KR970000815B1

KR970000815B1 - 아민 이온쌍 착화합물을 함유하는 컨디셔닝제 및 이의 조성물

Info

Publication number: KR970000815B1
Application number: KR1019890001395A
Authority: KR
Inventors: 수우 카스웰 데브라
Original assignee: 더 프록터 앤드 갬블 캄파니; 리차드 찰스 위테
Priority date: 1988-02-08
Filing date: 1989-02-08
Publication date: 1997-01-20
Anticipated expiration: 2009-02-08
Also published as: CA1324702C; ATE89313T1; AU608727B2; IE62174B1; MX171181B; DE68906413D1; NZ227882A; JP2755652B2; EP0328205A3; EP0328205B1; DE68906413T2; GR3007845T3; KR890013271A; JPH0214075A; US4861502A; IE890403L; AU2976989A; EP0328205A2

Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]

아민 이온쌍 착화합물을 함유하는 컨디셔닝제 및 이의 조성물

[발명의 상세한 설명]

본 발명은 직물 컨디셔닝제, 직물 컨디셔닝제를 함유하는 직물 보호 조성물 및 세제 조성물에 과한 것이다.

양호한 세탁 기능 및 또한 양호한 섬유 유연 특성 및 정전기 방지 특성을 제공하는 세탁용 세제 조성물을 제형하고자 하는 수많은 시도가 있었다. 음이온성 및 양이온성 계면활성제간의 자연적 길항작용을 극복하기 위한 여러 가지 방법을 사용하여 음이온성 계면활성제-기본 빌트(built) 세제 조성물에 양이온성 섬유 유연제를 혼입시키는 시도가 있었다. 예를 들어, 1976년 2월 3일자로 바스커빌(Baskerville et) 등에게 허여된 미합중국 특허 제3,936,537호에는 유기 계면활성제, 증강제, 및 세탁액 중 양이온계의 조속 분산을 억제하는, 수용성이 낮은 분산 억제제와 혼합된 미립형(10 내지 500μ) 4급 암모늄 유연제를 함유하는 세제 조성물이 기술되어 있다. 이들 조성물 중에서 세척 및 유연 특성중 절충이 허용되어야 한다. 유연 특성을 갖는 세제조성물을 제공하기 위한 다른 방법은 양이온성 유연제를 갖는 비이온성 계면활성제(음이온성 계면활성제 대신)를 사용하는 것이다. 이런 종류의 조성물은, 예를 들면, 1964년 4월 4일자로 허여되어 헨켈(Henkel)에 양도된 독일연방공화국 특허 제1,220,956호 및 1971년 9월 21일자로 살멘(Salmen) 등에게 허여된 미합중국 특허 제3,607,763호에 기술되어 있다. 그러나, 비이온성 계면활성제의 세척 특성은 음이온성 계면활성제보다 떨어진다.

다른 세탁용 세제 조성물은 섬유 유연제로 작용하도록 음이온성 계면활성제와 함께 3급 아민을 함유한다. 1978년 6월 14일자로 공고된 켄건(Kengon)의 영국 특허 제1,514,276호에는 장쇄 알킬 또는 알케닐 그룹 2개 및 단쇄 알킬 그룹 1개와 함께 특정 4급 아민을 사용한다. 이들 아민은, 이들의 등전점이 이들이 통상 알칼리성 세척액 중의 음으로 하전된 입자의 분산액으로서, 그리고 세정액의 낮은 pH에서 보다 양이온성인 형태로 존재하는 경우, 직물에 대해 직접성으로 되어, 세제 조성물에서 직물 유연제로서 유용하다. 세제 조성물에서 이러한 아민의 용도는 이미 1972년 8월 16일자로 공고되었으며, 콜게이트-팜올리브(Colgate-Palmolive)로 양도된 영국 특허 제1,286,054호, 1978년 6월 14일자로 공고되고 유니레버(Unilever)로 양도된 영국 특허 제1,514,276호 및 1983년 3월 1일자로 크리습(Crisp) 등에게 허여된 미합중국 특허 제4,375,416호에 기술되어 있다.

섬유 유연 특성을 갖는 음이온성 세제 조성물을 제공하기 위한 다른 방법은 1977년 12월 13일자로 스톰(Storm) 등에게 허여된 미합중국 특허 제4,062,647호에 기술된 바와 같은 스멕타이트형 클레이(smectite-type clays)를 사용하는 것이다. 이들 조성물은 세척력이 양호함에도 불구하고, 효과적으로 유연시키기 위해서 다량의 클레이가 요구된다. 음이온성, 비이온성, 쯔비터이온성 및 양쪽성 계면활성제와 함께 사용하기 위해 채택되는 유연 조성물로서 전기 전도성 금속염 중의 수불용성 양이온성 화합물과 함께 클레이를 사용하는 것이 1977년 8월 24일로 공고되어, 프록터 앤드 갬블(Procter Gamble)에 양도된 영국 특허 제1,483,627호에 기술되어 있다.

1967년 7월 26일자로 공개되어 바이엘(Bayer)에 양도된 영국 특허원 제1,077,103호 및 제1,077,104호에 정전기 방지제로서 유용한 아민-음이온성 계면활성제 이온쌍 착화합물이 기술되어 있다. 이들 착화합물은 수성 담체로부터 직물로 직접 적용된다. 이들 참고문헌중에는 상기와 같은 착화합물을 세제 조성물에 가하여 세탁을 통해 직물 보호 장점을 제공할 수 있다는 제의가 없다. 사실, 상기와 같은 착화합물은 가용화된 형태로 운반되며, 따라서 세탁을 통해서는 운반될 수 없었다.

입체형 세제 중의 지방산-아민 이온쌍 착화합물은 1985년 6월 3일에 공개된 버케트-세인트 로렌트(Burckett-St. Laurent) 등의 유럽 특허원 제133,804호에 기술되어 있다. 이들 착화합물은 직물 컨디셔닝 장점을 제공하지만, 본 발명의 아민-음이온성 계면활성제 이온쌍 착화합물은 우수한 정전기 방지 특성을 제공한다.

더욱 최근에, 1987년 11월 6일자로 출원한 유럽 특허원 제87202159.7호에는, 평균 입자 직경이 약 10 내지 약 300 마이크론인 아민-음이온성 화합물 이온쌍 착화합물 입자가 기술되어 있다. 이들 입자는 세척 성능을 현저하게 손상시키지 않고 세탁을 통한 우수한 유연 성능을 제공한다. 또한, 유럽 특허원 제87202159.7호에는 쇄 길이가 작은 아민으로부터 제조된 이온쌍 입자가 액체 세제 중에서 개선된 가공 특성 및 개선된 화학적 안정성을 제공하는 것이 기술되어 있다. 그러나 아직까지, 액체 세제 제형에 대해서, 입자의 가공 특성에 있어서의 개선점과 저가로 더 긴 저장수명을 제공하는 세제 기재중의 이온쌍 입자의 개선된 화학적 안정성이 요구되고 있다.

본 발명의 목적은 세탁을 통해 사용할 수 있으며(즉, 세정 사이클 시작 전에 세액에 가할 수 있다), 세제 또는 다른 세척 조성물의 세척 기능을 현저하게 손상시키지 않으며 우수한 직물 컨디셔닝 장점을 제공하고, 입자 형성용 통상 장비, 예를 들면, 프릴링 장비(prilling equipment)를 사용하여 용이하게 가공할 수 있는 컨디셔닝제, 액체 및 입제 제형인 직물 보호 조성물 및 세제 조성물을 제공하는 것이다. 특히, 바람직한 크기 범위내의 필수적으로 구형 입자 형태로 컨디셔닝제를 일정하게 형성시키는 용이함이 바람직한 가공 개선점 중의 하나이다. 다른 바람직한 가공 개선점은 특히 입자를 입제 조성물 중에 혼입시키는데 있어서의 조작의 용이함이다. 위에서 사용하는 바와 같은, 용어 직물 보호 조성물이란 직물 보호에 유용한 컨디셔닝제를 하나 이상 함유하지만, 현저한 양의 직물 세척 성분은 함유하지 않는 조성물을 나타낸다. 용어 세제 조성물은 하나 이상의 직물 보호에 유용한 컨디셔닝제 및 또한 하나 이상의 직물 세척 성분을 함유하는 조성물을 나타낸다.

본 발명의 또 다른 목적은 세척 기능을 현저하게 손상시키지 않고 세탁을 통해 우수한 직물 컨디셔닝을 제공하고 또한 액체 세제 조성물 중에서 개선된 화학적 안정성을 갖는 직물 컨디셔닝제를 갖는 액체 세제 조성물을 제공하는 것이다.

본 발명의 추가의 목적은 세척 기능을 현저하게 손상시키지 않고 세탁을 통해 우수한 직물 컨디셔닝을 제공하고, 또한 액체 세제 조성물 중에서 개선된 가공 및 개선된 안정성으로 특징 지워지는, 액체 세제 조성물용 직물 컨디셔닝 입자를 제공하는 것이다.

본 발명은 (ⅰ) 일반식 (1)의 이온쌍 착화합물을 입자의 약 5 내지 약 95중량%; 및 (ⅱ) 일반식 (2)의 이온쌍 착화합물을 입자의 약 95 내지 5중량% 포함하는, 평균 직경이 약 10 내지 약 500마이크론인 컨디셔닝제에 관한 것이다.

상기 식에서, R₁및 R₂는 서로 독립적으로 C₁₂내지 C₂₀알킬 또는 알케닐이고, 일반식 (1)에서의 R₃은 H 또는 CH₃이며, 일반식 (2)에서의 R₃은 H, CH₃또는 C₂내지 C₂₀알킬 또는 알케닐이며; A는 알킬 설포네이트, 아릴 설포네이트, 알킬아릴 설포네이트, 알킬 설페이트, 디알킬 설포석시네이트, 알킬 옥시벤젠 설포네이트, 아실 이세티오네이트, 아실알킬 타우레이트, 알킬 에톡시화 설페이트, 올레핀 설포네이트 및 이들 음이온의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택된 유기 음이온이고; X는 아민 대 무기 음이온의 몰비와 무기 음이온의 원자가에 상응하고, 1 내지 3의 정수이며; B는 이들로서 제한되지는 않지만, 설페이트(SO₄ ^-2), 하이드로겐 설페이트(HSO₄ ^-1), 니트레이트(NO3^-), 포스페이트(PO₄ ^-3), 하이드로겐 포스페이트(HPO₄ ^-2), 디하이드로겐 포스페이트(H₂PO₄ ^-1) 이들의 혼합물 중에서 선택되는 무기 음이온이고, 바람직하게는 설페이트 또는 하이드로겐 설페이트이다.

이들 컨디셔닝제는 액상 및 입상 직물 컨디셔닝 및 세제 조성물에 혼입시킬 수 있다. 상기와 같은 세제 조성물은 추가로 세제 증강제, 킬레이트화제, 효소, 방오제, 재침착방지제 및 직물 세척 또는 컨디셔닝에 사용하기에 유용한 세제 성분을 함유할 수 있다.

특히, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 직물 보호 입자에 혼입시키면 액체 세제 조성물 중 직물 보호제의 화학적 안정성이 놀라울 정도로 개선되는 것이 밝혀졌다.

또한, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민 성분의 R₃가 H 또는 CH₃인 경우, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 입자내로 혼입하면 물질의 열특성이 변화되어 물질이 실온에서 경화되는 것으로 밝혀졌다. 따라서, 컨디셔닝제 입자는 더욱 재생성이 높고 생산관리(프릴링에 의한 생산을 포함) 및 취급이 더욱 용이하다. 이는 입상 및 액상 제품 제형 둘다에 대해 유리하다.

특히 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민의 R₃이 C₁₂-C₂₀알킬 또는 알케닐인 경우 액체 세제 조성물 중의 입자의 화학적 안정성이 크게 증가될 수 있다.

본 발명의 컨디셔닝제, 직물 보호 조성물 및 세제 조성물은 하기에 상세히 기술되어 있다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 직물 보호 조성물이란 용어는 본 발명의 컨디셔닝제를 함유하고 임의로 다른 직물 컨디셔닝 성분을 함유하는 조성물을 의미하나 상당한 양의 직물 세정 성분은 함유하지 않는 조성물을 의미한다. 세제 조성물이란 용어는 본 발명의 컨디셔닝제를 함유하고, 임의로 다른 직물 컨디셔닝제를 함유하며, 또한 하나 이상의 직물 세정 성분을 함유하는 조성물을 의미한다.

컨디셔닝제

본발명의 컨디셔닝제는 평균 직경이 약 500마이크론 미만, 바람직하게는 약 350마이크론 미만, 더욱 바람직하게는 약 200마이크론 미만이고 약 10마이크론 이상, 바람직하게는 약 40마이크론 이상, 더욱 바람직하게는 약 50마이크론 이상인 수불용성 입자를 함유한다. 상기 입자는 특정의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 및 특정의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 혼합물을 함유한다. 이들 입자는 직접적으로 또는 세척을 통한 직물 컨디셔닝 공정에 유용한 직물 보호 조성물에 혼입되어 사용할 수 있고, 또한 세탁용 세제 조성물에 혼입되는 경우 세정력이 크게 손상됨이 없이 직물 컨디셔닝을 제공할 수 있다. 본 발명의 컨디셔닝제 입자는 또한 세정-첨가 또는 무수 첨가 직물 컨디셔닝용으로 사용할 수 있다.

아민과 유기 음이온 및 무기 음이온과의 착화 반응은 각각의 출발물질로부터 화학적으로 뚜렷하게 구분되는 이온쌍 화합물을 형성한다. 사용된 아민형 및 유기 음이온형 또는 무기 음이온형, 아민 대 유기 음이온 및 무기 음이온의 비, 또한 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 대 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 비와 같은 요건들은 착화합물이 특정의 온도에서 젤화(연질) 또는 고형화(경질) 특성을 갖는지에 대해 영향을 끼치는 열 상 전이점(thermal phase transiftion point)을 포함하여 생성된 착화합물의 물리적 특성에 영향을 미칠 수 있다. 이들 요건들은 하기에 더욱 상세히 기술된다.

아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물은 일반식 (1)로 나타낼 수 있다.

상기 식에서, R₁및 R₂는 독립적으로 C₁₂내지 D₂₀알킬 또는 알케닐이고, R₃은 각각 H 또는 CH₃이며, A는 유기 음이온을 나타내고 음이온 계면활성제로부터 유도된 여러가지 음이온, 및 표면 활성이 존재하지 않는 관련된 단쇄 알킬 또는 알케닐 화합물을 포함한다. A는 알킬 설포네이트, 아릴 설포네이트, 알킬아릴 설포네이트, 알킬 설페이트, 디알킬 설포숙시네이트, 알킬 옥시벤젠 설포네이트, 아실 이세티오네이트, 아실 알킬 타우레이트, 알킬 에톡시화 설페이트, 및 올레핀 설포네이트, 및 이러한 음이온들의 혼합물 중에서 선택된다.

본 명세서에서 사용된 바와 같은 알킬 설포네이트란 용어는 탄소쇄에 고정되거나, 예정된 위치에 설포네이트 잔기를 갖는 알킬 화합물과 탄소쇄상의 무작위의 위치에 설포네이트 잔기를 갖는 화합물을 포함할 수 있다.

아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물은 일반식 (2)로 나타낼 수 있다.

상기 식에서, R₁및 R₂는 각각 독립적으로 C₁₂내지 C₂₀알킬 또는 알케닐일 수 있고, R₃은 각각 H, CH₃, 또는 C₂-C₂₀알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 H, CH₃또는 C₁₂-C₂₀알킬 또는 알케닐이며, X는 아민 대 무기 음이온의 몰비와 무기 음이온의 원자가에 상응하고, x는 1 내지 3의 정수를 포함하며, B는 설페이트(SO₄ ^2-), 하이드로겐 설페이트(HSO₄ ^-1), 니트레이트(NO₃ ^-), 포스페이트(PO₄ ^3-), 하이드로겐 포스페이트(HPO₄ ^2-), 및 디하이드로겐 포스페이트(H₂PO₄ ⁺), 및 이의 혼합물이고, 바람직하게는 설페이트 또는 하이드로겐 설페이트나 이로 제한되지 않는다.

세정을 통해 이의 직물 보호 이점을 제공하기 위한 본 발명의 컨디셔닝 입자는 평균 입자 직경이 약 10 내지 약 500마이크론이다. 입자의 평균 직경은 바람직하게는 약 350마이크론 미만, 더욱 바람직하게는 약 200마이크론 미만, 가장 바람직하게는 약 150마이크론 미만이다. 또한, 입자의 평균 직경은 바람직하게는 약 40마이크론 이상, 더욱 바람직하게는 약 50마이크론 이상이다. 평균 입자 직경이란 용어는 주어진 물건의 실제 입자의 평균 입자 직경 크기를 나타낸다. 평균은 중량%를 기준으로 하여 계산된다. 평균은, 예를 들어 레이저광 회절 또는 주사전자현미경을 사용하는 현미경 분석과 같은 통상의 분석기술에 의해 측정된다. 바람직하게는, 50중량% 이상, 더욱 바람직하게는 70중량% 이상, 가장 바람직하게는 90중량% 이상의 입자는 약 500마이크론 미만, 바람직하게는 약 350마이크론 미만, 더욱 바람직하게는 200마이크론 미만인 실제 직경을 갖는다. 또한 바람직하게는 50중량% 이상, 더욱바람직하게는 70중량% 이상, 가장 바람직하게는 90중량% 이상의 입자는 약 10마이크론 이상, 바람직하게는 약 40마이크론 이상, 더욱 바람직하게는 50마이크론 이상인 실제 직경을 갖는다.

본 발명의 컨디셔닝 입자는, 입자의 중량을 기준으로 하여, 일반식 (1)의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 약 5 내지 약 95중량%와 일반식 (2)의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 약 95 내지 약 5중량%, 바람직하게는 일반식 (1)의 착화합물 약 40 내지 약 90중량%와 일반식 (2)의 착화합물 약 60 내지 약 10중량%, 더욱 바람직하게는 일반식 (1)의 착화합물 약 50 내지 약 90중량%와 일반식 (2)의 착화합물 약 50 내지 약 20%를 함유한다. 특히 A가 C₃선형 알킬벤젠 설포네이트(큐멘 설포네이트)인 경우, 바람직한 이온쌍 컨디셔닝 입자에 대해 가장 바람직하게는, 입자는 일반식 (1)의 착화합물 약 70%와 일반식 (2)의 착화합물 약 30%를 함유한다.

