PL204156B1 - Active welding filter - Google Patents
Active welding filterInfo
- Publication number
- PL204156B1 PL204156B1 PL374070A PL37407005A PL204156B1 PL 204156 B1 PL204156 B1 PL 204156B1 PL 374070 A PL374070 A PL 374070A PL 37407005 A PL37407005 A PL 37407005A PL 204156 B1 PL204156 B1 PL 204156B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- filter
- welding
- band
- radiation
- photochromic
- Prior art date
Links
- 238000003466 welding Methods 0.000 title claims description 32
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 27
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical group CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 4
- PSXPTGAEJZYNFI-UHFFFAOYSA-N 1',3',3'-trimethyl-6-nitrospiro[chromene-2,2'-indole] Chemical compound O1C2=CC=C([N+]([O-])=O)C=C2C=CC21C(C)(C)C1=CC=CC=C1N2C PSXPTGAEJZYNFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 210000005069 ears Anatomy 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- -1 p-di-n-butylaminophenyl Chemical group 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 101100008044 Caenorhabditis elegans cut-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920004011 Macrolon® Polymers 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Description
Opis wynalazkuDescription of the invention
Przedmiotem wynalazku jest aktywny filtr spawalniczy, przeznaczony do montowania w osł onach spawalniczych chronią cych oczy, twarz, szyję i uszy spawacza przed szkodliwym promieniowaniem i odpryskami roztopionego metalu lub żużla, powstającymi podczas spawania.The subject of the invention is an active welding filter, intended to be mounted in welding shields that protect the eyes, face, neck and ears of the welder against harmful radiation and splashes of molten metal or slag generated during welding.
Filtry spawalnicze przeznaczone są do montowania w osłonach spawalniczych, chroniących oczy, twarz, szyję i uszy spawacza przed szkodliwym promieniowaniem i odpryskami roztopionego metalu lub żużla powstającymi podczas spawania. Stosuje się zarówno pasywne jak i aktywne filtry. Pasywne filtry spawalnicze wykonywane są ze szkła mineralnego lub tworzyw sztucznych barwionych w masie.Welding filters are designed to be mounted in welding shields that protect the eyes, face, neck and ears of the welder against harmful radiation and splashes of molten metal or slag formed during welding. Both passive and active filters are used. Passive welding filters are made of mineral glass or body-colored plastics.
Produkowane obecnie aktywne filtry spawalnicze składają się z układów ciekłokrystalicznych, polaryzatorów, filtrów interferencyjnych, modułów zasilających (baterii lub ogniw słonecznych), detektorów promieniowania łuku spawalniczego oraz układów elektronicznych.Currently produced active welding filters consist of liquid crystal systems, polarizers, interference filters, power modules (batteries or solar cells), welding arc radiation detectors and electronic systems.
Filtry spawalnicze powinny być wykonane z materiału odbijającego lub pochłaniającego promieniowanie nadfioletowe, intensywne promieniowanie widzialne oraz promieniowanie podczerwone.Welding filters should be made of a material that reflects or absorbs ultraviolet radiation, intense visible radiation and infrared radiation.
Aktywny filtr spawalniczy według wynalazku składa się z układu filtrów, które licząc od strony łuku spawalniczego, składają się z:The active welding filter according to the invention consists of a filter system which, counting from the side of the welding arc, consists of:
- szybki ze szkła sodowego lub kwarcowego, przepuszczają cej promieniowanie UV- soda or quartz glass lens, UV transmitting
- filtra fotochromowego wzbudzanego promieniowaniem łuku spawalniczego,- a photochromic filter induced by radiation from the welding arc,
- filtra interferencyjnego pasmowego przepuszczają cego promieniowanie widzialne z pasma 530 nm - 570 nm lub opcjonalnie z pasma 520 nm - 580 nm;- a band interference filter transmitting visible radiation from the 530 nm - 570 nm band or optionally from the 520 nm - 580 nm band;
- szklanego lub tworzywowego pasywnego filtra absorpcyjnego, pochł aniają cego promie niowanie podczerwone;- a glass or plastic passive absorption filter which absorbs infrared radiation;
- filtra interferencyjnego blokują cego promieniowanie nadfioletowe oraz promieniowanie podczerwone.- an interference filter that blocks ultraviolet radiation and infrared radiation.
