[go: up one dir, main page]

RU2010146688A - METHOD FOR REFINING METALLURGIC SILICON BY PLASMA OF DRY ARGON WITH INJECTION OF WATER ON THE SURFACE OF THE MELT WITH THE FOLLOWING DIRECTED DIRECTIONAL CRYSTALLIZATION - Google Patents

METHOD FOR REFINING METALLURGIC SILICON BY PLASMA OF DRY ARGON WITH INJECTION OF WATER ON THE SURFACE OF THE MELT WITH THE FOLLOWING DIRECTED DIRECTIONAL CRYSTALLIZATION Download PDF

Info

Publication number
RU2010146688A
RU2010146688A RU2010146688/05A RU2010146688A RU2010146688A RU 2010146688 A RU2010146688 A RU 2010146688A RU 2010146688/05 A RU2010146688/05 A RU 2010146688/05A RU 2010146688 A RU2010146688 A RU 2010146688A RU 2010146688 A RU2010146688 A RU 2010146688A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
silicon
melt
plasma
crucible
dry argon
Prior art date
Application number
RU2010146688/05A
Other languages
Russian (ru)
Other versions
RU2465199C2 (en
Inventor
Сергей Михайлович Карабанов (RU)
Сергей Михайлович Карабанов
Валерий Леонидович Джухунян (RU)
Валерий Леонидович Джухунян
Виктор Игоревич Ясевич (RU)
Виктор Игоревич Ясевич
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Энергия" (RU)
Общество с ограниченной ответственностью "ЭНЕРГИЯ"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Энергия" (RU), Общество с ограниченной ответственностью "ЭНЕРГИЯ" filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Энергия" (RU)
Priority to RU2010146688/05A priority Critical patent/RU2465199C2/en
Publication of RU2010146688A publication Critical patent/RU2010146688A/en
Application granted granted Critical
Publication of RU2465199C2 publication Critical patent/RU2465199C2/en

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)

Abstract

Способ рафинирования металлургического кремния плазмой сухого аргона с инжекцией воды на поверхность расплава с последующей направленной кристаллизацией, заключающийся в разогреве в тигле неочищенного кремния до получения расплава и обработке расплава плазменным факелом, содержащим инертный газ и пары воды, отличающийся тем, что разогрев и плавление неочищенного кремния производят в вакууме с помощью резистивных нагревателей, при этом кремний помещают в кварцевый тигель прямоугольной формы, расплав кремния обрабатывают факелом плазмы сухого аргона с подачей на поверхность расплава дистиллированной воды под высоким давлением через сопло-форсунку, контроль температуры дна тигля осуществляют с помощью оптического пирометра, слиток поликристаллического кремния формируют методом контролируемой направленной кристаллизации, что позволяет более эффективно обрабатывать расплав кремния окислительно-восстановительной плазмой в вакууме, реализовать способ дополнительной очистки методом контролируемой направленной кристаллизации и получить по окончании процесса готовый к дальнейшему разделению на пластины, слиток поликристаллического кремния с требуемой степенью легирования. The method of refining metallurgical silicon with dry argon plasma with water injection onto the melt surface followed by directed crystallization, which consists in heating the crude silicon in a crucible to obtain a melt and treating the melt with a plasma torch containing an inert gas and water vapor, characterized in that heating and melting of the crude silicon produced in vacuum using resistive heaters, while silicon is placed in a rectangular quartz crucible, the silicon melt is treated with a plume dry argon coils with distilled water being fed to the melt surface under high pressure through a nozzle nozzle, the bottom temperature of the crucible is controlled using an optical pyrometer, a polycrystalline silicon ingot is formed by controlled directional crystallization, which allows more efficient processing of the silicon melt by redox plasma in vacuum , implement a method of additional purification by the method of controlled directional crystallization and obtain at the end of the process ready for further division into wafers, an ingot of polycrystalline silicon with the required degree of doping.

Claims (1)

Способ рафинирования металлургического кремния плазмой сухого аргона с инжекцией воды на поверхность расплава с последующей направленной кристаллизацией, заключающийся в разогреве в тигле неочищенного кремния до получения расплава и обработке расплава плазменным факелом, содержащим инертный газ и пары воды, отличающийся тем, что разогрев и плавление неочищенного кремния производят в вакууме с помощью резистивных нагревателей, при этом кремний помещают в кварцевый тигель прямоугольной формы, расплав кремния обрабатывают факелом плазмы сухого аргона с подачей на поверхность расплава дистиллированной воды под высоким давлением через сопло-форсунку, контроль температуры дна тигля осуществляют с помощью оптического пирометра, слиток поликристаллического кремния формируют методом контролируемой направленной кристаллизации, что позволяет более эффективно обрабатывать расплав кремния окислительно-восстановительной плазмой в вакууме, реализовать способ дополнительной очистки методом контролируемой направленной кристаллизации и получить по окончании процесса готовый к дальнейшему разделению на пластины, слиток поликристаллического кремния с требуемой степенью легирования. The method of refining metallurgical silicon with dry argon plasma with water injection onto the melt surface followed by directed crystallization, which consists in heating the crude silicon in a crucible to obtain a melt and treating the melt with a plasma torch containing an inert gas and water vapor, characterized in that heating and melting of the crude silicon produced in vacuum using resistive heaters, while silicon is placed in a rectangular quartz crucible, the silicon melt is treated with a plume dry argon coils with distilled water being fed to the melt surface under high pressure through a nozzle nozzle, the bottom temperature of the crucible is controlled using an optical pyrometer, a polycrystalline silicon ingot is formed by controlled directional crystallization, which allows more efficient processing of the silicon melt by redox plasma in vacuum , implement a method of additional purification by the method of controlled directional crystallization and obtain at the end of the process ready for further division into wafers, an ingot of polycrystalline silicon with the required degree of doping.
RU2010146688/05A 2010-11-17 2010-11-17 Method of refining metallurgical silicon with dry argon plasma with injection of water onto melt surface with subsequent directed crystallisation RU2465199C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010146688/05A RU2465199C2 (en) 2010-11-17 2010-11-17 Method of refining metallurgical silicon with dry argon plasma with injection of water onto melt surface with subsequent directed crystallisation

