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KR20230168975A - Retardation-layer-equipped polarizing plate - Google Patents

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Publication number
KR20230168975A
KR20230168975A KR1020230072271A KR20230072271A KR20230168975A KR 20230168975 A KR20230168975 A KR 20230168975A KR 1020230072271 A KR1020230072271 A KR 1020230072271A KR 20230072271 A KR20230072271 A KR 20230072271A KR 20230168975 A KR20230168975 A KR 20230168975A
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KR
South Korea
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group
resin
polarizing plate
layer
retardation layer
Prior art date
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Pending
Application number
KR1020230072271A
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Korean (ko)
Inventor
히로노리 야기누마
사다히로 나카니시
신타로 아즈마
잇페이 나가하라
타카히로 키타가와
야스요시 후지이
마사야스 이토
타쿠야 코미네
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
토소가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2022168678A external-priority patent/JP2023180201A/en
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤, 토소가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20230168975A publication Critical patent/KR20230168975A/en
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Abstract

The present invention provides a polarizing plate with a phase difference layer having a reverse dispersion characteristic, and a polarizing plate with a phase difference layer capable of suppressing the occurrence of appearance defects in a high temperature and high humidity environment. A polarizing plate with a phase difference layer according to an embodiment of the present invention comprises a polarizer; and a phase difference layer containing a cellulose-based resin and an ester-based resin in this order. Re(450)/Re(550) of the phase difference layer is 0 to 1, Re(550) of the phase difference layer is 100 nm to 200 nm, and the angle formed by the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the phase difference layer is 40° to 50°, or 130° to 140°. A nanophase separation structure is formed in the phase difference layer.

Description

위상차층 부착 편광판{RETARDATION-LAYER-EQUIPPED POLARIZING PLATE}Polarizer with retardation layer {RETARDATION-LAYER-EQUIPPED POLARIZING PLATE}

본 발명은 위상차층 부착 편광판에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing plate with a retardation layer.

화상 표시 장치에는 일반적으로 용도에 적합한 광학 특성을 보상하기 위하여, 편광자와 광학 보상 필름을 조합한 다양한 광학 적층체가 사용되고 있다. 그와 같은 광학 적층체로서, 예컨대, 편광자와, λ/4판인 위상차층으로서, 변성 폴리에스테르카보네이트 수지로 형성되는 위상차층을, 이 순서대로 구비하는 위상차층 부착 편광판이 제안되어 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조). 근래, 화상 표시 장치의 사용 환경이 다양화되고 있고, 고온 고습 환경 하에서의 내구성이 요구되는 경우가 있다. 이와 같은 고온 고습 환경 하에서의 내구성에 관하여, 특허문헌 1에 기재된 위상차층 부착 편광판에는 개선의 여지가 남아 있고, 특허문헌 1에 기재된 위상차층 부착 편광판에서는, 특히 고온 고습 환경 하에서 위상차층의 크랙, 박리 등의 외관 불량이 생길 우려가 있다.Various optical laminates combining a polarizer and an optical compensation film are generally used in image display devices to compensate for optical properties suitable for the intended use. As such an optical laminate, for example, a polarizing plate with a retardation layer has been proposed that includes a polarizer, a retardation layer that is a λ/4 plate, and a retardation layer formed of a modified polyester carbonate resin in this order (e.g., patent (see Document 1). In recent years, the usage environment of image display devices has become more diverse, and durability in high-temperature and high-humidity environments is sometimes required. With regard to durability under such a high-temperature, high-humidity environment, there remains room for improvement in the polarizing plate with a retardation layer described in Patent Document 1, and in the polarizing plate with a retardation layer described in Patent Document 1, cracks, peeling, etc. of the retardation layer are observed, especially in a high-temperature, high-humidity environment. There is a risk of appearance defects.

일본 공개특허공보 제2022-013705호Japanese Patent Publication No. 2022-013705

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 그의 주된 목적으로 하는 바는, 역분산 특성을 갖는 위상차층을 구비하는 위상차층 부착 편광판으로서, 고온 고습 환경 하에서의 외관 불량의 발생을 억제할 수 있는 위상차층 부착 편광판을 제공하는 것이다.The present invention was made to solve the above-described conventional problems, and its main object is to provide a polarizing plate with a retardation layer having an inverse dispersion characteristic, which can suppress the occurrence of appearance defects in a high-temperature, high-humidity environment. The aim is to provide a polarizer with a phase contrast layer.

[1] 본 발명의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판은, 편광자와; 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 함유하는 위상차층을 이 순서대로 구비하고 있다. 해당 위상차층의 Re(450)/Re(550)는 0~1이고, 해당 위상차층의 Re(550)는 100nm~200nm이다. 해당 편광자의 흡수축 방향과 해당 위상차층의 지상축 방향이 이루는 각도는 40°~50° 또는 130°~140°이다. 상기 위상차층에서, 나노상 분리 구조가 형성되어 있다.[1] A polarizing plate with a retardation layer according to an embodiment of the present invention includes a polarizer; A retardation layer containing a cellulose resin and an ester resin is provided in this order. Re(450)/Re(550) of the phase contrast layer is 0 to 1, and Re(550) of the phase contrast layer is 100 nm to 200 nm. The angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the phase difference layer is 40° to 50° or 130° to 140°. In the phase contrast layer, a nanophase separation structure is formed.