일반적으로, 컨디셔닝 입자의 성능을 분해할 수 있는 세제 기제를 형성할 수 있는, 액체 세제 조성물 중의 극성 용매, 증강제 및 계면활성제와 같은 세정 성분으로 통상적으로 사용된 세제 성분의 존재하에 입자가 존재하는 경우, 일반식 (2)의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 컨디셔닝 입자내로 혼입하여 증가된 화학안정성을 제공한다.

입자의 화학적 안정성은 일반식 (2)의 착화합물의 아민 성분의 R₃의 알킬 또는 알케닐 쇄의 길이가 증가됨에 따라 증가된다. 일반식 (2)의 착화합물 아민 성분의 R₃쇄 길이의 증가는 또한 증가된 고형화(경화)와 관련된다. 따라서, 일반식 (2)의 착화합물의 아민 성분이 3급 아민(여기서, 3급 아민의 R₃은 C₂-C₂₀알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 C₁₂-C₂₀알킬 또는 알케닐, 더욱 바람직하게는 C₁₆-C₂₀알킬이다)인 경우, 화학적 안정성은 특히 크게 증가할 수 있다. 일반식 (2)의 착화합물로 제조된 컨디셔닝 입자는 액체 세제 조성물용으로 특히 유용하다. 일반식 (2)의 착화합물의 아민 성분이 2급 아민(여기서, 아민의 R₃은 H이다) 또는 3급 아민(여기서, R₃은 단쇄 작용기, 바람직하게는 CH₃이다)인 경우, 컨디셔닝 입자는 일반식 (2)의 착화합물의 고급 R₃쇄 길이를 갖는 컨디셔닝 입자에 대한 고형화 정도가 증가된다. 이러한 컨디셔닝 입자는 특히 탁월한 가공 특성을 갖고 액상 또는 입상 세제 조성물 둘다에 유용하다.

일반식 (1)의 착화합물 대 일반식 (2)의 착화합물(여기서, 일반식 (2)의 아민의 R₃은 H 또는 탄쇄 알킬 작용기, 특히 H 또는 CH₃이다)의 비도 이들 이온쌍 착화합물을 함유하는 입자가 특정 온도에서 젤라틴성(연질)을 띨 것인지 고화(경질) 특성을 띨 것인지에 영향을 미칠 수 있다. 일반식 (2)의 이온상 착화합물의 비가 높을수록 입자는 보다 고화(경질)되기 때문에 프릴링(Prilling)이나 기계적 기공으로 입자화하기 용이하다. 공용 혼합물에 포함된 일반식 (1)의 직물 보호 활성 이온쌍 착화합물의 비가 높을수록 이러한 공용 혼합물로부터 제조한 입자는 보다 높은 직물 보호 컨디셔닝 성능을 갖는다. 이와 같이 최적의 직물 보호 컨디셔닝 제형은 이같은 인자를 균형맞추는 것을 포함하며 모든 적용에 대해 동일한 필요는 없다. 그러나, 불필요한 실험을 하지 않고도 본 기술 분야의 통상적 기술로 이러한 균형을 잡을 수 있다.

일반식 (1)의 이온쌍 착화합물에 대한 출발 아민의 일반식은 다음과 같다 :

상기 식에서, R₁및 R₂는 독립적으로 C₁₂내지 C₂₀알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 C₁₆-C₂₀알킬 또는 알케닐, 가장 바람직하게는 C₁₆내지 C₂₀알킬이며, R₃은 H 또는 CH₃이다.

출발 아민에 대한 적합한 비제한적 아민에는 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민 및 탈로우 아라키딜 메틸 아민이 포함된다. 가장바람직한 것은 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민, 디탈로우 메틸 아민 및 디스테아릴 메틸 아민이다.

본 발명의 이온쌍 착화합물에 유용한 유기 음이온(A)는 알킬 설포네이트, 아릴 설포네이트, 알킬아릴 설포네이트, 알킬 설페이트, 알킬 에톡시화 설페이트, 디알킬 설포석시네이트, 알킬 옥시벤젠 설포네이트, 아실 이세티오네이트, 아실알킬 타우레이트 및 올레핀 설포네이트이다.

바람직한 유기 음이온은 C₁-C₂₀알킬 설포네이트, C₁-C₂₀알킬아릴 설포네이트, C₁-C₂₀알킬 설페이트, C₁-C₂₀알킬 에톡시화 설페이트, 아릴 설포네이트 및 디알킬 설포석시네이트이다.

보다 바람직한 것은 C₁-C₂₀알킬 에톡시화 설페이트, C₁-C₂₀알킬아릴 설포네이트, 아릴 설포네이트 및 디알킬 설포석시네이트이다.

더욱 더 바람직한 것은 C₁-C₂₀알킬아릴 설포네이트 및 아릴 설포네이트이며 특히 바람직한 것은 벤젠 설포네이트(본원에 사용하는 바와 같이, 벤젠 설포네이트는 벤젠 환에 직접 결합된 탄화수소 쇄를 함유하지 않는다) 및 C₁-C₁₃알킬아릴 설포네이트외에 C₁-C₁₃선형 알킬 벤젠 설포네이트(LAS)를 포함한다. LAS의 벤젠 설포네이트 잔기는 알킬 쇄의 어떤 탄소원자에도 위치할 수 있으며, 3개 이상의 탄소원자를 함유하는 알킬쇄에 있어서는 통상 두번째 탄소원자에 위치한다.

가장 바람직한 유기 음이온은 벤젠 설포네이트 및 C₁-C₅선형 알킬 벤젠 설포네이트(LAS), 특히 C₁-C₅LAS이다.

위에 기재한 유기 음이온은 통상 시판회사(참조 : Aldrich Chemical Co., Inc. in Milwaukee, Wisconsin, Vista Chemical Co. in Ponca, Oklahoma, and Reutgers-Nease Chemical Co. in State College, pennsylvania)로부터 시판 화학 원료로부터 이의 산 또는 가용성 형태, 바람직하게는 산 형태로 구입할 수 있다. 아민은 미합중국 오하이오 더블린 소재의 세렉스 케미칼 코포레이션(Sherex Chemical Corp.)으로부터 구할 수 있다.

바람직한 착화합물은 아릴 설포네이트 또는 C₁-C₂₀알킬아릴 설포네이트와 착화된 디탈로우 아민, 아릴 설포네이트 또는 C₁-C₂₀알킬아릴 설포네이트와 착화된 디탈로우 메틸 아민, 아릴 설포네이트 또는 C₁-C₂₀알킬아릴 설포네이트와 착화된 디스테아릴 아민 및 아릴 설포네이트 또는 C₁-C₂₀알킬아릴 설포네이트와 착화된 디스테아릴 메틸 아민의 조합으로부터 생성된 착화합물이다. 더욱 바람직한 것은 벤젠 설포네이트 또는 C₁-C₁₃선형 벤젠 설포네이트(LAS)와 착화된 디탈로우 아민, 디탈로우메틸 아민, 디스테아릴 아민 또는 디스테아릴 메틸 아민으로 부터 생성된 착화합물이다. 더욱 더 바람직한 것은 벤젠 설포네이트 또는 C₁-C₅선형 알킬 벤젠 설포네이트와 착화된 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디스테아릴 아민 또는 디스테아릴 메틸 아민으로부터 생성된 착화합물이다. 가장 바람직한 것은 C₁-C₃LAS와 착화된 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디스테아릴 아민 또는 디스테아릴 메틸 아민으로부터 생성된 착화합물이다.

일반식 (2)의 이온쌍 착화합물에 대한 출발 아민의 일반식은 다음과 같다.

상기 식에서, R₁및 R₂는 독립적으로 C₁₂내지 C₂₀알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 C₁₆내지 C₂₀알킬 또는 알케닐, 가장 바람직하게는 C₁₆내지 C₂₀알킬이며, R₃은 각각 H, CH₃, 또는 C₂내지 C₂₀알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 H, CH₃또는 C₁₂-C₂₀알킬 또는 알케닐이다.

일반식 (2)의 착화합물에 대한 출발 아민의 적합한 비제한적 예에는 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민, 트리탈로우 아민, 트리팔미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아릴, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜이 포함된다.

컨디셔닝 입자를 이온쌍 컨디셔닝 입자에 특히 공격적인 액체 세제 기본 조성물에 사용할 수 있는 적용에 있어서 R₃는 바람직하게는 C₁₂내지 C₂₀알킬 또는 알케닐, 더욱 바람직하게는 C₁₆내지 C₂₀알킬이다. 이러한 출발 아민의 비제한적인 적합한 예는 트리탈로우 아민, 트리팔미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아릴, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜이다. 바람직한 것은 트리탈로우 아민 및 트리스테아릴 아민이다.

입자의 과도한 화학적 분해 없이 상업적으로 허용되는 저장 수명을 제공하는 화학적 안정 수준을 얻을 수 있는 입상 세제 조성물, 액상 또는 입상 섬유 컨디셔닝 조성물 및 액상 세제 조성물에서와 같이 높은 화학적 안정성과 가공 및 취급의 용이성이 요구되는 적용에 있어서 R₃은 바람직하게는 H 또는 CH₃이다.

R₃은 H 또는 CH₃인 일반식 (2)의 착화합물의 아민의 적합한 비제한적인 예에는 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민이 포함된다. 바람직한 것은 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민, 디탈로우 메틸 아민 및 디스테아릴 메틸 아민이다.

아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 무기 음이온 성분은 질산, 황산 및 인산과 같은, 그러나 이에 한정되지는 않는, 1가-, 2가- 및 3가 음이온을 갖는 산을 포함하는 무기산으로부터 수득할 수 있다. 특히 바람직한 것은 황산이다. 이들 산은 알드리히 케미칼 캄파니 인코포레이션(Milwaukee, Wisconsin 소재) 및 시그마 케미칼 캄파니(St. Louis, Missouri 소재)를 포함하는 화학물질 공급사로부터 구입할 수 있다.

본 발명의 직물 보호제는 일반식 (1)의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 및 일반식 (2)의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 포함하는 입자를 함유한다. 이들 두 가지 형태의 이온쌍 복합체는 입자가 이온쌍 착화합물의 혼합물을 포함하여 형성될 수 있도록 물리적으로 혼합한다. 이것은 각각의 형태의 이온쌍 착화합물을 분리하여 형성시킨 후, 두개의 용융 이온쌍 착화합물을 함께 혼합하여 이들을 물리적으로 혼합시켜 수행할 수 있다. 두 가지 형태의 이온쌍 착화합물의 혼합물을 제공하는 또 다른 방법은, 예를 들면, 유기 음이온 성분 A, 무기 음이온 성분 B 및 충분한 양의 아민 성분을 함유하는 용융물을 제조하여 목적하는 농도의 각각의 이온쌍 착화합물을 형성함으로써 결합하여 착화합물을 형성하는 것이다.

아민 및 유기 음이온은 아민 대 음이온 화합물의 몰비가 약 10：1 내지 약 1：2, 바람직하게는 약 5：1 내지 약 1：2, 더욱 바람직하게는 약 2：1 내지 1：, 가장 바람직하게는 약 1：1로 혼합된다. 무기 음이온이 2가 황산염 음이온인 바람직한 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물에 대하여, 아민 및 무기 음이온은 몰비가 약 10：1 내지 약 1：2, 바람직하게는 약 5：1 내지 약 1：2, 더욱 바람직하게는 약 3：1 내지 약 1：1, 가장 바람직하게는 약 2：1로 혼합된다. 상기 비로 나타낸 아민량은 일반식 (1) 및 일반식 (2)의 이온쌍 착화합물의 개별적은 제조를 기본으로 한다. 따라서, 일반식 (1) 및 일반식 (2)의 이온상 착화합물이 결합하여 형성될 경우, 아민 대 유기 음이온 대 무기 음이온의 몰비는 일반식 (1) 및 일반식 (2) 착화합물의 바람직한 비에 따라 좌우될 것이다. 예를 들면, 극히 바람직한 디탈로우 아민-C₃LAS/디탈로우 아민-설페이트 공융물이 디탈로우 아민-C₃LAS 대 디탈로우 아민-설페이트 70：30의 중량비로 사용될 경우, 출발 물질 중의 디탈로우 아민, C₃LAS 및 설페이트의 몰비는 약 5.7：3.7：1.0으로 될 것이다.

컨디셔닝 입자의 이온쌍 착화합물을 형성하는 또 다른 방법은 아민을 가열하여 액체 상태로 되도록 한 후, 이 용융아민 성분을 가하여 별도로 가열된 유기 음이온 및 무기 음이온의 산성 수용액에 가한 후, 클로로포름과 같은 용매를 사용하여 이온쌍 착화합물을 추출한다. 또한, 용융 아민을 유기 음이온 및 무기 음이온의 가열된 산성 수용액 혼합물에 가하고, 이어서 용매 추출시킬 수 있다.

목적하는 입자 크기는, 예를 들면, 혼합기[예 : Oster

혼합기]나 대형 밀(예 : Willey

밀) 중에서 이온쌍 착화합물 혼합물을 목적하는 입자 크기로 기계적 분쇄하여 수득할 수 있다. 바람직하게는, 이온쌍 착화합물 혼합물의 공융물을 수압으로 가열된 노즐을 통과시키는 것과 같은 통상의 방법으로 프릴링시켜 입자를 형성한다. 노즐을 통과하기 전에 공융물은, 예를 들면, 충분한 속도로 루우프를 통과하는 공융물을 연속 회전시켜 정착을 방지하는 것과 같은 잘 혼합시키는 조건이어야 한다. 공융물을 수압으로 노즐을 통과시키는 또 다른 방법으로서, 공기 사출을 사용하여 공융물이 노즐을 통과하도록 할 수 있다. 프릴링하여 수득되는 입자는 바람직하게는 구형이고, 본 발명의 적용 및 바람직한 범주의 입경이 수득될 수 있다. 실온에서 젤라틴성(즉, 연질)인 착화합물의 공융물이 기계적으로 분쇄되어, 예를 들면, 액체 질소를 사용하여 플래쉬 동결시킨 후, 목적하는 입자 크기가 수득될 수 있다. 이어서 입자의 수성 분산액을 형성하기 위해 유용한 세제 기재나 수성 기재와 같은 액체 운배계 중으로 입자를 혼입할 수 있다. 또한 액체 적용을 위해 공융물은 세제 기재와 같은 액체 운반계에 가해진 후, 고전단 혼합에 의하여 입자화시킬 수 있다.

본 발명의 착화합물은 그들의 열 상 전이점을 특징으로 한다. 하기되는 열 상 전이(이하에서는, 전이점이라고 한다)는 착화합물이 가열할 경우에 제일 먼저 발생되는 연화(고체에서 액체로의 결정 상 전이) 또는 용융(고체로의 등방성 상 전이)를 나타내는 온도를 의미한다. 전이점 온도가 시차주사열량계(DSC) 및/또는 편광 분광학에 의하여 측정될 수 있다. 본 발명의 공융 혼합물로부터 제조되는 고체 입자의 제1전이점은 바람직하게는 약 10℃ 내지 약 100℃, 더욱 바람직하게는 약 30℃ 내지 약 100℃, 가장 바람직하게는 약 35℃ 내지 약 80℃일 것이다.

아민-유기 음이온쌍 착화합물에 대하여, 통상적으로 보다 짧은 쇄 길이의 음이온성 화합물이 보다 긴 쇄 길이를 함유하는 음이온성 화합물을 가짐을 제외하고는 동일한 착화합물 보다 전이점이 높은 착화합물을 형성할 것이다. 매우 바람직한 이온쌍은 C₁내지 C₃LAS 및 벤젠 설포네이트로 제조되며, 통상적으로 10℃ 내지 100℃의 전이점을 갖는다. C₆내지 C₁₃으로 제조되는 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물은 통상적으로 약 15℃ 내지 약 30℃의 제1전이점을 가지며 겔라틴성(연질)으로 되는 경향이 있다. 아민-유기 음이온 쌍 착화합물은 C₁내지 C₅LAS 및 벤젠 설포네이트(즉, 알킬 쇄가 없는)로 제조되며 통상적으로 약 30℃ 내지 약 100℃의 제1전이점을 가지며, 더욱 고화(경질)되는 경향이 있으며, 따라서 공융된 아민-유기 음이온/아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 혼합물을 형성하는 경향이 있는데, 이는 더욱 포릴링되기 쉬우며 또한 아민-무기 음이온 이온쌍 복합체의 주어진 농도에 대한 액체 세제 조성물 중에서 화학안정성이 더욱 우수하다.

바람직한 컨디셔닝 입자는 C₁내지 C₃LAS로부터 유도되는 유기 음이온 성분으로 제조되며 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물과 별개의 약 35℃ 내지 약 100℃에서 전이점을 갖는다.

바람직한 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물은 1：1의 몰비로 C₁내지 C₃LAS와 착화합물화된 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸아민, 디스테아릴 아민 또는 디스테아릴 메틸 아민을 함유하는 것을 포함한다. 이들 착화합물은 통상적으로 약 35℃ 내지 약 100℃의 전이점을 갖는다. 이들 바람직한 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물은 바람직하게는 2：1의 몰비로 설페이트와 착화합물화된 디탈로우 아민, 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민 또는 디스테아릴 메틸 아민을 함유하는 입자로 형성된다.

상기의 온도 범위는 대략적인 것이며 온도 범위를 벗어나는 착화합물을 배제하는 것을 의미하는 것은 아니다. 또한 이온쌍 착화합물의 특정 아민이 전이점에 영향을 줄 수 있음도 이해하여야 한다. 예를 들면, 동일한 음이온성 화합물용의 디스테아릴 아민은 디탈로우 아민보다 더 경질의 이온쌍 착화합물을 형성하고, 디탈로우 아민은 디탈로우 메틸 아민보다 더 경질의 이온쌍 착화합물을 형성할 것이다.

이온쌍 착화합물 혼합물로부터 제조되는 이상적인 컨디셔닝 입자는 세척중 직물중에 포획되도록 하기 위해 충분히 크며, 적어도 상당한 부의 입자, 바람직하게는 전체 입자가 통상의 자동 세탁 건조기 온도에서 연화되거나 용융될 정도로 충분히 낮은 전이점을 갖지만, 직물 세척이나 헹굼 단계에서 용융될 정도로 낮지 않은 전이점을 갖는다.

