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KR20240053682A - Plating process for antenna injection molding - Google Patents

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KR20240053682A
KR20240053682A KR1020220132891A KR20220132891A KR20240053682A KR 20240053682 A KR20240053682 A KR 20240053682A KR 1020220132891 A KR1020220132891 A KR 1020220132891A KR 20220132891 A KR20220132891 A KR 20220132891A KR 20240053682 A KR20240053682 A KR 20240053682A
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injection molded
plating
injection
minutes
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Pending
Application number
KR1020220132891A
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Korean (ko)
Inventor
양재국
Original Assignee
주식회사 아모센스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 아모센스 filed Critical 주식회사 아모센스
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Abstract

The present invention relates to a plating process for a radar antenna injection molding. The plating process for an antenna injection molding according to the present invention comprises: a surface treatment process for performing surface treatment of an injection molding using plastic; an electroless metal plating process for performing electroless metal plating of the injection molding on which surface treatment has been completed; and an electrolytic metal plating process for performing electrolytic metal plating of an electroless metal-plated injection molding. The surface treatment process comprises: an alkaline degreasing process for removing a grease component attached to the surface of the injection molding by immersing the injection molding in an alkaline solution; an alkaline etching process for etching the surface of the injection molding through a chemical reaction using an alkaline etching solution; a glass etching process for removing a glass component existing on the surface of the injection molding; and an ultrasonic cleaning process for cleaning the surface of the injection molding using ultrasonic waves.

Description

안테나 사출물의 도금방법{Plating process for antenna injection molding}Plating method for antenna injection molding {Plating process for antenna injection molding}

본 발명은 레이더 안테나에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 안테나 케이스 사출물의 도금방법에 관한 것이다.The present invention relates to a radar antenna, and more specifically, to a plating method for an injection-molded antenna case.

차량 주변의 물체 감지를 위한 신호 송수신을 위해 레이더 안테나가 사용되는 추세이다. 레이더 안테나는 전파를 방사시켜 물체에 전파가 부딪혀 나온 반사파 또는 산란파에 의해 그 물체의 존재 유무, 거리, 이동 방향, 이동 속도, 식별, 분류 등을 가능하게 한다. Radar antennas are increasingly being used to transmit and receive signals for detecting objects around vehicles. A radar antenna radiates radio waves and makes it possible to determine the presence or absence of an object, its distance, direction of movement, speed of movement, identification, classification, etc. by reflected waves or scattered waves produced when radio waves hit an object.

이러한 레이더 안테나는 최근 무인자동차 시대를 대비하여 자율주행자동차의 충돌방지 레이더 고도화를 위해 탐지범위를 넓히고 성능을 높이는 기술들이 연구되고 있다.Recently, technologies for expanding the detection range and improving performance of these radar antennas are being studied to improve the collision avoidance radar of autonomous vehicles in preparation for the era of unmanned vehicles.

최근에 사용되는 레이더 안테나들은 안테나의 몸체를 구성하는 케이스를 플라스틱으로 사출하고, 사출된 케이스의 표면에 전파의 착신성과 발신성이 우수한 도체를 도금하여 제조한다. 이 경우, 안테나 케이스를 형성하는 플라스틱 재질은 내열성 및 강도가 우수한 엔지니어링 플라스틱이 사용된다.Radar antennas used recently are manufactured by injecting a case that forms the body of the antenna out of plastic, and plating a conductor with excellent reception and transmission of radio waves on the surface of the injected case. In this case, engineering plastic with excellent heat resistance and strength is used as the plastic material forming the antenna case.

그러나, 기존의 안테나 케이스 제조에 사용되는 엔지니어링 플라스틱은 도금 가능한 플라스틱의 종류가 매우 제한적이다. 즉, 기존의 안테나 케이스 사출물의 경우 주로 ABS(Acrylonitrile Butadiene Styrene) 수지와 같은 에칭 및 도금이 가능한 특정 종류의 플라스틱 소재만을 적용하여 제조되었기 때문에 안테나 제품 구현에 있어 다양성이 떨어지고 제조비용도 증가하게 되는 문제점이 있었다.However, the engineering plastics used to manufacture existing antenna cases are very limited in the types of plastics that can be plated. In other words, existing injection molded antenna cases are mainly manufactured using only specific types of plastic materials that can be etched and plated, such as ABS (Acrylonitrile Butadiene Styrene) resin, which reduces diversity in antenna product implementation and increases manufacturing costs. There was this.

한국 특허등록 제10-2354520호(2022.01.18)Korean Patent Registration No. 10-2354520 (2022.01.18)

본 발명에서 해결하고자 하는 기술적 과제는, 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등과 같이 우수한 기계적 특성을 가지면서 재료 자체의 수축률 편차가 적은 특정 엔지니어링 플라스틱 재질로 사출된 안테나 사출물의 표면을 저렴한 비용으로 용이하게 도금할 수 있는 안테나 사출물의 도금방법을 제공하는 데에 있다. The technical problem to be solved by the present invention is to use specific engineering plastic materials such as polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT), which have excellent mechanical properties and have a small variation in shrinkage rate of the material itself. The object is to provide a plating method for an injection-molded antenna product that can easily plate the surface of the injection-molded antenna product at low cost.

상기한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 안테나 사출물의 도금방법은, 플라스틱을 이용하여 사출 성형된 사출물의 표면 처리를 수행하는 표면 처리 공정과; 표면 처리가 완료된 사출물의 무전해 금속 도금을 수행하는 무전해 금속 도금 공정과; 무전해 금속 도금된 사출물의 전해 금속 도금을 수행하는 전해 금속 도금 공정;을 포함하며, 상기 표면 처리 공정은, 알칼리액에 사출물을 침지하여 사출물 표면에 부착된 유지 성분을 제거하는 알카리 탈지 공정과, 알칼리 에칭액을 이용하여 화학반응을 통해 사출물 표면을 에칭하는 알카리 에칭 공정과, 사출물의 표면에 존재하는 글라스(유리) 성분을 제거하는 글라스 에칭 공정과, 초음파를 이용하여 사출물의 표면을 세정하는 초음파 세정 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.A plating method for an injection-molded antenna product according to the present invention to solve the above-described technical problem includes a surface treatment process of performing surface treatment on the injection-molded product using plastic; An electroless metal plating process that performs electroless metal plating on an injection molded product whose surface treatment has been completed; An electrolytic metal plating process of performing electrolytic metal plating on an electroless metal-plated injection molded product, wherein the surface treatment process includes an alkaline degreasing process of removing fat and oil components attached to the surface of the injection molded product by immersing the injection molded product in an alkaline solution; An alkaline etching process that etches the surface of the injection molded product through a chemical reaction using an alkaline etching solution, a glass etching process that removes glass components present on the surface of the injection molded product, and ultrasonic cleaning that uses ultrasonic waves to clean the surface of the injection molded product. It is characterized by including a process.

여기서, 사출 성형에 사용되는 플라스틱으로는, PC(Polycarbonate) 계열의 비결정성 엔지니어링 플라스틱, 또는 LCP(Liquid Crystal Polymer), PBT(Polybutylene Terephthalate) 계열의 결정성 엔지니어링 플라스틱이 사용될 수 있다.Here, the plastic used in injection molding may be polycarbonate (PC)-based amorphous engineering plastic, or liquid crystal polymer (LCP) or polybutylene terephthalate (PBT)-based crystalline engineering plastic.

그리고, 상기 알칼리 탈지 공정에서는 사출물을 10%(v/v) 농도의 알칼리 탈지액에 50℃ 온도에서 5분 동안 침지하여 탈지 처리하고 수세할 수 있다.In the alkaline degreasing process, the extruded product can be degreased by immersing it in an alkaline degreasing solution with a concentration of 10% (v/v) at a temperature of 50° C. for 5 minutes and washed with water.

또한, 상기 알칼리 에칭 공정에서는 탈지 처리된 사출물을 300g/L의 KOH와 50ml/L의 AD70B(S)가 혼합된 에칭액에 65℃ 온도에서 5~10분 동안 침지하여 에칭 처리하고 수세할 수 있다.Additionally, in the alkaline etching process, the degreased extruded product may be etched by immersing it in an etching solution containing 300 g/L of KOH and 50 ml/L of AD70B(S) at a temperature of 65°C for 5 to 10 minutes, followed by water washing.

아울러, 상기 글라스 에칭 공정에서는 에칭 처리된 사출물을 EC-LS(G) 원액에 50℃ 온도에서 10분 동안 침지하여 글라스 에칭 처리하고 수세할 수 있다.In addition, in the glass etching process, the etched injection molded product can be glass etched by immersing it in EC-LS(G) stock solution at 50° C. for 10 minutes and then washed with water.

이 경우, 상기 알칼리 탈지 공정과 글라스 에칭 공정 사이에는 알칼리 탈지 처리된 사출물의 표면을 스웰링(swelling) 처리하는 스웰링 공정이 더 포함될 수 있다.In this case, a swelling process for swelling the surface of the alkaline degreased injection molded product may be further included between the alkaline degreasing process and the glass etching process.

이때, 상기 스웰링 공정에서는 DMF 원액을 이용하여 사출물의 표면을 43℃ 온도에서 5~10분 동안 스웰링 처리할 수 있다.At this time, in the swelling process, the surface of the injection molded product can be swollen at a temperature of 43°C for 5 to 10 minutes using DMF stock solution.

또한, 상기 스웰링 공정 이전 단계에서는 알칼리 탈지 공정을 거친 사출물을 60℃ 온도에서 10분 동안 열풍 건조시키는 열풍 건조 공정이 추가적으로 수행될 수 있다. In addition, in the step before the swelling process, a hot air drying process may be additionally performed in which the injection molded product that has undergone the alkaline degreasing process is dried with hot air at a temperature of 60° C. for 10 minutes.

그리고, 상기 초음파 세정 공정에서는 글라스 에칭이 완료된 사출물을 40℃ 온도의 세정수에 침지시킨 후 초음파를 5분 동안 인가하여 세정할 수 있다.In the ultrasonic cleaning process, the injection molded product on which glass etching has been completed can be cleaned by immersing it in cleaning water at a temperature of 40°C and then applying ultrasonic waves for 5 minutes.

한편, 상기 무전해 금속 도금 공정은, 초음파 세정이 완료된 사출물의 표면을 컨디셔너(conditioner)로 세척하는 컨디셔닝 공정과, 사출물 표면에 부착된 오염물을 1차적으로 제거하는 제1 프리딥 공정과, 팔라듐(pd)을 함유하는 촉매로 환원반응을 통해 사출물 표면에 도전성을 부여하는 팔라듐 촉매 처리 공정과, 활성화 처리액에 사출물을 침지시켜 사출물의 표면을 활성화하는 활성화 공정과, 사출물의 표면에 부착된 오염물을 2차적으로 제거하는 제2 프리딥 공정과, 사출물의 표면에 무전해 방식으로 금속 피막을 형성하는 무전해 구리 도금 공정을 포함할 수 있다.Meanwhile, the electroless metal plating process includes a conditioning process of cleaning the surface of the injection molded product after ultrasonic cleaning with a conditioner, a first pre-dip process of primarily removing contaminants attached to the surface of the injection molded product, and palladium ( A palladium catalyst treatment process that imparts conductivity to the surface of the injection-molded product through a reduction reaction with a catalyst containing pd), an activation process of activating the surface of the injection-molded product by immersing the injection-molded product in an activation treatment liquid, and removing contaminants attached to the surface of the injection-molded product. It may include a second pre-dip process for secondary removal and an electroless copper plating process for forming a metal film in an electroless manner on the surface of the injection molded product.

여기서, 상기 컨디셔닝 공정에서는 초음파 세정이 완료된 사출물을 20%(v/v) 농도의 KIAC-C 계면활성제 용액에 침지하여 50℃ 온도에서 5분 동안 세척하고 수세할 수 있다.Here, in the conditioning process, the injection molded product that has completed ultrasonic cleaning can be immersed in a KIAC-C surfactant solution with a concentration of 20% (v/v), washed at 50°C for 5 minutes, and then rinsed with water.

그리고, 상기 제1 프리딥 공정에서는 사출물을 10%(v/v) 농도의 HCl 용액에 25℃ 온도에서 2분 동안 침지시켜 사출물 표면에 부착된 오염물을 제거할 수 있다.In addition, in the first pre-dip process, contaminants attached to the surface of the injection product can be removed by immersing the injection product in an HCl solution with a concentration of 10% (v/v) for 2 minutes at a temperature of 25 ° C.

또한, 상기 팔라듐 촉매 처리 공정에서는 제1 프리딥 처리를 완료한 사출물을 150ml/L의 HCl와 50ml/L의 CNI-S가 혼합된 용액에 35℃ 온도에서 5분 동안 침지시켰다가 수세할 수 있다.In addition, in the palladium catalyst treatment process, the injection product that has completed the first pre-dip treatment can be immersed in a mixed solution of 150 ml / L of HCl and 50 ml / L of CNI-S at a temperature of 35 ° C. for 5 minutes and then washed with water. .

아울러, 상기 활성화 공정에서는 팔라듐 촉매 처리가 완료된 사출물을 10%(v/v) 농도의 H2SO4 용액에 40℃ 온도에서 3분 동안 침지시켰다가 수세할 수 있다.In addition, in the activation process, the injection molded product on which palladium catalyst treatment has been completed can be immersed in a 10% (v/v) concentration H2SO4 solution at 40°C for 3 minutes and then washed with water.

