KR900003852B1 - 방향족-1,4-옥스아제핀-온 및 -티온, 및 이의 제법 - Google Patents
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Description
Claims (19)
- 알칸올아민 또는 보호되거나 비보호된 2급 아민작용기를 갖는 알칸올아민을 비친핵성 알칼리금속 강염기와 반응시킨 다음, 이 반응생성물을 방향족화합물과 반응시키고, 2급 아민작용기가 보호된 경우에는 2급 아민작용기를 탈보호시켜 일반식(II)의 화합물을 생성하는 조건을 이용하여 일반식(V)의 방향족화합물을 일반식(IV)의 알칸올아민 화합물과 반응시킨 다음; 생성된 화합물을 폐환시켜 일반식(Ia)의 화합물을 생성함을 특징으로 하여, 일반식(Ⅰ)의 화합물, 및 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염을 제조하는 방법.상기식에서, A는 벤젠, 나프탈렌, 피리딘 또는 퀴놀린중에서 선택된 방항족 환을 나타내고, 이들 환은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 디저급알킬아미노, 니트로 또는 트리플루오로메틸 증에서 선택된 1 또는 2개의 Y라디칼로 임의 치환되고. 단, 일반식(Ia) 및 (Ⅰ)에서, 상기 방향족 환들은 옥스아제핀잔기와 함께 2개의 탄소원자를 공유하고, B는 산소 또는 황 중에서 선택되며 , R은 수소, 저급알킬, 사이클로알킬 또는 페닐-저급알킬(여기서, 페닐은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 니트로 또는 트리플루오로메틸 중에서 선택된1 또는 2개의 라디칼로 임의 치환될 수 있다)중에서 선택되고, n은 1, 2 또는 3이며, R4및 R5는 수소 또는C1-C6저급알킬중에서 선택되고, Z는-NR1R2,1H-피라졸-1-일, 1H-이미다졸-1-일, 1H-이미다졸-2-일 또는 4, 5-디하이드로-1H-이미다졸-2-일중에서 선택되며. R1및 R2는 저급알킬, 사이클로알킬 또는 페닐-저급알킬(여기서, 페닐은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 니트로, 트리플루오로메틸 또는 시아도 중에서 선택된 1 또는 2개의 라디칼로 임의 치환될 수 있다.)중에서 선택되거나. R1및 R2는 인접한 질소원자와 함께, 1-아제티디닐, 1-피롤리디닐-2, 5-디메틸피롤리딘-1-일, 2-메틸피롤리딘-1-일, 1-피페리디닐, 4-치환된 피페라진-1-일. 4-[비스(4-플루오로페닐)메틸-피페리딘-1-일, 4-모르폴리닐, 1-피페라지닐,4-치환된 피페라진-1-일,1,2,3,6-테트라하이드로피리딘-1-일, 2,5-디하이드로-1H-피롤-1-일 또는 1H-피롤-1-일 중에서 선택된 헤데로사이클릭 잔기를 형성할 수 있고. R3는 수소, 알칼리금속 또는 에스테로화 그룹중에서 선택되며 , R6는 수소 또는 아민보호그룹이다.