Filtr fotochromowy stanowi roztwór barwnika fotochromowego wybranego z grupy spirobenzopiranoindolin, korzystnie 1',3',3'-trimetylo-6-nitrospiro[2H-1-benzopirano-2,2'-indolin], w rozpuszczalniku niepolarnym o stężeniu 0,015 - 0,025 g barwnika\ml rozpuszczalnika. Roztwór barwnika fotochromowego zmienia współczynniki przepuszczania światła w wyniku reakcji fotochromowej, pod wpływem absorpcji promieniowania nadfioletowego, powstającego podczas spawania elektrycznego. Jako rozpuszczalnik niepolarny korzystnie stosuje się octan etylu lub aceton. Filtr interferencyjny blokujący promieniowanie nadfioletowe oraz promieniowanie podczerwone nałożony jest na szklany lub tworzywowy pasywny filtr absorbujący w postaci powłok inerferencyjnych. Jako materiały warstw użyto:The photochromic filter is a solution of a photochromic dye selected from the group of spirobenzopyranindolines, preferably 1 ', 3', 3'-trimethyl-6-nitrospiro [2H-1-benzopyran-2,2'-indoline], in a non-polar solvent with a concentration of 0.015-0.025 g dye \ ml of solvent. The photochromic dye solution changes the light transmission coefficients as a result of the photochromic reaction, under the influence of the absorption of ultraviolet radiation generated during electric welding. As the non-polar solvent, ethyl acetate or acetone is preferably used. An interference filter that blocks ultraviolet and infrared radiation is applied to a glass or plastic passive absorbing filter in the form of inertial coatings. The following were used as materials for the layers:
TiO2 - H - materiał o wysokim współczynniku załamania orazTiO2 - H - material with a high refractive index and
SiO2 - L - materiał o niskim współczynniku załamania.SiO2 - L - material with a low refractive index.
Nanoszenie warstw realizowano techniką napawania w wysokiej próżni z zastosowaniem działa elektronowego.The layers were deposited using the high-vacuum surfacing technique with the use of an electron gun.
Jako filtr interferencyjny pasmowy przepuszczający promieniowanie widzialne z pasma 530 nm -570 nm lub opcjonalnie z pasma 520 nm -580 nm użyto analogicznie jak dla filtra blokującego filtr szklany lub tworzywowy pasywny jako podłoże do nałożenia powłok interferencyjnych.As a band-pass interference filter passing visible radiation from the 530 nm -570 nm band or optionally from the 520 nm -580 nm band, a glass or plastic passive filter was used as a substrate for applying interference coatings.
Najkorzystniej jest aby wszystkie filtry, za wyjątkiem filtra fotochromowego, stanowiły ściany kuwety, w której umieszczony jest roztwór barwnika.It is most preferred that all filters, with the exception of the photochromic filter, constitute the walls of the cuvette in which the dye solution is placed.
Przepuszczalność filtra fotochromowego jest zdefiniowana przez właściwości wzbudzonego barwnika. Pasmo maksymalnego tłumienia w stanie wzbudzonym jest zgodne z maksimum czułości oka. Krzywą widmową transmisji barwnika o strukturze spirobenzopiranoindolin w stanie wzbudzonym przedstawiono na wykresie 1.The transmittance of the photochromic filter is defined by the properties of the excited dye. The band of maximum attenuation in the excited state is consistent with the maximum sensitivity of the eye. The spectral transmission curve of the dye with the spirobenzopyranindoline structure in the excited state is shown in Figure 1.