그리고, 상기 제2 프리딥 공정에서는 활성화 처리된 사출물을 5%(v/v) 농도의 포르말린 용액에 25℃ 온도에서 2분 동안 침지시켜 사출풀 표면의 오염물을 제거할 수 있다.In addition, in the second pre-dip process, contaminants on the surface of the injection pool can be removed by immersing the activated injection molded product in a 5% (v/v) formalin solution at a temperature of 25°C for 2 minutes.

상기 무전해 구리 도금 공정에서는 제2 프리딥 공정이 완료된 사출물을 80ml/L의 ECP-80M과 40ml/L의 ECP-80M가 혼합된 용액, 또는 9ml/L의 NaOH와 8.8ml/L의 포르말린이 혼합된 용액에 43℃ 온도에서 60~100분 동안 침지시켜 구리(Cu) 도금하고 수세할 수 있다.In the electroless copper plating process, the injection molded product for which the second pre-dip process has been completed is mixed with a solution of 80 ml/L ECP-80M and 40 ml/L ECP-80M, or 9 ml/L NaOH and 8.8 ml/L formalin. Copper (Cu) plating can be done by immersing in the mixed solution at 43°C for 60 to 100 minutes and then washing with water.

한편, 상기 전해 금속 도금 공정은, 양극과 음극 사이에서 전류를 인가하여 사출물 표면에 Ag-St 금속 피막을 형성하는 전해 Ag-St 도금 공정과, Ag-St 금속 피막이 형성된 사출물의 표면에 Ag 금속 피막을 형성하는 전해 Ag 도금 공정과, Ag 금속 피막이 형성된 사출물의 표면을 변색방지제를 이용하여 변색방지 처리하는 변색방지 공정과, 변색방지 처리된 사출물의 표면을 열풍을 이용하여 건조시키는 열풍건조 공정을 포함할 수 있다.Meanwhile, the electrolytic metal plating process includes an electrolytic Ag-St plating process of forming an Ag-St metal film on the surface of the injection molded product by applying a current between the anode and the cathode, and forming an Ag metal film on the surface of the injection molded product with the Ag-St metal film formed. It includes an electrolytic Ag plating process to form an electrolytic Ag plating process, a discoloration prevention process in which the surface of the injection molded product on which the Ag metal film is formed is treated to prevent discoloration using a discoloration prevention agent, and a hot air drying process in which the surface of the injection molded product that has been treated to prevent discoloration is dried using hot air. can do.

여기서, 상기 전해 Ag-St 도금 공정에서는 무전해 구리 도금이 완료된 사출물을 3.1g/L의 AgCN과 110g/L의 KCN이 혼합된 용액에 25℃ 온도에서 0.5분 동안 침지시키고 3V 전압을 인가하여 전해 은 도금 처리하고 수세할 수 있다.Here, in the electrolytic Ag-St plating process, the injection molded product on which electroless copper plating was completed is immersed in a mixed solution of 3.1 g/L AgCN and 110 g/L KCN at a temperature of 25°C for 0.5 minutes and electrolyzed by applying a 3V voltage. It can be silver-plated and washed.

그리고, 상기 전해 Ag 도금 공정에서는 전해 Ag-St 도금이 완료된 사출물을 37.5g/L의 AgCN과 80g/L의 KCN이 혼합된 용액에 25℃ 온도에서 5~15분 동안 침지시키고 0.5A/d㎡를 전류를 인가하여 전해 은 도금 처리하고 수세할 수 있다.In the electrolytic Ag plating process, the injection molded product on which electrolytic Ag-St plating was completed was immersed in a mixed solution of 37.5 g/L AgCN and 80 g/L KCN at a temperature of 25°C for 5 to 15 minutes and 0.5 A/d㎡. It can be subjected to electrolytic silver plating by applying current and then washed with water.

아울러, 상기 변색방지 공정에서는 전해 은 도금된 사출물을 0.5%(v/v) 농도의 변색방지제가 포함된 용액에 55℃ 온도에서 1분 동안 침지시켰다가 수세할 수 있다.In addition, in the discoloration prevention process, the electrolytic silver-plated injection molded product can be immersed in a solution containing a 0.5% (v/v) concentration of an anti-discoloration agent at a temperature of 55° C. for 1 minute and then washed with water.

또한, 상기 열풍건조 공정에서는 전해 은 도금된 사출물을 60℃의 열풍을 이용하여 10분 동안 열풍 건조시킬 수 있다.Additionally, in the hot air drying process, the electrolytic silver-plated injection molded product can be dried using hot air at 60°C for 10 minutes.

상기한 본 발명의 안테나 사출물 도금방법에 따르면, 기존에 소재의 특성상 에칭 및 도금작업이 불가능하였던 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등의 엔지니어링 플라스틱 소재를 적용하여 안테나 사출물을 제조하고, 제조된 안테나 사출물 표면에 에칭 및 도금작업이 가능해짐에 따라, 안테나 사출물 제조를 위한 플라스틱 소재 사용에 있어 다양성을 확장시킬 수 있다.According to the antenna injection plating method of the present invention described above, engineering plastic materials such as polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT), which were previously impossible to perform etching and plating operations due to the characteristics of the materials, can be used. By applying this method to manufacture an antenna injection molded product and making it possible to perform etching and plating on the surface of the manufactured antenna injection molded product, it is possible to expand the diversity in the use of plastic materials for manufacturing antenna injection molded products.

또한, 본 발명은 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등과 같이 X/Y축 수축률 편차가 적은 특정 플라스틱 소재를 사용하여 안테나 케이스를 제조할 수 있기 때문에, 안테나 케이스의 사출 성형시 치수 제어에 유리함을 확보할 수 있고, 사출된 안테나 케이스를 조립할 경우 조립공차가 발생되지 않아 전파의 누설을 방지할 수 있고 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, the present invention allows the antenna case to be manufactured using specific plastic materials with low X/Y axis shrinkage variation, such as polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT). It is possible to secure advantageous dimension control during injection molding of the antenna case, and when assembling the injected antenna case, assembly tolerances do not occur, preventing leakage of radio waves and improving product reliability.

또한, 본 발명은 기존에 에칭 및 도금이 불가능하였던 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 소재로 안테나 케이스를 사출하고, 사출된 안테나 케이스 표면에 에칭 및 도금을 완벽하게 실시할 수 있게 됨으로써, 보다 다양한 종류의 엔지니어링 플라스틱을 사용하여 레이더 안테나의 외형적인 디자인을 한층 다양하게 구현할 수 있고, 구리(Cu)/은(Ag) 도금된 도금층의 전기적 균일성을 높여 도금층의 전기적인 안정성을 향상시킬 수 있다. 아울러, 도금 경계면이 명확하고 균일하여 전파의 방사효율을 극대화시킬 수 있고, 이를 통해 안테나 제품의 품질을 크게 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, the present invention injects an antenna case using polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT), materials that previously could not be etched and plated, and etching and plating the surface of the injected antenna case. By being able to implement it perfectly, the external design of the radar antenna can be realized more diversely by using a wider variety of engineering plastics, and the electrical uniformity of the copper (Cu)/silver (Ag) plating layer is increased. The electrical stability of the plating layer can be improved. In addition, since the plating boundary is clear and uniform, the radiation efficiency of radio waves can be maximized, which has the advantage of greatly improving the quality of antenna products.

또한, 폴리카보네이트(PC)로 사출된 안테나 사출물의 표면을 도금하는 경우, 사출물 표면 에칭 공정 중 가장 중요한 공정인 스웰링(Swelling) 공정을 추가하지 않고서도 사출물의 표면 에칭이 가능해지기 때문에, 도금 공정을 단순화시켜 도금 시간을 단축시킬 수 있으며, 이를 통해 제조비용을 절감시킬 수 있는 장점이 있다. In addition, when plating the surface of an antenna extruded from polycarbonate (PC), it is possible to etch the surface of the extruded product without adding the swelling process, which is the most important process among the etching processes for the surface of the extruded product. By simplifying, the plating time can be shortened, which has the advantage of reducing manufacturing costs.

또한, 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등의 엔지니어링 플라스틱으로 사출 성형된 안테나 사출물 표면에 구리 및 은 도금을 무전해 및 전해 도금 방법을 통해 실시함으로써, 안테나 제품의 외부표면을 광택이나 무광택으로 장식하는 효과를 얻을 수 있고, 이러한 도금방법으로 도금된 안테나 제품의 경우 기존 제품에 비해, 표면강도가 뛰어나고, 내마모성, 내열성 등의 기계적 특성이 향상되어 제품표면의 품질이 향상되는 장점이 있다.In addition, copper and silver plating is performed on the surface of the antenna injection molded from engineering plastics such as polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT) using electroless and electrolytic plating methods. You can achieve the effect of decorating the external surface of the antenna product with a glossy or matte finish. Antenna products plated using this plating method have superior surface strength compared to existing products, and mechanical properties such as abrasion resistance and heat resistance are improved, improving the product surface. There is an advantage that the quality of the product is improved.

도 1 및 도 2는 본 발명이 적용되는 레이더 안테나의 케이스 사출물 구조를 보여주는 사시도.
도 3은 본 발명에서 안테나 케이스 사출물의 재료로 선정될 수 있는 엔지니어링 플라스틱 소재의 일 예를 보여주는 예시도.
도 4 및 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 레이더 안테나 사출물의 도금공정을 보여주는 공정도 및 순서도.
도 6 및 도 7은 본 발명의 제2실시예에 따른 레이더 안테나 사출물의 도금공정을 보여주는 공정도 및 순서도.
도 8은 본 발명의 안테나 사출물 도금방법을 이용하여 구리 및 은 도금된 안테나 케이스의 실물 사진.
Figures 1 and 2 are perspective views showing the structure of an injection-molded case of a radar antenna to which the present invention is applied.
Figure 3 is an exemplary diagram showing an example of an engineering plastic material that can be selected as a material for an injection-molded antenna case in the present invention.
Figures 4 and 5 are process charts and flow charts showing the plating process of the radar antenna injection molded product according to the first embodiment of the present invention.
Figures 6 and 7 are process charts and flow charts showing the plating process of the injection-molded radar antenna according to the second embodiment of the present invention.
Figure 8 is an actual photograph of an antenna case plated with copper and silver using the antenna injection plating method of the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the attached drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily implement the present invention.

그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 국한되지 않는다. 또한, 상세한 설명 전반에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 의미함을 밝혀둔다.However, the present invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein. In addition, it should be noted that parts indicated with the same reference numbers throughout the detailed description refer to the same components.

먼저, 도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 레이더 안테나(300)의 몸체를 구성하는 케이스 구조를 보여주고 있다.First, Figures 1 and 2 show the case structure constituting the body of the radar antenna 300 according to the present invention.

여기서, 도면 상에서 레이더 안테나의 제1케이스(100)가 위치된 방향이 전방측 방향이고, 제2케이스(200)가 위치된 방향이 후방측 방향을 가리킨다.Here, in the drawing, the direction in which the first case 100 of the radar antenna is located is the front direction, and the direction in which the second case 200 is located is the rear direction.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 레이더 안테나(300)는, 전자기파의 송수신 처리를 위한 기판(미도시)과, 기판과 결합되어 내부 공간에 전자기파의 이동 경로를 형성하는 케이스를 포함한다.Referring to Figures 1 and 2, the radar antenna 300 according to the present invention includes a substrate (not shown) for transmitting and receiving electromagnetic waves, and a case that is combined with the substrate to form a path for electromagnetic waves to move in the internal space. do.

케이스는 직사각형의 외형 구조를 갖는 제1케이스(100) 및 제2케이스(200)를 포함한다. 제1케이스(100) 및 제2케이스(200)는 엔지니어링 플라스틱 수지 재질로 사출 성형된다.The case includes a first case 100 and a second case 200 having a rectangular external structure. The first case 100 and the second case 200 are injection molded from an engineering plastic resin material.

제1케이스(100) 및 제2케이스(200)는 서로 결합되어 하나의 케이스 몸체를 구성하며, 케이스 몸체는 기판과 결합되어 레이더 안테나(300)를 구성한다. 그리고, 제1케이스(100)와 제2케이스(200)의 결합에 의해 형성되는 내부 공간에는 전자기파를 전달하는 역할을 하는 도파관(Waveguide)이 형성된다. The first case 100 and the second case 200 are combined with each other to form one case body, and the case body is combined with a substrate to form the radar antenna 300. And, a waveguide that serves to transmit electromagnetic waves is formed in the internal space formed by combining the first case 100 and the second case 200.

제1케이스(100)는 중앙에 전자기파가 외부로 방사되거나 입사되는 복수의 슬롯(121)이 형성되고, 복수의 슬롯(121) 주변에는 제1케이스(100)와 제2케이스(200)의 조립작업시 정렬지그(Alignment Jig)의 정렬핀(미도시)이 삽입될 수 있는 복수의 정렬홀(104)이 형성된다.The first case 100 has a plurality of slots 121 formed in the center through which electromagnetic waves are radiated to the outside or incident, and the first case 100 and the second case 200 are assembled around the plurality of slots 121. During work, a plurality of alignment holes 104 are formed into which alignment pins (not shown) of an alignment jig can be inserted.

제1케이스(100)의 후면 일정 영역에는 제2케이스(200)와 접착제를 통해 접합되는 제1접촉부(110)가 형성된다. 제1접촉부(110)는 제1케이스(100)의 양측 장변 영역에 상호 대칭 구조를 형성하며 한 쌍으로 배치된다. A first contact portion 110 that is bonded to the second case 200 through an adhesive is formed in a certain area of the back of the first case 100. The first contact portions 110 are arranged in pairs on both long sides of the first case 100 to form a mutually symmetrical structure.