본 발명의 컨디셔닝 입자는 세제 조성물중에 혼입되거나 거의 세척에 손상을 주지 않거나, 있다면, 약간 손상을 주는 세제 조성물 존재하에서 사용될 수 있다. 이들 컨디셔닝 입자는 기계나 손에 의한 세탁후 기계 건조 및 또한 기계나 손에 의한 세탁 후 라인 건조를 포함하는 다양한 세탁 조건에 대한 컨디셔닝 장점을 제공한다. 또한, 이들 동일한 컨디셔닝제는 다양한 계면활성제 계와 사용될 수 있다.

본 발명의 컨디셔닝 입자는 다양한 운반계로부터 컨디셔닝 장점을 제공하기에 유용하다. 사용하기에 적절한 운반계는 세제 조성물(입상 및 액상 세제 조성물), 본 발명의 직물 보호제를 포함하는 직물 컨디셔닝 조성물(입상 및 액상 직물 컨디셔닝 조성물) 및 물에서 물품을 접촉시키고/거나 교반시킬 경우에 컨디셔닝 입자를 방출시키기 위해 적용되는 직물 보호 및/또는 세제 물품을 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 입상 조성물은 본 발명의 컨디셔닝 입자를 함유하는 특정의 건조 조성물을 말한다. 이것은 덩어리 형태가 아닌 입자뿐 아니라 과립(건조) 세제 중에 사용되는 덩어리 형태(이후에 언급됨)로 나타나는 크기의 컨디셔닝제의 입자를 포함한다. 후자의 형태는 또한 분말 조성물로서 언급될 수 있다. 본 발명의 컨디셔닝 입자는 특히 액체 세제 조성물용으로 유용한데, 이는 입자 중으로 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 혼입시킴으로써 아민-유기 음이온 이온쌍 복합체로 필수적으로 제조되는 입자와 비교하여, 세제 기재 중에서 컨디셔닝 입자의 안정성을 증가시키기 때문이다.

상기와 같이, 본 발명의 컨디셔닝제가 건조기-첨가, 세탁-첨가 및 헹굼-첨가물로 사용될 경우에, 세탁 성능의 상당한 감소 없이 세제 성분의 존재하에서 본 발명의 직물 보호제를 사용하는 것은 특정의 장점이다.

컨디셔닝 입자는 전형적으로 컨디셔닝 입자가 존재하거나 혼입된 세제 조성물의 약 0.1% 내지 약 20.0%, 바람직하게는 0.1% 내지 약 10%의 농도로 사용된다. 세제 조성물 성분은 다음과 같다.

세제 계면활성제

본 발명의 세제 조성물 중에 함유하는 세제 계면활성제의 양은 사용되는 특정의 계면활성제 및 목적 효과에 따라서 조성물의 약 1 내지 약 98중량%로 변화될 수 있다. 바람직하게는, 세제 계면활성제는 조성물의 약 10 내지 약 60중량%를 함유한다. 음이온성, 양이온성 및 비이온성 계면활성제의 배합물이 사용될 수 있다. 음이온성 및 비이온성 계면활성제의 배합물이 액상 세제 조성물용으로 바람직하다. 액상 세제 조성물용의 바람직한 음이온성 계면활성제는 선형 알킬 벤젠 설포네이트, 알킬 설페이트 및 알킬 에톡시화 설페이트를 포함한다. 바람직한 비이온성 계면활성제는 알킬 폴리 에톡시화 알콜을 포함한다. 입상 세제 조성물 중에 세제 계면활성제로서 사용하기에는 음이온 계면활성제가 바람직하다. 바람직한 음이온성 계면활성제는 선형 알킬 설포네이트 및 알킬 설페이트를 포함한다.

반극성, 양쪽성 쯔비터이온성 또는 양이온성 계면활성제와 같은 다른 부류의 계면활성제가 사용될 수 있다. 이들 계면활성제의 혼합물도 사용될 수 있다.

A. 비이온 세제 계면활성제

적절한 비이온성 세제 계면활성제는 통상적으로 문헌[미합중국 특허 제3,929,678호, 라플린 등, 1975년 12월 30일 허여됨, 칼럼 13 라인 14 내지 칼럼 16 라인 6]에 기술되어 있는데, 이를 본 명세서에서 참고로 인용되었다. 유용한 비이온성 계면활성제의 부류에는 다음과 같은 것이 있다 :

1. 알킬 페놀의 폴리에틸렌 옥사이드 축합물

이들 화합물은 에틸렌 옥사이드와 직쇄 또는 측쇄의 약 6 내지 약 12개의 탄소원자를 함유하는 알킬 그룹을 갖는 알킬 페놀의 축합 생성물을 포함하는데, 여기에서 에틸렌 옥사이드는 알킬페놀의 1몰당 약 5 내지 약 25몰의 에틸렌 옥사이드에 상응하는 양으로 존재한다. 이런 형태의 화합물의 예는 페놀 1몰당 9.5몰의 에틸렌 옥사이드와 축합된 노닐 페놀, 페놀 1몰당 약 12몰의 에틸렌 옥사이드와 축합된 도데실 페놀, 페놀 1몰당 약 15몰의 에틸렌 옥사이드와 축합된 디노닐 페놀 및 페놀 1몰당 약 15몰의 에틸렌 옥사이드와 축합된 디이소옥틸 페놀을 포함한다. 이러한 형태의 시판 구입 가능한 비이온성 계면활성제는 GAF 코포레이션의 제품(Igepal™ CO-630)과 롬 앤드 하스 캄파니의 제품(Triton™ X-45, X-114, X-100 및 X-102)을 포함한다.

2. 에틸렌 옥사이드 약 1 내지 25몰과 지방족 알콜의 축합 생성물

지방족 알콜의 알킬쇄는 직쇄 또는 측쇄이고, 1급이나 2급이며, 통상적으로 탄소원자를 약 8 내지 22개 함유한다. 특히 바람직한 것은 알콜 1몰당 에틸렌 옥사이드 약 4 내지 약 10몰과 약 10 내지 약 20개의 탄소원자를 함유하는 알킬 그룹을 갖는 알콜의 축합 생성물이다. 에톡시화된 알콜의 예는 알콜 1몰당 약 10몰의 에틸렌 옥사이드와 미리스틸 알콜의 축합 생성물 및 에틸렌 옥사이드 약 9몰과 코코낫 알콜(탄소수 10 내지 14개로 변화되는 알킬쇄의 지방산 알콜의 혼합물)의 축합 생성물을 포함한다. 이러한 형태의 시판 구입 가능한 비이온성 계면활성제의 예는 유니온 카바이트 코포레이션의 제품[Tergitol™ 15-S-9(에틸렌 옥사이드 9몰과 C₁₁내지 C₁₅선형 알콜의 축합 생성물), Tergitol™ 24-L-6NMW(좁은 분자량 분포를 갖는, 에틸렌 옥사이드 6몰과 C₁₂내지 C₁₄1급 알콜의 축합 생성물)], 쉘 케미칼 캄파니의 제품[Neodol™ 45-9(에틸렌 옥사이드 9몰과 C₁₄내지 C₁₅선형 알콜의 축합 생성물), Neodol™ 23-6.5(에틸렌 옥사이드 6.5몰과 C₁₂내지 C₁₃선형 알콜의 축합 생성물), Neodol™ 45-7(에틸렌 옥사이드 7몰과 C₁₄내지 C₁₅선형 알콜의 축합 생성물), Neodol™ 45-4(에틸렌 옥사이드 4몰과 C₁₄내지 C₁₅선형 알콜의 축합 생성물), 및 더 프록터 앤드 갬블 캄파니의 제품[Kyro™EOB(에틸렌 옥사이드 9몰과 C₁₃내지 C₁₅선형 알콜의 축합 생성물]을 포함한다.

3. 프로필렌 글리콜과 프로필렌 옥사이드의 축합에 의해 형성되는 소수성 기재와 에틸렌 옥사이드의 축합 생성물

이들 화합물의 소소성 부분은 분자량이 약 1500 내지 약 1800이며 수불용성을 나타낸다. 소수성 부분에 폴리옥시에틸렌 부분을 첨가하면 대체로 분자의 수용해도를 증가시키는 경향이 있으며, 생성물의 액성은 폴리옥시에틸렌 함량이 에틸렌 옥사이드 약 40몰 이하와의 축합에 상응하는 축합 생성물 총 중량%의 약 50%인 점까지 유지된다. 이러한 형태의 화합물의 예는 시판되는 비얀도테(Wyandotte) 케미칼 코포레이션의 제품(Pluronic™ 계면활성제)을 포함한다.

4. 프로필렌 옥사이드와의 에틸렌 디아민을 반응시켜 제조한 에틸렌 옥사이드의 축합 생성물

이들 화합물의 소수성 부분은 에틸렌 디아민과 과량의 프로필렌 옥사이드의 반응 생성물로 이루어져 있으며, 통상적으로 분자량이 약 2500 내지 약 3000이다. 소수성 부분은 축합 생성물이 약 40 내지 약 80중량%의 폴리옥시에틸렌을 함유할 정도로 에틸렌 옥사이드와 축합되며, 분자량이 약 5,000 내지 약 11,000이다. 이러한 형태의 비이온성 계면활성제의 예는 시판되는 비얀도테 케미칼 코포레이션의 제품(Tetronic™ 화합물)을 포함한다.

5. 약 1 내지 약 3개의 탄소원자를 함유하는 알킬 그룹 및 히드록시알킬 그룹으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 잔기 2개 및 약 10 내지 약 18개의 탄소수의 알킬 잔기 1개를 함유하는 수용성 아민 옥사이드, 약 1 내지 약 3개의 탄소수를 함유하는 알킬 그룹 및 히드록시 알킬 그룹으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 잔기 2개 및 약 10 내지 약 18개의 탄소수를 함유하는 수용성 포스핀 옥사이드, 및 약 1 내지 약 3개의 탄소수의 알킬 및 히드록시 알킬 부분으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 잔기 1개 및 약 10 내지 약 18개의 탄소수의 알킬 잔기 1개를 함유하는 수용성 설폭사이드를 포함하는 반극성 비이온 계면활성제.

바람직한 반극성 비이온성 세제 계변활성제는 하기 일반식의 아민 옥사이드 계면활성제이다.

상기 식에서, R³은 탄소수 약 8 내지 약 22의 알킬, 하이드록시알킬, 알킬 페닐 그룹 또는 이의 혼합물이고, R⁴는 탄소수 약 2 내지 약 3의 알킬렌 또는 히드록시알킬렌 그룹 또는 이의 혼합물이며, x는 0 내지 약 3이고, R⁵는 각각 탄소수 약 1 내지 3의 알킬 또는 히드록시알킬 그룹이거나 약 1 내지 약 3개의 에틸렌 옥사이드 그룹을 함유하는 폴리에틸렌 옥사이드 그룹이다. R⁵그룹은, 예를 들면, 산소나 질소원자에 의하여 상호 결합되어 환 구조를 형성할 수 있다.

바람직한 아민 옥사이드 계면활성제는 C₁₆내지 C₁₈알킬 디메틸아민 옥사이드 및 C₈내지 C₁₂알콕시 에틸 디히드록시 에틸 아민 옥사이드이다.

6. 탄소수 약 6 내지 약 30, 바람직하게는 약 10 내지 약 16의 소수성 그룹 및 사카라이드 단위 약 1.5 내지 약 10, 바람직하게는 약 1.5 내지 약 3, 가장 바람직하게는 약 1.6 내지 약 2.7을 함유하는 친수성 그룹인 폴리사카라이드(예 : 폴리글리코사이드)를 갖는 미합중국 특허 제4,565,647호(1986년 1월 21일에 레나도에게 허여)에 기술되어 있는 알킬폴리사카라이드. 탄소수 5 또는 6의 환원 사카라이드(예 : 글루코스, 갈락토오스 및 갈락톡실 잔기)는 글르코실 부분 대신에 치환될 수 있다(소수성 그룹이 임의로 2-, 3-, 4- 등의 위치에 부착되어 글르코사이드나 갈락토사이드에 대응되는 것으로 글루코스나 갈락토오스를 제공한다). 사카라이드 상호간의 결합은, 예를 들면, 추가의 사카라이드 단위의 하나의 위치와 선행 사카라이드 단위상의 2-, 3-, 4- 및/또는 6- 위치 사이일 수 있다.

임의로, 바람직하지 않게는 소수성 부분 및 폴리 사카라이드 부분을 결합하는 폴리알킬렌 옥사이드 쇄가 있을 수 있다. 바람직한 알킬렌 옥사이드는 에틸렌 옥사이드이다. 대표적인 소수성 그룹은 탄소수 약 8 내지 약 18, 바람직하게는 약 10 내지 약 16의 포화 또는 불포화, 측쇄 또는 직쇄 알킬 그룹을 포함한다. 바람직하게는, 알킬 그룹이 직쇄 포화된 알킬 그룹이다. 알킬 그룹은 약 3개 이하의 히드록시 그룹을 함유할 수 있고/거나 폴리알킬렌 옥사이드 쇄는 약 10 이하, 바람직하게는 5 미만의 알킬렌 옥사이드 부분을 함유할 수 있다. 적절한 알킬 폴리사카라이드는 옥틸, 노닐데실, 운데실도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 펩타데실 및 옥타데실, 디-, 트리-, 테트라-, 펜타- 및 헥사글루코사이드, 갈락토사이드, 락토사이드, 글루코스, 프락토사이드, 프락토오스 및/또는 갈락토오스이다. 적절한 혼합물은 코코낫 알킬, 디-, 트리-, 테트라- 및 펜타글루코사이드 및 탈로우 알킬 테트라-, 펜타-, 및 헥사글루코사이드를 포함한다.

바람직한 알킬폴리글리코사이드는 하기 일반식을 갖는다.

R²O(C_nH_2nO)_t(글리코실)_x

상기 식에서, R²는 알킬, 알킬페닐, 하이드록시알킬, 히드록시 알킬페닐 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹 중에서 선택되는데, 여기서 알킬 그룹은 탄소원자를 약 10 내지 약 18개, 바람직하게는 약 12 내지 약 14개 함유하며, n은 2 또는 3, 바람직하게는 2이고, t는 0 내지 약 10, 바람직하게는 0이며, x는 약 1.3 내지 약 10, 바람직하게는 약 1.3 내지 약 3, 가장 바람직하게는 약 1.3 내지 약 2.7이다.

글리코실은 바람직하게는 글루코스로부터 유도된다. 이들 화합물을 제조하기 위하여 알콜이나 알킬폴리에톡시알콜이 먼저 형성한 후, 글루코스 또는 글루코스 공급원과 반응하여 글루코사이드(1-위치에 부착)를 형성한다. 이때 추가의 글리코실 단위는 그들의 1- 위치와 선행하는 글리코실 단위 2-, 3-, 4- 및/또는 6- 위치, 특히 바람직하게는 2- 위치 사이에 부착될 수 있다.

7. 하기 일반식의 지방산 아미드 계면활성제

상기 식에서 R⁶는 탄소수 약 7 내지 약 21(바람직하게는 약 9 내지 약 17개)의 알킬 그룹이고, R⁷은 각각 수소, C₁-C₄알킬, C₁-C₄히드록시알킬 및 -(C₂H₄O)_xH(여기서, x는 약 1 내지 약 3이다)로 이루어진 그룹 중에서 선택된다.

바람직한 아미드는 C₈내지 C₂₀암모니아 아미드, 모노에탄올아미드, 디에탄올아미드 및 이소프로판올아미드이다.

B. 음이온성 세제 계면활성제

세제 계면활성제에 관한 당해 분야에서 입상 세제는 통상 이후에 기술하는 계면활성제의 염 형태를 포함하는 반면, 액상 세제는 일반적으로 계면활성제의 안정한 산 형태를 포함한다.

세제 계면활성제로서 본 발명에 사용하기에 적합한 음이온성 세제 계면활성제는 통상 문헌[참조 : 라플린(Laughlin) 등의 미합중국 특허 제3,929,678호(1975. 12. 30.), 23란 58행 내지 제29란 제23행 및 하디(Hardy) 등의 미합중국 특허 제4,294,710호(1981. 10. 13.)]에 기술된 것들과 같은 설페이트 및 설포네이트를 포함한다. 유용한 음이온성 계면활성제의 종류로는 다음과 같은 것이 있다 :

1. 탄소수 약 8 내지 약 24, 바람직하게는 탄소수 약 10 내지 약 20의 고급 지방산의 나트륨, 칼륨, 암모늄 및 알킬을 암모늄염과 같은 통상적인 알칼리 금속 비누, 바람직하게는 알칼리 금속 비누로는 나트륨 라우레이트, 나트륨 스테아레이트, 나트륨 올레에이트 및 칼륨 팔미테이트가 있다.

2. 탄소수 약 10 내지 약 20의 알킬 그룹 및 설폰산 또는 황산 에스테르 그룹을 그들의 분자구조에 함유하는 유기 황산 반응 생성물의 수용성 염, 바람직하게는 알칼리 금속염, 암모늄염 및 알킬올암모늄염(알킬이란 용어에는 아실 그룹의 알킬 부위가 포함된다)

음이온성 계면활성제의 본 그룹의 예로는 알킬 그룹이 직쇄 또는 측쇄, 탄소수 약 9 내지 약 15의 나트륨 및 칼륨 알킬벤젠 설포네이트, 즉 본 명세서에서 참고로 인용한 문헌[참조 : 귄터(Guenther) 등의 미합중국 특허 제2,220,099호(1940. 11. 5.) 및 루이스(Lewis)의 미합중국 특허 제2,477,383호(1946. 12. 26)]에 기술된 형태의 것들이다. 특히 유용한 것들로는 C₁₁-C₁₃LAS로 약칭된, 알킬 그룹 중의 평균 탄소수가 약 11 내지 약 13인 선형 직쇄 알킬벤젠설포네이트이다.

그밖의 음이온성 계면활성제로는 나트륨 알킬 글리세릴 에테르 설포네이트, 특히 탈로우 및 코코날유로부터 유도된 고급 알콜의 에테르들; 나트륨 코코날유 지방산 모노글리세라이드 설포네이트 및 설페이트; 분자당 에틸렌 옥사이드 단위를 약 1 내지 약 10개 함유하는 알킬 페놀 에틸렌 옥사이드 에테르 설페이트의 나트륨 또는 칼륨염이 있는데, 여기서 알킬 그룹은 탄소원자를 약 8 내지 12 함유한다.

