Claims (10)
1. Применение диметилсульфона при получении фармацевтической или косметической композиции для местного использования, для предупреждения и/или лечения кожного раздражения, вызываемого химическими, физическими, бактериальными и вирусными агентами и для особого фотозащитного действия, способного уменьшать повреждение, вызываемое солнечным излучением и ультрафиолетовым излучением типов А, В и С, как природного, так и искусственного происхождения.1. The use of dimethyl sulfone in the preparation of a pharmaceutical or cosmetic composition for topical use, for the prevention and / or treatment of skin irritation caused by chemical, physical, bacterial and viral agents and for a special photoprotective effect capable of reducing damage caused by solar radiation and ultraviolet radiation of type A , B and C, both natural and artificial origin.
2. Применение по п.1 для ингибирования эритемы, вызываемой физическими агентами, выбираемыми из ультрафиолетового излучения (солнечное излучение), особенно когда ассоциировано с солнечными фильтрами, ионизирующего излучения, рентгеновского излучения, гамма-лучей, лазерного излучения любой интенсивности и природы.2. The use according to claim 1 for inhibiting erythema caused by physical agents selected from ultraviolet radiation (solar radiation), especially when associated with solar filters, ionizing radiation, x-rays, gamma rays, laser radiation of any intensity and nature.
3. Применение по п.1 для уменьшения кожного раздражения, вызванного химическими агентами, выбираемыми из карбоновых кислот, дикарбоновых кислот, трикарбоновых кислот, монокарбоновых альфа-гидроксикислот, дикарбоновых альфа-гидроксикислот, трикарбоновых альфа-гидроксикислот, монокарбоновых бета-гидроксикислот, дикарбоновых бета-гидроксикислот, трикарбоновых бета-гидроксикислот, резорцина, фенола, ретиноевой кислоты, адапалена, азелаиновой кислоты, салициловой кислоты, трихлоруксусной кислоты, бензилпероксида и других веществ, которые можно применять в косметической и/или фармацевтической области и которые характеризуются как потенциальные раздражители.3. The use according to claim 1 to reduce skin irritation caused by chemical agents selected from carboxylic acids, dicarboxylic acids, tricarboxylic acids, monocarboxylic alpha hydroxy acids, dicarboxylic alpha hydroxy acids, tricarboxylic alpha hydroxy acids, monocarboxylic beta hydroxy acids, hydroxy acids, tricarboxylic beta-hydroxy acids, resorcinol, phenol, retinoic acid, adapalene, azelaic acid, salicylic acid, trichloroacetic acid, benzyl peroxide and other substances that It can be used in cosmetic and / or pharmaceutical field and which are characterized as potential irritants.
4. Фармацевтические и/или косметические композиции для местного применения, содержащие фармацевтически эффективное количество диметилсульфона.4. Pharmaceutical and / or cosmetic topical compositions containing a pharmaceutically effective amount of dimethyl sulfone.
5. Композиция по п.4, где вышеуказанный диметилсульфон присутствует в количестве от 0,5 до 90 мас.%.5. The composition according to claim 4, where the above dimethyl sulfone is present in an amount of from 0.5 to 90 wt.%.
6. Композиция по п.5, где вышеуказанный диметилсульфон присутствует в количестве от 5 до 60 мас.%, предпочтительно от 8 до 30 мас.%.6. The composition according to claim 5, where the above dimethyl sulfone is present in an amount of from 5 to 60 wt.%, Preferably from 8 to 30 wt.%.
7. Композиция по любому из пп.4-6, где вышеуказанная композиция является антиэритемной или антираздражающей, где вышеуказанный диметилсульфон присутствует в изменяющихся количествах от 0,5 до 80 мас.%, предпочтительно от 1 до 20 мас.%.7. The composition according to any one of claims 4 to 6, where the above composition is anti-erythema or anti-irritant, where the above dimethyl sulfone is present in varying amounts from 0.5 to 80 wt.%, Preferably from 1 to 20 wt.%.
8. Композиция по любому из пп.4-6, где вышеуказанная композиция является композицией для химического пилинга, содержащей кератолитический агент, где вышеуказанный диметилсульфон присутствует в количествах, составляющих от 1 до 60 мас.% и вышеуказанный кератолитический агент присутствует в количествах, составляющих от 5 до 70 мас.%.8. The composition according to any one of claims 4 to 6, where the above composition is a chemical peeling composition containing a keratolytic agent, where the above dimethyl sulfone is present in amounts of from 1 to 60 wt.% And the above keratolytic agent is present in amounts of from 5 to 70 wt.%.
9. Композиция по любому из пп.4-6, где вышеуказанная композиция является композицией, содержащей солнечный фильтр, где количество диметилсульфона составляет от 0,5 до 50 мас.% и количества солнечных фильтров составляют от 1 до 20 мас.%.9. The composition according to any one of claims 4 to 6, where the above composition is a composition containing a solar filter, where the amount of dimethyl sulfone is from 0.5 to 50 wt.% And the number of solar filters is from 1 to 20 wt.%.
10. Композиция по п.9, где вышеуказанный солнечный фильтр выбирают из PABA, Homosalate, Camphor, бензалкония, метосульфата, бензофенона-3, фенилбензимидазолсульфокислоты, бутилметоксидибензоилметана, терефталилидендикамфорсульфокислоты, бензилиденкамфорсульфокислоты, октокрилена, октилметоксициннамата, полиакриламидометилбензилидена, ПЭГ-25 PABA, октилсалицилата, октилдиметил PABA, изоамил-п-метоксициннамата, бензофенона-4, 3-бензилиденкамфоры, 4-метилбензилиденкамфоры, изопропилбензилсалицилата, октилтриазонезии.10. The composition according to claim 9, where the aforementioned solar filter is selected from PABA, Homosalate, Camphor, benzalkonium, methosulfate, benzophenone-3, phenylbenzimidazolesulfonic acid, butyl methoxybenzoylmethylene octylaminoacetamide, benzylidene camphyl oxyl aminomethyl sulfate, benzylidene camphorsulfonylmethyl sulfonamide PABA, isoamyl p-methoxy cinnamate, benzophenone-4, 3-benzylidene camphors, 4-methylbenzylidene camphors, isopropylbenzyl salicylate, octyl triazones.