PL 204 156 B1PL 204 156 B1
Wykres 1. Wykres absorpcji barwnika w stanie wzbudzonymDiagram 1. Diagram of dye absorption in the excited state
Aktywne filtry spawalnicze wykonane z wykorzystaniem barwnika fotochromowego według wynalazku:Active welding filters made with the use of a photochromic dye according to the invention:
- charakteryzują się czasem zadziałania poniżej 0,5 ms, w zakresie temperatur od -10°C do +55°C,- have a response time of less than 0.5 ms, in the temperature range from -10 ° C to + 55 ° C,
- zmieniają współczynniki przepuszczania światła automatycznie w zależności od natężenia prą du spawania w zakresie od 3% do 0,001%,- they change the light transmission coefficients automatically depending on the welding current intensity in the range from 3% to 0.001%,
- przepuszczają mniej niż 0,00003% szkodliwego promieniowania nadfioletowego dla długości fali 313 nm 365 nm- transmit less than 0.00003% of harmful ultraviolet radiation at a wavelength of 313 nm 365 nm
- przepuszczają średnio mniej niż 0,01% promieniowania podczerwonego dla zakresu od 780 nm do 1400 nm.- they transmit on average less than 0.01% of infrared radiation for the range from 780 nm to 1400 nm.
Aktywny filtr spawalniczy według wynalazku został przedstawiony na rysunku w przekroju poprzecznym.The active welding filter according to the invention is shown in cross-section in the drawing.
P r z y k ł a d I. W celu wytworzenia spawalniczych filtrów fotochromowych należy przeprowadzić następujące działania:Example I. In order to manufacture welding photochromic filters, the following steps must be taken:
1. Wycinanie elementów kuwety ze szkła sodowego1. Cutting out the elements of the sodium glass cuvette
Wyciąć z tafli szkła sodowego o grubości 1 mm płytki o wymiarach 110 mm na 90 mm (z dokładnością do 0,5 mm), na maszynie z elementem tnącym wykonanym z węglika krzemu.Cut 1 mm thick soda glass plates with dimensions of 110 mm by 90 mm (with an accuracy of 0.5 mm) on a machine with a silicon carbide cutting element.
Tylną ścianę filtra stanowi płytka ze szkła sodowego z naniesionymi warstwami interferencyjnymi. Warstwa antyodblaskowa filtra absorpcyjnego powinna znajdować się na zewnątrz kuwety. Ścianki boczne kuwety stanowią paski szkła o szerokości 3 mm i grubości 1 mm.The back wall of the filter is a soda glass plate with applied interference layers. The anti-glare layer of the absorption filter should be outside the cuvette. The side walls of the cuvette are glass strips 3 mm wide and 1 mm thick.
2. Wytwarzanie kuwet z roztworem barwnika fotochromowego2. Preparation of cuvettes with a photochromic dye solution
Filtr aktywny - kuwetę wykonać ze sklejonych ze sobą płytek szklanych:Active filter - the cuvette should be made of glued glass plates:
- Zewnę trzną szybkę filtra ze szkł a sodowego o gruboś ci 1 mm;- Outer sodium glass filter disc, 1 mm thick;
- Boczne ś cianki filtra wykonano również ze szkł a o gruboś ci 1 mm lub 1,5 mm;- The side walls of the filter are also made of glass with a thickness of 1 mm or 1.5 mm;
- Tylna ś ciana ze szkł a sodowego zawierają cego absorber podczerwieni, na którego powierzchnie naniesiono warstwy interferencyjne.- Sodium glass back wall incorporating an infrared absorber on the surfaces of which interference layers are applied.
3. Klejenie elementów kuwety3. Gluing the cuvette elements
Przed naniesieniem kleju na powierzchnie umieścić elementy kuwety w uchwycie. W górnej części kuwety pozostawić dwa otwory o szerokości 1 mm, przeznaczone do napełniania kuwety.Before applying the adhesive to the surface, place the cuvette elements in the holder. Leave two 1 mm wide openings in the upper part of the cuvette for filling the cuvette.
PL 204 156 B1PL 204 156 B1
Do klejenia powierzchni płytek szklanych stosować np. kleje utwardzane promieniowaniem nadfioletowym.For gluing the surface of glass tiles, use, for example, glues cured with ultraviolet radiation.