- 제 1 항에 있어서, 형성된 화합물이 2-[(디메틸아미노)메틸]-2, 3-디하이드로-4-메틸피리도[3, 2-b]-1, 4-옥스아제핀-5(4H)-온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 형성된 화합물이 2-[2-(디메틸아미노)에틸]-2,3-디하이드로-4-메틸-1, 4-옥스아제피노[6, 7-C]-퀴놀린-5(4H)-온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 형성된 화합물이 2-[2-(디메틸아미노)에틸]-2, 3-디하이드로피리도[3, 2-f]-1, 4-옥스아제핀-5(4H)-온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 형성된 화합물이 2-[2-[디메틸아미노)에틸]-2, 3-디하이드로피리도[3, 2-f]-1, 4-옥스아제핀-5(4H)-티온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 제 1 항에 있어서, 형성된 화합물이 2-[(디메틸아미노)에틸]-2, 3-디하이드로-4-메틸피리도[3, 2-f]-1, 4-옥스아제핀-5(4H)-티온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 일반식(II)의 그룹 및 이의 산부가염중에서 선택된 화합물.상기식에서, A는 벤젠, 나프탈렌, 피리딘 또는 퀴놀린 중에서 선택된 방향족 환을 나타내고, 이들 환은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 디저급알킬아미노, 니트로 또는 트리플루오로메틸 중에서 선택된 1 또는 2개의 Y라디칼로 임의 치환되고; R은 수소, 저급알킬, 사이클로알킬 또는 페닐-저급알킬(여기서, 페닐은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 니트로 또는 트리플루오로메틸 중에서 선택된 1 또는 2개의 라디칼로 임의 치환될 수 있다)중에서 선택되고, n은 1, 2 또는 3이며, R4및 R5는 수소 또는 C1-C5저급알킬 중에서 선택되고. Z는-NR1R2, 1H-피라졸-1-일,1H-이미다졸-1-일, 1H-이미다졸-2-일 또는 4, 5-디하이드로-1H-이미다졸-2-일 중에서 선택되며. R1및 R2는 저급알킬, 사이클로알킬 또는 페닐-저급알킬(여기서, 페닐은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 니트로, 트리플루오로메탈 또는 시아노 중에서 선택된 1 또는 2개의 라디칼로 임의 치환될 수 있다)중에서 선택되거나, R1및 R2는 인접한 질소원자와 함께, 1-아제티디닐, 1-피롤리디닐, 2, 5-디메틸피롤리딘-1-일, 2-메틸피롤리딘-1-일, 1-피페리디닐, 4-치환된 피페리딘-1-일, 4-[비스(4-플루오로페닐)메틸]피페리딘-1-일, 4-모르폴리닐, 1-피페라지닐, 4-치환된 피페라진-1-일,1,2,3,6-테트라하이드로피리딘-1-일, 2, 5-디하이드로-1H-피롤-1-일 또는 1H-피롤-1-일 중에서 선택된 헤테로사이클릭 잔기를 형성할 수 있다.
- 제 7 항에 있어서, 2-[2-(1-아미도-4-디메틸아미노-2-부틸옥시)]-3-피리딘카복실산 또는 이의 알칼리 금속염인 화합물.
- 일반식(Ⅲ)의 그룹 및 이의 산부가염중에서 선택된 화합물.상기식에서, A는 벤젠, 나프탈렌, 피리딘 또는 퀴놀린 중에서 선택된 방향족 환을 나타내고, 이들 환은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 디저급알킬아미노, 니트로 또는 트리플루오로메틸 중에서 선택된 1 또는 2개의 Y라디칼로 임의 치환되고. X는 할로겐이며 , R은 수소, 저급알킬, 사이클로알킬 또는 페닐-저급알킬(여기서, 페닐은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 니트로 또는 트리플루오로메틸 중에서 선택된 1 또는 2개의 라디칼로 임의 치환될 수 있다)중에서 선택되고, n은 1, 2 또는 3이며 , R4및 R5는 수소 또는 C1-C5저급알킬중에서 선택되고, Z는 -NR1R2,1H-피라졸-1-일, 1H-이미다졸-1-일, 1H-이미다졸-2-일 또는 4, 5-디하이드로-1H-이미다졸-2-일로 이루어진 그룹 중에서 선택되며 , R1및 R2는 저급알킬, 사이클로알킬 또는 페닐-저급알킬(여기서, 페닐은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 니트로, 트리플루오로메틸 또는 시아노중에서 선택된 1 또는 2개의 라디칼로 임의 치환될 수 있다)중에서 선택되거나, R1및 R2는 인접한 질소원자와 함께, 1-아제티디닐,1-피롤리디닐, 2, 5-디메틸피롤리딘-1-일, 2-메틸피롤리딘-1-일, 1-피페리디닐, 4-치환된피페리딘-1-일, 4-[비스(4-플루오로페닐)메틸]피페리딘-1-일, 4-모르폴리닐, 1-피페라지닐, 4-치환된 피페라진-1-일,1,2,3,6-테트라하이드로피리딘-1-일, 2,5-디하이드로-1H-피롤-1-일 또는 1H-피롤-1-일중에서 선택된 헤테로사이클릭잔기를 형성할 수 있다.
- 제 9 항에 있어서, 2-클로로-N-[4-(디메틸아미노)-2-하이드록시부틸]-3-피리딘카복스아미드 또는 이의 산부가염인 화합물.