또한, 이에 포함되는 것들로는 지방산 그룹에 탄소원자를 약 6 내지 약 20개 함유하고 에스테르 그룹에 탄소원자를 약 1 내지 약 10개 함유하는 알파-설폰화 지방산 에스테르의 수용성 염; 아실 그룹에 탄소원자를 약 2 내지 9개 함유하고 알칸잔기에 탄소 원자를 약 9 내지 약 23개 함유하는 2-아실옥시알칸-1-설폰산의 수용성 염; 알킬 그룹에 탄소 원자를 약 10 내지 약 20개 함유하는 알킬 설페이트(AS); 일반식 RO(C₂H₄O)_mSO₃M[여기서, R은 C₁₀-C₁₆알킬(바람직하다) 또는 하이드록시알킬 그룹이고, m은 약 0.5 내지 약 4이며, M은 친화성 양이온이다]의 것들과 같은 알킬 에톡시화 설페이트(AES); 탄소수 약 12 내지 약 24의 올레핀 설포네이트의 수용성 염; 및 알킬 그룹에 탄소원자 약 1 내지 약 3개와 알칸 잔기에 탄소원자 약 8 내지 약 20개를 함유하는 베타-설포네이트는 본 명세서에서 참고로 인용한 문헌[참조 : 휴즈(Hughes)의 미합중국 특허 제4,807,219호(1985. 3. 26.)]에 상세히 기술되어 있다. 계면활성제는 바람직하게는 조성물의(산을 기준) 약 10 내지 약 30중량%, 더욱 바람직하게는 약 10 내지 약 20중량%를 나타낸다.

상기 일반식의 바람직한 알킬 에톡시화 설페이트 계면활성제는 R 치환체가 C₁₂-C₁₅알킬 그룹이고 m이 약 1.0 내지 약 3인 것들이다. 이러한 물질의 예로는 C₁₂-C₁₅알킬 폴리에톡실레이트(2.25) 설페이트(C_12-15E_2.25S); C_14-15E_2.25S; C_12-13E_1.0S; C_14-15E_3.0S; 및 이들의 혼합물이다.

액상 세제 조성물에 유용한 특히 바람직한 계면활성제는 선형 C₁₁내지 C₁₃알킬 벤젠 설포네이트, 알킬 설페이트, 및 알킬 에톡시화 설페이트(음이온성) 및 C₁₂-C₁₃알킬 폴리에톡시화 알콜(비이온성), 및 이들의 혼합물이다. 전에는, 액상 세제 조성물용으로, 알킬 설페이트(비에톡시화) 및 알킬 에톡시화 설페이트가 액상세제 조성물의 중량을 기준으로 하여 약 5중량% 미만이어야만 했다고 생각된다. 이에 대한 하나의 이유는 이들 계면활성제가 컨디셔닝 입자들을 현탁시키려는 경향이 있으므로, 세탁시 직물에 대한 컨디셔닝 입자의 침착에 유해하게 작용한다는 것이다. 덜 현탁되는 큰 입자들은 드라이어 린트 스크린(dryer lint screens)에서 입자 형성을 증가시킨다. 그러나, 본 명세서에서 참고로 인용한 문헌[Liquid Detergent Contanining Conditioning Agent and High Levels of alkyl Sulfate/Alkyl Ethoxylated Sulfate, Co-filled by Debra Sue Caswell with the present case on February 8, 1988]에 기술된 바와 같이, 비에톡시화 알킬 설페이트 및 알킬 에톡시화 설페이트의 고농도가 사용될 수 있고 이러한 고농도의 존재가 액상 세제 조성물에 컨디셔닝 입자들의 화학적 안정성을 증가시킬 수 있는 것으로 놀랍게도 밝혀졌다. 추가로, 컨디셔닝 입자 중에 아민-무기 음이온을 포함시켜, 덜 현탁되는 큰 입자를 린트 스크린 형성을 초래함이 없이 사용할 수 있다는 것이 밝혀졌다.

입상 세제에 사용하기 위해 특히 바람직한 계면활성제는 선형 C₁₁-C₁₃알킬 벤젠 설포네이트, C₈내지 C₁₈알킬 설페이트 및 이들의 혼합물이다. 가장 바람직한 것은 선형 알킬 벤젠 설포네이트 대 알킬 설페이트의 중량비가 약 0.5：1 내지 약 3：1이고 더욱 바람직하게는 약 0.5：1 내지 약 2：1인 두개의 음이온성 계면활성제의 혼합물이다.

3. 음이온성 포스페이트 게면활성제

4. N-알킬 치환된 석시나메이트

C. 양쪽성 계면활성제

양쪽성 계면활성제는 광범위하게는 2급 또는 3급 아민의 지방족 유도체, 또는 헤테로사이클릭 2급 및 3급 아민의 지방족 유도체[여기서, 지방족 라디칼은 직쇄이거나 측쇄일 수 있으며, 지방족 치환체 중의 하나는 탄소수가 약 8 내지 18이고, 적어도 하나의 지방족 치환체는 음이온성 수용성 그룹(예 : 카복시, 설포네이트 설페이트)을 함유한다]로서 기술할 수 있다[참조 : 본 명세서에서 유용한 양쪽성 계면활성제 예의 참고로서 본 명세서에 인용되는 라플린 등의 미합중국 특허 제3,929,678호(1975. 12. 30), 제19란 제38행 내지 제22란 제48행].

D. 쯔비터이온성 계면활성제

쯔비터이온성 계면활성제는 광범위하게는 2급 및 3급 아민의 유도체, 헤테로사이클릭 2급 및 3급 아민의 유도체, 또는 4급 암모늄, 4급 포스포늄 또는 3급 설포늄 화합물의 유도체로서 기술할 수 있다[참조 : 본 명세서에서 유용한 쯔비터이온성 계면활성제 예의 참고로서 본 명세서에 인용되는 라플린 등의 미합중국 특허 제3,929,678호(1875. 12. 30.), 제19란 제38행 내지 제22란 제 48행].

E. 양이온성 계면활성제

양이온성 계면활성제는 본 발명의 세제 조성물에 유용한 가장 바람직하지 않은 세제 계면활성제이다. 양이온성 계면활성제는 양이온중의 하나 이상의 유기 소수성 그룹, 및 통상은 산 라디칼과 결합된 4급 질소를 특징으로 하는 상당히 다양한 화합물을 포함한다. 또한, 5가 질소 환 화합물은 4급 질소 화합물로 간주된다. 적합한 양이온은 할라이드, 메틸 설페이트 및 수산화물이다. 3급 아민은 pH값이 약 8.5 미만인 세척액에서 양이온성 계면활성제와 유사한 특성을 가질 수 있다.

적합한 양이온성 계면활성제는 다음 일반식의 4급 암모늄 계면활성제를 포함한다 :

[R²(OR³)_y][R⁴(OR³)_y]₂R⁵N⁺X^-

상기 식에서, R²는 알킬쇄중의 탄소수가 약 8 내지 약 18인 알킬 또는 알킬 벤질 그룹이고; R³은 각각 독립적으로 -CH₂CH₂-, -CH₂CH(CH₃)-, -CH₂CH(CH₂OH)- 및 -CH₂CH₂CH₂- 중에서 선택되며; R⁴는 각각 독립적으로 C_1-4알킬, C_1-4하이드록시알킬, 벤질, 2개의 R⁴그룹이 결합함으로써 형성된 환 구조 및 -CH₂CHOHCHOHCOR⁶CHOHCH₂OH(여기서, R⁶은 분자량이 약 1,000 미만인 헥소스 또는 헥소스 중합체이고, y가 0이 아닌 경우에는 수소이다)이고; R⁵는 R⁴와 동일하거나, R²와 R⁵의 총 탄소수가 약 18 이하인 알킬쇄이며; y는 각각 0 내지 약 10이고, y의 총 수는 0 내지 약 15이고; X는 친화성 음이온이다.

상기한 화합물의 바람직한 예는 알킬 4급 암모늄 계면활성제, 특히 R⁵가 R⁴와 동일한 그룹 중에서 선택되는 경우 상기한 일반식에 기술된 모노-장쇄 알킬 계면활성제이다. 가장 바람직한 4급 암모늄 계면활성제는 클로라이드, 브로마이드 및 메틸 설페이트 C_8-16알킬 트리메틸암모늄염, C_8-16알킬 디(하이드록시에틸)메틸암모늄염, C_8-16알킬 하이드록시메틸 암모늄염 및 C_8-16알콕시 프로필트리메틸암모늄염이다. 상기한 중에서, 데실 트리메틸암모늄 메틸설페이트, 라우릴 트리메틸암모늄 클로라이드, 미리스틸 트리메틸암모늄 브로마이드 및 코코넛 트리메틸암모늄 클로라이드 및 메틸 설페이트가 특히 바람직하다.

이들, 및 본 명세서에서 유용한 기타의 양이온성 계면활성제의 더욱 완전한 설명은 참고로서 본 명세서에 인용되는 캠버(Cambre)의 미합중국 특허 제4,228,044호(1980. 10. 14.)에 기술되어 있다.

세제 증강제

본 발명의 세제 조성물은 무기 경도조절을 돕기 위하여, 무기 및/또는 유기 세제 증강제를 함유할 수 있다. 이들 증강제는 조성물의 0 내지 80중량%이다. 액상 조성물은 세제 증강제를 약 5 내지 약 50중량%, 바람직하게는 약 5 내지 약 30중량% 포함하는 것이 바람직하다. 액상 조성물은 세제 증강제를 약 10 내지 약 80중량%, 더욱바람직하게는 약 24 내지 약 80중량% 포함하는 것이 바람직하다.

입상 및 액상 조성물에 사용하기 유용한 수용성 유기 증강제로는 각종 알칼리 금속, 암모늄 및 치환된 암모늄 폴리아세테이트, 카복실레이트, 폴리카복실레이트 및 폴리히드록시설포네이트를 포함한다. 폴리아세테이트 및 폴리카복실레이트 증강제의 예는 에틸렌디아민 테트라아세트산, 니트릴로트리아세트산, 옥시디석신산, 멜리트산, 벤젠 폴리카복실산 및 시트레이트의 나트륨, 칼륨, 리튬, 암모늄 및 치환된 암모늄염이다. 통상, 시트레이트(바람직하게는, 알칼리 금속 또는 알칸올암모늄염의 형태로)를 시트르산으로서 조성물에 첨가하지만, 완전히 중화된 염의 형태로 첨가할 수 있다.

보다 바람직한 폴리카복실레이트 증강제는 본 명세서에 참고로 반영되어 있는 딜(Diehl)의 미합중국 특허 제3,308,067호(1967. 3. 7.)에 기술되어 있다. 상기의 물질은 지방족 카복실산(예 : 말레산, 이타콘산, 메사콘산, 푸마르산, 아코니트산, 시트라콘산 및 메틸렌말론산)의 단독 및 공중합체의 수용성염을 포함한다.

다른 증강제는 본 명세서에서 참고로 인용되는 딜의 미합중국 특허 제3,723,322호(1973. 3. 28.)에 기술된 카복실화 탄수화물을 포함한다.

유용한 인-부재 세제 증강제 물질의 부류는 에테르 폴리카복실레이트인 것으로 밝혀졌다. 많은 에테르 폴리카복실레이트가 세제 증강제로서의 용도로 기술되어 있다. 유용한 에테르 폴리카복실레이트의 예는, 본 명세서에 참고로 인용되어 있는, 버그(Berg)의 미합중국 특허 제3,128,287호(1964. 4. 7.) 및 람버티(Lamberti) 등의 미합중국 특허 제3,635,830호(1972. 1. 18.)에 기술되어 있는 바와 같이, 옥시디석시네이트를 포함한다.

본 발명에서 증강제로서 유용한 에테르 폴리카복실레이트의 특별한 형태는 하기 일반식을 갖는다 :

상기 식에서, A는 H 또는 OH이고; B는 H 또는

이며; X는 H 또는 염형성 양이온이다.

예를 들면, 상기 일반식에서 A 및 B가 둘 다 H이면, 화합물은 옥시디석신산 및 이의 수용성 염이다. A가 OH이고 B가 H이면, 화합물은 타트레이트 모노석신산(TMS) 및 이의 수용성 염이다. A가 H이고 B가

이면, 화합물은 타트레이트 디석신산(TDS) 및 이의 수용성 염이다. 이들 증강제의 혼합물이 본 발명의 용도에 특히 바람직하다. 특히 바람직한 것은 약 97：3 내지 약 20：80의 TMS 대 TDS 중량 비율로 되어 있는 TMS 및 TDS의 혼합물이다. 이들 증강제는 부쉬(Bush) 등의 미합중국 특허 제4,663,071호(1987. 5. 5.)에 기술되어 있다.

또한, 적합한 에테르 폴리카복실레이트는 사이클릭 화합물, 특히 지환족 화합물을 포함하며, 모두 본 명세서에 참고로 인용되어 있는 미합중국 특허 제3,923,679호; 제3,835,163호; 제4,158,635호; 제4,120,874호 및 제4,102,903호에 기술되어 있다.

다른 유용한 세제 증강제는 하기 구조식으로 나타내는 에테르 하이드록시 폴리카복실레이트를 포함한다 :

상기 식에서, M은 수소 또는 양이온(여기에서, 생성된 염은 수용성이며, 바람직하게는 알칼리 금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄 양이온이다)이고, n은 약 2 내지 약 15, 바람직하게는 약 2 내지 약 10이고, 보다 바람직하게는 약 2 내지 약 4이며, 각각의 R은 동일하거나 상이하고, 수소 C_1-4알킬 또는 C_1-4치환된 알킬 중에서 선택되며, 바람직하게는 R은 수소이다.

또한, 본 발명의 세제 조성물로 적합한 것은, 본 명세서에 참고로 인용되어 있는 부쉬의 미합중국 특허 제4,566,984호(1986. 1. 28.)에 기술되어 있는 3,3-디카복시-4-옥시-1,6-헥산디오에이트 및 관련 화합물이다. 다른 유용한 증강제는 C₅-C₂₀알킬 석신산 및 이의 염을 포함한다. 상기 형태의 특히 바람직한 화합물은 도데세닐석신산이다.

또한 유용한 증강제는 나트륨 및 칼륨 카복시메틸옥시말로네이트, 카복시메틸옥시석시네이트, 시스-사이클로헥산헥사카복실레이트, 시스-사이클로펜탄테트라카복실레이트 플로로글루시놀 트리설포네이트, 수용성 폴리아크릴레이트(예 : 분자량이 약 2,000 내지 약 200,000이다), 및 비닐메틸에테르 또는 에틸렌과의 말레산 무수물의 공중합체를 포한한다.

다른 적합한 폴리카복실레이트는 본 명세서에 참고로 인용되어 있는 크럿치필드(Crutchfield) 등의 미합중국 특허 제4,144,226호(1979. 3. 13.)에 기술되어 있는 폴리아세탈 카복실레이트이다. 이들 폴리아세탈 카복실레이트이다. 이들 폴리아세탈카복실레이트는 중합 조건하에 글리옥실산의 에스테르 및 중합화 개시제를 함께 접촉하여 제조할 수 있다. 그 다음 생성된 폴리아세탈 카복실레이트 에스테르를 화학적으로 안정한 말단 그룹에 결합시켜, 알칼리 용액 중에서 신속한 탈중합화에 대해 폴리아세탈 카복실레이트를 안정화한 후, 상응하는 염으로 전환시키고, 계면활성제에 가한다.

특히 유용한 증강제는 일반식 R-CH(COOH)CH₂(COOH)의 알킬 석시네이트(여기에서, R은 탄화수소, 예를 들면, C₁₀-C₂₀알킬 또는 알케닐, 바람직하게는 C₁₂-C₁₆이거나, 또는 R은 하이드록실, 설포, 설폭시 또는 설폰 치환체로 치환될 수 있다) 즉, 석신산의 유도체를 포함하고, 이들 모두는 상술한 특허에 기술되어 있다.

석시네이트 증강제를, 나트륨, 칼륨, 암모늄 및 알칸올 암모늄 염을 포함하여, 수용성 염의 형태로 사용되는 것이 바람직하다.

석시네이트 증강제의 특정 예는 라우릴 석시네이트, 미리스틸 석시네이트, 팔미틸 석시네이트, 2-도데세닐 석시네이트(바람직하다), 2-펜타데세닐 석시네이트 등을 포함한다.

다른 유용한 세제 증강제는 C₁₀-C₁₈알킬 모노카복실(지방)산 및 이의 염을 포함한다. 이들 지방산은 동물 및 식물성 지방 및 오일(예 : 탈로우, 코코넛유 및 팜유)로부터 유래될 수 있다. 적합한 포화 지방산을 또한 합성, 예를 들어 석유의 산화를 통해 또는 피셔-트로프스크 방법에 의해 일산화탄소를 수소화함으로써 제조할 수 있다. 특히 바람직한 C₁₀-C₁₈알킬 모노카복실산은 포화 코코넛 지방산, 팜 핵 지방산 및 이의 혼합물이다.

다른 유용한 세제 증강제 물질은, 본 명세서에 참고로 인용되어 있는, 벨기에 특허 제798,856호(1973. 10. 29.)에 기술되어 있는 시디드 증강제 조성물이다. 시디드 증강제 혼합물의 특별한 예는 입자 직경이 5마이크론인 탄산나트륨 및 탄산칼슘의 3：1(중량) 혼합물; 입자 직경이 0.5마이크론인 나트륨 세스퀴카보네이트 및 탄산칼슘의 2.7：1(중량) 혼합물; 입자 직경이 0.01마이크론인 나트륨 세스퀴카보네이트 및 수산화칼슘의 20：1(중량) 혼합물; 및 입자 직경이 5마이크론인 탄산나트륨, 나트륨 알루미네이트 및 산화칼슘의 3：3：1(중량) 혼합물이다.

본 발명에서 특히 입상 세제 조성물용으로 유용한 다른 세제 증강제는 알칼리 금속 실리케이트, 알칼리 금속 카보네이트, 포스페이트, 폴리포스페이트, 포스포네이트, 폴리포스폰산, C_10-18알킬 모노카복실산, 폴리카복실산, 알칼리 금속, 이의 암모늄 또는 치환된 암모늄염 및 이의 혼합물을 포함한다. 본 발명의 입상 세제조성물용의 상기 형태의 가장 바람직한 증강제는 이들 화합물의 알칼리 금속염, 특히 나트륨염이다.