[2] 하나의 실시형태는, 상기 셀룰로오스계 수지가 하기 식 (1)로 나타내는 구성 단위를 갖고 있는, 상기 항목 [1]에 기재된 위상차층 부착 편광판이다.[2] One embodiment is the polarizing plate with a retardation layer according to the above item [1], in which the cellulose resin has a structural unit represented by the following formula (1).

(식 (1) 중, R1~R3의 각각은 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 치환기를 나타낸다). (In formula (1), each of R 1 to R 3 represents a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms . )

[3] 하나의 실시형태는, 상기 에스테르계 수지가 하기 식 (2)에 나타내는 구성 단위와, 하기 식 (3)에 나타내는 구성 단위를 갖고 있는, 상기 항목 [1] 또는 [2]에 기재된 위상차층 부착 편광판이다.[3] One embodiment is the phase difference according to item [1] or [2], wherein the ester resin has a structural unit represented by the following formula (2) and a structural unit represented by the following formula (3). It is a layer attached polarizer.

(식 (2) 중, R4 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고; R5a는 탄소수 1~12의 알킬기, 니트로기, 브로모기, 요오드기, 시아노기, 클로로기, 설폰산기, 카복실산기, 플루오로기, 또는 티올기로부터 선택되는 1종을 나타내고; R5b는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내며; R6은 수소 원자, 니트로기, 브로모기, 요오드기, 시아노기, 클로로기, 설폰산기, 카복실산기, 플루오로기, 페닐기, 티올기, 아미드기, 아미노기, 히드록시기, 탄소수 1~12의 알콕시기, 또는 탄소수 1~12의 알킬기로부터 선택되는 종을 나타낸다.)(In equation (2), R 4 is Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5a is the carbon number Represents one type selected from 1 to 12 alkyl groups, nitro groups, bromo groups, iodine groups, cyano groups, chloro groups, sulfonic acid groups, carboxylic acid groups , fluoro groups, or thiol groups; R 5b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 6 is a hydrogen atom, nitro group, bromo group, iodine group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group, phenyl group, thiol group, amide group, amino group, hydroxy group, or alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. , or a species selected from an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.)

(식 (3) 중, R7은 헤테로원자로서 질소 원자 또는 산소 원자를 1개 이상 포함하는 5원환 복소환 잔기 또는 6원환 복소환 잔기(상기 5원환 복소환 잔기 및 상기 6원환 복소환 잔기는 다른 환상 구조와 축합환 구조를 형성하여도 됨)를 나타낸다.)(In formula (3), R 7 is a 5-membered ring heterocyclic residue or a 6-membered ring heterocyclic residue containing at least one nitrogen atom or oxygen atom as a heteroatom (the 5-membered ring heterocyclic residue and the 6-membered ring heterocyclic residue are It may form other cyclic structures and condensed ring structures.)

[4] 하나의 실시형태는, 상기 에스테르계 수지가 하기 식 (4)로 나타내는 구성 단위를 추가로 갖고 있는, 상기 항목 [3]에 기재된 위상차층 부착 편광판이다.[4] One embodiment is the polarizing plate with a retardation layer according to the above item [3], in which the ester resin further has a structural unit represented by the following formula (4).

(식 (4) 중, R8 및 R9 각각은 수소 원자, 탄소수 1~12의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~12의 분기상 알킬기, 또는 탄소수 3~6의 환상 알킬기로부터 선택되는 1종을 나타낸다.)(In formula (4), R 8 and R 9 each represent one type selected from a hydrogen atom, a straight-chain alkyl group with 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group with 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group with 3 to 6 carbon atoms. .)

[5] 하나의 실시형태는, 상기 셀룰로오스계 수지의 함유 비율이, 상기 셀룰로오스계 수지 및 상기 에스테르계 수지의 총합을 100질량%로 하였을 때에, 50질량%를 초과하는, 상기 항목 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 위상차층 부착 편광판이다.[5] One embodiment is the above-mentioned items [1] to 50% by mass, wherein the content ratio of the cellulose-based resin exceeds 50% by mass when the total of the cellulose-based resin and the ester-based resin is 100% by mass. It is a polarizing plate with a retardation layer according to any one of [4].

[6] 하나의 실시형태는, 상기 위상차층이, 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 함유하는 수지 필름을 연신한 연신 필름이고, 해당 연신 필름의 연신 방향과 직교하는 방향에서의 MIT 횟수가 300회 이상인, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 위상차층 부착 편광판이다.[6] In one embodiment, the retardation layer is a stretched film obtained by stretching a resin film containing a cellulose resin and an ester resin, and the number of MITs in the direction perpendicular to the stretching direction of the stretched film is 300. The polarizing plate with a retardation layer according to any one of the above [1] to [5].