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2010146688/05A RU2465199C2 (en) 2010-11-17 2010-11-17 Method of refining metallurgical silicon with dry argon plasma with injection of water onto melt surface with subsequent directed crystallisation

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2010146688A true RU2010146688A (en) 2012-05-27
RU2465199C2 RU2465199C2 (en) 2012-10-27

Family

ID=46231259

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2010146688/05A RU2465199C2 (en) 2010-11-17 2010-11-17 Method of refining metallurgical silicon with dry argon plasma with injection of water onto melt surface with subsequent directed crystallisation

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2465199C2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106283185A (en) * 2016-08-09 2017-01-04 浙江恒都光电科技有限公司 The preparation method of metallurgical grade high-efficiency polycrystalline silicon chip

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103952753B (en) * 2014-04-16 2017-02-15 江苏盎华光伏工程技术研究中心有限公司 Production method of polycrystalline silicon for solar battery
RU2648615C1 (en) * 2017-01-31 2018-03-26 Сергей Михайлович Карабанов Method of plasmochemical metal refining in vacuum and plasmotron for its implementation

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2159213C2 (en) * 1999-02-25 2000-11-20 Абдюханов Мансур Абдрахманович Method of silicon purification and device for its embodiment
CN101671024B (en) * 2009-09-15 2011-05-18 厦门大学 Production technology and device for boron-removing and purification of polysilicon by adopting electromagnetic induction melting assisted with high-temperature plasma

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106283185A (en) * 2016-08-09 2017-01-04 浙江恒都光电科技有限公司 The preparation method of metallurgical grade high-efficiency polycrystalline silicon chip

Also Published As

Publication number Publication date
RU2465199C2 (en) 2012-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2011100578A3 (en) Apparatus and method for purifying metallurgical silicon for solar cells
CN102126725B (en) A method and equipment for purifying polysilicon by electron beam shallow molten pool smelting
WO2014190165A3 (en) Methods for producing low oxygen silicon ingots
CN105129804B (en) The production technology of polysilicon
JP2013519619A5 (en)
CN107287435B (en) Method for purifying substances by suspension smelting
TWI393805B (en) Purification method of metallurgical silicon
ITTO20080540A1 (en) METHOD FOR THE MANUFACTURE OF SOLAR DEGREE POLYSYLLIC LANGUAGE WITH ITS INDUCTION APPARATUS
WO2010065401A3 (en) Purification of silicon by electric induction melting and directional partial cooling of the melt
CN105414509A (en) Oxygen-free copper rod for cable and up-casting preparation process of oxygen-free copper rod for cable
RU2010146688A (en) METHOD FOR REFINING METALLURGIC SILICON BY PLASMA OF DRY ARGON WITH INJECTION OF WATER ON THE SURFACE OF THE MELT WITH THE FOLLOWING DIRECTED DIRECTIONAL CRYSTALLIZATION
CN201686764U (en) Resistance heater for crystal pulling furnace
Jiang et al. Evaporated metal aluminium and calcium removal from directionally solidified silicon for solar cell by electron beam candle melting
Shi et al. Removal of aluminum from silicon by electron beam melting with exponential decreasing power
Sun et al. Purification of metallurgical grade silicon in an electron beam melting furnace
RU2403299C1 (en) Vacuum silicone cleaning method and device for its implementation (versions)
JP2010269992A (en) Metal silicon purification method and purification apparatus {Methodandaparaforsforrefining silicon}
CN101748481B (en) Method for purifying polycrystalline silicon material
RU2011105239A (en) METHOD OF REFINING OF METALLURGIC SILICON
RU2465201C1 (en) Method of producing polycrystalline silicon ingots
RU2016105398A (en) DEVICE AND METHOD FOR SEQUENTIAL MELTING AND REFINING BY CONTINUOUS METHOD
US9352970B2 (en) Method for producing silicon for solar cells by metallurgical refining process
TWI619855B (en) Method for purifying high-purity silicon by fractionation
RU2381990C1 (en) Method of vacuum cleaning of silicon
CN201992981U (en) Tantalum multilevel crucible for distillation

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20121118

NF4A Reinstatement of patent

Effective date: 20150910

MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20161118