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KR920703195A - 미립자물질의 가열 및 처리방법 - Google Patents

미립자물질의 가열 및 처리방법

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KR920703195A KR1019920700272A KR920700272A KR920703195A KR 920703195 A KR920703195 A KR 920703195A KR 1019920700272 A KR1019920700272 A KR 1019920700272A KR 920700272 A KR920700272 A KR 920700272A KR 920703195 A KR920703195 A KR 920703195A
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Abstract

내용 없음

Description

미립자물질의 가열 및 처리방법
[도면의 간단한 설명]
제1도는 미립자 탄산염 물질, 예를 들면 석회석의 가열 및 처리와 관련하여 기재한 본 발명의 실시태양을 설명한 것이다. 용융조 반응기에서 배출되는 배기 가스를 가열 및 하소실에 통과시키면서, 새로운 탄산염 물질을 상기 가열 및 하소실에 통과시킨후, 분리실에 통과시키면, 여기서 고체와 가스가 분리된다. 이어서, 처리된 탄산염 물질의 기류가 2개의 부분(반드시 동일한 부분이 아님)으로 분리된다. 그중 일부는 챔버로 재순환시키고, 동일한 다른 부분은 용융조 반응기에 첨가한다.
제2도는, 석회석의 일부분이 사전 하소됨이 없이 용융조 반응기로 공급되는 것을 특징으로 하는 본 발명의 다른 실시태양을 설명한 것이다.
제3도는 고온 배기 가스중 석회석의 일부를 하소시키고, 미하소 석회석의 일부를 용융조 반응기에 직접 충전시키고, 부가적으로 석회석의 일부를 특정 하소를 공정을 거치게 하는 것을 특징으로 하는 본 발명의 다른 실시태양을 설명한 것이다.
제4도는 본 발명의 다른 실시태양을 설명한 것으로서, 여기서는 챔버 내부 표면에 인접한 보다 차가운 입자들의 강하막을 제공하기 위해서, 보다 차가운 미립자물질을 챔버 배출구에 가까우면서 챔버벽에 인접하여 챔버에 도입시킨다. 차가운 입자들을 챔버의 배기가스 유입구 노즐쪽으로 강하하면서 배기 가스의 유동물에 혼입되어, 가스 및 고체 배출구를 통해서 챔버를 이탈하게 된다.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (17)

  1. 가스 중에 혼입된 미립자물질을 유입구 또는 다수개의 유입구를 통해서 챔버 중으로 통과시키는데, 여기서 미립자 물질의 유동은 미립자 물질의 적어도 일부분이 신속하게 가열되는 방식으로 오리피스를 통해서 도입되는 고온 가스의 유동과, 가열된 미립자물질 및 유동패턴으로 들어가는 미가열 미립자물질의 적어도 대부분과 합하게 되며, 여기에서 유동 패턴중에서 입자들 상호간의 접촉과 챔버중 내부표면과의 접촉은 최소화됨을 특징으로 하는 고온 가스 증기를 사용하여 고형 미립자 물질을 가열 및 처리하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 챔버의 용적이 -소정의 가열 및 처리가 이루어지고, -챔버에서 유출되는 가열 및 처리된 입자의 펑균 온도가 입자들 상호간의 응집 및 챔버 다음 장치의 내부벽면에의 부착을 허용가능한 정도로 감소시킬 수 있는 것임을 특징으로 하는 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 챔버는 본체 유동방향으로 연장된 것임을 특징으로 하는 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 고온가스가 연장된 챔버의 한쪽말단부 근처에 위치한 유입오리피스 또는 다수개의 유입오리피스를 통해 공급되는 것임을 특징으로 하는 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 유입오리피스 또는 다수개의 유입오리피스는 챔버의 세로축 방향 대역에 위치함을 특징으로 하는 방법.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 챔버의 단면적은 배기가스와 챔버 벽면과의 직접접촉을 최소화시켜 유입 오리피스 또는 다수개의 유입오리피스의 상응하는 단면적보다 실질적으로 큰 것임을 특징으로 하는 방법.
  7. 제4항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 상기 배출구 또는 다수개의 배출구는 유입오리피스 또는 다수개의 유입오리피스의 근처에 위치함을 특징으로 하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 배출구 또는 다수개의 배출구의 배향이 챔버의 주변에 대해 중심방향으로, 즉, 챔버의 세로축을 향해 어느 정도 확장되고, 여기서 산화물 입자의 유동패턴이 입자들 상호간의 접촉 및 챔버벽면과의 접촉을 최소화시키기 위해 실질적으로 축방향인 것임을 특징으로 하는 방법.
  9. 제7항에 있어서, 상기 배출구 또는 다수개의 배출구의 배향은 챔버 주변의 접선방향, 즉 대부분이 챔버의 세로축을 따라 어느 정도 확장됨으로써 기체의 큰 회전도 및 미립자물질의 회전도가 상기 챔버내에 고정되는 것임을 특징으로 하는 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 선회도는 배출구 또는 다수개의 배출구의 적당한 형태 및/또는 배향에 의해서 미립자 물질이 포함된 기체에 부여되는 것임을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1항 내지 제10항중 어느 하나의 항에 있어서, 처리된 산화물 입자는 일부 또는 전부가 챔버로 재순환되어 더욱 처리됨을 특징으로 하는 방법.
  12. 제1항 내지 제11항중 어느 하나의 항에 있어서, 석회석 등의 탄산염 물질이 적어도 부분적으로 하소되는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 첨부도면에 기재된 제1항에 따르는 제조방법.
  14. 1) 미립자물질 및 고온의 가스를 통제하고 유도하는데 사용되는 용기; 2) 고온가스 유입오리피스 또는 다수개의 오리피스; 3) 운반기체 중에 포함된 미립자물질의 배출구 또는 다수개의 배출구; 및 4) 미립자물질 유도관 또는 다수개의 유도관을 포함하고, 상기 유입오리피스와 배출구는 미립자물질이 초기에 고온 조건에 노출된 다음, 응집 및 점성현상을 통제하기 위해 냉각시킬 수 있도록 배열된 것을 특징으로 하는 고형 미립자물질을 가열 및 처리하는 챔버.
  15. 첨부도면에 기재된 제14항에 따르는 챔버.
  16. 1) 용융조 반응기: 2) 상기 반응기에서 배기가스를 전달하는 수단; 3) 제14항 또는 제15항에 정의된 챔버 또는 다수개의 챔버; 4) 새로 공급되는 미립자물질, 또는 가열 및 처리된 미립자물질을 챔버 또는 다수개의 챔버로 공급시키는 수단; 5) 기체중의 고체를 챔버 또는 다수개의 챔버로부터 가스-고체 분리기 또는 다수개의 분리기로 전달시키는 수단; 및 6) 분리된 고체의 적어도 일부 및 포함된 기체의 어느정도를 반응기로 전달시키고, 필요에 따라서는 포함된 기체의 일부를 챔버 또는 다수개의 챔버로 전달하는 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 용융조 반응기에서 물질을 제조하는 장치.
  17. 첨부도면에 기재된 제16항에 따른 장치.
    * 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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