본 발명의 실시형태에 따르면, 역분산 특성을 갖는 위상차층을 구비하는 위상차층 부착 편광판으로서, 고온 고습 환경 하에서의 외관 불량의 발생이 억제되는 위상차층 부착 편광판을 실현할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, it is possible to realize a polarizing plate with a retardation layer provided with a retardation layer having inverse dispersion characteristics, and in which the occurrence of appearance defects in a high temperature and high humidity environment is suppressed.

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판의 개략 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate with a retardation layer according to one embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 대표적인 실시형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태로는 한정되지 않는다.Hereinafter, representative embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these embodiments.

(용어 및 기호의 정의)(Definition of terms and symbols)

본 명세서에서의 용어 및 기호의 정의는 하기와 같다.The definitions of terms and symbols in this specification are as follows.

(1) 굴절률(nx, ny, nz)(1) Refractive index (nx, ny, nz)

'nx'는 면내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, 'ny'는 면내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이며, 'nz'는 두께 방향의 굴절률이다.'nx' is the refractive index in the direction where the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), 'ny' is the refractive index in the direction orthogonal to the slow axis in the plane (i.e., fast axis direction), and 'nz' is It is the refractive index in the thickness direction.

(2) 면내 위상차(Re)(2) In-plane phase difference (Re)

'Re(λ)'는 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. 예컨대, 'Re(550)'는 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 위상차이다. Re(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.'Re(λ)' is the in-plane phase difference measured with light with a wavelength of λnm at 23°C. For example, 'Re(550)' is the in-plane retardation measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(λ) can be obtained by the formula: Re(λ)=(nx-ny)×d when the thickness of the layer (film) is d(nm).

(3) 각도(3) angle

본 명세서에서 각도를 언급할 때에는, 특별히 명기하지 않는 한, 당해 각도는 시계 방향 및 반시계 방향, 양쪽 방향의 각도를 포함한다.When referring to an angle in this specification, unless otherwise specified, the angle includes angles in both clockwise and counterclockwise directions.

(4) 면내 복굴절(Δn)(4) In-plane birefringence (Δn)

'Δn(λ)'은 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 면내 복굴절이다. 예컨대, 'Δn(550)'은 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 면내 복굴절이다. 면내 복굴절(Δn)은, 식: Δn=nx-ny로부터 구할 수 있다.'Δn(λ)' is the in-plane birefringence measured with light of wavelength λnm at 23°C. For example, 'Δn(550)' is the in-plane birefringence measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. In-plane birefringence (Δn) can be obtained from the formula: Δn=nx-ny.

(5) 두께 방향의 위상차(Rth)(5) Phase difference in the thickness direction (Rth)

'Rth(λ)'는 23℃에서의 파장 λnm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예컨대, 'Rth(550)'는 23℃에서의 파장 550nm의 광으로 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는 층(필름)의 두께를 d(nm)로 하였을 때, 식: Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.'Rth(λ)' is the phase difference in the thickness direction measured with light with a wavelength of λnm at 23°C. For example, 'Rth(550)' is the phase difference in the thickness direction measured with light with a wavelength of 550 nm at 23°C. Rth(λ) can be obtained by the formula: Rth(λ)=(nx-nz)×d when the thickness of the layer (film) is d(nm).

(6) Nz 계수(6) Nz coefficient

Nz 계수는 Nz=Rth/Re에 의해 구할 수 있다.The Nz coefficient can be obtained by Nz=Rth/Re.

