Claims (19)
1. Способ гальванического осаждения никеля, кобальта, сплавов никеля или сплавов кобальта в гальванической ванне (1) с использованием содержащего соединения никеля или соединения кобальта электролита, при этом для осаждения на находящиеся в ванне (1) по меньшей мере на один анод (3, 3а, 3b) и по меньшей мере один катод периодически подают импульсы тока, отличающийся тем, что отношение IA/IC анодной плотности тока IA к катодной плотности тока IC задают больше 1 и меньше 1,5, а отношение QA/QC (TA·IA)/(TC·IC) заряда QA, переносимого анодным импульсом тока за время IA, к заряду QC, переносимому катодным импульсом тока за время ТC, составляет от 30 до 45.1. The method of galvanic deposition of nickel, cobalt, nickel alloys or cobalt alloys in a galvanic bath (1) using a containing nickel compound or an electrolyte cobalt compound, in order to deposit at least one anode on the bath (1) (3, 3a, 3b) and at least one cathode periodically supply current pulses, characterized in that the ratio I A / I C of the anodic current density I A to the cathodic current density I C is set to more than 1 and less than 1.5, and the ratio Q A / Q C (T A · I A ) / (T C · I C ) charge Q A carried by the anode current pulse during the time I A , to the charge Q C carried by the cathodic current pulse during the time T C is from 30 to 45.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что отношение IA/IC составляет от 1,2 до 1,45, прежде всего от 1,3 до 1,4, а отношение QA/QC=(TA·IA)/(TC·IC) составляет от 35 до 40.2. The method according to claim 1, characterized in that the ratio I A / I C is from 1.2 to 1.45, especially from 1.3 to 1.4, and the ratio Q A / Q C = (T A · I A ) / (T C · I C ) is from 35 to 40.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что для осаждения применяют по меньшей мере один профильный анод (3, 3а, 3b), контур которого согласован с контуром обрабатываемой детали (2), на которую требуется нанести покрытие из никеля или кобальта либо сплава никеля или сплава кобальта.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that at least one profile anode (3, 3a, 3b) is used for deposition, the contour of which is aligned with the contour of the workpiece (2) on which nickel is to be coated or cobalt or nickel alloy or cobalt alloy.
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что в ванне (1) предусмотрено несколько анодов (3а, 3b), при этом в качестве по меньшей мере одного из4. The method according to claim 3, characterized in that in the bath (1) there are several anodes (3a, 3b), while at least one of
анодов, который расположен ближе всего к обрабатываемой детали (2), применяют профильный анод (3а).anodes, which is located closest to the workpiece (2), apply the profile anode (3A).
5. Способ по п.3 или 4, отличающийся тем, что профильный анод (3а) образован профильным контейнером (8), проницаемый для осаждаемого никеля или кобальта либо сплава никеля или сплава кобальта и заполняемый кусочками (9) никеля или кобальта либо сплава никеля или сплава кобальта.5. The method according to claim 3 or 4, characterized in that the profile anode (3a) is formed by a profile container (8), permeable to deposited nickel or cobalt or nickel alloy or cobalt alloy and filled with pieces (9) of nickel or cobalt or nickel alloy or cobalt alloy.
6. Способ по п.3 или 4, отличающийся тем, что в качестве профильного анода (3, 3а, 3b) используют массивный электрод, который имеет по меньшей мере покрытие из осаждаемого никеля или кобальта либо осаждаемого сплава никеля или сплава кобальта.6. The method according to claim 3 or 4, characterized in that a solid electrode is used as the profile anode (3, 3a, 3b), which has at least a coating of deposited nickel or cobalt or a deposited alloy of nickel or cobalt alloy.
7. Способ по любому из пп.1-6, отличающийся тем, что обрабатываемую деталь (2) по меньшей мере на некоторый промежуток времени, составляющий часть от общей продолжительности процесса осаждения, частично экранируют экранами (5) для улучшения распределения тока.7. The method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the workpiece (2) for at least a certain period of time, which is part of the total duration of the deposition process, is partially shielded by screens (5) to improve the current distribution.
8. Способ по п.7, отличающийся тем, что указанные экраны (5) располагают у тех участков поверхности обрабатываемой детали (2), на которых происходит более интенсивное осаждение.8. The method according to claim 7, characterized in that said screens (5) are located at those parts of the surface of the workpiece (2) on which more intensive deposition occurs.
9. Способ по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что перед началом и/или в процессе осаждения электролит подвергают очистке.9. The method according to any one of claims 1 to 8, characterized in that before the start and / or during the deposition process, the electrolyte is subjected to purification.
10. Способ по п.9, отличающийся тем, что для очистки электролита перед началом осаждения применяют активированный уголь в концентрации от 0,5 до 5,0 г/л, прежде всего от 1 до 3 г/л, и 30%-ный пероксид водорода в концентрации от 0,5 до 3,0 мл/л, прежде всего от 1 до 2 мл/л.10. The method according to claim 9, characterized in that for the purification of the electrolyte before precipitation, activated carbon is used in a concentration of from 0.5 to 5.0 g / l, primarily from 1 to 3 g / l, and 30% hydrogen peroxide in a concentration of from 0.5 to 3.0 ml / l, especially from 1 to 2 ml / l.