4. Przygotowanie roztworu barwnika4. Preparation of the dye solution
Odważyć 25 g barwnika, z dokładnością 0,1 g za pomocą wagi technicznej. Odmierzyć za pomocą cylindra miarowego 1 dm3 octanu etylu (cz.d.a). Rozpuścić barwnik w octanie etylu z zastosowaniem mieszadła ultradźwiękowego. Mieszać roztwór przez 30 minut, w łaźni o temperaturze 25°C. Następnie przepuścić przez roztwór azot w celu usunięcia pozostałego tlenu.Weigh 25 g of dye with an accuracy of 0.1 g using a technical balance. Using a measuring cylinder, measure 1 dm 3 of ethyl acetate (analytical grade). Dissolve the dye in ethyl acetate using an ultrasonic stirrer. Stir the solution for 30 minutes in a 25 ° C bath. Then pass nitrogen through the solution to remove residual oxygen.
5. Napełnianie kuwety5. Filling the cuvette
Kuwety napełniać roztworem 1',3',3'-trimetylo-6-nitrospiro[2H-1-benzopirano-2,2'-indolinu], w octanie etylu. Usunąć z kuwety powietrze z zastosowaniem mieszadł a ultradź wię kowego typ IS-1K, o częstotliwości ultradźwięków 35 kHz. Napełnianie prowadzić w atmosferze azotu.Fill cuvettes with a solution of 1 ', 3', 3'-trimethyl-6-nitrospiro [2H-1-benzopyran-2,2'-indoline] in ethyl acetate. Remove the air from the cuvette using an IS-1K ultrasonic stirrer with an ultrasonic frequency of 35 kHz. The filling is carried out under nitrogen atmosphere.
Prowadzić mieszanie ultradźwiękowe przez 5 minut, przy temperaturze łaźni 25°C.Perform ultrasonic agitation for 5 minutes with bath temperature of 25 ° C.
Usunięcie powietrza z rozpuszczalnika znacznie zwiększa odporność filtrów na promieniowanie nadfioletowe.Removal of air from the solvent significantly increases the resistance of the filters to ultraviolet radiation.
6. Uszczelnianie kuwet6. Sealing cuvettes
Uszczelnić kuwetę z roztworem barwnika za pomocą dwuskładnikowego kleju zawierającego żywicę poliepoksydową np. typ Super Epox. Pozostawić kuwetę do wyschnięcia na 2 godziny.Seal the cuvette with the dye solution with a two-component adhesive containing polyepoxy resin, e.g. Super Epox type. Allow the litter box to dry for 2 hours.
7. Wytwarzanie powłok interferencyjnych do aktywnych filtrów spawalniczych7. Production of interference coatings for active welding filters
W skład zespołu filtrów interferencyjnych tworzących filtr spawalniczy wchodzą :The set of interference filters that make up the welding filter includes:
- filtr interferencyjny blokują cy promieniowanie UV i NIR- an interference filter that blocks UV and NIR radiation
- filtr interferencyjny pasmowy przepuszczaj ą cy promieniowanie widzialne z pasma 530-570 nm lub opcjonalnie z pasma 520-580 nm.- a band interference filter transmitting visible radiation from the 530-570 nm band or optionally from the 520-580 nm band.
Filtr interferencyjny UV-NIR blokuje pasma nadfioletu i podczerwieni, jednak współpracując z filtrem barwnikowym nie daje koniecznego obniżenia przepuszczalności w zakresach 400 nm-500 nm i 600-800 nm. Do realizacji tego zadania przeznaczone są filtry interferencyjne.The UV-NIR interference filter blocks the ultraviolet and infrared bands, but cooperating with the dye filter does not give the necessary reduction in the transmittance in the ranges 400 nm-500 nm and 600-800 nm. Interference filters are designed to accomplish this task.
Charakterystyki transmisyjne tych filtrów przedstawiono na wykresach 2 i 3.The transmission characteristics of these filters are shown in Figures 2 and 3.