A. 위상차층 부착 편광판의 전체 구성A. Overall composition of polarizer with phase contrast layer

도 1은 본 발명의 하나의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판의 개략 단면도이다. 도시예의 위상차층 부착 편광판(100)은, 편광자(11)를 포함하는 편광판(10)과; 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 함유하는 위상차층(20)을 이 순서대로 구비하고 있다. 위상차층(20)의 Re(450)/Re(550)는 0~1이고, 또한 예컨대 0.60~0.99이며, 또한 예컨대 0.70~0.95이고, 또한 예컨대 0.70~0.90이다. 위상차층(20)의 Re(550)는 100nm~200nm이고, 또한 예컨대 120nm~160nm이며, 또한 예컨대 130nm~150nm이다. 위상차층(20)은 대표적으로는 λ/4판으로서 기능한다. 편광자(11)의 흡수축 방향과 위상차층(20)의 지상축 방향이 이루는 각도는, 40°~50°, 바람직하게는 42°~48°, 보다 바람직하게는 44°~46°, 더욱 바람직하게는 약 45°이고; 또는 130°~140°, 바람직하게는 132°~138°, 보다 바람직하게는 134°~136°, 더욱 바람직하게는 약 135°이다. 위상차층(20)에서, 나노상 분리 구조가 형성되어 있다. 자세하게는 후술하지만, 셀룰로오스계 수지는 상대적으로 유리전이온도(Tg)가 낮고, 에스테르계 수지는 상대적으로 Tg가 높다.1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate with a retardation layer according to one embodiment of the present invention. The polarizing plate 100 with a retardation layer in the illustrated example includes a polarizing plate 10 including a polarizer 11; A retardation layer 20 containing a cellulose resin and an ester resin is provided in this order. Re(450)/Re(550) of the phase difference layer 20 is 0 to 1, for example 0.60 to 0.99, for example 0.70 to 0.95, and for example 0.70 to 0.90. Re(550) of the phase contrast layer 20 is 100 nm to 200 nm, for example, 120 nm to 160 nm, and for example, 130 nm to 150 nm. The phase difference layer 20 typically functions as a λ/4 plate. The angle formed by the absorption axis direction of the polarizer 11 and the slow axis direction of the retardation layer 20 is 40° to 50°, preferably 42° to 48°, more preferably 44° to 46°, even more preferably It is about 45°; or 130° to 140°, preferably 132° to 138°, more preferably 134° to 136°, and even more preferably about 135°. In the phase contrast layer 20, a nanophase separation structure is formed. As will be described in detail later, cellulose resins have a relatively low glass transition temperature (Tg), and ester resins have a relatively high Tg.

본 발명의 하나의 실시형태에 따르면, Re(450)/Re(550)가 상기 범위인 역분산 특성(위상차값이 측정광의 파장에 따라 커지는 역분산의 파장 의존성)을 갖는 위상차층(20)은 상대적으로 Tg가 낮은 셀룰로오스계 수지와, 상대적으로 Tg가 높은 에스테르계 수지를 포함하고 있다. 그 때문에, 위상차층(20)에, 셀룰로오스계 수지에 의한 잔존 응력 저감 효과와, 에스테르계 수지에 의한 수축량 저감 효과를 균형감 있게 부여할 수 있다. 이와 같은 위상차층(20)에서 나노상 분리 구조가 형성되어 있기 때문에, 고온 고습 환경 하(예컨대, 110℃ 및 85% RH(상대 습도))에서 위상차층(20)이 급격하게 수축하는 것을 억제할 수 있고, 위상차층(20)에 크랙이 생기는 것, 및/또는, 위상차층(20)이 편광자(11)로부터 박리되는 것을 억제할 수 있다. 이것에 의해, 고온 고습 환경 하에서의 위상차층 부착 편광판(100)의 외관 불량의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 위상차층(20)에서 나노상 분리 구조가 형성되어 있으면, 역분산 위상차층으로서의 기능을 안정적으로 확보할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the phase difference layer 20 has an inverse dispersion characteristic (wavelength dependence of inverse dispersion in which the phase difference value increases depending on the wavelength of the measurement light) in which Re (450) / Re (550) is in the above range. It contains a cellulose resin with a relatively low Tg and an ester resin with a relatively high Tg. Therefore, the residual stress reduction effect by the cellulose resin and the shrinkage reduction effect by the ester resin can be provided to the retardation layer 20 in a balanced manner. Since the nanophase separation structure is formed in the phase difference layer 20, rapid shrinkage of the phase difference layer 20 can be suppressed under a high temperature and high humidity environment (e.g., 110° C. and 85% RH (relative humidity)). This can prevent cracks from occurring in the retardation layer 20 and/or peeling of the retardation layer 20 from the polarizer 11. As a result, occurrence of appearance defects of the polarizing plate 100 with a retardation layer under a high-temperature, high-humidity environment can be suppressed. In addition, if a nano phase separation structure is formed in the phase difference layer 20, the function as a reverse dispersion phase difference layer can be stably secured.

본 명세서에서, '나노상 분리 구조'란, 전자 밀도가 상이한 2성분이 나노 오더(대표적으로는 수십㎚ 레벨)의 도메인 사이즈로 상 분리한 구조를 의미한다. 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지는, 해도형 구조이어도 되고, 공연속 구조이어도 된다. 나노상 분리 구조의 확인 수단으로서는, 예컨대 투과 전자 현미경(TEM), 주사 전자 현미경(SEM), 원자간력 현미경(AFM) 및 X선 소각 산란(SAXS)을 들 수 있고, 바람직하게는 위상차층(20)의 단면의 TEM 관찰을 들 수 있다. TEM 관찰에 대해서는 실시예에서 상술한다. 위상차층(20)에 나노상 분리 구조가 형성되어 있는 경우, 위상차층(20)의 단면의 TEM 관찰에서, 전자 밀도가 상이한 2종의 도메인을 확인할 수 있고, 모든 도메인의 사이즈(최대 길이)가 100nm 미만인 것을 확인할 수 있다.In this specification, 'nanophase separation structure' refers to a structure in which two components with different electron densities are phase separated into a domain size of the nano order (typically at the level of several tens of nm). The cellulose resin and ester resin may have a sea-island structure or a co-continuous structure. Means for confirming the nanophase separation structure include, for example, transmission electron microscopy (TEM), scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), and small-angle X-ray scattering (SAXS), preferably using a phase contrast layer ( TEM observation of the cross section of 20). TEM observation is described in detail in the Examples. When a nanophase separation structure is formed in the retardation layer 20, two types of domains with different electron densities can be confirmed in TEM observation of the cross section of the retardation layer 20, and the size (maximum length) of all domains is It can be confirmed that it is less than 100 nm.