제1케이스(100)의 후면 중앙에는 복수의 슬롯(121)으로 구성되는 슬롯부(120)가 배치된다. 슬롯부(120)는 복수의 슬롯(121)을 통해 전자기파가 외부로 방사되거나 입사된다.A slot portion 120 composed of a plurality of slots 121 is disposed at the rear center of the first case 100. The slot unit 120 emits or injects electromagnetic waves to the outside through a plurality of slots 121.

이때, 복수의 슬롯(121)은 수신 포트 또는 송신 포트로 구성될 수 있다. 즉, 복수의 슬롯(121)은 기판(미도시)의 송신 단자와 연결되는 송신 포트로 구성되거나, 기판의 수신 단자와 연결되는 수신 포트로 구성될 수 있다.At this time, the plurality of slots 121 may be configured as reception ports or transmission ports. That is, the plurality of slots 121 may be configured as a transmission port connected to a transmission terminal of a board (not shown), or may be configured as a reception port connected to a reception terminal of the board.

제1케이스(100)는 후면에 제2케이스(200) 방향으로 돌출 형성된 복수의 결합돌기(130)와, 슬롯부(120) 주위를 둘러싸는 벽 구조를 가지며 형성된 격벽(140)을 포함한다. The first case 100 includes a plurality of engaging protrusions 130 protruding from the rear in the direction of the second case 200 and a partition wall 140 formed with a wall structure surrounding the slot portion 120.

격벽(140)은 제1케이스(100)의 후면에서 제2케이스(200) 방향으로 돌출된 구조를 가지며 슬롯부(120)의 내,외측을 구획한다. 격벽(140)은 제2케이스(200)에 형성된 밀착면(220)과 함께 슬롯부(120)를 둘러싸는 도파관의 일부를 형성한다. 즉, 격벽(140)은 제1케이스(100)의 양측 제1접촉부(110) 사이에 위치하는 내부공간에 복수의 슬롯(121)과 연통하는 전자기파의 이동 경로인 도파관을 구성한다. The partition wall 140 has a structure that protrudes from the rear of the first case 100 toward the second case 200 and partitions the inside and outside of the slot portion 120. The partition wall 140 forms a part of the waveguide surrounding the slot portion 120 together with the contact surface 220 formed on the second case 200. That is, the partition wall 140 forms a waveguide, which is a movement path of electromagnetic waves communicating with a plurality of slots 121 in the internal space located between the first contact portions 110 on both sides of the first case 100.

제2케이스(200)는 제1케이스(100)의 후방측에서 제1케이스(100)와 상호 접합된다. 제2케이스(200)는 전면측에 제1케이스(100)의 제1접촉부(110)와 접착제를 통해 상호 접합되는 한 쌍의 제2접촉부(210)가 형성되고, 제2접촉부(210) 부분에는 제1케이스(100)에 형성된 복수의 결합돌기(130)와 결합될 수 있는 복수의 결합홈(230)이 형성된다. The second case 200 is joined to the first case 100 at the rear side of the first case 100. The second case 200 is formed on the front side with a pair of second contact parts 210 that are bonded to the first contact part 110 of the first case 100 through an adhesive, and the second contact part 210 portion A plurality of coupling grooves 230 that can be coupled to the plurality of coupling protrusions 130 formed on the first case 100 are formed.

그리고, 제2케이스(200)에는 제1케이스(100)의 복수의 정렬홀(104)과 대응하는 복수의 정렬홀(204)이 형성된다. 또한, 제2케이스(200)의 전면측에는 제1케이스(100)에 형성된 격벽(140)과 밀착되며 제1케이스(100)와 제2케이스(200) 사이의 내부공간에 전자기파의 이동 경로인 도파관의 일부를 구성하는 밀착면(220)이 형성된다.And, a plurality of alignment holes 204 corresponding to the plurality of alignment holes 104 of the first case 100 are formed in the second case 200. In addition, the front side of the second case 200 is in close contact with the partition wall 140 formed in the first case 100, and a waveguide, which is a movement path of electromagnetic waves, is located in the internal space between the first case 100 and the second case 200. A close contact surface 220 constituting a part of is formed.

밀착면(220)은 표면이 매끄러운 평면 형상을 가지며, 제1케이스(100)와 제2케이스(200)가 조립된 상태에서 제1케이스(100)의 격벽(140)과 맞닿아 밀착된다. 이에 따라, 제1케이스(100)와 제2케이스(200)의 결합에 의해 형성된 내부 공간에는 격벽(140)과 밀착면(220)이 맞닿아 형성되는 전자기파의 이동 공간인 도파관이 형성된다.The contact surface 220 has a flat surface with a smooth surface, and is in close contact with the partition wall 140 of the first case 100 when the first case 100 and the second case 200 are assembled. Accordingly, a waveguide is formed in the internal space formed by the combination of the first case 100 and the second case 200, which is a space in which electromagnetic waves move, which is formed when the partition wall 140 and the contact surface 220 come into contact.

제2케이스(200)의 밀착면(220)의 일측 영역에는 내부의 도파관과 연통되도록 제2케이스(200)를 수직으로 관통하는 구조로 포트(240)가 형성된다. 포트(240)로 유입된 전자기파는 내부의 도파관을 따라 이동하여 복수의 슬롯(121)을 통해 외부로 방사될 수 있다.A port 240 is formed in one area of the contact surface 220 of the second case 200 in a structure that vertically penetrates the second case 200 to communicate with the internal waveguide. Electromagnetic waves flowing into the port 240 may move along the internal waveguide and be radiated to the outside through the plurality of slots 121.

이와 같은 포트(240)는 도파관 내부로 전자기파를 송신하는 송신 포트, 또는 외부에서 도파관을 통해 입력되는 전자기파를 수신하는 수신 포트로 구성될 수 있다. 즉, 포트(240)는 제2케이스(200)의 후면에 결합되는 기판(미도시)의 송신 단자와 연결되는 송신 포트로 구성되거나, 기판의 수신 단자와 연결되는 수신 포트로 구성될 수 있다. This port 240 may be configured as a transmission port that transmits electromagnetic waves into the waveguide, or a reception port that receives electromagnetic waves input from the outside through the waveguide. That is, the port 240 may be configured as a transmitting port connected to a transmitting terminal of a board (not shown) coupled to the rear of the second case 200, or may be configured as a receiving port connected to a receiving terminal of the board.

기판은 케이스 내부 공간에 형성된 도파관을 통해 외부로 전자기파를 송신하고, 케이스 내부의 도파관을 통해 수신한 전자기파를 전달받아 전자기파를 신호 처리한다. 미설명 부호 206은 제2케이스(200)의 후면에 기판을 체결하기 위한 체결홀이다.The board transmits electromagnetic waves to the outside through a waveguide formed in the space inside the case, and receives electromagnetic waves received through a waveguide inside the case to process the electromagnetic waves as signals. The unexplained symbol 206 is a fastening hole for fastening a substrate to the rear of the second case 200.

이와 같이 구성되는 레이더 안테나(300)는 제조시 다음과 같은 몇 가지 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 즉, 레이더 안테나(300)는 케이스 사출 공정, 도금 공정, 경화 공정, 케이스 조립공정을 순차적으로 수행하여 제조할 수 있다.The radar antenna 300 configured in this way can be manufactured through several processes as follows. That is, the radar antenna 300 can be manufactured by sequentially performing a case injection process, a plating process, a curing process, and a case assembly process.

케이스 사출 공정에서는 엔지니어링 플라스틱으로 케이스를 사출한 후 냉각하여 케이스(100,200)를 제작한다. 여기서, 케이스의 사출 재료로는, X/Y축 방향의 수축률 편차가 작아 케이스 사출시 치수 제어가 용이한 폴리카보네이트(PC), 액정폴리머(LCP) 소재가 사용될 수 있다.In the case injection process, the case is injected with engineering plastic and then cooled to produce the case (100, 200). Here, polycarbonate (PC) and liquid crystal polymer (LCP) materials can be used as the injection material for the case, which have a small difference in shrinkage rate in the X/Y axis directions and allow easy dimensional control during case injection.

도금 공정에서는 사출 공정을 통해 제작된 제1케이스(100) 및 제2케이스(200)의 표면에 금속 도금을 하여 차폐층을 형성할 수 있다. 여기서, 도금 공정에서는 주석(Sn), 니켈(Ni), 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag) 중 하나의 금속 또는 둘 이상을 혼합한 혼합 금속을 도금하여 제1케이스(100) 및 제2케이스(200)의 표면에 차폐층을 형성할 수 있다.In the plating process, a shielding layer can be formed by plating metal on the surfaces of the first case 100 and the second case 200 manufactured through an injection process. Here, in the plating process, one metal of tin (Sn), nickel (Ni), copper (Cu), gold (Au), and silver (Ag) or a mixed metal of two or more are plated to form the first case 100. And a shielding layer may be formed on the surface of the second case 200.

도금 공정이 완료된 제1케이스(100) 및 제2케이스(200)는 별도의 경화 공정을 수행하여 경화될 수 있다. 경화 공정에서는 압착 공정, 열 에이징 공정 중 하나의 공정을 통해 제1케이스(100) 및 제2케이스(200)를 경화시킬 수 있다. The first case 100 and the second case 200 for which the plating process has been completed may be hardened by performing a separate hardening process. In the curing process, the first case 100 and the second case 200 may be hardened through one of a pressing process and a heat aging process.

케이스 조립 공정에서는 경화 공정이 완료된 제1케이스(100) 및 제2케이스(200)를 조립하여 레이더 안테나(300)를 제조할 수 있다. 이 경우, 케이스 조립 공정에서는 정렬지그를 사용하여 제1케이스(100)와 제2케이스(200)를 정렬시키면서 접착제가 도포된 제2케이스(200)에 제1케이스(100)를 가압하여 접합하는 방식으로 조립할 수 있다.In the case assembly process, the radar antenna 300 can be manufactured by assembling the first case 100 and the second case 200 for which the curing process has been completed. In this case, in the case assembly process, the first case 100 and the second case 200 are aligned using an alignment jig, and the first case 100 is pressed and joined to the adhesive-applied second case 200. It can be assembled in this way.

이때, 제1케이스(100)와 제2케이스(200)의 양측 접촉부(110,210) 사이에 도포되는 접착제로는 열경화성 에폭시(Epoxy) 수지가 사용될 수 있으며, 양측 케이스(100,200)를 에폭시 접착제로 본딩한 이후에 경화시간을 단축시키기 위해 에폭시 접착제 부분에 초음파 에너지를 인가하여 열경화시키는 초음파 열경화 공정이 병행 수행될 수 있다. At this time, thermosetting epoxy resin may be used as the adhesive applied between the contact portions 110 and 210 on both sides of the first case 100 and the second case 200, and both cases 100 and 200 are bonded with an epoxy adhesive. Afterwards, in order to shorten the curing time, an ultrasonic heat curing process in which ultrasonic energy is applied to the epoxy adhesive part to heat harden it can be performed in parallel.

한편, 레이더 안테나는 몸체를 구성하는 케이스가 엔지니어링 플라스틱 소재로 사출 성형됨으로써 단시간 내에 대량생산이 가능하고 저비용으로 제조할 수 있는 장점을 갖는 반면, 케이스의 사출 과정에서 수축 및 변형이 발생되어 사출된 제품의 치수가 불규칙하여 치수 정밀도가 떨어지고 정밀한 치수 제어가 어려운 단점이 있다. On the other hand, radar antennas have the advantage of being able to be mass-produced in a short period of time and manufactured at low cost because the case that makes up the body is injection molded with engineering plastic material. However, shrinkage and deformation occur during the injection process of the case, so the injection molded product The disadvantage is that the dimensions are irregular, which reduces dimensional accuracy and makes precise dimensional control difficult.

만일, 플라스틱 소재로 사출 성형된 케이스에 성형 오차가 발생되면 케이스 부품들이 조립 완료된 경우에도 조립 오차가 발생하여 레이더 안테나는 최초 설계된 스펙과 상이한 안테나 성능이 구현될 우려가 있다. 따라서, 레이더 안테나의 제조를 위한 케이스의 재질 선정시 케이스의 사출 과정에서 수축 및 변형 발생이 적은 플라스틱 수지의 선정이 무엇보다 중요하다. If a molding error occurs in a case made of injection molded plastic, assembly errors may occur even when the case parts are assembled, and there is a risk that the radar antenna may have antenna performance that is different from the initially designed specifications. Therefore, when selecting a case material for manufacturing a radar antenna, it is most important to select a plastic resin that causes less shrinkage and deformation during the case injection process.