11. Способ по п.9 или 10, отличающийся тем, что для очистки электролита в процессе осаждения его подвергают фильтрации, прежде всего с помощью по меньшей мере одного фильтра (10) с загрузкой из активированного угля, и удаляют из него примеси с помощью по меньшей мере одной ванны (11) для селективного осаждения.11. The method according to claim 9 or 10, characterized in that to clean the electrolyte during the deposition process, it is filtered, first of all, with at least one filter (10) loaded from activated carbon, and impurities are removed from it using at least one bath (11) for selective deposition.
12. Способ по любому из пп.1-11, отличающийся тем, что электролит по меньшей мере в течение некоторого промежутка времени, составляющего часть от общей продолжительности процесса осаждения, подвергают циркуляции с помощью по меньшей мере одной системы (13) циркуляции и осуществляют обратную его подачу в ванну (1) с помощью сопел (7).12. The method according to any one of claims 1 to 11, characterized in that the electrolyte for at least a certain period of time, which is part of the total duration of the deposition process, is subjected to circulation using at least one circulation system (13) and reverse its submission to the bath (1) using nozzles (7).
13. Способ по п.12, отличающийся тем, что сопла (7) выполняют и располагают в ванне (1) таким образом, чтобы обеспечить перемешивание электролита в этой ванне (1) и/или целенаправленную подачу потока электролита к обрабатываемой детали (2).13. The method according to p. 12, characterized in that the nozzle (7) is performed and placed in the bath (1) in such a way as to ensure mixing of the electrolyte in this bath (1) and / or targeted flow of the electrolyte to the workpiece (2) .
14. Применение способа по любому из пп.1-13 для изготовления деталей ракетных двигателей.14. The use of the method according to any one of claims 1 to 13 for the manufacture of parts of rocket engines.
15. Применение способа по любому из пп.1-13 для изготовления впрыскивающих головок и/или камер сгорания и/или реактивных сопел ракетных двигателей. 15. The application of the method according to any one of claims 1 to 13 for the manufacture of injection heads and / or combustion chambers and / or jet nozzles of rocket engines.
16. Гальваническая ванна (1) для гальванического осаждения никеля или его сплавов либо кобальта или его сплавов с помощью электролита, имеющая по меньшей мере один профильный анод (3, 3а, 3b), контур которого согласован с контуром обрабатываемой детали (2), устройство (4) управления периодической подачей импульсов тока на анод (3) и катод (2), расположенные в ванне (1), экраны (5) для улучшения распределения тока, предназначенные по меньшей мере для частичного экранирования обрабатываемой детали (2), очистное устройство (6), предназначенное для очистки электролита, и систему (13) циркуляции, предназначенную для перекачивания электролита и имеющую по меньшей мере один циркуляционный насос (12) и сопла (7) для обратной подачи электролита в ванну.16. A galvanic bath (1) for galvanic deposition of nickel or its alloys or cobalt or its alloys with an electrolyte, having at least one profile anode (3, 3a, 3b), the contour of which is aligned with the contour of the workpiece (2), device (4) controlling the periodic supply of current pulses to the anode (3) and cathode (2) located in the bath (1), screens (5) for improving the current distribution, designed to at least partially shield the workpiece (2), cleaning device (6) for cleaning electric electrolyte, and a circulation system (13) designed to pump the electrolyte and having at least one circulation pump (12) and nozzles (7) for the reverse supply of electrolyte to the bath.
17. Гальваническая ванна по п.16, отличающаяся тем, что по меньшей мере один профильный анод (3, 3а, 3b) выполнен в виде профильного контейнера (8), заполняемого кусочками (9) никеля или кобальта либо сплава никеля или сплава кобальта.17. A plating bath according to claim 16, characterized in that at least one profile anode (3, 3a, 3b) is made in the form of a profile container (8), filled with pieces (9) of nickel or cobalt or nickel alloy or cobalt alloy.
18. Гальваническая ванна по п.16 или 17, отличающаяся тем, что в ванне (1) расположено несколько анодов (3а, 3b), при этом в виде профильных анодов выполнены только расположенные ближе всего к обрабатываемой детали (2) аноды (3а).18. A galvanic bath according to claim 16 or 17, characterized in that several anodes (3a, 3b) are located in the bathtub (1), while in the form of profile anodes only the anodes (3a) closest to the workpiece (2) are made .
19. Гальваническая ванна по любому из пп.16-18, отличающаяся тем, что очистное устройство (6) имеет фильтр (10) и ванну (11) для селективного осаждения примесей.19. Electroplating bath according to any one of claims 16-18, characterized in that the cleaning device (6) has a filter (10) and a bath (11) for the selective deposition of impurities.