위상차층(20)의 면내 복굴절 Δn(550)은, 예컨대 0.0020 이상, 바람직하게는 0.0030 이상, 보다 바람직하게는 0.0040 이상이고, 예컨대 0.0070 이하, 바람직하게는 0.0060 이하, 보다 바람직하게는 0.0055 이하이다.The in-plane birefringence Δn(550) of the retardation layer 20 is, for example, 0.0020 or more, preferably 0.0030 or more, more preferably 0.0040 or more, and for example, 0.0070 or less, preferably 0.0060 or less, and more preferably 0.0055 or less.

위상차층(20)의 Nz 계수는, 예컨대 0.9 이상 3 이하이고, 바람직하게는 1.0 이상 1.5 이하이다.The Nz coefficient of the phase difference layer 20 is, for example, 0.9 or more and 3 or less, and preferably 1.0 or more and 1.5 or less.

하나의 실시형태에서, 셀룰로오스계 수지의 함유 비율은, 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지의 총합을 100질량%로 하였을 때에, 대표적으로는 50질량%를 초과하고, 바람직하게는 60질량% 이상, 보다 바람직하게는 70질량% 이상이다. 셀룰로오스계 수지의 함유 비율이 상기 하한 이상이면, 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지가 안정적으로 나노상 분리 구조를 형성할 수 있다. 또한, 셀룰로오스계 수지의 함유 비율의 상한은, 대표적으로는 90질량% 이하이다.In one embodiment, the content ratio of the cellulose resin typically exceeds 50 mass%, preferably 60 mass% or more, when the total of the cellulose resin and the ester resin is 100 mass%. Preferably it is 70% by mass or more. When the content ratio of the cellulose resin is more than the above lower limit, the cellulose resin and the ester resin can stably form a nanophase separation structure. Additionally, the upper limit of the content of cellulose resin is typically 90% by mass or less.

하나의 실시형태에서, 위상차층(20)은 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 함유하는 수지 필름을 연신한 연신 필름이다. 자세하게는 후술하지만, 연신 필름(위상차 필름)은, 대표적으로는, 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 함유하는 수지 필름을, 소정 방향으로 1축 연신함으로써 조제된다. 이와 같은 위상차 필름에는, 상기와 같이 나노상 분리 구조가 형성되어 있다. 위상차 필름 단체 및 위상차 필름(위상차층)을 구비하는 위상차층 부착 편광판은, 연신 방향 및 연신 방향과 직교하는 방향에서, 우수한 굴곡성을 갖고 있다.In one embodiment, the retardation layer 20 is a stretched film obtained by stretching a resin film containing a cellulose resin and an ester resin. Although described in detail later, a stretched film (retardation film) is typically prepared by uniaxially stretching a resin film containing a cellulose resin and an ester resin in a predetermined direction. In such a retardation film, a nanophase separation structure is formed as described above. A polarizing plate with a retardation layer provided with a retardation film alone and a retardation film (retardation layer) has excellent flexibility in the stretching direction and in the direction orthogonal to the stretching direction.

특히, 나노상 분리 구조를 갖는 위상차 필름은, 나노상 분리 구조를 갖지 않는 위상차 필름(예컨대, 수지 연신 필름, 액정 폴리머 필름)과 비교하여, 연신 방향과 직교하는 방향의 굴곡성이 현저하게 우수하고, 나노상 분리 구조를 갖는 위상차 필름(위상차층)을 구비하는 위상차층 부착 편광판도 마찬가지의 경향을 나타낸다.In particular, the retardation film having a nanophase separation structure is significantly superior in bendability in the direction perpendicular to the stretching direction compared to the retardation film (e.g., stretched resin film, liquid crystal polymer film) without the nanophase separation structure, A polarizing plate with a retardation layer provided with a retardation film (retardation layer) having a nanophase separation structure also shows the same tendency.

연신 방향에서의 위상차 필름의 MIT 횟수는, 예컨대 800회 이상, 바람직하게는 1000회 이상, 보다 바람직하게는 1500회 이상이고, 예컨대 2500회 이하이다. 또한, MIT 횟수는 JIS P 8115에 준거하여 측정할 수 있다(이하 마찬가지).The number of MITs of the retardation film in the stretching direction is, for example, 800 times or more, preferably 1,000 times or more, more preferably 1,500 times or more, and for example, 2,500 times or less. Additionally, the number of MITs can be measured based on JIS P 8115 (the same applies hereinafter).