Wykres 2. Charakterystyka transmisji filtra pasmowego o szerokości 40 nmDiagram 2. Transmission characteristic of a 40 nm wide bandpass filter
PL 204 156 B1PL 204 156 B1
Wykres 3. Charakterystyka transmisji filtra pasmowego o szerokości 60 nmDiagram 3. Transmission characteristics of a 60 nm bandpass filter
Do wykonania tych filtrów jako materiały warstw użyto:The following were used as layer materials to make these filters:
- TiO2 - H - materiał o wysokim współczynniku załamania- TiO2 - H - material with a high refractive index
- SiO2 - L - materiał o niskim współczynniku załamania.- SiO2 - L - material with a low refractive index.
Nanoszenie warstw zrealizowano techniką naparowania w wysokiej próżni z zastosowaniem działa elektronowego.The layers were applied by means of high vacuum vaporization with the use of an electron gun.
Filtr pasywny pochłaniający promieniowanie podczerwonePassive filter that absorbs infrared radiation
Jako filtr pasywny pochłaniający promieniowanie podczerwone stosować filtr typ ATHERMAL o stopniu ochrony 3, o ś rednim współczynniku przepuszczania podczerwieni 0,75%. Filtr ten stanowi podłoże do naniesienia powłok interferencyjnych.As a passive filter that absorbs infrared radiation, use an ATHERMAL filter with protection class 3, with an average IR transmission factor of 0.75%. This filter is a substrate for applying interference coatings.
Alternatywne rozwiązanie może stanowić zastosowanie filtra wykonanego z poliwęglanu barwionego w masie absorberem podczerwieni N,N,N',N'-Tetrakis-(p-di-n-butylaminofenyl)-p-benzochinon-bisimmonium heksafluoroantymonianu o stężeniu od 0,432 g do 0,504 g na 1000 g makrolonu.An alternative solution may be the use of a filter made of mass-colored polycarbonate with an infrared absorber N, N, N ', N'-Tetrakis- (p-di-n-butylaminophenyl) -p-benzoquinone-bisimmonium hexafluoroantimonate with a concentration from 0.432 g to 0.504 g per 1000 g of macrolon.
Zapis konstrukcji filtra interferencyjnego blokującego przedstawiono w Tabeli 1The design record of the blocking interference filter is shown in Table 1
Filtr blokujący - zapis konstrukcji λ = 500 nmBlocking filter - construction record λ = 500 nm
Sub-(1.6H 1.6L)7 2.196H 1L0.594H 0.654L (1.07H 1.07L)6 0.816H 1.552L-Air nH=2.20 nL=1.46Sub- (1.6H 1.6L) 7 2.196H 1L0.594H 0.654L (1.07H 1.07L) 6 0.816H 1.552L-Air nH = 2.20 nL = 1.46
T a b e l a 1T a b e l a 1
PL 204 156 B1 cd. tabeli 1PL 204 156 B1 cont. table 1
Zapis konstrukcji filtra interferencyjnego pasmowego przedstawiono w Tabeli 2The design of the bandpass filter is presented in Table 2
Filtr pasmowy 530 - 570 nm - zapis konstrukcji λ = 560nmBandpass filter 530 - 570 nm - construction notation λ = 560nm
Sub - (1H 1L 1H 2L 1H 1L 1H 1L)4 - Air nH=2.20 nL=1.46Sub - (1H 1L 1H 2L 1H 1L 1H 1L) 4 - Air nH = 2.20 nL = 1.46
PL 204 156 B1PL 204 156 B1
T a b e l a 2T a b e l a 2
Zapis konstrukcji filtra interferencyjnego pasmowego przedstawiono w Tabeli 3 filtr pasmowy 520 - 580 nm - zapis konstrukcji λ=560 nmThe notation of the construction of the bandpass filter is presented in Table 3.