입상 세제 조성물용의 다른 바람직한 세제 증강제는 하기 일반식을 갖는 결정성 알루미노실레키이트 이온 교환 물질을 포함한다 :

Na_z[(AlO₂)z(SiO₂)y]·xH₂O

상기 식에서, z 및 y는 약 6 이상이고, y에 의한 z의 몰 비율은 약 1.0 내지 약 0.5이며; x는 약 10 내지 약 264이다.

본 발명에서 유용한 무정형 수화 알루미노실리테이트 물질은 하기의 실험식을 갖는다.

Mz(zAlO₂·ySiO₂)

상기 식에서, M은 나트륨, 칼륨, 암모늄 또는 치환된 암모늄이고, z는 약 0.5 내지 약 2이며; y는 1이고; 상기 물질은 무수 알루미노실리케이트 1g당 CaCO₃경도의 약 50mg 이상 동량의 마그네슘 이온교환용량을 갖는다.

알루미노실리케이트 이온교환 증강제 물질은 수화된 형태이며, 결정형일 경우 약 10중량% 내지 약 28중량%의 물을 함유하고, 무정형일 경우 잠재적으로 보다 많은 양의 물을 함유한다. 보다 바람직한 결정형 알루미노실리케이트 이온교환 물질은 이의 결정 매트릭스내에서 약 18% 내지 약 22%의 물을 함유한다. 바람직한 결정형 알루미노실리케이트 이온교환 물질은 또한 약 0.1마이크론 내지 약 10마이크론의 입자 크기 직경으로서 특징화된다. 무정형 물질은 종종 보다 작은데, 예를 들면, 약 0.01마이크론 미만이다. 보다 바람직한 이온교환 물질은 약 0.2마이크론 내지 약 4마이크론의 입자 크기 직경을 갖는다. 결정형 알루미노실리케이트 이온교환 물질은 일반적으로 무수물을 기준으로 계산하여, 알루미노실리케이트의 CaCO₃수 경도/g 약 200mg 이상 등량이며, 일반적으로 약300mg.eq./g 내지 약 352mg.eq./g의 범위내에서 있는 이의 칼슘 이온교환 용량으로 또한 특징화된다. 알루미노실리케이트 이온교환 물질은, 최소한 약 2그래인 Ca⁺⁺/갈론/분/g/알루미노실리케이트(무수물 기준) 갈론이고, 일반적으로 약 2그래인/갈론/분/g/갈론 내지 약 6그래인/갈론/분/g/갈론(칼슘 이온 경도를 기준으로)의 범위내에 있는 이의 칼슘 이온 교환율로 또한 특징화된다. 증강제용의 최적의 알루미노실리케이트는 최소한 약 4그래인/갈론/분/g/갈론의 칼슘 이온 교환율을 나타낸다.

무정형 알루미노실리케이트 이온교환 물질은 일반적으로 최소한 약 50mg.eq. CaCO₃/g.(12mg.Mg⁺⁺/g.)의 Mg⁺⁺교환용량 및 최소한 약 1그래인/갈론/분/g/갈론의 Mg⁺⁺교환율을 갖는다. 무정형 물질은 Cu 방사에 의한 시험시 관찰가능한 회절 패턴(1.54A 단위)을 보여준다.

유용한 알루미노실리케이트 이온교환 물질은 시판중이다. 이들 알루미노실리케이트는 구조상 결정형 또는 무정형일 수 있으며, 합성 유도된 천연-생성 알루미노실리케이트일 수 있다. 알루미노실리케이트 이온교환 물질을 생성하는 방법은 본 명세서에 참고로 인용되어 있는 크럼멜(Krummel) 등의 미합중국 특허 제3,985,669호(1976. 10. 12.)에 기술되어 있다. 본 발명에서 유용한 바람직한 합성 결정형 알루미노실리케이트 이온교환 물질은 기호 제올라이트 A, 제올라이트 P(B), 및 제올라이트 X로서 구입가능하다. 특별히 바람직한 양태에서, 결정형 알루미노실리케이트 이온교환 물질은 하기식을 갖는다.

Na₁₂[(AlO₂)₁₂(SiO₂)₁₂]·xH₂O

상기 식에서, X는 약 20 내지 약 30, 특히 약 27이다.

무기 포스페이트 증강제의 특정 예는, 나트륨 및 칼륨 트리폴리포스페이트, 파이로포스페이트, 중합도가 약 6 내지 약 21인 중합체 메타페이트 및 오르토포스페이트이다. 폴리포스포네이트 증강제의 예는 에틸렌-1,1-디포스폰산의 나트륨 및 칼륨 염, 에탄 1-하이드록시-1,1-디포스폰산의 나트륨 및 칼륨염 및 에탄-1,1,2-트리포스폰산의 나트륨 및 칼륨염이다. 다른 적합한 인 증강제 화합물은 딜(Diehl)의 미합중국 특허 제3,159,581호(1964. 12. 1.), 딜(Diehl)의 미합중국 특허 제3,213,030호(1965. 10. 19.), 큄비(Quimby)의 미합중국 특허 제3,400,148호(1968. 9. 3.), 큄비(Quimby)의 미합중국 특허 제3,400,176호(1968. 9. 3.), 로이(Roy)의 미합중국 특허 제3,422,021호(1969. 1. 14.), 큄비의 미합중국 특허 제3,422,137호(1968. 9. 3.)에 기술되어 있으며, 이들은 모두 본 명세서에서 참고로 인용된다.

비-인, 무기 증강제의 예는 탄산나트륨, 탄산칼륨, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 세스퀴탄산나트륨, 세스퀴탄산칼륨, 사붕산 10수화물 및 알칼리 금속 산화물에 대한 SO₂몰비가 약 0.5 내지 약 4.0, 바람직하게는 약 1.0 내지 약 2.4인 실리케이트이다.

킬레이트화제

또한, 본 명세서의 세제 조성물은 임의로 하나 이상의 철 및 망간 킬레이트화제를 함유할 수 있다. 이러한 킬레이트화제는 아미노 카복실레이트, 아미노 포스포네이트, 다작용기-치환된 방향족 킬레이트화제 및 이의 혼합물 중에서 선택될 수 있으며, 하기에 설명한다. 이론에 구애되지 않고, 이러한 물질의 이점은 부분적으로, 가용성 킬레이트를 형성시켜 세척액으로부터 철 및 망간 이온을 제거하는 예외적인 능력에 기인하는 것으로 보인다.

본 발명의 조성물에 있어서 임의의 킬레이트화제로 유용한 아미노 카복실레이트는 하나 이상, 바람직하게는 둘 이상의 하기 하부구조 단위를 갖는다.

상기 식에서, M은 수소, 알칼리 금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄(예 : 에탄올 아민)이고; x는 1 내지 약 3, 바람직하게는 1이다.

바람직하게는, 이러한 아미노카복실레이트는 약 6개 이상의 탄소원자를 갖는 알킬 또는 알케닐 그룹을 함유하지 않는다. 사용가능한 아민 카복실레이트에는 에틸렌디아민테트라아세테이트, N-하이드록시에틸에틸렌 디아민트리아세테이트, 니트릴로트리아세테이트, 에틸렌디아민테트라프로피오네이트, 트리에틸렌테트라아민헥사아세테이트,디에틸렌트리아민펜타아세테이트, 및 에탄올디글리신, 알칼리 금속, 암모늄, 및 이의 치환된 암모늄염 및 이의 혼합물이 포함된다.

아미노 포스포네이트는 또한, 최저 농도의 총 인이 세제 조성물에 포함되는 경우, 본 발명의 조성물에 있어서 킬레이트화제로 사용하기 위해 적합하다. 하나 이상, 바람직하게는 둘 이상의 하기 하부구조를 갖는 화합물이 유용하고, 에틸렌디아민테트라키스(메틸렌 포스포네이트), 니틀릴로트리스(메틸렌포스포네이트) 및, 디에틸렌트리아민펜타키스(메틸렌 포스포네이트)가 포함된다.

상기 식에서, M은 수소, 알칼리 금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄이고; x는 1 내지 약 3, 바람직하게는 1이다.

바람직하게는, 이러한 아미노 포스포네이트는 약 6개 이상의 탄소원자를 갖는 알킬 또는 알케닐 그룹을 함유하지 않는다. 알킬렌 그룹은 하부구조에 의해 분해될 수 있다.

다작용기-치환된 방향족 킬레이트화제는 또한, 본 명세서의 조성물에 유용하다. 이러한 금속은 하기 일반식의 화합물 또는 이의 가용성 염 또는 이의 혼합물을 포함한다.

상기 식에서, 하나 이상의 R은 -SO₃H 또는 -COOH이다.

본 명세서에서 참고로 인용하는 콘너(conner) 등의 미합중국 특허 제3,812,044호(1974. 5. 21.)에는 다작용기-치환된 방향족 킬레이트화제 및 붕쇄제가 기술되어 있다. 이러한 종류의 산 형태의 바람직한 화합물은 디하이드록시디설포벤젠 및 1,2-디하이드록시-3,5-디설포벤젠 또는 특히 다른 디설폰화된 카테콜이다. 알칼리성 세제 조성물은 알칼리 금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄(예 : 모노- 또는 트리에탄올-아민)염 형태로 이러한 물질을 함유할 수 있다.

사용할 경우, 이러한 킬레이트화제는 일반적으로 세제 조성물의 약 0.1 내지 약 10중량%로 함유한다. 더욱 바람직하게는 킬레이트화제는 이러한 조성물의 약 0.1 내지 약 3중량%로 함유할 것이다.

방오제

본 발명에 유용한 중합체성 방오제에는 셀룰로오즈 유도체[예 : 하이드록시에테르 셀룰로오즈 중합체, 에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리에틸렌 옥사이드 또는 폴리프로필렌 옥사이드 테레프탈레이트의 공중합체 블록(block)], 및 양이온성 구아 고무 등이 포함된다.

방오제로서 작용하는 셀루로오즈 유도체는 시판품을 이용할 수 있으며, 셀룰로오즈의 하이드록시 에테르[예 : 메토셀(Methocel)^R(Dow) 제조] 및 양이온성 셀룰로오즈 에테르 유도체[예 : 중합체 JR-124^R, JR-400^R및 JR-300M^R(Union Carbide 제조)]가 포함된다. 또한, 템플(Temple) 등의 미합중국 특허 제3,928,213호(1975. 12. 23.)를 참고로 인용한다.

다른 유효한 방오제는 자구아 플로(Jaguar Plau)^R(Stein Hall 제조) 및 겐드리브(Gendrive) 458^R(General Mills 제조)과 같은 양이온성 구아 고무이다.

본 발명에 사용하기 위해 바람직한 셀룰로오즈 방오제는 메틸 셀룰로오즈, 하이드록시프로필 메틸 셀룰로오즈, 하이드록시 부틸 셀룰로오즈, 또는 이의 혼합물, 20℃의 수용액에서 점도가 15 내지 75,000센티포이스인 상기 셀룰로오즈 중합체 중에서 선택된다.

더욱 바람직한 방오제는 에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리에틸렌 옥사이드(PEO) 테레프탈레이트의 임의 블록을 갖는 공중합체이다. 더욱 특히, 이러한 중합체는 에틸렌 테레프탈레이트 단위 대 PEO 테레프탈레이트 단위를 약 25：75 내지 약 35：65의 몰비로 에틸렌 테레프날레이트 및 PEO 테레프탈레이트의 반복 단위를 함유하고, 이 PEO 테레프탈레이트 단위는 분자량이 약 300 내지 약 2,000인 폴리에틸렌 옥사이드를 함유한다. 이러한 중합체성 방오제의 분자량은 약 25,000 내지 약 55,000의 범위이다. 헤이스(Hays)의 미합중국 특허 제3,959,230호(1975. 5. 25.)를 참고로 인용한다. 바사더(Basadur)의 미합중국 특허 제3,893,929호(1975. 7. 8.)에는 유사한 공중합체가 기술되어 있으며, 이를 본 명세서에서 참고로 인용한다. 놀랍게도, 이러한 중합체성 방오제는 넓은 범위의 합성 직물(예 : 폴리에스테르, 나일론, 폴리코튼 및 아크릴)에 대한 본 발명의 직물 보호제의 분포를 균일하게 하는 것으로 밝혀졌다. 이러한 직물 보호제의 더욱 균일한 분포는 직물 보호 특성을 개선시킬 수 있다.

다른 바람직한 중합체성 방오제는 평균 분자량 300 내지 5,000의 폴리옥시에틸렌 글리콜로부터 유도된 폴리옥시에틸렌 테레프탈레이트 단위 90 내지 80중량%와 함게 에틸렌 테레프탈레이트 단위 10 내지 15중량%를 함유하는 에틸렌 테레프탈레이트 단위의 반복 단위를 갖는 결정화 가능한 폴리에스테르이며, 결정화 가능한 중합체성 화합물에 있어서 에틸렌 테레프탈레이트 단위 : 폴리옥시에틸렌 테레프탈레이트 단위의 몰비는 2：1 내지 6：1이다. 이러한 중합체의 예는 시판품 젤콘(Zelcol)^R5126(Dupont 제조) 및 밀리스(Milease)^RT(ICI 제조)이다.

상기 중합체 및 이의 제조방법은 1986년 6월 25일에 공개된 고셀링크(Gosselink)의 유럽 특허원 제185,417호에 더욱 상세히 기술되어 있으며, 이는 본 명세서에서 참고로 인용한다.

사용할 경우, 이러한 방오제는 일반적으로 본 발명의 세제 조성물의 약 0.01 내지 약 5.0중량%, 바람직하게는 약 0.2 내지 약 3.0중량%로 함유될 것이다.

점토 오물 제거제/재부착 방지제

본 발명의 조성물은 또한, 임의로 점토 오물 제거제/재부착 방지제를 함유하는 수용성 에톡시화 아민을 함유할 수 있다. 입상 세제 조성물은 바람직하게는 약 0.01 내지 약 10.0중량%의 수용성 에톡시화 아민을 함유하며, 액상 세제 조성물은 바람직하게는 약 0.01 내지 약 5중량%를 함유한다. 이러한 화합물은

(1) 하기 일반식의 에톡시화 모노아민;

(X-L=)-N-(R²)₂

(2) 하기 일반식의 에톡시화 디아민;

또는

(X-L-)₂-N-R1-N-(R²)₂

(3) 하기 일반식 에톡시화 폴리아민;

(4) 하기 일반식 에톡시화 아민;

및 (5) 이들의 혼합물 중에서 선택된다.

상기 식에서, A¹은

,

,

,

,

,

,

,

,

, 또는 -O-이고; R은 H이거나, 또는 C₁-C₄알킬 또는 하이드로시알킬이며;

R¹은 C₂-C₁₂알킬렌, 하이드록시알킬렌, 알케닐렌, 아릴렌 또는 알크아릴렌이거나, 또는 단, O-N결합이 형성되지 않을 경우, 2 내지 약 20개의 옥시알킬렌 단위를 갖는 C₂-C₃옥시알킬렌 잔기이며; R²는 각각 C₁-C₄는 하이드록시알킬, 잔기 -L-X이거나, 또는 두개의 R²가 함께 잔기 -(CH₂)r, -A²(CH₂)s-(여기에서, A²는 -O- 또는 -CH₂-이고, r은 1 또는 2이며, s는 1 또는 2이고, r+s는 3 또는 4이다)이고; X는 비이온성 그룹, 음이온성 그룹 또는 이의 혼합물이며; R³은 치환된 C₃-C₁₂알킬, 하이드록시알킬, 알케닐, 아릴 또는 P 치환 부위를 갖는 알크아릴 그룹이고; R⁴는 C₁-C₁₂알킬렌, 하이드록시알킬렌, 알케닐렌, 아릴렌 또는 알크아릴렌이거나, 또는 단, O-O 또는 O-N결합이 형성되지 않을 경우, 2 내지 약 20개의 옥시알킬렌 단위를 갖는 C₂-C₃옥시알킬렌 잔기이며; L은 폴리옥시알킬렌 잔기 -[(R⁵O)m(CH₂CH₂O)n]-를 함유하는 친수성 쇄이고; R⁵는 C₃-C₄알킬렌 또는 하이드록시알킬렌이며; m 및 n은, 잔기 -(CH₂-CH₂O)n-이 폴리 옥시알킬렌 잔기를 약 50중량% 이상 함유하도록 하는 수이고, 모노아민에 대해서 m은 0 내지 약 4이며, n은 약 12 이상이고, 디아민에 대해서 m은 0 내지 약 3이며, n은, R¹이 C₂-C₃알킬렌, 하이드록시알킬렌 또는 알케닐렌일 경우, 약 6 이상이고, R¹이 C₂-C₃알킬렌, 하이드록시알킬렌 또는 알케닐렌이 아닐 경우, 약 3 이상이며, 폴리아민 및 아민 중합체에 대해서 m은 0 내지 약 10이고, n은 약 3 이상이며; p는 3 내지 8이고; q는 1 또는 0이며, t는 1 또는 0이고, 단, q가 1일 경우, t는 1이며; W는 1 또는 0이고; x+y+z는 2 이상이며, y+z는 2 이상이다.

가장 바람직한 점토 제거 및 재침착 방지제는 에톡시화 테트라에틸렌펜트아민이다. 대표적인 에톡시화 아민은 1986년 7월 1일 허여된 미합중국 특허 제4,597,898호[VanderMeer]에 기술되어 있으며, 이는 본 명세서에서 참고로 인용되어 있다. 바람직한 점토 제거/재침착 방지제의 또 다른 그룹은 1984년 6월 27일 공개된 유럽 특허원 제111,965호[Oh and Gosselink]에 기술된 양이온성 화합물이다. 사용될 수 있는 기타 점토 제거/재침착 방지제는 1984년 6월 27일 공개된 유럽 특허원 제111,984호[Gosselink]에 기술된 에톡시화 아민 중합체; 1984년 7월 4일 공개된 유럽 특허원 제112,592호[Gosselink]에 기술된 쯔비터이온성 중합체; 1985년 10월 22일 허여된 미합중국 특허 제4,548,744호[Connor]에 기술된 아민 옥사이드이며, 이들은 모두 참고문헌으로 본 명세서에서 인용된다.

폴리에스테르 섬유의 오일 얼룩을 줄이기 위한 기술에서 공지된 오물 제거제는 본 발명의 조성물에서 사용될 수 있다. 오물 제거제로서 에틸렌 테레프탈레이트 및 폴리에틸렌 옥사이드 테레프탈레이트의 공중합체가 1976년 6월 8일 허여된 미합중국 특허 제3,962,152호[Nicol, et al.]에 기술되어 있다. 또한, 1979년 11월 13일 허여된 미합중국 특허 제4,174,305호[Burns, et al.]에는 셀룰로오즈 에테르 오물 제거제가 공지되어 있다.