일예로, 탄산염을 중합하여 만든 수지인 폴리카보네이트(PC)의 경우 금속과 같이 단단하고 산과 열에 잘 견디기 때문에 금속 대신에 각종 기계 부품 및 전기 부품 등을 제조하는데 많이 사용지만, 소재가 갖는 특성상 표면에 에칭하거나 직접 도금하기가 불가능하다. 이 때문에 기존에는 이중사출방식을 이용하여 표면을 도금하는 방식이 사용되어 왔으나, 이러한 이중사출방식은 많은 수의 금형이 필요하여 제작단가를 상승시키는 요인으로 작용하고, 작업공정이 매우 복잡하여 작업의 효율성 및 생산성을 저하시키는 문제를 발생시키게 된다. 또한, 제작된 안테나 부품의 표면에 세밀한 부분까지 도금이 완벽하게 이루어지지 못하게 됨으로써 제품의 불량률을 높이고, 그로 인해 신호 송수신 감도가 저하되는 문제를 발생시키게 된다.For example, in the case of polycarbonate (PC), a resin made by polymerizing carbonate, it is as hard as metal and resistant to acids and heat well, so it is often used instead of metal to manufacture various mechanical and electrical parts, but due to the nature of the material, the surface It is impossible to etch or directly plate. For this reason, the method of plating the surface using the double injection method has been used in the past, but this double injection method requires a large number of molds, which acts as a factor in increasing the production cost, and the work process is very complicated, making the work difficult. This causes problems that reduce efficiency and productivity. In addition, the surface of the manufactured antenna component cannot be perfectly plated to even the finest details, which increases the defect rate of the product and causes a problem in which signal transmission/reception sensitivity is reduced.

아울러, 안테나 사출물에 적용되는 기존의 도금방식은 도금된 표면의 전기적 균일성이 저하되어 도금된 표면의 전기적인 안정성이 보장되어야 하는 레이더 안테나 등에는 적용이 불가능하였고, 기존의 도금 공정만으로는 도금 경계면의 불균일 및 불확실성으로 인해 레이더 안테나의 방사효율과 전체적 성능이 저하되어 제품 품질에 대한 신뢰성을 저하시키게 되는 등의 많은 문제점이 있었다.In addition, the existing plating method applied to the antenna injection molded product cannot be applied to radar antennas, etc., where the electrical stability of the plated surface must be guaranteed due to the deterioration of the electrical uniformity of the plated surface, and the existing plating process alone is used to reduce the electrical uniformity of the plated surface. There were many problems, such as the radiation efficiency and overall performance of the radar antenna being reduced due to non-uniformity and uncertainty, thereby reducing the reliability of product quality.

이에, 본 발명에서는 폴리카보네이트(PC)나 액정 폴리머(LCP)와 같은 특정 수지 재료가 일정 수준 이상 함유된 안테나 케이스 사출물을 금속 도금하는 경우, 이들 안테나 사출물에 대한 금속 도금의 접착성을 향상시키고, 무전해 도금 및 전해 도금 방법을 함께 사용하여 제품의 표면 특성을 개선하기 위한 도금방법을 제공하고자 한다. Accordingly, in the present invention, when metal plating an antenna case injection molded product containing a certain level or more of a specific resin material such as polycarbonate (PC) or liquid crystal polymer (LCP), the adhesion of the metal plating to these antenna injection molded products is improved, We aim to provide a plating method to improve the surface properties of products by using both electroless plating and electrolytic plating methods.

도 3은 본 발명의 레이더 안테나 제조시 레이더 안테나의 케이스 재료로 선정될 수 있는 엔지니어링 플라스틱 재료의 일예를 보여주는 것이다.Figure 3 shows an example of an engineering plastic material that can be selected as a case material for the radar antenna when manufacturing the radar antenna of the present invention.

앞서 언급했듯이 안테나 케이스의 재료로 사용될 수 있는 엔지니어링 플라스틱의 종류는 다양하지만 플라스틱 재료의 특성상 에칭 및 도금이 가능한 엔지니어링 플라스틱 종류는 매우 제한적이다. 따라서, 본 발명에서는 안테나 케이스의 사출시 치수 제어가 용이하면서 사출된 케이스의 표면 에칭 및 도금이 용이한 몇가지의 엔지니어링 플라스틱 재료를 선정하였다.As mentioned earlier, there are various types of engineering plastics that can be used as materials for antenna cases, but due to the characteristics of plastic materials, the types of engineering plastics that can be etched and plated are very limited. Therefore, in the present invention, several engineering plastic materials were selected that allow easy dimension control during injection molding of the antenna case and facilitate surface etching and plating of the molded case.

즉, 본 발명에서는 도 3의 표에 나타나 있는 있는 바와 같이 X/Y축 방향의 수축률 편차가 작아 사출시 치수 제어가 용이한 소재인 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 액정 폴리머(Liquid Crystal Polymer, LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(Polybutylene Terephthalate, PBT), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET) 등을 안테나 케이스의 사출 성형 재료로서 선정하였다. 다만, 이들 소재는 수축률 편차가 작아 치수 제어가 용이한 반면, 소재의 특성상 표면 에칭 및 도금이 불가능한 단점이 있었기에, 본 발명에서는 후술되는 안테나 사출물의 구체적인 도금방법을 통해 이를 해결하고자 하였다.That is, in the present invention, as shown in the table of FIG. 3, polycarbonate (PC) and liquid crystal polymer (LCP), which are materials that have a small deviation in shrinkage rate in the X/Y axis direction and are easy to control dimensions during injection, are used. ), polybutylene terephthalate (PBT), and polyethylene terephthalate (PET) were selected as injection molding materials for the antenna case. However, while these materials have a small variation in shrinkage rate, making it easy to control dimensions, there is a disadvantage in that surface etching and plating are not possible due to the nature of the materials. Therefore, the present invention attempted to solve this problem through a specific plating method for antenna injection moldings, which will be described later.

이하에서는 본 발명에 따른 안테나 사출물의 도금방법에 대한 실시예로서, 폴리카보네이트(PC) 및 액정 폴리머(LCP) 소재로 사출된 안테나 케이스 사출물을 도금하는 방법에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, as an example of the plating method of an injection-molded antenna product according to the present invention, a method of plating an injection-molded antenna case made of polycarbonate (PC) and liquid crystal polymer (LCP) material will be described in detail.

도 4 및 도 5는 본 발명의 제1실시예에 따른 레이더 안테나 케이스의 도금공정을 보여주는 것으로서, 비결정성 엔지니어링 플라스틱의 한 종류인 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC)가 함유된 수지로 사출 성형된 안테나 케이스(이하, '사출물'이라 한다)의 전체 도금공정을 보여주는 것이다.Figures 4 and 5 show the plating process of the radar antenna case according to the first embodiment of the present invention, and the antenna case is injection molded with a resin containing polycarbonate (PC), a type of amorphous engineering plastic. It shows the entire plating process (hereinafter referred to as ‘injection molded product’).

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 안테나 사출물의 도금공정은, 먼저, 폴리카보네이트(PC) 수지로 사출 성형(S10)된 안테나 케이스 사출물에 대한 예비처리 과정인 표면 처리를 수행하는 표면 처리 공정(S20)과, 표면 처리된 사출물의 무전해 금속 도금을 수행하는 무전해 금속 도금 공정(S30)과, 무전해 금속 도금된 사출물의 전해 금속 도금을 수행하는 전해 금속 도금 공정(S40)을 포함한다.Referring to Figures 4 and 5, the plating process of the antenna injection molded product according to the first embodiment of the present invention is first, a surface pretreatment process for the antenna case injection molded product (S10) with polycarbonate (PC) resin. A surface treatment process (S20) that performs treatment, an electroless metal plating process (S30) that performs electroless metal plating of the surface-treated injection molded product, and an electrolytic metal plating process that performs electrolytic metal plating of the electroless metal plated injection molded product. Includes process (S40).

여기서, 안테나 사출물의 표면 처리 공정(S20)은, 알칼리액에 사출물을 침지하여 사출물 표면에 부착된 유지 성분을 제거하는 알카리 탈지 공정(S21)과, 알칼리 에칭액을 이용하여 화학반응을 통해 사출물 표면을 에칭하는 알카리 에칭 공정(S22)과, 사출물의 표면에 존재하는 글라스(유리) 성분을 제거하는 글라스 에칭 공정(S23)과, 초음파를 이용하여 사출물의 표면을 세정하는 초음파 세정 공정(S24)을 포함한다.Here, the surface treatment process (S20) of the antenna injection molded product includes the alkaline degreasing process (S21) of removing the oily components attached to the surface of the injection molded product by immersing the molded product in an alkaline solution, and the surface of the injection molded product through a chemical reaction using an alkaline etching solution. It includes an alkaline etching process (S22) for etching, a glass etching process (S23) for removing glass components present on the surface of the injection molded product, and an ultrasonic cleaning process (S24) for cleaning the surface of the injection molded product using ultrasonic waves. do.

첫번째 단계인 알칼리 탈지 공정(S21)에서는 폴리카보네이트(PC) 수지로 사출 성형된 사출물(케이스)을 10%(volume/volume) 농도의 알칼리 탈지액(제품명'CLEAN 500')에 50℃ 온도에서 5분 동안 침지시켜 사출물 표면에 흡착된 먼지나 유분 등의 이물질을 제거하고, 이물질 제거가 완료된 사출물을 2회 연속 수세한다.(S21-1,S21-2) In the first step, the alkaline degreasing process (S21), the injection molded product (case) made of polycarbonate (PC) resin is soaked in an alkaline degreasing solution (product name 'CLEAN 500') with a concentration of 10% (volume/volume) at a temperature of 50°C for 5 minutes. Remove foreign substances such as dust or oil adsorbed on the surface of the injection molded product by immersing it for several minutes, and wash the injection molded product with complete removal of foreign substances twice in succession (S21-1, S21-2).

다음으로, 알칼리 에칭 공정(S22)에서는 알칼리 탈지 공정(S21)에서 탈지 처리된 사출물을 300g/L의 KOH와 50ml/L의 AD70B(S)가 혼합된 알칼리 에칭액에 65℃ 온도에서 5~10분 동안 침지하여 에칭(etching) 처리하고, 에칭 처리가 완료된 사출물 표면에 부착된 알칼리 에칭액을 제거하기 위하여 2회 연속하여 수세한다.(S22-1,S22-2)Next, in the alkaline etching process (S22), the injection molded product degreased in the alkaline degreasing process (S21) is placed in an alkaline etching solution containing 300 g/L of KOH and 50 ml/L of AD70B(S) at a temperature of 65°C for 5 to 10 minutes. It is etched by immersion for a while, and washed twice in succession to remove the alkaline etching solution attached to the surface of the injection molded product after the etching process has been completed (S22-1, S22-2).

이와 같은 알칼리 에칭 공정(S22)에서는 사출물 표면에 미세기공을 형성함으로써 이후에 수행되는 사출물 표면의 금속 도금 공정시 도금된 금속이 강한 밀착성을 확보할 수 있도록 한다. In this alkaline etching process (S22), micropores are formed on the surface of the injection-molded product, thereby ensuring strong adhesion of the plated metal during the subsequent metal plating process on the surface of the injection-molded product.

그리고, 글라스(glass) 에칭 공정(S23)에서는 알칼리 에칭 공정(S22)을 통해 에칭 처리된 사출물을 EC-LS(G) 원액에 50℃ 온도에서 10분 동안 침지하여 에칭 처리하고 2회 연속 수세한다.(S23-1,S23-2)In the glass etching process (S23), the injection molded product etched through the alkaline etching process (S22) is etched by immersing it in EC-LS(G) stock solution at 50°C for 10 minutes and washed twice in succession. .(S23-1,S23-2)

다음으로, 초음파 세정 공정(S24)에서는 글라스 에칭 작업이 완료된 사출물을 40℃ 온도의 세정수에 침지시킨 후 초음파를 5분 동안 인가하여 사출물 표면을 세척한다.Next, in the ultrasonic cleaning process (S24), the injection molded product on which the glass etching work has been completed is immersed in cleaning water at a temperature of 40° C., and then ultrasonic waves are applied for 5 minutes to clean the surface of the injection molded product.

이와 같은 초음파 세정 공정(S24)에서는 이전의 에칭 공정 과정에 사출물 표면에 묻어있는 에칭액을 초음파의 Cavitaion 효과를 이용하여 제거하게 됨으로써 사출물 표면을 완벽하게 세척할 수 있다.In this ultrasonic cleaning process (S24), the etching liquid on the surface of the injection molded product during the previous etching process is removed using the cavitation effect of ultrasonic waves, thereby completely cleaning the surface of the injection molded product.

이상의 사출물 표면에 대한 표면 처리 공정(S20)이 모두 완료되면, 다음으로 사출물 표면에 대한 화학반응을 통해 금속을 도금하는 무전해 금속 도금 공정(S30)이 수행된다.When all of the above surface treatment processes (S20) for the surface of the injection molded product are completed, an electroless metal plating process (S30) in which metal is plated through a chemical reaction on the surface of the injection molded product is performed.

무전해 금속 도금 공정(S30)은, 컨디셔닝 공정(S31), 제1 프리딥 공정(S32), 팔라듐(pd) 촉매 처리 공정(S33), 활성화 공정(S34), 제2 프리딥 공정(S35), 무전해 구리 도금 공정(S36)을 포함하며, 이들 공정이 순차적으로 이루어지게 된다.The electroless metal plating process (S30) includes a conditioning process (S31), a first pre-dip process (S32), a palladium (pd) catalyst treatment process (S33), an activation process (S34), and a second pre-dip process (S35). , electroless copper plating process (S36), and these processes are performed sequentially.

무전해 금속 도금 공정(S30)의 첫번째 단계인 컨디셔닝 공정(S31)에서는 이전 단계의 초음파 세정작업이 완료된 사출물의 표면을 양이온 계면활성제를 함유하는 컨디셔너(conditioner)로 세척한다.In the conditioning process (S31), which is the first step of the electroless metal plating process (S30), the surface of the injection molded product for which the ultrasonic cleaning operation in the previous step has been completed is cleaned with a conditioner containing a cationic surfactant.