연신 방향과 직교하는 방향에서의 위상차 필름의 MIT 횟수는, 예컨대 400회 이상, 바람직하게는 500회 이상, 보다 바람직하게는 600회 이상, 더욱 바람직하게는 1000회 이상, 특히 바람직하게는 1300회 이상이고, 예컨대, 2000회 이하이다.The number of MITs of the retardation film in the direction orthogonal to the stretching direction is, for example, 400 times or more, preferably 500 times or more, more preferably 600 times or more, further preferably 1000 times or more, especially preferably 1300 times or more. and, for example, 2000 times or less.

연신 방향에서의 위상차층 부착 편광판(100)의 MIT 횟수는, 예컨대 300회 이상, 바람직하게는 500회 이상, 보다 바람직하게는 600회 이상이고, 예컨대 1000회 이하이다.The number of MITs of the polarizing plate 100 with a retardation layer in the stretching direction is, for example, 300 times or more, preferably 500 times or more, more preferably 600 times or more, and for example, 1000 times or less.

연신 방향과 직교하는 방향에서의 위상차층 부착 편광판(100)의 MIT 횟수는, 예컨대 300회 이상, 바람직하게는 400회 이상, 보다 바람직하게는 450회 이상, 더욱 바람직하게는 500회 이상, 특히 바람직하게는 550회 이상이고, 예컨대 900회 이하이다.The number of MITs of the polarizing plate 100 with a retardation layer in the direction perpendicular to the stretching direction is, for example, 300 times or more, preferably 400 times or more, more preferably 450 times or more, further preferably 500 times or more, especially preferably Typically, it is 550 times or more, for example, it is 900 times or less.

하나의 실시형태에서, 위상차층(20)은 접착층(30)을 개재하여 편광판(10)에 첩부되어 있다. 도시예에서는, 위상차층(20)은 접착층(30)을 개재하여 편광자(11)에 첩부되어 있다. 또한, 접착층(30)은, 편광자(11) 위에 직접 형성되어도 되고, 편광판(10)이 편광자(11)의 시인 측과 반대 측의 면에 보호층을 구비하는 경우, 보호층 위에 형성되어도 된다. 접착층(30)은 점착제층이어도 되고, 접착제층이어도 된다. 접착층(30)은 바람직하게는 점착제층이다. 접착층(30)이 점착제층인 경우, 점착제층을 구성하는 점착제로서, 예컨대 (메트)아크릴계의 점착제를 들 수 있다. 또한, '(메트)아크릴계'란, 아크릴계 및/또는 메타크릴계를 말한다. 점착제층의 두께는, 예컨대 3.5㎛ 이상 35㎛ 이하이다.In one embodiment, the retardation layer 20 is attached to the polarizer 10 via an adhesive layer 30. In the illustrated example, the retardation layer 20 is attached to the polarizer 11 through the adhesive layer 30. Additionally, the adhesive layer 30 may be formed directly on the polarizer 11, or, when the polarizing plate 10 is provided with a protective layer on the side of the polarizer 11 opposite to the viewing side, it may be formed on the protective layer. The adhesive layer 30 may be an adhesive layer or an adhesive layer. The adhesive layer 30 is preferably an adhesive layer. When the adhesive layer 30 is an adhesive layer, examples of the adhesive constituting the adhesive layer include (meth)acrylic adhesives. Additionally, ‘(meth)acrylic type’ refers to acrylic type and/or methacrylic type. The thickness of the adhesive layer is, for example, 3.5 μm or more and 35 μm or less.

접착층(30)이 접착제층인 경우, 접착제층을 구성하는 접착제로서, 예컨대 열경화형 접착제, 자외선 경화형 접착제를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 (메트)아크릴계의 자외선 경화형 접착제를 들 수 있다. 또한, '(메트)아크릴계'란, 아크릴계 및/또는 메타크릴계를 말한다. 접착제층의 두께는, 예컨대 0.4㎛ 이상 3.0㎛ 이하이다.When the adhesive layer 30 is an adhesive layer, examples of the adhesive constituting the adhesive layer include a thermosetting adhesive and an ultraviolet curing adhesive, and more preferably a (meth)acrylic ultraviolet curing adhesive. Additionally, ‘(meth)acrylic type’ refers to acrylic type and/or methacrylic type. The thickness of the adhesive layer is, for example, 0.4 μm or more and 3.0 μm or less.

