニウム株式会社 高純度シリコンの製造方法
JP3218016B2 (ja) * 1998-09-17 2001-10-15 日本碍子株式会社 高純度シリコン及び高純度チタンの製造法
RU2181104C2 (ru) * 2000-02-03 2002-04-10 Государственное унитарное предприятие Государственный научный центр Российской Федерации Физико-энергетический институт имени академика А.И. Лейпунского Способ выделения кремния
WO2003059814A1 (de) * 2002-01-18 2003-07-24 Wacker-Chemie Gmbh Verfahren zur herstellung von silicium
JP2005514312A (ja) * 2002-01-18 2005-05-19 ワツカー−ケミー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング アモルファスシリコンおよび/またはこれから得られるオルガノハロゲンシランの製造方法
US8173094B2 (en) * 2005-12-27 2012-05-08 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for producing polycrystalline silicon

Also Published As

Publication number Publication date
EP2173658A1 (en) 2010-04-14
RU2451635C2 (ru) 2012-05-27
US20100154475A1 (en) 2010-06-24
EP2173658A4 (en) 2012-10-03
CN101801847A (zh) 2010-08-11
WO2009018425A1 (en) 2009-02-05
JP2010535149A (ja) 2010-11-18
BRPI0814309A2 (pt) 2015-02-03
AU2008282166A1 (en) 2009-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2010107275A (ru) Способ получения высокочистого элементного кремния
JP5768714B2 (ja) シリコンの製造方法
CN102126725B (zh) 一种电子束浅熔池熔炼提纯多晶硅的方法及设备
CN102145894A (zh) 一种电子束及渣滤熔炼提纯多晶硅的方法及设备
TWI498282B (zh) 適用在用於純化矽之定向凝固之助熔劑組合物及其方法
JP4899167B2 (ja) 液体金属を用いたGeCl4の還元によるGeの製造方法
JPH10158753A (ja) 高純度マグネシウムの製造方法及び製造装置
CN101137575B (zh) 高纯硅的制备方法
JP5359119B2 (ja) 高純度シリコンの製造方法
JP2009520664A (ja) 太陽熱利用目的に適したシリコンの製造方法
KR101927379B1 (ko) 스칸듐 합금 및 이의 제조방법
JP4702091B2 (ja) 銀インゴットの製造方法
JPH0213032B2 (ru)
KR20110138248A (ko) 광전지 등급 규소 금속의 제조 방법
WO2012068717A1 (zh) 一种用于制造太阳能级硅的生产工艺
RU2356834C2 (ru) Способ получения поликристаллического кремния в виде гранул сферической формы
JPS5959846A (ja) スクラツプ中のマグネシウムを除去、回収する方法
RU2635157C1 (ru) Способ очистки технического кремния
RU2588627C1 (ru) Способ рафинирования металлургического кремния
JP2012162402A (ja) フラックスの不純物除去方法
JP7095885B2 (ja) シリコンの製造方法
RU2415185C1 (ru) Способ получения металлического свинца
Delannoy et al. 3 Conventional and
HK1121198B (en) PROCESS FOR THE PRODUCTION OF GE BY REDUCTION OF GECl4, WITH LIQUID METAL
WO2017047798A1 (ja) 純度が向上したシリコンの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20130801