이 경우, 컨디셔닝 공정(S31)에서는 초음파 세정을 완료한 사출물을 20%(v/v) 농도의 KIAC-C 계면활성제 용액에 침지하여 50℃ 온도에서 5분 동안 세척한 후, 2회 연속 수세한다.(S31-1,S31-2)In this case, in the conditioning process (S31), the injection molded product that has completed ultrasonic cleaning is immersed in a KIAC-C surfactant solution with a concentration of 20% (v/v), washed at 50°C for 5 minutes, and then washed twice in succession. .(S31-1,S31-2)

다음으로, 제1 프리딥(pre-dip) 공정(S32)에서는 컨디셔너로 세척작업이 완료된 사출물의 표면에 부착된 오염물을 1차적으로 제거한다.Next, in the first pre-dip process (S32), contaminants attached to the surface of the injection molded product that has been cleaned are primarily removed using a conditioner.

이때, 제1 프리딥 공정(S32)에서는 컨디셔닝 공정(S31)을 통해 세척이 완료된 사출물을 10%(v/v) 농도의 HCl 용액에 25℃ 온도에서 2분 동안 침지시켜 사출물 표면에 부착된 오염물을 1차적으로 제거한다.At this time, in the first pre-dip process (S32), the injection product that has been cleaned through the conditioning process (S31) is immersed in an HCl solution with a concentration of 10% (v/v) for 2 minutes at a temperature of 25°C to remove contaminants attached to the surface of the injection product. is primarily removed.

이와 같은 제1 프리딥 공정(S32)에서는 다음 공정인 팔라듐 촉매 처리 공정(S33)에서 팔라듐 이온촉매가 사출물의 표면과 잘 반응하도록 양이온을 부여하는 기능을 하게 된다.In this first pre-dip process (S32), the palladium ion catalyst functions to provide cations so that it reacts well with the surface of the injection product in the next process, the palladium catalyst treatment process (S33).

다음으로, 팔라듐 촉매 처리 공정(S33)에서는 팔라듐(pd)이 함유된 촉매를 이용하여 환원반응을 통해 사출물의 표면에 도전성을 부여한다.Next, in the palladium catalyst treatment process (S33), conductivity is imparted to the surface of the injection product through a reduction reaction using a catalyst containing palladium (pd).

이와 같은 팔라듐 처리 공정(S33)에서는 사출물의 표면에 팔라듐(Pd) 금속을 침착시켜 향후의 구리(Cu) 도금시 사출물 표면에 구리 도금의 밀착력을 강화시키도록 한다.In this palladium treatment process (S33), palladium (Pd) metal is deposited on the surface of the injection molded product to strengthen the adhesion of the copper plating to the surface of the injection molded product during future copper (Cu) plating.

이때, 팔라듐 촉매 처리 공정(S33)에서는 제1 프리딥 공정(S32)을 거친 사출물을 150ml/L의 HCl와 50ml/L의 CNI-S가 혼합된 용액에 35℃ 온도에서 5분 동안 침지시켰다가 2회 연속 수세한다.(S33-1,S33-2)At this time, in the palladium catalyst treatment process (S33), the extruded product that went through the first pre-dip process (S32) was immersed in a mixed solution of 150 ml/L HCl and 50 ml/L CNI-S at a temperature of 35°C for 5 minutes. Wash twice in a row. (S33-1, S33-2)

다음으로, 활성화 공정(S34)에서는 활성화 처리액에 사출물을 침지시켜 사출물 표면에 도포된 팔라듐 촉매를 활성화한다. 즉, 활성화 공정(S34)에서는 팔라듐 촉매 처리 공정(S33)을 통해 사출물 표면에 도포된 팔라듐(Pd)을 활성화시킴으로써, 이후에 진행될 무전해 구리(Cu) 도금의 전도성 및 친화력을 강화시키게 된다. Next, in the activation process (S34), the palladium catalyst applied to the surface of the injection molded product is activated by immersing the injection molded product in an activation treatment liquid. That is, in the activation process (S34), the palladium (Pd) applied to the surface of the injection molded product is activated through the palladium catalyst treatment process (S33), thereby strengthening the conductivity and affinity of the electroless copper (Cu) plating to be performed later.

이와 같은 활성화 공정(S34)에서는 팔라듐 촉매 처리 공정(S33)을 통해 팔라듐 촉매 처리된 사출물을 10%(v/v) 농도의 H2SO4 용액에 40℃ 온도에서 3분 동안 침지시켰다가 꺼내어 2회 연속하여 수세한다.(S34-1,S34-2)In this activation process (S34), the extruded product treated with a palladium catalyst through the palladium catalyst treatment process (S33) is immersed in a 10% (v/v) concentration of H2SO4 solution at 40°C for 3 minutes, then taken out, and activated twice in succession. Wash with water. (S34-1, S34-2)

제2 프리딥 공정(S35)에서는 활성화 공정(S34)을 통해 활성화 처리된 사출물을 5%(v/v) 농도의 포르말린 용액에 25℃ 온도에서 2분 동안 침지시켜 사출물 표면에 부착된 오염물을 2차적으로 제거한다.In the second pre-dip process (S35), the injection product activated through the activation process (S34) is immersed in a formalin solution with a concentration of 5% (v/v) for 2 minutes at 25°C to remove contaminants attached to the surface of the injection product. remove it gradually.

다음으로, 무전해 구리 도금 공정(S36)에서는 사출물의 표면에 무전해 방식으로 구리(Cu) 금속 피막을 형성한다. 즉, 무전해 구리 도금 공정(S36)에서는 제2 프리딥 공정(S35)을 거친 사출물의 표면에 화학반응을 통해 구리(Cu)를 석출시켜 사출물 표면을 구리 도금한다. 본 공정에서는 사출물의 표면상에 구리 도금에 의한 전도성 피막을 생성시켜 줌으로써, 전해 도금을 가능하게 하기 위하여 실시한다. Next, in the electroless copper plating process (S36), a copper (Cu) metal film is formed on the surface of the injection molded product using an electroless method. That is, in the electroless copper plating process (S36), copper (Cu) is precipitated through a chemical reaction on the surface of the injection molded product that has undergone the second pre-dip process (S35) and the surface of the injection molded product is plated with copper. This process is performed to enable electrolytic plating by creating a conductive film through copper plating on the surface of the injection molded product.

이 경우, 무전해 구리 도금 공정(S36)에서는 제2 프리딥 공정(S35)이 완료된 사출물을 80ml/L의 ECP-80M과 40ml/L의 ECP-80M가 혼합된 용액, 또는 9ml/L의 NaOH와 8.8ml/L의 포르말린이 혼합된 용액에 43℃ 온도에서 60~100분 동안 침지시켜 사출물 표면에 구리(Cu)를 도금하고, 2회 연속 수세한다.(S36-1,S36-2)In this case, in the electroless copper plating process (S36), the injection molded product for which the second pre-dip process (S35) has been completed is mixed with 80 ml/L of ECP-80M and 40 ml/L of ECP-80M, or 9 ml/L of NaOH. Copper (Cu) is plated on the surface of the extruded product by immersing it in a mixture of formalin and 8.8 ml/L at a temperature of 43°C for 60 to 100 minutes, and then washed twice in succession (S36-1, S36-2).

이와 같은 무전해 구리 도금 공정(S36)에서는 화학반응을 통해 사출물 표면에 구리(Cu) 금속을 석출시켜 구리 도금된 사출물 표면에 대한 전도성을 강화시킬 수 있고 전자파 차폐 기능도 부여할 수 있다. 이 경우, 사출물 표면에 도금된 구리 도금의 평균 두께는 5.5㎛로 설정될 수 있다.In this electroless copper plating process (S36), copper (Cu) metal is deposited on the surface of the injection molded product through a chemical reaction, thereby strengthening the conductivity of the surface of the copper-plated injection molded product and providing an electromagnetic wave shielding function. In this case, the average thickness of copper plating on the surface of the injection molded product can be set to 5.5㎛.

한편, 상기와 같은 무전해 금속 도금 공정(S30)을 모두 완료한 사출물은 전해 금속 도금 라인으로 투입되어 사출물 표면에 대한 전해 금속 도금이 실시된다.Meanwhile, the injection molded product that has completed the electroless metal plating process (S30) as described above is input into the electrolytic metal plating line, and electrolytic metal plating is performed on the surface of the injection molded product.

전해 금속 도금 공정(S40)은, 전해 Ag-St 도금 공정(S41), 전해 Ag 도금 공정(S42), 변색방지 공정(S43), 열풍건조 공정(S44)을 포함하며, 이들 공정은 공용설비인 전해 금속 도금라인에서 순차적으로 수행된다.The electrolytic metal plating process (S40) includes an electrolytic Ag-St plating process (S41), an electrolytic Ag plating process (S42), an anti-discoloration process (S43), and a hot air drying process (S44), and these processes are common facilities. It is performed sequentially in an electrolytic metal plating line.

전해 Ag-St 도금 공정(S41)에서는 전해조에서 양극과 음극 사이에 전류를 인가하여 구리 도금된 사출물 표면에 Ag-St 금속 피막을 형성한다.In the electrolytic Ag-St plating process (S41), a current is applied between the anode and cathode in an electrolytic cell to form an Ag-St metal film on the surface of the copper-plated injection molded product.

이때, 전해 Ag-St 도금 공정(S41)에서는 구리 도금된 사출물을 3.1g/L의 AgCN과 110g/L의 KCN이 혼합된 용액에 25℃ 온도에서 0.5분 동안 침지시키고 3V 전압을 인가하여 사출물 표면에 Ag-St 금속 피막을 형성한 후 2회 연속으로 수세한다.(S41-1,S41-2)At this time, in the electrolytic Ag-St plating process (S41), the copper-plated injection molded product is immersed in a mixed solution of 3.1 g/L of AgCN and 110 g/L of KCN at a temperature of 25°C for 0.5 minutes, and a 3V voltage is applied to the surface of the injection molded product. After forming the Ag-St metal film, it is washed twice in succession (S41-1, S41-2).

다음으로, 전해 Ag 도금 공정(S42)에서는 Ag-St 금속 피막이 형성된 사출물의 표면에 은(Ag) 금속 피막을 형성한다.Next, in the electrolytic Ag plating process (S42), a silver (Ag) metal film is formed on the surface of the injection molded product on which the Ag-St metal film is formed.

이 경우, 전해 Ag 도금 공정(S42)에서는 Ag-St 도금된 사출물을 37.5g/L의 AgCN과 80g/L의 KCN이 혼합된 용액에 25℃ 온도에서 5~15분 동안 침지시키고 0.5A/d㎡를 전류를 인가하여 은(Ag) 도금 처리하고, 2회 연속으로 수세한다.(S42-1,S42-2) 이 경우, 사출물 표면에 도금된 은(Ag) 도금의 평균 두께는 2.5㎛로 설정될 수 있다.In this case, in the electrolytic Ag plating process (S42), the Ag-St plated injection molded product is immersed in a mixed solution of 37.5 g/L of AgCN and 80 g/L of KCN at a temperature of 25°C for 5 to 15 minutes and applied at 0.5 A/d. ㎡ is treated with silver (Ag) plating by applying current, and washed twice in succession (S42-1, S42-2). In this case, the average thickness of silver (Ag) plating on the surface of the injection molded product is 2.5㎛. can be set.

다음으로, 변색방지 공정(S43)에서는 은(Ag) 도금된 사출물의 표면을 변색방지제를 이용하여 변색방지 처리한다.Next, in the discoloration prevention process (S43), the surface of the silver (Ag) plated injection molded product is treated to prevent discoloration using a discoloration prevention agent.

이와 같은 변색방지 공정(S43)에서는 은(Ag) 도금된 사출물을 0.5%(v/v) 농도의 변색방지제(ANTIS-1000)가 포함된 용액에 55℃ 온도에서 1분 동안 침지시켰다가 2회 연속적으로 수세한다.(S43-1,S43-2)In this discoloration prevention process (S43), the silver (Ag) plated injection molded product is immersed in a solution containing a 0.5% (v/v) concentration of an anti-discoloration agent (ANTIS-1000) at a temperature of 55°C for 1 minute and then washed twice. Wash continuously. (S43-1, S43-2)

이와 같은 변색방지 공정(S43)을 통해 변색방지 처리된 사출물의 도금 표면은 얼룩이나 색조의 변화를 발생시키지 않는다.The plating surface of the injection molded product treated to prevent discoloration through this discoloration prevention process (S43) does not cause stains or changes in color tone.

마지막으로, 열풍건조 공정(S44)에서는 변색방지 처리된 사출물의 도금 표면을 열풍을 이용하여 건조시킨다. Lastly, in the hot air drying process (S44), the plating surface of the injection molded product that has been treated to prevent discoloration is dried using hot air.

이 경우, 열풍건조 공정(S44)에서는 전해 은(Ag) 도금된 사출물을 60℃의 열풍을 이용하여 10분 동안 열풍 건조시킴으로써, 은 도금된 사출물의 수분을 완전히 제거한다.In this case, in the hot air drying process (S44), the electrolytic silver (Ag) plated injection molded product is dried using hot air at 60° C. for 10 minutes to completely remove moisture from the silver plated injection molded product.

이상의 일련의 연속된 공정을 거쳐 안테나 사출물에 대한 도금을 실시함에 따라, 기존에 재료적인 특징에 의해 에칭 및 도금작업이 불가능하였던 폴리카보네이트(PC) 사출물 표면에 대한 에칭 및 구리/은 도금작업이 가능해질 수 있다.By plating the antenna injection molded product through the above series of continuous processes, etching and copper/silver plating work can be done on the surface of the polycarbonate (PC) injection molded product, which was previously impossible to do due to material characteristics. It can happen.