효소

효소는 바람직한 임의의 성분이며 총 조성물의 약 0.025% 내지 약 2%, 바람직하게는 약 0.05% 내지 약 1.5%의 양으로 혼입되어 있다. 바람직한 단백질 분해성 효소는 리터당 약 5 이상의 Anson 단위(약 1,000,000Delft 단위), 바람직하게는 리터당 약 15 내지 약 70Anson 단위, 가장 바람직하게는 리터당 약 20 내지 약 40Anson 단위의 단백질 분해활성을 제공하여야 한다. 생성물 g당 약 0.01 내지 약 0.05Anson 단위의 단백질 분해 활성이 바람직하다. 전분 분해성 효소를 포함한 기타 효소도 역시 본 발명의 조성물에 포함될 수 있다.

적절한 단백질 분해성 효소는 세제 조성물 중에 사용할 수 있는 공지의 많은 종류들을 포함한다. Savinase™ 및 Alcalase™[Novo Industvies], 및 Maxatase™[Gist Brocades, Delft, The Nethevlands]와 같은 시판용 효소 제제가 적절하다. 다른 바람직한 효소 조성물은 상표명 SP-72(Esperase™)[Novo Industries, A/S, Copenhage, Denmark] 및 AZ-Protease™[Gist-Brocades, Delft, The Netherland 제조]와 같은 시판용 제품이 있다.

적절한 아밀라제는 Rapidase™[Gist-Brocades 판매] 및 Termamyl™[Novo Industries 판매]이다.

적절한 효소의 더욱 완전한 설명은 1978년 7월 18일 허여된 미합중국 특허 제4,101,457호[Plasce, et al.] 및 1985년 3월 27일 허여된 미합중국 특허 제4,507,219호[Hughes]에 기술되어 있다.

안정화 시스템

바람직하게는, 본 발명의 액상 섬유 보호 또는 세제 조성물은 섬유 보호제를 액상 매개체 중에 일정하게 분산시키기 위한 안정제를 함유한다. 그렇지 않은 경우, 불용성 입자 및 액상 기본 세제 간의 밀도 차이로 인해 결국 입자 형성 및 크림화가 발생한다.

본 발명의 조성물을 위한 안정화제의 선택은 조성물 중 용매성분의 형태 및 농도와 같은 인자에 좌우된다.

적절한 현탁제에는 몬모릴로나이트 점토, 4급화 몬모릴로나이트 점토(예 : Bentone™ 14, NL Industvies에서 시판), 헥토리트(예 : Laponite™ S, La Porte로부터 시판), 폴리사카라이드 검(예 : 크산탄 검, Kelco Division of Merck Co., Inc.로부터 시판), 수개의 장쇄 아실 유도체 물질 또는 이 물질들의 혼합물; 장쇄 지방산의 디에탄올아미드(예 : PEG 3 라우라미드), 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 블럭 중합체(예 : Pluronic™ F88, BASF Wyandotte에서 시판), 염화나트륨, 암모늄 크실렌 설포네이트, 황상나트륨 및 폴리비닐 알코올과 같은 각종 점토물질이 포함된다. 유용한 기타 현탁제는 탄소수 16 내지 22, 바람직하게는 16 내지 18의 지방산의 알칸올 아미드이다. 바람직한 알칸올 아미드는 스테아릭 모노에탄올아미드, 스테아릭 디에탄올아미드, 스테아릭 모노이소프로판올아미드 및 스테아릭 모노에탄올아미드 스테아레이트이다. 기타의 장쇄 아실 유도체는 장쇄 알칸올 아미드의 장쇄 에스테르(예 : 스테아르아미드 DEA 디스테레이트, 스테아르아미드 MEA 스테아레이트)이다.

본 발명에서 사용할 수 있는 가장 바람직한 현탁제는 4급화 몬모릴로나이트 점토 및 헥토리트 점토이다.

현탁제는 바람직하게는 약 0.1% 내지 10.0%, 바람직하게는 약 0.5% 내지 약 3.05의 양으로 존재한다.

표백제

본 발명의 조성물, 특히 입상 세제 조성물은 임의로 퍼카복실산 표백제, 또는 과산화수소 대 표백 활성제의 특정 몰비로 수용액 및 특정 표백 활성제 중에서 과산화수소를 제공할 수 있는 과산소 표백제를 함유하는 표백 조성물 약 1% 내지 약 20%, 바람직하게는 약 1% 내지 약 10%를 함유한다. 표백제는 1983년 11월 1일 허여된 미합중국 특허 제4,412,934호[Chung, et al.] 및 1984년 11월 20일 허여된 미합중국 특허 제4,483,781호[Hartman]에 상세히 기술되어 있고, 이는 본 명세서에서 참고로 인용되어 있다. 이 조성물은 섬유 표면을 매우 효과적이고 충분히 표백시켜 섬유의 얼룩 및/또는 오물을 제거한다. 이 조성물은 특히 섬유의 더러운 오물을 제거하는데 유효하다. 더러운 오물이란 많은 회수의 사용 및 세척 후 섬유에 점착되어 있어, 결국 회색 색조를 띤 백색 섬유를 만들어버리는 오물을 말한다. 이 오물들은 미립 유성 물질의 혼합물이 되는 경향이 있다. 이러한 형태의 오물의 제거는 더러운 섬유 세척이라고도 한다.

표백 조성물은 광범위한 표백 용액의 온도에 대해서 표백 작용을 나타낸다. 표백은 용액 온도가 적어도 약 5℃인 표백 용액에서 가능하다. 표백 활성제가 없는 경우, 이러한 과산소 표백은 약 60℃ 이하의 온도에서 비효과적이고/이거나 비실용적이다.

과산소 표백 화합물

여기서 유용한 과산소 표백 화합물에는 수용액에서 과산화수소를 방출할 수 있는 화합물이 포함된다. 이 화합물들은 공지되어 있으며, 과산화수소 및 알칼리 금속 과산화물, 유기 과산화물 표백 화합물(예 : 우레아과산화물) 및 무기과염 표백 화합물(예 : 알칼리 금속 과붕산염, 과탄산염, 과인산염 등)이 포함된다. 또한, 경우에 따라, 이러한 표백 화합물 2개 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.

바람직한 과산소 표백 화합물에는 과붕산나트륨 퍼보레이트(1수화물과 4수화물 형태로 시판), 탄산나트륨 퍼옥시하이드레이트, 나트륨 파이로포스페이트 퍼옥시하이드레이트, 우레아 퍼옥시하이드레이트 및 과산화나트륨이 있다. 특히, 과붕산나트륨 4수화물 및 특히 과붕산나트륨 1수화물이 바람직하다. 과붕산나트륨 1수화물은 보관중 매우 안정하며 표백 용액에 매우 신속히 용해되기 때문에 특히 바람직하다.

유용한 표백제는 이러한 과산소 표백제를 약 0.1% 내지 약 99.9%, 바람직하게는 약 1% 내지 약 60% 함유한다.

표백 활성제

본 발명의 조성물에 혼입되는 바람직한 표백 활성제는 하기 일반식의 화합물이다 :

상기 식에서, R은 탄소수 1 내지 18의 알킬 그룹(여기서, 카보닐 탄소로부터 확장되고 이를 함유하는 가장 긴 선형 알킬 쇄는 탄소수가 약 6 내지 약 10이다)이고, L은 이탈 그룹으로서, 이의 공액 산은 pka가 약 4 내지 약 13의 범위이다.

L은 실질적으로 적절한 이탈 그룹일 수 있다. 이탈 그룹이란 퍼하이드록사이드 음이온에 의한 표백 활성제에 대한 친핵성 공격의 결과로서 표백 활성제로부터 이탈되는 그룹을 말한다. 이러한 과가수분해(perhydrolysis) 반응으로 인해 퍼카복실산이 형성된다. 일반적으로, 적절한 이탈 그룹이 되기 위해, 그룹은 전자유인효과를 나타내어야 한다. 이 효과로 인해 퍼하이드록사이드 음이온에 의한 친핵성 공격이 용이하게 된다. 이러한 성질을 나타내는 이탈 그룹은 이의 공액 산의 pka가 약 4 내지 13, 바람직하게는 약 7 내지 약 11, 가장 바람직하게는 약 8 내지 약 11인 범위인 그룹이다.

바람직한 표백 활성제는 R이 상기 정의한 바와 같고, L이 하기의 그룹 중에서 선택되는 상기 일반식 화합물의 활성제이다 :

상기 식에서, R은 위에서 정의한 바와 같고, R2는 탄소수 1 내지 8의 알킬 쇄이며, R³은 H 또는 R²이고 Y는 H 또는 가용성 그룹이다.

바람직한 가용성 그룹은 -SO₃M⁺, -COO-M⁺, -SO₄M⁺, (-N⁺R₃)X- 및 O-NR₂ ⁴이며, 가장 바람직하게는 -SO₃M⁺및 -COO-M⁺[여기서, R⁴는 탄소수 1 내지 4의 알킬 쇄이고, M은 표백 활성제에 용해도를 제공하는 양이온이며, X는 표백 활성제에 용해도를 제공하는 음이온이다]이다. 바람직하게는 M은 알칼리 금속, 암모늄 또는 치환된 암모늄 양이온이고, 나트륨 및 칼륨이 가장 바람직하며, X는 할라이드, 하이드록사이드, 메틸설페이트 또는 아세테이트 음이온이다. 가용성 그룹을 함유하지 않는 이탈 그룹을 지닌 표백활성제는 이의 용해를 돕기 위해 표백 용액에서 잘 분산되어야 한다는 것을 주목해야 한다.

L이 일반식에서 정의된 바와 같고 R이 약 1 내지 약 12개의 탄소원자를 함유하는 알킬 그룹(여기에서, 카보닐 탄소를 포함하여 연장된 가장 긴 선형 알킬 쇄는 약 6 내지 약 10개의 탄소원자를 함유한다)인 상기 일반식의 화합물도 또한 바람직한 표백활성제이다.

L이 일반식에서 정의된 바와 같고 R이 약 1 내지 9개, 바람직하게는 약 1 내지 약 8개의 탄소원자를 함유하는 선형 알킬 쇄인 상기 일반식의 표백 활성제는 훨씬 더 바람직하다.

상기 일반식에서, R이 약 5 내지 약 9개, 바람직하게는 약 6 내지 약 8개의 탄소원자를 함유하는 선형 알킬 쇄이고 L이

(상기 식에서, R, R², R³및 Y는 위에서 정의한 바와 같다)로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 화합물은 더 바람직한 표백 활성제이다.

R이 약 1 내지 약 12개의 탄소원자를 함유하는 알킬 그룹(여기서, 카보닐 탄소를 포함하여 연장되는 알킬 쇄의 가장 긴 선형 부분은 약 1 내지 약 10개의 탄소원자로 되어 있다)이고, L이

로 이루어진 그룹(상기 식에서, R²은 M은 위에서 정의한 바와 같고, Y는 -SO₃M⁺또는 -COO-M⁺이다) 중에서 선택되는 상기 일반식의 화합물은 특히 바람직한 표백 활성제이다. 상기 그룹으로부터 특히 바람직한 표백 활성제는 테트라아세틸 에틸렌 디아민이고 이것은 본원에 참조문헌으로 인용된 1986년 12월 10일자로 공개된 하디(Hardy) 등의 유럽 특허원 제204,116호에 기술되어 있다.

특별히 바람직한 표백 활성제는, R이 약 5 내지 약 9개, 바람직하게는 약 6 내지 약 8개의 탄소원자를 함유하는 선형 알킬 쇄이고 L이

(상기 식에서, R²와 M은 위에서 정의한 바와 같고, Y는 -SO₃M⁺또는 -COO-M⁺이다)으로 이루어진 그룹 중에서 선태고디는 상기 일반식의 화합물이다.

더욱 바람직한 표백 활성제는 하기 일반식을 가진다.

상기 식에서, R은 약 5 내지 약 9개, 바람직하게는 약 6 내지 약 8개의 탄소원자를 함유하는 선형 또는 측쇄 알킬이고, M은 나트륨 또는 칼륨이다.

가장 바람직한 표백 활성제는 나트륨 노닐 옥시벤젠 설포네이트이다. 나트륨 노닐옥스벤젠 설포네이트는 또한 상술된 표백 활성제중 어느 것과, 특히 테트라아세틸에틸렌 디아민과 혼합하여 사용할 수 있다.

표백 활성제는 또한 비이온성 계면활성제, 폴리에틸렌 글리콜, 지방산, 음이온성 계면활성제 및 이의 혼합물과 같은 결합제 물질(활성제에 대해) 155 이하로 혼합할 수 있다. 이러한 결합물질은 본원에 인용된 머피(Murphy) 등의 미합중국 특허 제4,486,327호(1984. 12. 4.)에 완전히 설명되어 있다.

본 발명에서 유용한 표백제는 상기 표백 활성제를 약 0.1% 내지 60%, 바람직하게는 약 0.5% 내지 약 40% 함유한다.

퍼카복실산 표백제

표백제는 퍼카복실산 및 이의 염을 함유할 수도 있다. 이러한 종류로는 예를 들어, 마그네슘 모노퍼옥시프탈레이트 6수화물, 메타-클로로퍼벤조산의 마그네슘염, 노닐 아미노-6-옥소퍼옥시석신산 및 디퍼옥시도데칸에디오산이 적합하다. 이러한 표백제는 문헌[참조 : 미합중국 특허 제4,483,781호(Hartman, 1984. 11. 20.), 미합중국 특허원 제740,446호(Bruns et al., 1985. 6. 3.), 및 유럽 특허원 제0,133,354호(Banks et al., 1985. 2. 20.)]에 기술되어 있으며, 이들은 본 원에서 참조로서 인용된다.

스멕타이트(Smectite) 점토 광물질

제제, 특히 입상 세제 조성물의 바람직한 임의 성분은 섬유 연화기능을 추가로 제공하는 스멕타이트 점토이다. 본 발명에서 특히 유용한 스멕타이트 점토는 몬모릴로나이트, 사포나이트 및 합성 헥토라이트이다. 여기에서 사용되는 점토는 촉감으로 인식되지 않는 입자 크기를 지닌다. 감지하기 어려운 점토의 입자 크기는 약 50마이크론 이하이다.

본 조성물에 섬유 컨디셔닝 특성을 제공하기 위해 사용되는 점토 광물질은 팽윤 가능한 3층 점토로서, 점토 100g당 이온 교환 용량이 약 50meq 이상, 바람직하게는 약 60meq 이상이고, 규소원자 2층 사이에 알루미늄 원자 또는 마그네슘 원자 시트가 존재하는 알루미노실레키이트 및 마그네슘 실리케이트이다. 점토를 설명하는데 사용된 팽윤가능한이란 용어는 점토가 물과 접촉했을때 층으로 된 점토 구조가 팽윤되는 특성을 의미한다. 여기에서 사용된 팽윤 가능한 3층 점토는 지질학적으로 스멕타이트로 분류되는 점토 광물질이다. 이러한 스켁타이트 점토는 문헌[참조 : Grim,

(2nd. Ed.) pp 77-79(1968) 및 Van Olphen,

,(2nd, Ed.) pp 64-76(1977)]에 기술되어 있으며 이 문헌은 본원에서 참조로서 인용된다.

점토의 양이온 교환 용량은 전기투석, 암모늄 이온과의 교환후 적정, 또는 메틸렌 블루 방법과 같은 다양한 방법으로 측정될 수 있으며, 이 방법은 문헌[참조 : Grimshaw,

상기 참조 pp 264-265]에 기술되어 있으며, 본원에서 참조로서 인용된다.

본 발명의 세제 조성물에 혼입되었을 때 섬유 보호기능을 제공하는 시판되는 스멕타이트 점토 광물질의 예는 하기와 같으나, 이로써 제한되지 않는다.

나트륨 헥토라이트

Bentone Ew

Veegum F

Laponite SP

나트륨 몬모릴로나이트

Brock

Volclay Bc

Gelwhite GP

Ben-A-Gel

나트륨 사포나이트

Barasym Nas 100

칼슘 몬모릴로나이트

Soft Clark

Gelwhite L

리튬 헥토라이트

Barasym LIH200

상기의 상품명으로 구입한 스멕타이트 광물질은 각기 다양한 별도의 광물질의 혼합물을 포함함을 인지하여야 한다. 이러한 스멕타이트 광물질의 혼합물은 본 발명에 사용하기 적합하다.

몬모릴로나이트 부류중에서 특정 점토 100g당 약 50meq 이상의 양이온 교환 용량을 갖는 사포나이트 점토광물 및 합성 헥토라이트가 섬유 연화 특성을 제공하기에 적합하다. 예를 들어, 겔화이트™ GP는 스멕타이트 점토의 가장 백색인 형태이므로 백색 입상 세제 조성물로 제형화하는 경우에 바람직하다. 볼클레이™ BC는 결정 격자에 3% 이상의 철(Fe₂O₃)을 함유하는 스멕타이트 점토 광물질이고 매우 높은 이온 교환능을 가지는 것으로, 세제 유연 조성물에 사용하기 위한 가장 효율적인 점토 중의 하나이다. 임바이트™ K는 또한 만족스럽다.

본원에 사용하기 위한 적당한 점토 광물질은 스멕타이트가 진정한 14Å X-선 회절 패턴을 보인다는 사실에 의해 선택될 수 있다. 상술된 방법으로 수행된 교환능 측정과 함께 이 특징적인 패턴은 본원에 설명된 조성물에 사용하기 위한 특별한 스멕타이트형 광물질을 선택하는데 기준을 제공한다.

본 발명에 유용한 스멕타이트 점토 물질은 본질적으로 친수성이다. 즉, 이는 수성 매질에서 팽윤하는 특징을 나타낸다. 반대로는, 이 물질은 비수성 또는 주로 비수성 시스템에서는 팽윤하지 않는다.

본 발명에 따른 점토함유 세제 조성물은 35중량%까지, 바람직하게는 약 2중량% 내지 약 15중량%, 특히 바람직하게는 약 4중량% 내지 약 12중량%의 점토를 함유한다.