- 제 9 항에 있어서, 2-클로로-N-[3-(디메틸아미노)-2-하이드록시프로필]-N-메틸-3-피리딘카복스아미드 또는 이의 산부가염인 화합물.
- R3가 수소 또는 알칼리 금속이온인 방향족 화합물을 탈수제 또는 축합제의 존재하에 알칸올아민과 반응시켜 일반식(III)의 화합물을 생성하는 조건을 이용하여 일반식(V)의 방향족 화합물을 일반식(IV)의 알칸올아민화합물과 반응시킨 다음; 생성된 화합물을 폐환시켜 일반식(Ia)의 화합물을 생성함을 특징으로 하여, 일반식(Ⅰ)의 화합물, 및 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염을 제조하는 방법.상기식에서, A는 벤젠, 나프탈렌, 피리딘 또는 퀴놀린 중에서 선택된 방향족 환을 나타내고, 이들 환은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 디저급알킬아미노, 니트로 또는 트리플루오로메틀 중에서 선택된 1 또는 2개의 Y라디칼로 임의 치환되고; 단, 일반식(Ia), (Ib) 및 (Ⅰ)에서, 상기 방향족환들은 옥스아제핀잔기와 함께 2개의 탄소원자를 공유하고; B는 산소 또는 황중에서 선택되며; R은 수소, 저급알킬, 사이클로알킬 또는 페닐-저급알킬(여기서, 페닐은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 니트로 또는 트리플루오로메틸 중에서 선택된 1 또는 2개의 라디칼로 임의 치환될 수 있다)중에서 선택되고, n은 1, 2 또는 3이며; R4및 R5는 수소 또는 C1-C5저급알킬 중에서 선택되고; Z는-NR1R2,1H-피라졸-1-일, 1H-이미다졸-1-일, 1H-이미다졸-2-일 또는 4, 5-디하이드로-1H-이미다졸-2-일 중에서 선택되며 , R1및 R2는 저급알킬, 사이클로알킬 또는 페닐-저급알킬(여기서, 페닐은 할로겐, 저급알킬, 저급알콕시, 니트로, 트리플루오로메틸 또는 시아노 중에서 선택된 1 또는 2개의 라디칼로 임의 치환될 수 있다)중에서 선택되거나. R1및 R2는 인접한 질소원자와 함께, 1-아제티디닐,1-피롤리디닐, 2,5-디메틸피롤리딘-1-일, 2-메틸피롤리딘-1-일, 1-피페리디닐, 4-치환된 피페리딘-1-일, 4-[비스(4-플루오로페닐)메틸피페리딘-1-일, 4-모르폴리닐, 1-피페라지닐,4-치환된 피페라진-1-일, 1,2,3,6-테트라하이드로피리딘-1-일, 2, 5-디하이드로-1H-피롤-1-일 또는 1H-피롤-1-일 중에서 선택된 헤테로사이클릭 잔기를 형성할 수 있고, R3는 수소, 알칼리금속 또는 에스테르화 그룹 중에서 선택되며; R6는 수소 또는 아민보호그룹이다.
- 제 12 항에 있어서, 형성된 화합물이 2-[(디메틸아미노)메틸]-2, 3-디하이드로-4-메틸피리도[3, 2-b-1, 4-옥스아제핀-5(4H)-온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 제 12 항에 있어서,형성된 화합물이 2-[2-(디메틸아미노)에틸]-2, 3-디하이드로-4-메틸-1, 4-옥스아제피노[6, 7-C]-퀴놀린-5(4H)-온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 제 12 항에 있어서, 형성된 화합물이 2-[2-(디메틸아미노)에틸]-2, 3-디하이드로피리도[3, 2-f]-1, 4-옥스아제핀-5(4H)-온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 제 12 항에 있어서,형성된 화합물이 2-[2-(디메틸아미노)에틸]-2, 3-디하이드로피리도[3, 2,-f]-1, 4-옥스아제핀-5(4H)-티온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
- 제 12 항에 있어서, 형성된 화합물이 2-[(디메틸아미노)에틸]-2, 3-디하이드로-4-메틸피리도[3, 2-f]-1, 4-옥스아제핀-5(4H)-티온 또는 약제학적으로 허용가능한 이의 산부가염인 방법.
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