이와 같이, 폴리카보네이트(PC)로 사출된 안테나 사출물 표면에 대한 에칭 및 도금이 가능해짐에 따라 구리(Cu)/은(Ag) 도금층의 전기적 균일성을 높여 도금층의 전기적 안정성을 향상시킬 수 있고, 도금 경계면이 명확하고 균일하게 형성됨에 따라 전파의 방사효율을 극대화시켜 제품 품질을 향상시킬 수 있다.In this way, as etching and plating on the surface of the antenna extruded from polycarbonate (PC) become possible, the electrical stability of the plating layer can be improved by increasing the electrical uniformity of the copper (Cu)/silver (Ag) plating layer, As the plating interface is formed clearly and uniformly, the radiation efficiency of radio waves can be maximized and product quality can be improved.

또한, 안테나 사출물 제조에 있어 X/Y축 수축률 편차가 작은 폴리카보네이트(PC) 소재를 사용하여 안테나 부품을 제조할 수 있게 됨으로써 안테나 부품의 사출 성형시 치수 제어에 유리함을 확보할 수 있고, 조립시 공차발생이 줄어들게 됨으로써 전파의 누설을 방지하여 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, in the manufacture of antenna injection molded products, it is possible to manufacture antenna parts using polycarbonate (PC) material with a small deviation in By reducing the occurrence of tolerances, leakage of radio waves can be prevented and the reliability of the product can be improved.

아울러, 폴리카보네이트(PC)로 사출된 안테나 사출물의 표면 처리 공정시 에칭 공정에서 가장 중요한 스웰링(Swelling) 공정을 별도로 수행하지 않고서도 사출물 표면에 대한 에칭이 가능해질 수 있기 때문에, 전체 도금 공정을 축소시켜 도금 시간을 단축시킬 수 있으며, 이를 통해 안테나 사출물의 제조비용을 절감시킬 수 있는 장점이 있다. In addition, during the surface treatment process of the antenna injection molded product made of polycarbonate (PC), the entire plating process can be performed because the surface of the injection molded product can be etched without separately performing the swelling process, which is the most important process in the etching process. By reducing the size, the plating time can be shortened, which has the advantage of reducing the manufacturing cost of the antenna injection molded product.

한편, 도 6 및 도 7은 본 발명의 제2실시예에 따른 안테나 사출물의 도금방법을 보여주는 것으로서, 액정 폴리머(Liquid Crystal Polymer, LCP)가 함유된 엔지니어링 플라스틱 소재로 사출 성형된 안테나 사출물의 전체 도금공정을 보여주는 것이다.Meanwhile, Figures 6 and 7 show a plating method of an injection-molded antenna product according to a second embodiment of the present invention, which shows the entire plating of an injection-molded antenna product made of an engineering plastic material containing liquid crystal polymer (LCP). It shows the process.

도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 안테나 케이스의 도금방법은, 먼저 액정 폴리머(LCP) 수지로 사출 성형(S50)된 안테나 케이스 사출물에 대한 예비처리 과정인 표면 처리를 수행하는 표면 처리 공정(S60)과, 표면 처리된 사출물의 무전해 금속 도금을 수행하는 무전해 금속 도금 공정(S70)과, 무전해 금속 도금된 사출물의 전해 금속 도금을 수행하는 전해 금속 도금 공정(S80)을 포함한다.Referring to Figures 6 and 7, the plating method of the antenna case according to the second embodiment of the present invention involves surface treatment, which is a preliminary treatment process for the antenna case injection molded product (S50) with liquid crystal polymer (LCP) resin. A surface treatment process (S60) that performs, an electroless metal plating process (S70) that performs electroless metal plating of the surface-treated injection molded product, and an electrolytic metal plating process that performs electrolytic metal plating of the electroless metal plated injection molded product. Includes (S80).

여기서, 안테나 사출물의 표면 처리 공정(S60)은, 알칼리액에 사출물을 침지하여 사출물 표면에 부착된 유지 성분을 제거하는 알카리 탈지 공정(S61)과, 알칼리 탈지 처리된 사출물의 표면을 스웰링(swelling) 처리하는 스웰링 공정(S62)과, 알칼리 에칭액을 이용하여 화학반응을 통해 사출물 표면을 에칭하는 알카리 에칭 공정(S63)과, 사출물의 표면에 존재하는 글라스(유리) 성분을 제거하는 글라스 에칭 공정(S64)과, 초음파를 이용하여 사출물의 표면을 세정하는 초음파 세정 공정(S65)을 포함한다.Here, the surface treatment process (S60) of the antenna injection molded product includes an alkaline degreasing process (S61) of removing the oily components attached to the surface of the injection molded product by immersing the injection molded product in an alkaline solution, and swelling the surface of the injection molded product that has been treated with alkaline degreasing. ) a swelling process (S62), an alkaline etching process (S63) that etches the surface of the injection molded product through a chemical reaction using an alkaline etching solution, and a glass etching process that removes glass components present on the surface of the injection molded product. (S64) and an ultrasonic cleaning process (S65) that cleans the surface of the injection molded product using ultrasonic waves.

알칼리 탈지 공정(S61)에서는 액정 폴리머(LCP) 수지로 사출 성형된 사출물을 10%(volume/volume) 농도의 알칼리 탈지액(제품명'CLEAN 500')에 50℃ 온도에서 5분 동안 침지시켜 사출물 표면에 흡착된 먼지나 유분 등의 이물질을 제거하고, 이물질 제거가 완료된 사출물을 2회 연속으로 수세한다.(S61-1,S61-2)In the alkaline degreasing process (S61), the injection molded product made of liquid crystal polymer (LCP) resin is immersed in an alkaline degreasing solution (product name 'CLEAN 500') with a concentration of 10% (volume/volume) for 5 minutes at a temperature of 50℃ to degrease the surface of the injection molded product. Remove foreign substances such as dust or oil adsorbed on the product, and wash the injection molded product from which foreign substances have been removed twice in succession (S61-1, S61-2).

스웰링 공정(S62)에서는 알칼리 찰지액으로 탈지 처리된 사출물의 표면을 스웰링(swelling) 처리한다. In the swelling process (S62), the surface of the injection molded product degreased with an alkaline grease is treated with swelling.

이와 같은 스웰링 공정(S62)에서는 안테나 사출물을 스웰링 용액에 침적시켜 사출물의 표면을 원하는 만큼 미세하게 부풀어 오르게 함으로써 다음 공정에서 행해지는 알칼리 에칭을 원활하게 하면서 향후 행해지는 도금층 형성을 용이하게 한다.In this swelling process (S62), the antenna injection molded product is immersed in a swelling solution to swell the surface of the injection molded product as finely as desired, thereby smoothing the alkaline etching performed in the next process and facilitating the formation of a plating layer performed in the future.

이때, 스웰링 공정(S62)에서는 스웰링 용액인 DMF 원액에 안테나 사출물을 침지하여 43℃ 온도에서 5~10분 동안 안테나 사출물 표면을 스웰링 처리하였다가 2회 연속적으로 수세한다.(S62-1,S62-2)At this time, in the swelling process (S62), the surface of the antenna injection molded product is immersed in DMF stock solution, which is a swelling solution, and the surface of the antenna molded product is swollen for 5 to 10 minutes at a temperature of 43°C, and then washed twice in succession. (S62-1 ,S62-2)

여기서, 상기 스웰링 공정(S62)을 수행하기 이전 단계에서는 상기 알칼리 탈지 공정(S61)을 완료한 안테나 사출물을 60℃ 온도에서 10분 동안 열풍 건조시키는 열풍 건조 공정(S61-3)이 추가적으로 수행될 수 있다. Here, in the step before performing the swelling process (S62), a hot air drying process (S61-3) is additionally performed in which the antenna injection molded product that has completed the alkaline degreasing process (S61) is dried with hot air at a temperature of 60° C. for 10 minutes. You can.

이와 같은 열풍 건조 공정(S61-3)을 통해 사출물 표면에 묻어있는 잔여 수분을 증발시킴으로써 스웰링 공정(S62)에서 사출물의 표면에 묻어있는 수분에 의해 스웰링 용액의 반응성을 저하시키는 것을 방지할 수 있다.By evaporating the remaining moisture on the surface of the injection molded product through this hot air drying process (S61-3), it is possible to prevent the reactivity of the swelling solution from being reduced by moisture on the surface of the injection molded product in the swelling process (S62). there is.

알칼리 에칭 공정(S63)에서는 상기 스웰링 공정(S62)에서 스웰링 처리된 사출물을 300g/L의 KOH와 50ml/L의 AD70B(S)가 혼합된 알칼리 에칭액에 65℃ 온도에서 5~10분 동안 침지하여 사출물 표면을 에칭 처리하고, 에칭 처리 완료 후 사출물 표면에 부착된 알칼리 에칭액을 제거하기 위해 2회 연속하여 수세한다.(S63-1,S63-2)In the alkaline etching process (S63), the injection molded product swollen in the swelling process (S62) is placed in an alkaline etching solution containing 300 g/L of KOH and 50 ml/L of AD70B(S) at a temperature of 65°C for 5 to 10 minutes. The surface of the injection molded product is etched by immersion, and after completion of the etching treatment, it is washed twice in succession to remove the alkaline etching solution attached to the surface of the injection molded product (S63-1, S63-2).

글라스 에칭 공정(S64)에서는 상기 알칼리 에칭 공정(S63)을 통해 에칭 처리된 사출물을 EC-LS(G) 원액에 50℃ 온도에서 10분 동안 침지하여 글라스 에칭 처리하고 2회 연속 수세한다.(S64-1,S64-2)In the glass etching process (S64), the injection molded product etched through the alkaline etching process (S63) is glass etched by immersing it in EC-LS(G) stock solution at 50°C for 10 minutes and washed twice in succession. (S64) -1,S64-2)

초음파 세정 공정(S65)에서는 글라스 에칭 작업이 완료된 사출물을 40℃ 온도의 세정수에 침지시킨 후 초음파를 5분 동안 인가함으로써, 에칭 공정 과정에 사출물 표면에 묻어있는 에칭액을 완벽하게 제거할 수 있다.In the ultrasonic cleaning process (S65), the injection molded product on which the glass etching process has been completed is immersed in cleaning water at a temperature of 40°C and then ultrasonic waves are applied for 5 minutes, thereby completely removing the etching liquid on the surface of the injection molded product during the etching process.

이와 같은 안테나 사출물 표면에 대한 표면 처리 공정(S60)이 모두 완료된 이우에는 사출물 표면에 대한 화학반응을 통해 금속을 도금하는 무전해 금속 도금 공정(S70)이 실시된다.In Yiwu, where the surface treatment process (S60) for the surface of the injection-molded antenna has been completed, the electroless metal plating process (S70) is performed to plate metal through a chemical reaction on the surface of the injection-molded product.

무전해 금속 도금 공정(S70)에서는 컨디셔닝 공정(S71), 제1 프리딥 공정(S72), 팔라듐(pd) 촉매 처리 공정(S73), 활성화 공정(S74), 제2 프리딥 공정(S75), 무전해 구리 도금 공정(S76)이 순차적으로 실시된다.The electroless metal plating process (S70) includes a conditioning process (S71), a first pre-dip process (S72), a palladium (pd) catalyst treatment process (S73), an activation process (S74), a second pre-dip process (S75), The electroless copper plating process (S76) is performed sequentially.

컨디셔닝 공정(S71)에서는 이전 단계에서 초음파 세정이 완료된 사출물을 20%(v/v) 농도의 KIAC-C 계면활성제 용액에 침지하여 50℃ 온도에서 5분 동안 세척한 후, 2회 연속 수세한다.(S71-1,S71-2)In the conditioning process (S71), the injection molded product that has been ultrasonic cleaned in the previous step is immersed in a KIAC-C surfactant solution with a concentration of 20% (v/v), washed at 50°C for 5 minutes, and then washed twice in succession. (S71-1,S71-2)

제1 프리딥 공정(S72)에서는 컨디셔너로 세척이 완료된 사출물을 10%(v/v) 농도의 HCl 용액에 25℃ 온도에서 2분 동안 침지시켜 사출물 표면에 부착된 오염물을 1차적으로 제거하고, 이후에 진행되는 팔라듐 촉매 처리 공정(S73)에서 팔라듐 이온촉매가 사출물의 표면과 잘 반응하도록 양이온을 부여하는 기능을 하게 된다.In the first pre-dip process (S72), the injection product that has been washed with a conditioner is immersed in a 10% (v/v) HCl solution at a temperature of 25°C for 2 minutes to primarily remove contaminants attached to the surface of the injection product, In the subsequent palladium catalyst treatment process (S73), the palladium ion catalyst functions to provide cations so that it reacts well with the surface of the injection product.

팔라듐 촉매 처리 공정(S73)에서는 팔라듐(pd)이 함유된 촉매를 이용하여 환원반응을 통해 사출물의 표면에 팔라듐(Pd) 금속을 침착시켜 구리(Cu) 도금시 밀착력을 강화시킨다.In the palladium catalyst treatment process (S73), palladium (Pd) metal is deposited on the surface of the extruded product through a reduction reaction using a catalyst containing palladium (pd) to strengthen adhesion during copper (Cu) plating.