다른 임의의 세제 성분

본 발명의 세제 조성물에 포함될 수 있는 다른 임의의 성분은, 사용을 위한 이의 통상적인 기술 설정 농도(일반적으로 0 내지 약 20%), 용매, 하이드로트로프, 가용화제, 기포억제제, 가공 보조제, 오물-현탁제, 부식 억제제, 염료, 충전제, 광택제, 살충제, pH 조절제(모노에탄올아민, 탄산나트륨, 수산화나트륨 등), 효소-안정화제, 표백제, 표백활성제, 향료 등이 포함된다.

생산 제형

1. 액상 조성물

본 발명의 액상 조성물은 물 및 다른 용매를 함유할 수 있다. 메탄올, 에탄올, 프로판올 및 이소프로판올과 같은 저분자량의 1급 또는 2급 알코올 소량은 적당한 용매이다. 액상 조성물은 유일한 직물 보호제로서 컨디셔닝 입자를 함유할 수 있거나, 컨디셔닝 입자는 다른 직물 보호제와 혼합할 수 있다. 액상 조성물의 활성 성분은 주로 직물 컨디셔닝제일 수 있고 다른 클리닝, 컨디셔닝 또는 본원에 특별히 명시되지 않은 다른 성분을 함유할 수 있다.

액상 세제 조성물에 있어서, 계면활성제를 용해시키기 위해 1가 알콜을 포함하는 것이 바람직하지만, 약 2 내지 약 6개의 탄소원자와 약 2 내지 약 6개의 하이드록시 그룹을 포함하는 폴리올을 사용할 수 있고, 효소가 조성물 중에 포함될 경우, 개선된 효소 안정성을 제공할 수 있다. 폴리올의 예에는 프로필렌 글리콜, 에틸렌 글리콜, 글리세린 및 1,2-프로판디올이 포함된다. 프로필렌 글리콜이 특히 바람직한 알콜이다.

본 발명의 컨디셔닝 입자는 섬유 또는 직물에 대한 직접 적용시 유용하며, 이들은 예를 들어, 세제 성분없이 주로 또는 단지 활성 직물 컨디셔닝제와 같은 수성 분산제로서 제형화될 수 있다.

에어로졸 형태인 수성 분산제는 바람직하게는 약 2% 내지 약 60%의 본 발명의 컨디셔닝 입자; 약 10% 내지 약 50%의 물; 약 10% 내지 약 30%의 적절한 유기 용매; 잔여 %의 적절한 추진제를 함유한다. 상기 추진제의 예로는 염소화, 플루오르 및 클로로플루오르화 저분자량 탄화수소가 있다. 산화아질소, 이산화탄소, 이소부탄 및 프로판이 또한 추진제 가스로서 사용될 수 있다. 이들 추진제는 용기의 성분들을 방출시키기에 충분한 양으로 사용된다. 용매 또는 용매계의 일부로서 유용한 적절한 유기물질은 다음과 같다 : 프로필렌 글리콜, 폴리에틸렌 글리콜(분자량, 200 내지 600), 폴리프로필렌 글리콜(분자량, 425 내지 2025), 글리세린 소르비톨 에스테르, 1,2,6-헥산트리올, 디에틸 타르트레이트, 부탄디올 및 이들의 혼합물. 조성물의 나머지는 액체 담체를 함유하며, 바람직하게는 담체는 물 또는 물 및 1가 알콜의 혼합물이다.

이러한 형태의 액상 컨디셔닝 조성물의 다른 임의의 성분은 본래 통상적이며, 일반적으로 약 0.1중량% 내지 약 20중량%의 조성물을 함유한다. 직물 컨디셔닝제를 위한 이러한 임의의 성분에는 이로써 제한되는 것은 아니지만, 착색제, 향료, 박테리아 억제제, 광학 광택제, 불투명제, 점도 개질제, 직물 흡수도 증진제, 유화제, 안정화제, 수축 조절제, 스포팅(spotting)제, 살충제, 살진균제, 부식방지제 등이 포함된다.

본 발명의 컨디셔닝 입자는 세척물 또는 세정물에 가하는 수성 분산제로서 유용하다.

상기의 컨디셔닝 입자를 가정용 세탁물의 세탁시(즉, 계속 세탁함) 사용하는 것이 유용한 경우, 입자의 평균 직경은 상술한 바와 같아야 한다.

조성물 중의 물 및 다른 용매의 비는 생성된 직물 보호제의 상태에 의해 일부 결정될 것이다. 주위 온도에서, 컨디셔닝제는 실질적으로 생성물중에 불용성이어야만 하며, 전술한 입자 크기의 범위내에 포함되어야 한다. 이는 조성물중의 계면활성제, 증강제, 용매의 선택 및 이들 성분의 양에 따라 제한된다.

본 발명의 바람직한 태양에 있어서, 생성물은 바람직하게는 적합한 온도 범위내에서 자유-유동(free-flowing)해야 한다.

본 발명의 액상 직물 컨디셔닝 및 세제 조성물은 통상적인 방법으로 제조할 수 있다.

안정한 단일상 액상 세제 조성물을 제조하는 한 바람직한 방법이 본 명세서에 참조로 인용되고, 1988년 2월 8일에 본 출원과 함께 출원된 문헌[참조 : 미합중국 특허원제(미확인)호, Robert Mermelstein and Ronald L. Jacobsen, Stable Heavy Duty Liquid Detergetn Compositions Which Contain a Softner and Antistatic Agent]에 기술되어 있다. 일반적으로, 상기의 인용된 경우에는 다음을 함유하는 안정하고 단일상 액상 세제 조성물의 제조방법에 대해 기술하고 있다 : 에톡시화되지 않은 알킬 설페이트 및/또는 알킬 에톡실화된 설페이트 비이온성 게면활성제; 본 발명의 컨디셔닝 입자; 쿠멘, 크실렌 또는 톨루엔 설포네이트 계면활성제, 또는 이들의 혼합물; 스멕타이트형 점토 유연제; 및 탄소수 약 8 내지 약 16의 직쇄 또는 측쇄의 알킬 쇄와 에틸렌 옥사이드를 축합시켜 제조한, HLB가 약 8 내지 약 15인 비이온성 계면활성제. 안정한 액상 세제 조성물은 균질화기를 사용하여 고속의 전단, 예를 들어 약 150,000sec-로 액채 기제내에 점토를 혼합시켜 수득한다. 적절한 균질화기는 APV Gaulin, Inc.(Everett Massachusetts 소재)가 시판하고 있다.

2. 입상 조성물

본 발명의 입상 조성물은 단지 직물 컨디셔닝제로서 컨디셔닝 입자만을 함유하거나, 컨디셔닝 입자를 다른 직물 컨디셔닝제와 혼합하여 함유할 수 있다. 입상 조성물의 활성 성분은 주로 직물 컨디셔닝제일 수 있으며, 여기에는 본 명세서에 기술된 세제 성분이 포함될 수 있으며, 본 명세서에 구체적으로 기술되어 있지는 않지만 클리닝제, 컨디셔닝제 또는 다른 성분을 함유할 수 있다. 직물 보호 조성물을 위한 한 바람직한 태양에 있어서, 상기의 조성물은 본 발명의 컨디셔닝 입자 및 스멕타이트 점토 유연제를 포함하며, 바람직하게는 이온쌍 착화합물-함유 컨디셔닝 입자 대 : 점토의 중량비가 2：1 내지 1：2, 보다 바람직하게는 약 1：1의 범위가 되도록 포함한다.

본 발명을 구성하는 입상 세제 조성물은 통상적인 기술, 즉 물에 개개의 성분(컨디셔닝 입자의 이온쌍 착화합물은 제외)을 슬러리화시킨 다음, 생성된 혼합물을 분무 또는 분무-건조시키거나, 또는 성분을 팬 또는 드럼 응집시켜 형성할 수 있다. 그 다음에 컨디셔닝 입자를 직접 조성물에 가할 수 있다.

3. 스루-더-워시(thru-the-Wash) 세탁용 제품

본 발명의 조성물인, 액상 및 입상 제제는 모두 또한 다른 세제, 물에 컨디셔닝 입자를 방출시키는 직물 보호- 및/또는 세제 함유 제품에 포함되는 직물 보호 또는 다름 세탁 활성물의 존재 또는 부재하에 본 발명의 컨디셔닝 입자를 함유하는 세척을 통한 세탁용 제품에 적용시킬 수 있다. 이러한 제품은 본 명세서에 참조인용된 문헌[참조 : 바라니(Bahrani)의 미합중국 특허 제4,571,924호(1986. 2. 25.) 및 베헨크(Behenk) 등의 미합중국 특허 제4,638,907호(1987. 1. 27.)]에 기술된 바와 같은 적층된 기질을 포함한다. 이러한 적층된 기질 제품은 특히 입상 조성물에 적합하다. 다른 제품은 용해가능한 세탁 생성물(예 : 용해가능한 포오치(pouch))을 포함하며, 이는 입상 또는 액상 조성물을 위해 사용될 수 있다.

본 발명의 컨디셔닝 입자는 또한 본 명세서에 참조 인용된 1987년 6월 10일에 출원된 미합중국 특허원 제061,063호에 기술된 바와 같은 이온쌍 착화합물 외에 비실리콘 왁스를 포함할 수 있다.

아민-유기 음이온 및 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 및 비실리콘 왁스의 혼합물을 함유하는 입자는 용융된 형태로 3개의 성분을 혼합한 다음 상술한 방법(이 방법은 위에서 언급한 성분을 포함하는 입자를 형성하기 위한 다른 방법을 제외시키고자 함은 아니다)에 의해 입자를 형성시켜 제조할 수 있다. 대표적인 비실리콘 왁스에는 탄화수소 왁스(예 : 파라픽 왁스) 및 미세결정성 왁스가 포함된다. 이온상 착화합물 대 왁스의 중량비는 바람직하게는 약 1：10 내지 약 10：1이다.

본 발명의 세탁방법의 측면에 있어서, 전형적인 세탁세척 수용액은 약 0.1중량% 내지 약 2중량%의 본 발명의 세제 조성물을 함유한다. 세탁할 직물은 클리닝, 얼룩 제거 및 직물 보호 효과를 높이기 위해 상기 용액 중에서 진탕시킨다.

본 발명의 컨디셔닝 입자는 특히 세탁용으로 적절하지만, 또한 다른 적용, 예를 들어, 샴푸 및 헤어 컨디셔닝 조성물 중의 헤어 컨디셔닝 성분으로서 적합하다.

전술한 설명은 본 발명의 특성을 완전히 기술하는 것이다. 다음의 실시예는 본 발명을 기술할 목적으로 나타낸 것이다. 본 발명의 범위는 실시예에 이어 특허청구의 범위에 의해 결정된다.

본 명세서에 사용된 모든 부, % 및 비는 달리 언급이 없는 한 중량에 대한 것이다.

[실시예]

하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이다. 본 발명의 취지는 하기 특허청구의 범위에 의해 명백해질 것이다. 사용되는 약어는 하기와 같다 :

[실시예 Ⅰ]

본 실시예는 디탈로우 아민-선형 C알킬벤젠 설포네이트(CLAS) 이온쌍 착화합물 및 디탈로우 아민-설페이트 이온쌍 착화합물의 혼합물로부터 제조하는 직물 컨디셔닝 입자를 합성 및 생성하는 방법을 나타내고 있다.

디탈로우 아민[Sherex Corporation(Dublin, Ohio 소재)에서 아도겐(Adogen)

240으로 시판]과 큐멘 설폰산을 1：1 몰비로 혼합함으로써 디탈로우 아민-C₃LAS 이온쌍 착화합물을 형성한다. 산을 아민의 70 내지 150℃ 용융물에 교반하면서 천천히 가하여 균질한 유체를 제조한다. 디탈로우 아민과 황산을 2：1 몰비로 혼합함으로써 디탈로우 아민-설페이트 이온쌍 착화합물을 별도로 형성한다. 산을 아민의 70 내지 150℃ 용융물에 교반하면서 천천히 가하여 균질한 유체를 제조한다. 그후, 전자의 이온쌍 착화합물 70부와 후자의 이온쌍 착화합물 30부(중량을 기준으로 계산)를 혼합함으로써, 70：30 중량비의 디탈로우 아민-C₃LAS 이온쌍과 디탈로우 아민-설페이트 이온쌍의 혼합물을 형성한다. 재순환에 의해 혼합되고 가열된 노즐을 통해 유압식으로 힘을 받은, 이러한 두 가지 이온쌍 착화합물을 잘 유지시켜, 평균 직경이 약 50 내지 약 200μ인 착화합물 입자를 형성한다. 입자 크기는 맬번(Malvern) 입자 크기 분석기로 측정할 수 있다. 또한, 혼합물은 노즐을 통한 공기 유입에 의해 힘을 받을 수도 있다.

이렇게 디탈로우 아민-C₃LAS/디탈로우 아민-황산 이온쌍 착화합물 컨디셔닝 입자를 합성 및 생성하는 방법은, 또한 이로 제한되지는 않으나 하기에 나타낸 혼합물을 포함하여, 다른 아민-유기 음이온/아민-무기 음이온 이온쌍을 제조하는데 사용할 수 있다 :

디탈로우 아민-CLAS/디탈로우 아민-설페이트 컨디셔닝 입자 혼합물 및 상기 혼합물 1 내지 7에 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 혼입시키면 세제 조성물에 있어서 입자의 화학적 안정성이 개선된다. 특히 아민-무기 음이온 이온상 착화합물 중 아민 성분으로서 트리스테아릴 및/또는 트리탈로우 아민을 갖는 혼합물 4 내지 7은 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 화학적 안정성에 대해 특히 공격적인 계면활성제, 증강제 및 용매를 다량 함유하는 액체 세제 조성물에 사용하기에 유용하다. 특히 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민 성분으로서 2급 아민을 갖는 디탈로우 아민-CLAS/디탈로우 아민-설페이트 이온쌍 혼합물 및 혼합물 1 내지 3은 아민-설페이트 이온쌍에 의해 부여된 경도에 의한 개선된 가공특성 때문에 바람직하다.

또한, 정도의 차이는 있으나, 아민-유기 음이온 이온쌍 아민-무기 음이온의 이온쌍 착화합물 비율이 약 95：5 내지 약 5：95의 범위 내에서(즉, 70：30이 아닌) 다른 값일 경우에도 실제적으로 유사한 잇점을 수득할 수 있다.

유기 음이온으로서 CLAS를 벤젠 설포네이트, C-CLAS, 또는 C-CLAS로 대체하거나, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물(여기서, 이온쌍 착화합물의 제조시 사용되는 아민 및 무기산의 몰비를 조절한다) 중 설페이트를 포스페이트 또는 니트레이트로 대체할 경우에도 유사한 잇점을 수득할 수 있다.

상기에서 기술한 바와 같이 입자를 형성한 후 이를 액상 또는 입상 조성물용으로 적합한 직물 보호제 및/또는 세제 성분과 혼합함으로써 상기에서 논의된 입자를 하기 실시예에서 사용할 수 있다. 이러한 조성물은, 여전히 우수한 직물 컨디셔닝을 제공하면서도 세척을 상당히 방해하지 않으면서 직물 세탁전 또는 세탁의 세척단계 중에 가할 수 있다. 또한, 이러한 입자는 세척 단계 후의 헹굼단계 또는 건조단계에서도 적용되어 효과적인 직물 컨디셔닝을 제공할 수 있다.

[실시예 Ⅱ 내지 Ⅷ]

하기의 액상 세제 조성물은 본 발명을 예시하기 위한 것이고 실시예 Ⅰ에 기술된 방법으로 제조한다 :

아민-유기 음이온 이온상 착화합물 대 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 중량비를 70：30으로 하여, 하기 표의 이온쌍 혼합물 중에서 선택된 컨디셔닝 입자를 실시예 Ⅱ 내지 Ⅷ의 세제 조성물에 가한다 :

컨디셔닝 입자는 실시예 Ⅰ에 기술된 바와 같이 제조할 수 있다. 이러한 컨디셔닝 입자에 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 혼입은 세제 조성물중, 특히 승온에서의 생성물을 저장시킨 후 입자의 화학적 안정성을 향상시킨다. 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 중 아민 성분으로서 트리탈로우 아민 또는 트리스테아릴 아민(혼합물 5 내지 8)을 갖는 입자는 특히 세제 조성물 중에서 화학적 안정성을 제공한다. 컨디셔닝 입자 이온쌍 혼합물 1 내지 4는 보다 경질이므로 크기 분포 및 구형면에서 프릴링시 보다 일관적인 생성물의 가공 잇점 뿐만 아니라 향상된 화학적 안정성을 추가로 제공하므로 가장 바람직하다. 또한, 본 발명은 아민-유기 음이온 대 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 비율이 약 40：60 내지 약 90：10의 범위 내에서(70：30이 아닌) 다른 값일 경우에도 실시할 수 있다.

이러한 조성물은 우수한 세정성 뿐만 아니라(세정성을 감소시키지 않으면서) 정전기 조절 및 연화 잇점을 제공한다.

[실시예 Ⅸ]

본 발명의 입상 세탁용 세제 조성물을 다음과 같이 제조한다 :

다음 성분을 합한 후, 통상적인 방법으로 분무-건조시켜 세제 혼합물을 형성시킨다.

이 혼합물 77.8부(중량 기준)에 11.8부의 탄산나트륨; 70：30 중량비의 아민-유기 음이온 대 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물을 갖는 실시예 Ⅰ에 기술한 바와 같이 제조한 디탈로우 아민-CLAS/디탈로우 아민-설페이트 컨디셔닝 입자 4.8부 및 6.6부의 나트륨 몬모릴로나이트 점토를 가한다. 세제 조성물을 완전히 혼합하여 성분을 고루 분포시킨다.

생성된 세제 조성물은 우수한 세척 및 우수한 직물 보호성(예 : 연화 및 정전기 방지)을 나타낸다.

컨디셔닝 입자는 또한 여러 결합체 및 기술을 사용하여 응집시킬 수 있다. 결합제는 세정액에 빨리 용해되어야 한다. 결합제의 적합한 예는 물 또는 수용성 염(예 : 황산염, 탄산염, 덱스트린™ 아교 또는 인산염)이다. 이들을 입상 세제에 첨가하기 전의 컨디셔닝 입자의 응집으로 나머지 세제 조성물로부터 입자의 분리를 최소화할 수 있다.

본 발명의 세제 조성물은 또한 아민-유기 음이온：아민-무기 음이온이 약 40：60 내지 약 90：10의 다른 비율로 변화될 때도 수득가능하다.