하나의 실시형태에서, 위상차층 부착 편광판(100)은 위상차층(20)의 편광자 (11)와 반대 측에 마련되는 점착제층(40)을 더 구비하고 있다. 이에 따라, 위상차층 부착 편광판(100)은 후술하는 화상 표시 셀에 첩부 가능하다. 점착제층(40)을 구성하는 점착제로서, 예컨대, (메트)아크릴계 점착제를 들 수 있다. 점착제층(40)의 두께는, 예컨대 3.5㎛ 이상 35㎛ 이하이다.In one embodiment, the polarizing plate 100 with a retardation layer further includes an adhesive layer 40 provided on the opposite side of the retardation layer 20 from the polarizer 11. Accordingly, the polarizing plate 100 with a retardation layer can be attached to an image display cell described later. Examples of the adhesive constituting the adhesive layer 40 include (meth)acrylic adhesive. The thickness of the adhesive layer 40 is, for example, 3.5 μm or more and 35 μm or less.

또한, 점착제층(40)의 표면에는, 위상차층 부착 편광판(100)이 사용에 제공될 때까지, 박리 라이너(50)가 가착되어 있는 것이 바람직하다. 박리 라이너를 가착함으로써 점착제층을 보호함과 함께 롤 형성이 가능해진다.In addition, it is preferable that the release liner 50 is temporarily attached to the surface of the adhesive layer 40 until the polarizing plate 100 with a retardation layer is put into use. By temporarily attaching the release liner, the adhesive layer is protected and roll formation becomes possible.

위상차층 부착 편광판은 매엽(枚葉)상이어도 되고, 장척상이어도 된다. 본 명세서에서 '장척상'이란, 폭에 대하여 길이가 충분히 긴 세장(細長) 형상을 의미하고, 예컨대, 폭에 대하여 길이가 10배 이상, 바람직하게는 20배 이상의 세장 형상을 포함한다. 장척상의 위상차층 부착 편광판은, 롤상으로 권회 가능하다.The polarizing plate with a retardation layer may be sheet-like or elongated. In this specification, 'elongate shape' means an elongated shape with a sufficiently long length relative to the width, and includes, for example, an elongated shape with a length of 10 or more times the width, preferably 20 times or more. A long polarizing plate with a retardation layer can be wound into a roll.

이하, 위상차층 부착 편광판(100)을 구성하는 각 부재에 대하여 설명한다.Hereinafter, each member constituting the polarizing plate 100 with a retardation layer will be described.

B. 편광판B. Polarizer

B-1. 편광자B-1. polarizer

편광자(11)로서는, 임의의 적절한 편광자가 채용될 수 있다. 예컨대, 편광자를 형성하는 수지 필름은, 단층의 수지 필름이어도 되고, 2층 이상의 적층체이어도 된다.As the polarizer 11, any suitable polarizer can be employed. For example, the resin film forming the polarizer may be a single-layer resin film or a laminate of two or more layers.

단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로서는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·초산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성(二色性) 염료 등의 이색성 물질에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것, PVA의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 광학 특성이 우수한 점에서, PVA계 필름을 요오드로 염색하고 1축 연신하여 얻어진 편광자가 이용된다.Specific examples of polarizers composed of a single-layer resin film include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA)-based films, partially formalized PVA-based films, and ethylene-vinyl acetate copolymer-based partially saponified films, with iodine or dichroic (II) Examples include those that have been dyed and stretched with dichroic substances such as dyes, and polyene-based oriented films such as dehydrated PVA products and dehydrochloric acid-treated polyvinyl chloride products. Preferably, a polarizer obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching is used because it has excellent optical properties.

상기 요오드에 의한 염색은 예컨대, PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지함으로써 행하여진다. 상기 1축 연신의 연신 배율은 바람직하게는 3배 이상 7배 이하이다. 연신은 염색 처리 후에 행하여도 되고, 염색하면서 행하여도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색하여도 된다. 필요에 따라, PVA계 필름에 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예컨대, 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지하여 수세함으로써, PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA계 필름을 팽윤시켜 염색 불균일 등을 방지할 수 있다.The dyeing with iodine is performed, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution. The draw ratio of the uniaxial stretching is preferably 3 times or more and 7 times or less. Stretching may be performed after dyeing treatment or may be performed while dyeing. Additionally, it may be dyed after stretching. If necessary, the PVA-based film is subjected to swelling treatment, crosslinking treatment, washing treatment, drying treatment, etc. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing it before dyeing, not only can contamination and anti-blocking agents on the surface of the PVA-based film be removed, but also the PVA-based film can be swelled to prevent uneven dyeing.