이와 같은 팔라듐 촉매 처리 공정(S73)에서는 제1 프리딥 공정(S72)을 거친 사출물을 150ml/L의 HCl와 50ml/L의 CNI-S가 혼합된 용액에 35℃ 온도에서 5분 동안 침지시켰다가 2회 연속적으로 수세한다.(S73-1,S73-2)In this palladium catalyst treatment process (S73), the extruded product that has undergone the first pre-dip process (S72) is immersed in a mixed solution of 150 ml/L of HCl and 50 ml/L of CNI-S at a temperature of 35°C for 5 minutes. Wash twice in a row. (S73-1, S73-2)

활성화 공정(S74)에서는 사출물 표면에 도포된 팔라듐(Pd)을 활성화시켜 구리(Cu) 도금시 전도성 및 친화력을 강화시킨다. 이와 같은 활성화 공정(S74)에서는 팔라듐 촉매 처리된 사출물을 10%(v/v) 농도의 H2SO4 용액에 40℃ 온도에서 3분 동안 침지시켰다가 꺼내어 2회 연속하여 수세한다.(S74-1,S74-2)In the activation process (S74), palladium (Pd) applied to the surface of the injection molded product is activated to enhance conductivity and affinity during copper (Cu) plating. In this activation process (S74), the palladium catalyst-treated injection product is immersed in a 10% (v/v) H2SO4 solution at 40°C for 3 minutes, then taken out and washed twice in succession. (S74-1, S74) -2)

제2 프리딥 공정(S75)에서는 활성화 처리된 사출물을 5%(v/v) 농도의 포르말린 용액에 25℃ 온도에서 2분 동안 침지시켜 사출물 표면에 부착된 오염물을 2차적으로 제거한다.In the second pre-dip process (S75), the activated injection molded product is immersed in a formalin solution with a concentration of 5% (v/v) at 25°C for 2 minutes to secondarily remove contaminants attached to the surface of the molded product.

무전해 구리 도금 공정(S76)에서는 사출물의 표면에 화학반응을 통해 구리(Cu)를 석출시켜 사출물 표면을 구리(Cu)로 도금한다. 이 경우, 제2 프리딥 공정(S75)을 거친 사출물을 80ml/L의 ECP-80M과 40ml/L의 ECP-80M가 혼합된 용액, 또는 9ml/L의 NaOH와 8.8ml/L의 포르말린이 혼합된 용액에 43℃ 온도에서 60~100분 동안 침지시켜 사출물 표면을 구리(Cu) 도금하고, 2회 연속 수세한다.(S76-1,S76-2)In the electroless copper plating process (S76), copper (Cu) is precipitated on the surface of the injection product through a chemical reaction and the surface of the injection product is plated with copper (Cu). In this case, the injection product that has gone through the second pre-dip process (S75) is mixed with a solution of 80 ml/L of ECP-80M and 40 ml/L of ECP-80M, or a mixture of 9 ml/L of NaOH and 8.8 ml/L of formalin. The surface of the injection molded product is plated with copper (Cu) by immersing it in the solution for 60 to 100 minutes at a temperature of 43°C, and then washed twice in succession (S76-1, S76-2).

이와 같은 방식으로 무전해 금속 도금 공정(S70)이 모두 완료되면, 다음으로, 안테나 사출물을 전해 금속 도금 라인으로 투입하여 사출물 표면에 대한 전해 금속 도금을 실시한다.When the electroless metal plating process (S70) is completed in this way, the antenna injection molded product is input into the electrolytic metal plating line to perform electrolytic metal plating on the surface of the injection molded product.

전해 금속 도금 공정(S80)에서는 전해 Ag-St 도금 공정(S81), 전해 Ag 도금 공정(S82), 변색방지 공정(S83), 열풍건조 공정(S84)이 공용설비인 전해 금속 도금라인에서 순차적으로 진행된다.In the electrolytic metal plating process (S80), the electrolytic Ag-St plating process (S81), electrolytic Ag plating process (S82), anti-discoloration process (S83), and hot air drying process (S84) are sequentially performed in the electrolytic metal plating line, which is a common facility. It goes on.

전해 Ag-St 도금 공정(S81)에서는 구리 도금된 사출물 표면에 전류를 인가하여 Ag-St 금속 피막을 형성한다. 이 경우, 구리 도금된 사출물을 3.1g/L의 AgCN과 110g/L의 KCN이 혼합된 용액에 25℃ 온도에서 0.5분 동안 침지시키고 3V 전압을 인가하여 사출물 표면에 Ag-St 금속 피막을 형성한 후 2회 연속으로 수세한다.(S81-1,S81-2)In the electrolytic Ag-St plating process (S81), an Ag-St metal film is formed by applying current to the surface of the copper-plated injection molded product. In this case, the copper-plated injection molded product was immersed in a mixed solution of 3.1 g/L of AgCN and 110 g/L of KCN at a temperature of 25°C for 0.5 minutes, and a 3V voltage was applied to form an Ag-St metal film on the surface of the injection molded product. Then wash twice in a row. (S81-1, S81-2)

전해 Ag 도금 공정(S82)에서는 Ag-St 금속 피막이 형성된 사출물의 표면에 은(Ag) 금속 피막을 형성한다. 이 경우, Ag-St 도금된 사출물을 37.5g/L의 AgCN과 80g/L의 KCN이 혼합된 용액에 25℃ 온도에서 5~15분 동안 침지시키고 0.5A/d㎡를 전류를 인가하여 은(Ag) 도금 처리하고, 2회 연속적으로 수세한다.(S82-1,S82-2)In the electrolytic Ag plating process (S82), a silver (Ag) metal film is formed on the surface of the injection molded product on which the Ag-St metal film is formed. In this case, the Ag-St plated injection molded product was immersed in a mixed solution of 37.5 g/L AgCN and 80 g/L KCN at a temperature of 25°C for 5 to 15 minutes, and a current of 0.5 A/dm2 was applied to silver ( Ag) plating and washing twice in succession (S82-1, S82-2)

변색방지 공정(S83)에서는 은(Ag) 도금된 사출물을 0.5%(v/v) 농도의 변색방지제(ANTIS-1000)가 포함된 용액에 55℃ 온도에서 1분 동안 침지시켜 변색방지 처리하고 2회 연속 수세한다.(S83-1,S83-2)In the discoloration prevention process (S83), the silver (Ag) plated injection molded product is treated to prevent discoloration by immersing it in a solution containing 0.5% (v/v) concentration of anti-discoloration agent (ANTIS-1000) at 55°C for 1 minute. Wash continuously. (S83-1, S83-2)

마지막으로, 열풍건조 공정(S84)에서는 변색방지 처리된 은 도금 사출물을 60℃의 열풍을 이용하여 10분 동안 열풍 건조시키고, 건조가 완료된 제품을 검사한다.Finally, in the hot air drying process (S84), the anti-discoloration treated silver-plated injection molded product is dried using hot air at 60°C for 10 minutes, and the dried product is inspected.

이상의 제2실시예에서는 액정 폴리머(LCP) 재질로 사출된 안테나 사출물을 도금하는 방법에 대해서 설명하였으나, 동일한 결정성 플라스틱 계열 소재인 폴리부틸렌 테레프탈레이트(Polybutylene Terephthalate, PBT) 계열의 소재로 사출된 안테나 사출물에도 위와 설명된 바와 같은 동일한 공정을 통해 안테나 사출물에 대한 에칭 및 도금을 실시할 수 있다.In the second embodiment above, a method of plating an antenna injection molded product made of liquid crystal polymer (LCP) material was described. However, the method of plating an antenna molded product made of liquid crystal polymer (LCP) material was described. However, the method of plating an antenna molded product made of liquid crystal polymer (LCP) material was described. Etching and plating can be performed on the antenna injection-molded product through the same process as described above.

참고로, 도 8에는 전술된 실시예들에서 설명한 도금방법을 통해 구리 및 은 도금된 안테나 케이스의 실물 사진이 첨부되어 있다. 여기서, 도 8의 (a) 및 (b)는 각각 구리(Cu) 및 은(Ag) 도금된 안테나 케이스의 실물 사진과 Gain 특성을 나타낸다.For reference, FIG. 8 is attached with an actual photograph of an antenna case plated with copper and silver through the plating method described in the above-described embodiments. Here, Figures 8 (a) and (b) show actual photographs and gain characteristics of copper (Cu) and silver (Ag) plated antenna cases, respectively.

상술한 실시예들에서 설명한 본 발명의 안테나 사출물의 도금방법을 적용하면, 기존에 소재의 특성상 에칭 및 도금작업이 불가능하였던 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등의 엔지니어링 플라스틱 소재를 적용하여 안테나 사출물을 제조하는 것이 가능해지기 때문에 레이더 안테나 제조시 엔지니어링 플라스틱 소재 사용에 있어 다양성을 확장시킬 수 있다.By applying the plating method of the antenna injection molded product of the present invention described in the above-described embodiments, polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT), which were previously impossible to perform etching and plating work due to the characteristics of the materials, Since it is possible to manufacture antenna injection molded products by applying engineering plastic materials such as ), it is possible to expand the diversity in the use of engineering plastic materials when manufacturing radar antennas.

특히, 본 발명은 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등과 같은 X/Y축 수축률 편차가 적은 특정 플라스틱 소재로 안테나 제조가 가능해지게 됨으로써 사출 성형시 치수 제어에 유리함을 확보할 수 있고, 케이스 사출물의 성형 오차가 줄어들게 됨으로써 조립된 안테나 구조물에 틈새가 발생하지 않아 전파의 누설을 방지할 수 있으며 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In particular, the present invention makes it possible to manufacture antennas using specific plastic materials with low X/Y axis shrinkage variation, such as polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT), thereby enabling dimensional control during injection molding. Advantages can be secured, and the molding error of the case injection molded product is reduced, thereby preventing leakage of radio waves by preventing gaps in the assembled antenna structure and improving the reliability of the product.

그리고, 본 발명에 따른 안테나 사출물의 도금방법을 사용하면, 기존에 에칭 및 도금이 불가능하였던 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 재질로 사출된 안테나 부품 표면에 대한 에칭 및 완벽한 도금을 실시할 수 있기 때문에 다양한 종류의 엔지니어링 플라스틱을 사용하여 레이더 안테나의 외형적인 디자인을 보다 다양하게 구현할 수 있고, 구리(Cu)/은(Ag) 도금된 도금층의 전기적 균일성을 높여 도금층의 전기적인 안정성을 향상시킬 수 있다.In addition, by using the plating method of the antenna injection molded product according to the present invention, the surface of the antenna component injected from polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT), which were previously impossible to etching and plating, can be improved. Since etching and complete plating can be performed, the external design of the radar antenna can be implemented in a wider variety of ways by using various types of engineering plastics, and the electrical uniformity of the copper (Cu)/silver (Ag) plating layer is improved. By increasing , the electrical stability of the plating layer can be improved.

특히, 폴리카보네이트(PC) 재질로 적용하여 안테나 사출물을 도금하는 경우에, 사출물 표면 에칭 공정 중 가장 중요한 공정인 스웰링(Swelling) 공정을 추가하지 않고서도 피도금물의 표면 에칭이 가능해지기 때문에, 전체 도금 공정을 축소시켜 도금 시간을 단축시킬 수 있으며, 이를 통해 제조비용을 절감시킬 수 있는 장점이 있다. In particular, when plating an antenna injection molded product using polycarbonate (PC), the surface of the plated object can be etched without adding the swelling process, which is the most important process among the surface etching processes of the injection molded product. By reducing the entire plating process, the plating time can be shortened, which has the advantage of reducing manufacturing costs.

또한, 전해 은(Ag) 도금된 사출물을 0.5%(v/v) ANTIS-1000 수용액에 55℃에서 1분 동안 침지시킨 후 2회 연속 수세하는 변색방지 공정을 수행함으로써, 구리(Cu)/은(Ag) 도금 제품의 단점으로 지적되던 변색 및 부식을 방지하여 구리(Cu)/은(Ag) 도금된 안테나 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, a discoloration prevention process is performed by immersing the electrolytic silver (Ag) plated injection molded product in a 0.5% (v/v) ANTIS-1000 aqueous solution for 1 minute at 55°C and then washing it twice in succession, thereby reducing the copper (Cu)/silver It has the advantage of improving the reliability of copper (Cu)/silver (Ag) plated antenna products by preventing discoloration and corrosion, which have been pointed out as disadvantages of (Ag) plated products.

또한, 폴리카보네이트(PC), 액정 폴리머(LCP), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등의 엔지니어링 플라스틱을 이용하여 사출 성형된 안테나 제품 표면에 구리 및 은 도금을 무전해 및 전해 도금 방법을 통해 실시함으로써, 제품의 외부표면을 광택이나 무광택으로 장식하는 효과를 낼 수 있으며, 이와 같은 도금방법으로 도금된 안테나 제품은 기존의 제품에 비해, 표면강도가 뛰어나고, 내마모성, 내열성 등의 기계적 특성이 향상되어 제품표면의 품질이 향상되는 장점이 있다.In addition, copper and silver plating is performed on the surface of injection-molded antenna products using engineering plastics such as polycarbonate (PC), liquid crystal polymer (LCP), and polybutylene terephthalate (PBT) using electroless and electrolytic plating methods. By doing so, it is possible to create the effect of decorating the external surface of the product with a glossy or matte finish, and antenna products plated using this plating method have superior surface strength and improved mechanical properties such as wear resistance and heat resistance compared to existing products. There is an advantage that the quality of the product surface is improved.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이같은 특정 실시 예에만 한정되지 않으며, 해당분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 특허청구범위 내에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경이 가능할 것이다.Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and those skilled in the art can make appropriate changes within the scope described in the claims of the present invention. This will be possible.