디탈로우 아민-CLAS/디탈로우-설페이트 컨디셔닝 입자가 디탈로우 아민-CLAS/디스테아릴 아민-셀페이트; 디스테아릴 아민-CLAS/디스테아릴 아민-설페이트; 및 디스테아릴 아민-CLAS/디탈로우 아민 설페이트를 포함하는 이온쌍 착화합물의 다른 혼합물로 대치될 경우에 유사한 장점이 수득가능하다.

[실시예 Ⅹ-ⅩⅥ]

다음 입상 세제 조성물은 본 발명의 대표적인 것이며, 실시예 ⅩⅥ의 세제를 분무건조가 아니라 팬 또는 드럼 응집에 의해 제조되는 것을 제외하고 실시예 Ⅸ에 기술된 바와 같이 제조된다. 컨디셔닝 입자는 실시예 Ⅰ에 기술된 바와 같이 제조가능하다.

컨디셔닝 입자는 70：30 중량부의 디스테아릴 아민-CLAS 이온쌍 착화합물：디스테아릴 아미노-설페이트 이온쌍 착화합물을 함유할 수 있다.

이들 조성물은 우수한 정전기 방지 및 연화성(세척물을 손상시키지 않음)은 물론 우수한 세척효과를 나타낸다. 본 발명의 세제 조성물은, 또한 컨디셔닝 입자가 실시예 Ⅰ의 디탈로우 아민-CLAS/디탈로우 아민-설페이트 이온쌍 혼합물 또는 다른 실시예 Ⅰ의 이온상 혼합물(1) 또는 (3), 또는 이의 혼합물로 대치되거나, 아민-유기 음이온/아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 비율이 약 40：60 내지 90：10의 수준으로 변화될 경우에 수득가능하다.

[실시예 ⅩⅦ]

본 발명의 입상 세탁 세제 조성물은 다음과 같이 제조한다.

세제 조성물 제조의 첫번째 단계는 세제 기본 과립의 형성이다. 계면활성제, 증강제 및 설페이트는 크러치에 가하여 혼합한 후, 건조 탑에서 분무건조시킨다. 모으기 전에, C알코올 폴리에톡실레이트 6.5T를 세제 기본 과립에 분무한다.

두번째로, 70：30 중량비의 DSA-CLAS：DSA-S를 갖는 디스테아릴 아민-CLAS/디스테아릴 아민 설페이트(DSA-CLAS/DSA-S) 컨디셔닝 입자가 실시예 Ⅰ에 일반적으로 기술된 방법에 따라 형성된다.

세번째로, 세제 기본 과립, 탄산염, 나트륨 몬모릴로나이트 점토 및 얼룩착색제를 혼합 드럼에 놓고 건조 혼합한다. 필요한 경우, 또한 거품 억제제를 이 단계에서 가한다. 혼합 후, 향료 및 C알코올 폴리에톡실레이트 6.5T를 둘 다 물질에 분무한다.

최종 단계로, DSA-CLAS/DSA-S 컨디셔닝 입자를 세제 기본 과립, 탄산염, 점토 및 얼룩착색제를 함유하는 혼합 드럼에 가한다. 이들 성분을 합한 후, 모은다.

생성된 세제 조성물은 우수한 세정 및 직물 보호성(예 : 연화성 및 정전기 방지)을 나타낸다.

본 발명의 세제 조성물은 컨디셔닝 입자를 실시예 Ⅰ의 디탈로우 아민-CLAS/디탈로우 아민-설페이트 이온쌍 혼합물 실시예 Ⅰ의 다른 이온쌍 혼합물(1) 또는 (3), 또는 이의 혼합물로 대치하거나, 아민-유기 음이온/아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 비율을 약 40：60 내지 약 90：10으로 변화시킬 경우에도 수득 가능하다.

본 발명의 조성물은 또한 혼합된 계면활성제 시스템을 전체 또는 부분적으로 C알킬 벤젠 설포네이트, C알킬 설페이트, C알킬 에톡시설페이트, C알코올 폴리에톡실레이트, 아민 옥사이드 및 이의 혼합물을 포함하나 이로 제한되지 않는 다른 음이온성 및/또는 비이온성 계면활성제와 혼합할 경우에도 수득가능하다.

[실시예 ⅩⅧ]

입상 직물 보호 조성물을 적층된 기질에 제공한다. 평균 직경이 약 70 내지 약 200μ인 디탈로우 아민-CLAS/디탈로우 아민 설페이트 컨디셔닝 입자 1부를 70：30의 아민-유기 음이온/아민-무기 음이온 이온쌍 중량비로 실시예 Ⅰ에서 기술한 바와 같이 제조한다. 이러한 입자를 스멕타이트 점토 약 1부와 임의 혼합시킨다. 컨디셔닝 입자/점토 혼합물을 하기 문헌에 기술된 단일 또는 다중 포우치를 가진 적층된 기질 제품에 함유시킨다[참조 : 미합중국 특허 제4,571,924호]. 적층된 기질 제품을 세제의 존재하에서 세탁 사이클에 넣을 수 있다. 한정되지는 않지만 실시예 Ⅸ 내지 ⅩⅦ에서 기술된 세제 성분을 컨디셔닝 입자와 임의 혼합할 수 있다. 또한 임의로 상기한 세제 성분을 기질 제품의 포우치 하나 이상에 제공할 수 있으며, 컨디셔닝 입자는 기질 제품의 다른 포우치 하나 이상에 제공할 수 있다. 기질 제품은 세탁 및/또는 헹굼 사이클 뿐만 아니라 기계건조 사이클의 진탕시에 혼합물을 방출시킨다. 다르게는, 점토와 컨디셔닝 입자의 혼합물은 기질 제품을 사용하지 않으면서 세탁 사이클에 가할 수 있다. 각각의 상기 적용에서 헹굼시에 역효과가 발생하지 않는 우수한 직물 컨디셔닝제를 수득할 수 있다. 본 발명의 세제 조성물은 또한 실시예 Ⅰ의 이온쌍 혼합물 1 내지 3 또는 이의 혼합물을 디탈로우 아민-CLAS/디탈로우 아민-설페이트 컨디셔닝 입자로 대체시키거나, 이민-유기 음이온/아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 비를 약 40：60 내지 약 90：10의 범위내에서 다르게 변화시킴으로써 수득할 수 있다.

[실시예 ⅩⅨ]

본 발명의 고성능 액체 세탁 세제 조성물은 하기와 같다.

상기 조성물을 제조하기 위해 사용되는 공정은 하기와 같다. 활성도는 수용액 중에서 활성의 중량%로서 나타낸다.

단계 1에 나열된 성분을 단일 진탕기가 장착된 혼합 탱크에 상기한 순서대로 가한다. 칼슘 포메이트를 가하기 전에 혼합물의 pH는 시트르산 0.04부를 가하여 9.0 이하로 강하시킨다. 단계 2에 나열된 점토 슬러리는 진탕기에 의해 점토를 물로 혼합시킨 후 원심분리 펌프에 의한 재사이클에 의해 고체를 분산시켜 제조한다. 점토 슬러리(단계 2)를 약 하루정도 방치시킨 후, 이를 단계 1로부터 수득한 성분이 함유된 혼합 탱크에 가한다. 1 내지 2일 후에, 제형 중간체(단계 1 및 2)의 pH는 시트르산 0.04부 미만을 가하여 7.7로 강하시킨다. 그리고 상기 제형 중간체는 6000파운드당 in인치 게이지(psig)의 압력, 150,000sec의 전단속도의 가울린(Gaulin) 균질화기를 1회 통과시켜 가공시킨다. 상기한 가공 단계는 점토를 효과적인 현탁제로서 활성화시키기 위한 중요한 단계이다. 단계 3에 나열된 성분은 균질화기를 통해 가공된 제형 중간체에 상기한 순서대로 가함으로써 제품화를 계속한다. 최종적으로 단계 4에 기술된 프릴은 거의 기계적 진탕(100rpm 이상)을 시키지 않고 상기 액체로 수동적인 크로칭에 의해 가한다.

상기 제형은 세정성이 우수하고 정전기 조절이 우수하며, 점도가 70℉(약 21.1℃)에서 약 350cps이고, pH는 7.6이며, 항복치는 약 39dynes/㎠인 안정하고 단일 상인 고성능 액체이다.

[실시예 ⅩⅩ]

본 발명의 고성능 액상 세탁용 세제 조성물은 하기와 같다 :

본 조성물을 제조하기 위해 사용되는 공정은 하기와 같다. 활성도는 수용액 중에서 활성의 중량%로서 나타낸다.

단계 1에 나열된 성분을 단일 진탕기가 장착된 혼합 탱크에 가한다. 칼슘 포메이트를 가하기 전에 혼합물의 pH는 시트르산 0.04부를 가함으로써 9.0 이하로 강하시킨다. 단계 2에 나열된 점토 슬러리는 점토를 물로 진탕기에 의해 혼합시켜 제조한다. 이러한 점토 슬러리(단계 2)는 단계 1로부터의 성분에 즉시 가한다. 그런 다음, 이러한 제형 중간체는 6000psig의 압력, 150,000sec의 전단속도의 가울린 균질화기를 1회 통과시켜 가공한다. 상기한 가공 단계는 점토를 효과적인 현탁제로서 활성화시키기 위한 중요한 단계이다. 단계 3에 나열된 성분은 균질화기를 통해 가공된 제형 중간체에 상기한 순서대로 가함으로써 제품제조를 계속한다. 이때 성분을 수동적으로 혼합한다. 최종적으로 단계 4에 기술된 프릴을 가하고, 수동적으로 혼합한 다음, 1분 미만 동안 기계적 진탕을 시킨다.

안정한 단일 상 균질 액체는 점도가 70℉(약 21.1℃)에서 약 480cps이고, pH는 약 9.1이며, 항복치는 약 146dynes/㎠이다.

Claims

(i) 하기 일반식 (1)의 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물-5 내지 95중량% 및 (ⅱ) 하기 일반식 (2)의 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물-95 내지 5중량%를 함유하며 평균 직경이 10 내지 500㎛인 수불용성 입자를 포함하는 컨디셔닝제.

상기 식에서, R₁및 R₂는 각각 독립적으로 C₁₂-C₂₀알킬 또는 알케닐이고; R₃은 각각, 일반식 (1)에서는 H 또는 CH₃이고, 일반식 (2)에서의 H, CH₃, 또는 C₂-C|₂₀알킬 또는 알케닐이며; A는 알킬 설포네이트, 아릴 설포네이트, 알킬아릴 설포네이트, 알킬 설페이트, 디알킬 설포석시네이트, 알킬 옥시벤젠 설포네이트, 아실 이세티오네이트, 아실알킬 타우레이트, 알킬 에톡시화 설페이트 및 올레핀 설포네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 유기 음이온이고; B는 니트레이트, 설페이트, 하이드로겐 설페이트, 포스페이트, 하이드로겐 포스페이트 및 디하이드로겐 포스페이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 무기 음이온이며; x는 1 내지 3의 정수이다.
제1항에 있어서, 평균 입자 직경이 40㎛보다 크고 350㎛보다 작은 컨디셔닝제.
제2항에 있어서, 평균 입자 직경이 50㎛보다 크고 200㎛보다 작은 컨디셔닝제.
제1항에 있어서, A가 C₁-C₂₀알킬 아릴 설포네이트 및 아릴 설포네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민 및 탈로우 아라키딜 메틸 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 컨디셔닝제.
제1항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민, 트리탈로우 아민, 트리팔미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아릴, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 컨디셔닝제.
제4항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민, 트리탈로우 아민, 트리팔미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아릴, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 컨디셔닝제.
제6항에 있어서, 평균 입자 직경이 40㎛보다 크고 350㎛보다 작은 컨디셔닝제.
제7항에 있어서, 평균 입자 직경이 50㎛보다 크고 200㎛보다 작은 컨디셔닝제.
제8항에 있어서, 입자가 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 40 내지 90중량%와 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 60 내지 10중량%를 함유하는 컨디셔닝제.
제9항에 있어서, 입자가 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 50 내지 80중량%와 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 50 내지 20중량%를 함유하는 컨디셔닝제.
제1항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 R₃이 H 또는 CH₃인 컨디셔닝제.
제3항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 R₃이 H 또는 CH₃인 컨디셔닝제.
제10항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 R₃이 H 또는 CH₃인 컨디셔닝제.
제11항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 및 탈로우 아라키딜 메틸 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 컨디셔닝제.
제1항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 R₃이 C₁₂내지 C₂₀알킬 또는 알케닐이 컨디셔닝제.
제15항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 트리탈로우 아민, 트리팔미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아릴, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 컨디셔닝제.
제1항의 컨디셔닝제 0.1 내지 20%와 양이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 쯔비터이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제 및 음이온성 계면활성제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 수용성 세제 계면활성제 1 내지 98%(여기서, 세제 계면활성제의 양은 이온쌍 착화합물에 존재하는 음이온성 음이온의 양을 제외한 양이다)를 포함하는 세제 조성물.
제17항에 있어서, 평균 입자 직경이 40㎛보다 크고 350㎛보다 작은 세제 조성물.
제18항에 있어서, 평균 입자 직경이 50㎛보다 크고 200㎛보다 작은 세제 조성물.
제17항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민, 트리탈로우 아민, 트리팔미틸 아민, 트리스테아릴 아민, 트리아라키딜 아민, 디탈로우 스테아릴 아민, 디스테아릴 탈로우 아민, 디탈로우 팔미틸 아민, 디팔미틸 탈로우 아민, 디탈로우 아라키딜 아민, 디아라키딜 탈로우 아민, 디스테아릴 팔미틸 아릴, 디팔미틸 스테아릴 아민, 디스테아릴 아라키딜 아민, 디아라키딜 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 아라키딜 아민, 디팔미틸 아라키딜 아민, 디아라키딜 팔미틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아라키딜 아민, 탈로우 팔미틸 스테아릴 및 탈로우 팔미틸 아라키딜 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 세제 조성물.
제20항에 있어서, A가 C₁-C₂₀알킬 아릴 설포네이트 및 아릴 설포네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디탈로우 메틸 아민, 디팔미틸 아민, 디팔미틸 메틸 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민, 디아라키딜 아민, 디아라키딜 메틸 아민, 팔미틸 스테아릴 아민, 팔미틸 스테아릴 메틸 아민, 팔미틸 아라키딜 아민, 팔미틸 아라키딜 메틸 아민, 스테아릴 아라키딜 아민, 스테아릴 아라키딜 메틸 아민, 탈로우 팔미틸 아민, 탈로우 팔미틸 메틸 아민, 탈로우 스테아릴 아민, 탈로우 스테아릴 메틸 아민, 탈로우 아라키딜 아민, 탈로우 아라키딜 메틸 아민으로 이루어진 그룹으로부터의 선택되는 세제 조성물.
제21항에 있어서, 입자가 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 40 내지 90중량%와 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 60 내지 10중량%를 함유하는 세제 조성물.
제22항에 있어서, 입자가 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 50 내지 80중량%와 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물 50 내지 20중량%를 함유하는 세제 조성물.
제21항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 R₃이 H 또는 CH₃인 세제 조성물.
제24항에 있어서, A가 벤젠 설포네이트 또는 C₁-C₁₃선형 알킬 벤젠 설포네이트인 세제 조성물.
제25항에 있어서, A가 C₁-C₅선형 알킬 벤젠 설포네이트 및 벤젠 설포네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민 및 디탈로우 메틸 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되며, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민, 디탈로우 메틸 아민 및 디스테아릴 메틸 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 세제 조성물.
제26항에 있어서, 무기 음이온이 설페이트이고, 유기 음이온이 C_1-3LAS이며, 아민-유기 및 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민 또는 디스테아릴 아민이고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 대 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 중량비가 50：50 내지 80：20인 세제 조성물.
제21항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민 중의 R₃이 C₁₆-C₂₀알킬 또는 알케닐인 세제 조성물.
제28항에 있어서, 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 트리탈로우 아민 및 트리스테아릴 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 세제 조성물.
제29항에 있어서, A가 벤젠 설포네이트 또는 C₁-C₁₃선형 알킬 벤젠 설포네이트인 세제 조성물.
제30항에 있어서, A가 C₁-C₅선형 알킬 벤젠 설포네이트 및 벤젠 설포네이트로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민, 디스테아릴 아민, 디스테아릴 메틸 아민 및 디탈로우 메틸 아민으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 세제 조성물.
제31항에 있어서, 무기 음이온이 설페이트이고, 유기 음이온이 C_1-3LAS이며, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물의 아민이 디탈로우 아민 또는 디스테아릴 아민이고, 아민-유기 음이온 이온쌍 착화합물 대 아민-무기 음이온 이온쌍 착화합물의 중량비가 50：50 내지 80：20인 세제 조성물.
제21항에 있어서, 액상 담체 및 5 내지 50%의 세제 증강제를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제33항에 있어서, 증강제 성분이 폴리아세테이트, 알케닐 석시네이트, 카보네이트, C₁₀-C₁₈알킬 모노카복실산, 폴리카복실산, 중합성 카복실레이트, 폴리포스폰산, 알칼리 금속, 암모늄 및 이의 치환된 암모늄염, 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 세제 조성물.
제33항에 있어서, 킬레이트화제 0.1 내지 10%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제35항에 있어서, 효소 0.025 내지 2%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제36항에 있어서, 점토 오물 제거제 0.01 내지 5.0%와 재침착 방지제를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제37항에 있어서, 방오제 0.01 내지 5.0%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제38항에 있어서, 안정화제 0.1 내지 10.0%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제33항에 있어서, 안정화제 0.1 내지 10.0%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제24항에 있어서, 세제 증강제 10 내지 80%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제41항에 있어서, 증강제 성분이 무기 포스페이트, 수불용성 나트륨 알루미노실리케이트, 실리케이트, 카보네이트, C₁₀-C₁₈알킬 모노카복실산, 폴리카복실산, 중합성 카복실레이트, 폴리포스폰산, 알칼리 금속, 암모늄 또는 이의 치환된 암모늄염, 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 세제 조성물.
제41항에 있어서, 스멕타이트 점토 연화제 2 내지 15%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제41항에 있어서, 킬레이트화제 0.1 내지 10%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제44항에 있어서, 효소 0.025 내지 2%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제45항에 있어서, 점토 오물 제거제 0.01 내지 5.0%를 재침착 방지제를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제46항에 있어서, 방오제 0.01 내지 5.0%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제47항에 있어서, 표백제 1 내지 20%를 추가로 포함하는 세제 조성물.
제1항의 컨디셔닝제와 스멕타이트 점토 연화제를 포함하는 섬유 보호 조성물.