Sub-(1H 2L 1H 1L 1H 1L)4 - Air nH=2.20 nL=1.46Sub- (1H 2L 1H 1L 1H 1L) 4 - Air nH = 2.20 nL = 1.46
PL 204 156 B1PL 204 156 B1
T a b e l a 3T a b e l a 3
Badania współczynników przepuszczania w stanie jasnymInvestigation of light transmission coefficients
Uzyskana wartość mieści się w granicach określonych dla stopnia ochrony 5. Przeprowadzone badania w warunkach ekspozycji na promieniowanie łuku, powstającego podczas spawania elektrodą otuloną wykazały również wystarczającą widzialność spawanego przedmiotu, umożliwiającą spawanie wymagające precyzji, min. spawanie małych elementów.The obtained value is within the limits specified for the protection level 5. The tests carried out in the conditions of exposure to the radiation of the arc formed during welding with a coated electrode also showed sufficient visibility of the welded object, enabling welding requiring precision, min. welding of small parts.
Wartości współczynnika przepuszczania światła fotochromowych filtrów spawalniczych wyznaczone dla spawania elektrycznego elektrodą otuloną o średnicy 3 mm - odległość od źródła spawania 0,3 m -, natężenie prądu spawania 120 A.The values of the light transmission coefficient of photochromic welding filters determined for electric welding with a coated electrode with a diameter of 3 mm - distance from the welding source 0.3 m -, welding current 120 A.
PL 204 156 B1PL 204 156 B1
Uzyskane wartości są zgodne ze zaleceniami dotyczącymi doboru filtrów spawalniczych do spawania elektrodą otuloną o natężeniu prądu od 100 A do 125 A, podanymi w normie PN-EN 169:2004.The obtained values are in accordance with the recommendations for the selection of welding filters for welding with a coated electrode with a current strength from 100 A to 125 A, specified in the PN-EN 169: 2004 standard.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL374070A PL204156B1 (en) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | Active welding filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL374070A PL204156B1 (en) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | Active welding filter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL374070A1 PL374070A1 (en) | 2006-10-02 |
| PL204156B1 true PL204156B1 (en) | 2009-12-31 |
Family
ID=39592513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL374070A PL204156B1 (en) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | Active welding filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL204156B1 (en) |
-
2005
- 2005-04-01 PL PL374070A patent/PL204156B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL374070A1 (en) | 2006-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0040603B1 (en) | Optical filtering element | |
| US4320939A (en) | Optical filtering element including fluorescent material | |
| CA2002560A1 (en) | Light filter for the improvement of vision | |
| AU613818B2 (en) | Optical radiation shield for protection from multiple lasers | |
| JPWO2019049884A1 (en) | Optical filter and imaging device | |
| JP2017146506A (en) | Optical filter and imaging device | |
| JP2022000704A (en) | Ultraviolet transmission filter | |
| US3897140A (en) | Multilayer solar filter reducing distortive diffraction | |
| PL204156B1 (en) | Active welding filter | |
| WO2022024826A1 (en) | Optical filter | |
| CA1059309A (en) | Optical filter for neodymium laser light | |
| US6522447B2 (en) | Optical limiting device and method of preparation thereof | |
| US4325001A (en) | Inorganic spark chamber frame and method of making the same | |
| WO2022085636A1 (en) | Optical filter | |
| CN112666645A (en) | Infrared light filter and preparation process thereof | |
| WO2021095613A1 (en) | Optical filter and fingerprint detection device using same | |
| CA1054246A (en) | High power laser apodizer | |
| US5083852A (en) | Laser beam strop | |
| CN118549347B (en) | Crystal detection method | |
| KR102885401B1 (en) | Blue light meter | |
| JPS59171549A (en) | Eye protecting apparatus | |
| RU16725U1 (en) | LIGHTING EQUIPMENT FOR PREVIOUSLY AIRCRAFT | |
| WO2015020076A1 (en) | Optical member, method for producing same, and image-capturing device | |
| Saito et al. | Polymer coating on infrared silver halide fiber for photodarkening protection | |
| Seely | Transport of fluorescence through highly scattering media: corrections to the determination of quantum yields |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20110401 |