100 : 제1케이스 104, 204 : 정렬홀
110,210 : 제1,2접촉부 120 : 슬롯부
121 : 슬롯 130 : 결합돌기
140 : 격벽 200 : 제2케이스
220 : 밀착면 230 : 결합홈
240 : 포트 300 : 레이더 안테나
S20,S60 : 표면 처리 공정
S30,S70 : 무전해 금속 도금 공정
S40,S80 : 전해 금속 도금 공정
100: first case 104, 204: alignment hole
110,210: first and second contact parts 120: slot part
121: slot 130: coupling protrusion
140: Bulkhead 200: Second case
220: Adhesion surface 230: Coupling groove
240: Port 300: Radar antenna
S20,S60: Surface treatment process
S30,S70: Electroless metal plating process
S40,S80: Electrolytic metal plating process

Claims (22)

플라스틱을 이용하여 사출 성형된 사출물의 표면 처리를 수행하는 표면 처리 공정;
표면 처리가 완료된 사출물의 무전해 금속 도금을 수행하는 무전해 금속 도금 공정;
무전해 금속 도금된 사출물의 전해 금속 도금을 수행하는 전해 금속 도금 공정;을 포함하며,
상기 표면 처리 공정은,
알칼리액에 사출물을 침지하여 사출물 표면에 부착된 유지 성분을 제거하는 알카리 탈지 공정과,
알칼리 에칭액을 이용하여 화학반응을 통해 사출물 표면을 에칭하는 알카리 에칭 공정과,
사출물의 표면에 존재하는 글라스(유리) 성분을 제거하는 글라스 에칭 공정과,
초음파를 이용하여 사출물의 표면을 세정하는 초음파 세정 공정,
을 포함하는, 안테나 사출물의 도금방법.
A surface treatment process that performs surface treatment of an injection molded product using plastic;
An electroless metal plating process that performs electroless metal plating on an injection molded product whose surface treatment has been completed;
It includes an electrolytic metal plating process that performs electrolytic metal plating of the electroless metal plated injection molded product,
The surface treatment process is,
An alkaline degreasing process of removing fat components attached to the surface of the injection molded product by immersing the injection molded product in an alkaline solution;
An alkaline etching process that etches the surface of the injection molded product through a chemical reaction using an alkaline etching solution,
A glass etching process to remove glass components present on the surface of the injection molded product,
Ultrasonic cleaning process that uses ultrasonic waves to clean the surface of the injection molded product,
Plating method of an antenna injection molded product, including.
제1항에 있어서, 상기 플라스틱은 PC(Polycarbonate) 계열의 비결정성 엔지니어링 플라스틱인 것을 특징으로 하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The plating method of an antenna injection molded product according to claim 1, wherein the plastic is a PC (polycarbonate)-based amorphous engineering plastic.
제1항에 있어서, 상기 플라스틱은 LCP(Liquid Crystal Polymer), PBT(Polybutylene Terephthalate) 계열의 결정성 엔지니어링 플라스틱인 것을 특징으로 하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 1, wherein the plastic is a crystalline engineering plastic of the Liquid Crystal Polymer (LCP) or Polybutylene Terephthalate (PBT) series.
제1항에 있어서, 상기 알칼리 탈지 공정에서는 사출물을 10%(v/v) 농도의 알칼리 탈지액에 50℃ 온도에서 5분 동안 침지하여 탈지 처리하고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The plating method of claim 1, wherein in the alkaline degreasing process, the extruded product is degreased by immersing it in an alkaline degreasing solution with a concentration of 10% (v/v) at a temperature of 50° C. for 5 minutes, and then washed with water.
제1항에 있어서, 상기 알칼리 에칭 공정에서는 사출물을 300g/L의 KOH와 50ml/L의 AD70B(S)가 혼합된 에칭액에 65℃ 온도에서 5~10분 동안 침지하여 에칭 처리하고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The antenna of claim 1, wherein in the alkaline etching process, the injection molded product is etched by immersing it in an etching solution containing 300 g/L of KOH and 50 ml/L of AD70B(S) for 5 to 10 minutes at a temperature of 65° C. and then washed with water. Plating method for injection molded products.
제1항에 있어서, 상기 글라스 에칭 공정에서는 사출물을 EC-LS(G) 원액에 50℃ 온도에서 10분 동안 침지하여 에칭 처리하고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
According to claim 1, In the glass etching process, the injection molded product is immersed in EC-LS(G) stock solution for 10 minutes at a temperature of 50° C., etched, and then washed with water.
제1항에 있어서, 상기 알칼리 탈지 공정과 글라스 에칭 공정 사이에 수행되는 공정으로서, 사출물의 표면을 스웰링(swelling) 처리하는 스웰링 공정을 더 포함하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 1, further comprising a swelling process of swelling the surface of the injection-molded product as a process performed between the alkaline degreasing process and the glass etching process.
제7항에 있어서, 상기 스웰링 공정에서는 DMF 원액을 이용하여 사출물의 표면을 43℃ 온도에서 5~10분 동안 스웰링 처리하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 7, wherein in the swelling process, the surface of the injection-molded product is swelled at a temperature of 43° C. for 5 to 10 minutes using DMF stock solution.
제7항에 있어서, 상기 스웰링 공정 이전에 수행되는 공정으로서, 상기 알칼리 탈지 공정을 거친 사출물을 60℃ 온도에서 10분 동안 열풍 건조시키는 열풍 건조 공정을 더 포함하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The plating method of claim 7, wherein the process performed before the swelling process further includes a hot air drying process of drying the injection molded product that has undergone the alkaline degreasing process with hot air at a temperature of 60° C. for 10 minutes.
제1항에 있어서, 상기 초음파 세정 공정에서는 상기 글라스 에칭 공정을 거친 사출물을 40℃ 온도의 세정수에 침지시킨 후 초음파를 5분 동안 인가하여 세정하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 1, wherein in the ultrasonic cleaning process, the injection-molded product that has undergone the glass etching process is immersed in cleaning water at a temperature of 40° C. and then cleaned by applying ultrasonic waves for 5 minutes.
제1항에 있어서, 상기 무전해 금속 도금 공정은,
초음파 세정이 완료된 사출물의 표면을 컨디셔너(conditioner)로 세척하는 컨디셔닝 공정과,
사출물 표면에 부착된 오염물을 1차적으로 제거하는 제1 프리딥 공정과,
팔라듐(pd)을 함유하는 촉매로 환원반응을 통해 사출물 표면에 도전성을 부여하는 팔라듐 촉매 처리 공정과,
활성화 처리액에 사출물을 침지시켜 사출물의 표면을 활성화하는 활성화 공정과,
사출물의 표면에 부착된 오염물을 2차적으로 제거하는 제2 프리딥 공정과,
사출물의 표면에 무전해 방식으로 금속 피막을 형성하는 무전해 구리 도금 공정,
을 포함하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 1, wherein the electroless metal plating process,
A conditioning process of cleaning the surface of the injection molded product after ultrasonic cleaning with a conditioner,
A first pre-dip process to primarily remove contaminants attached to the surface of the injection molded product,
A palladium catalyst treatment process that imparts conductivity to the surface of the injection molded product through a reduction reaction with a catalyst containing palladium (pd),
An activation process of activating the surface of the injection-molded product by immersing the injection-molded product in an activation treatment liquid;
A second pre-dip process to secondarily remove contaminants attached to the surface of the injection molded product,
An electroless copper plating process that forms a metal film on the surface of an injection product using an electroless method,
Plating method of an antenna injection molded product, including.
제11항에 있어서, 상기 컨디셔닝 공정에서는, 초음파 세정이 완료된 사출물을 20%(v/v) 농도의 KIAC-C 계면활성제 용액에 침지하여 50℃ 온도에서 5분 동안 세척하고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 11, wherein in the conditioning process, the ultrasonic-cleaned injection-molded product is immersed in a KIAC-C surfactant solution with a concentration of 20% (v/v), washed at a temperature of 50° C. for 5 minutes, and then washed with water. Plating method.
제11항에 있어서, 상기 제1 프리딥 공정에서는 사출물을 10%(v/v) 농도의 HCl 용액에 25℃ 온도에서 2분 동안 침지시켜 처리하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 11, wherein, in the first pre-dip process, the injection-molded product is treated by immersing it in an HCl solution with a concentration of 10% (v/v) at a temperature of 25° C. for 2 minutes.
제11항에 있어서, 상기 팔라듐 촉매 처리 공정에서는 사출물을 150ml/L의 HCl와 50ml/L의 CNI-S가 혼합된 용액에 35℃ 온도에서 5분 동안 침지시키고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The plating method of claim 11, wherein in the palladium catalyst treatment process, the extruded product is immersed in a mixed solution of 150 ml/L of HCl and 50 ml/L of CNI-S at a temperature of 35° C. for 5 minutes and washed with water.
제11항에 있어서, 상기 활성화 공정에서는 사출물을 10%(v/v) 농도의 H2SO4 용액에 40℃ 온도에서 3분 동안 침지시키고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 11, wherein in the activation process, the injection-molded product is immersed in a 10% (v/v) H2SO4 solution at a temperature of 40° C. for 3 minutes and then washed with water.
제11항에 있어서, 상기 제2 프리딥 공정에서는 사출물을 5%(v/v) 농도의 포르말린 용액에 25℃ 온도에서 2분 동안 침지시켜 처리하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The plating method of claim 11, wherein in the second pre-dip process, the extruded product is treated by immersing it in a formalin solution with a concentration of 5% (v/v) at a temperature of 25° C. for 2 minutes.
제11항에 있어서, 상기 무전해 구리 도금 공정에서는 사출물을 80ml/L의 ECP-80M과 40ml/L의 ECP-80M가 혼합된 용액, 또는 9ml/L의 NaOH와 8.8ml/L의 포르말린이 혼합된 용액에 43℃ 온도에서 60~100분 동안 침지시켜 구리(Cu) 도금하고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 11, wherein in the electroless copper plating process, the injection product is mixed with a solution of 80 ml/L of ECP-80M and 40 ml/L of ECP-80M, or a mixture of 9 ml/L of NaOH and 8.8 ml/L of formalin. A plating method for an antenna injection molded product, which involves plating copper (Cu) by immersing it in a solution for 60 to 100 minutes at a temperature of 43°C and then washing it with water.
제1항에 있어서, 상기 전해 금속 도금 공정은,
양극과 음극 사이에서 전류를 인가하여 사출물 표면에 Ag-St 금속 피막을 형성하는 전해 Ag-St 도금 공정과,
상기 Ag-St 금속 피막이 형성된 사출물의 표면에 Ag 금속 피막을 형성하는 전해 Ag 도금 공정과,
상기 Ag 금속 피막이 형성된 사출물의 표면을 변색방지제를 이용하여 변색방지 처리하는 변색방지 공정과,
상기 변색방지 처리된 사출물의 표면을 열풍을 이용하여 건조시키는 열풍건조 공정,
을 포함하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 1, wherein the electrolytic metal plating process,
An electrolytic Ag-St plating process that forms an Ag-St metal film on the surface of the injection molded product by applying a current between the anode and the cathode;
An electrolytic Ag plating process to form an Ag metal film on the surface of the injection molded product on which the Ag-St metal film is formed;
A discoloration prevention process of treating the surface of the injection molded product on which the Ag metal film is formed to prevent discoloration using a discoloration prevention agent;
A hot air drying process in which the surface of the injection molded product treated to prevent discoloration is dried using hot air,
Plating method of an antenna injection molded product, including.
제18항에 있어서, 상기 전해 Ag-St 도금 공정에서는 사출물을 3.1g/L의 AgCN과 110g/L의 KCN이 혼합된 용액에 25℃ 온도에서 0.5분 동안 침지시키고 3V 전압을 인가하여 전해 도금 처리하고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 18, wherein in the electrolytic Ag-St plating process, the extruded product is immersed in a mixed solution of 3.1 g/L of AgCN and 110 g/L of KCN at a temperature of 25° C. for 0.5 minutes, and a 3V voltage is applied to perform electrolytic plating. A plating method for antenna injection molding products, which includes washing with water.
제18항에 있어서, 상기 전해 Ag 도금 공정에서는 사출물을 37.5g/L의 AgCN과 80g/L의 KCN이 혼합된 용액에 25℃ 온도에서 5~15분 동안 침지시키고 0.5A/d㎡를 전류를 인가하여 전해 도금 처리하고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 18, wherein in the electrolytic Ag plating process, the extruded product is immersed in a mixed solution of 37.5 g/L AgCN and 80 g/L KCN at a temperature of 25° C. for 5 to 15 minutes and a current of 0.5 A/dm2 is applied. A plating method for antenna injection-molded products that involves electrolytic plating and washing.
제18항에 있어서, 상기 변색방지 공정에서는 사출물을 0.5%(v/v) 농도의 변색방지제가 포함된 용액에 55℃ 온도에서 1분 동안 침지시키고 수세하는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 18, wherein in the discoloration prevention process, the extruded product is immersed in a solution containing a discoloration prevention agent at a concentration of 0.5% (v/v) for 1 minute at a temperature of 55° C. and then washed with water.
제18항에 있어서, 상기 열풍건조 공정에서는 전해 은(Ag) 도금된 사출물을 60℃의 열풍을 이용하여 10분 동안 열풍 건조시키는, 안테나 사출물의 도금방법.
The method of claim 18, wherein in the hot air drying process, the electrolytic silver (Ag) plated injection molded product is hot air dried using hot air at 60° C. for 10 minutes.
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