적층체를 이용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)의 적층체, 또는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 이용하여 얻어지는 편광자는, 예컨대, PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜 수지 기재 위에 PVA계 수지층을 형성하여, 수지 기재와 PVA계 수지층의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것에 의해 제작될 수 있다. 본 발명의 하나의 실시형태에서는, 바람직하게는 수지 기재의 편측에 할로겐화물과 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 폴리비닐알코올계 수지층을 형성한다. 연신은 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은 필요에 따라 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예컨대, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 하나의 실시형태에서는, 바람직하게는 적층체는 긴 방향으로 반송하면서 가열함으로써 폭 방향으로 2% 이상 수축시키는 건조 수축 처리에 제공된다. 대표적으로는, 본 실시형태의 제조 방법은, 적층체에 공중 보조 연신 처리와 염색 처리와 수중 연신 처리와 건조 수축 처리를 이 순서대로 실시하는 것을 포함한다. 보조 연신을 도입함으로써, 열 가소성 수지 위에 PVA를 도포하는 경우에도, PVA의 결정성을 높이는 것이 가능해져, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능해진다. 또한, 동시에 PVA의 배향성을 사전에 높임으로써, 이후의 염색 공정이나 연신 공정에서 물에 침지되었을 때에, PVA의 배향성의 저하나 용해 등의 문제를 방지할 수 있어, 높은 광학 특성을 달성하는 것이 가능해진다. 또한, PVA계 수지층을 액체에 침지한 경우에서, PVA계 수지층이 할로겐화물을 포함하지 않는 경우에 비하여, 폴리비닐알코올 분자의 배향의 흐트러짐, 및 배향성의 저하가 억제될 수 있다. 이에 의해, 염색 처리 및 수중 연신 처리 등, 적층체를 액체에 침지하여 행하는 처리 공정을 거쳐 얻어지는 편광자의 광학 특성을 향상할 수 있다. 또한, 건조 수축 처리에 의해 적층체를 폭 방향으로 수축시킴으로써, 광학 특성을 향상시킬 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 이용하여도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 하여도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 이용하여도 된다. 이와 같은 편광자의 제조 방법의 상세는, 예컨대 일본 공개특허공보 제2012-73580호, 일본특허 제6470455호에 기재되어 있다. 이들 공보는 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.Specific examples of the polarizer obtained using the laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer applied to the resin substrate. A polarizer obtained by using a laminated body can be mentioned. A polarizer obtained by using a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer formed by applying to the resin substrate, for example, applies a PVA-based resin solution to a resin substrate, dries it, and forms a PVA-based resin layer on the resin substrate. Obtaining a laminate of a base material and a PVA-based resin layer; It can be produced by stretching and dyeing the laminate and using the PVA-based resin layer as a polarizer. In one embodiment of the present invention, a polyvinyl alcohol-based resin layer containing a halide and a polyvinyl alcohol-based resin is preferably formed on one side of the resin substrate. Stretching typically involves immersing the laminate in an aqueous boric acid solution and stretching it. Additionally, stretching may further include air stretching the laminate at a high temperature (eg, 95°C or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution, if necessary. Furthermore, in one embodiment of the present invention, the laminate is preferably subjected to dry shrinkage treatment to shrink the laminate by 2% or more in the width direction by heating while conveying in the longitudinal direction. Typically, the manufacturing method of this embodiment includes performing aerial auxiliary stretching treatment, dyeing treatment, underwater stretching treatment, and dry shrink treatment on the laminate in this order. By introducing auxiliary stretching, even when applying PVA on a thermoplastic resin, it becomes possible to increase the crystallinity of PVA and achieve high optical properties. Moreover, by simultaneously increasing the orientation of PVA in advance, problems such as a decrease in orientation or dissolution of PVA when immersed in water in the subsequent dyeing process or stretching process can be prevented, making it possible to achieve high optical properties. It becomes. Additionally, when the PVA-based resin layer is immersed in a liquid, the disruption of the orientation of polyvinyl alcohol molecules and the decrease in orientation can be suppressed compared to the case where the PVA-based resin layer does not contain a halide. Thereby, the optical properties of the polarizer obtained through a treatment process performed by immersing the laminate in a liquid, such as dyeing treatment and underwater stretching treatment, can be improved. Additionally, optical properties can be improved by shrinking the laminate in the width direction through dry shrinkage treatment. The obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as is (i.e., the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), or the resin substrate may be peeled from the resin substrate/polarizer laminate and applied to the peeled surface for the purpose. Any appropriate protective layer may be laminated and used. Details of the manufacturing method of such a polarizer are described in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent No. 6470455. These publications are hereby incorporated by reference in their entirety.

편광자의 두께는, 예컨대 1㎛ 이상 80㎛ 이하, 바람직하게는 1㎛ 이상 15㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 12㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 3㎛ 이상 12㎛ 이하, 특히 바람직하게는 3㎛ 이상 8㎛ 이하이다. 편광자의 두께가 이와 같은 범위이면, 가열 시의 컬을 양호하게 억제할 수 있고, 양호한 가열 시의 외관 내구성을 얻을 수 있다.The thickness of the polarizer is, for example, 1 μm or more and 80 μm or less, preferably 1 μm or more and 15 μm or less, more preferably 1 μm or more and 12 μm or less, further preferably 3 μm or more and 12 μm or less, especially preferably 3 μm or more. It is ㎛ or more and 8㎛ or less. If the thickness of the polarizer is within this range, curling during heating can be well suppressed, and good external appearance durability during heating can be obtained.

편광자는 바람직하게는 파장 380nm~780nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은, 예컨대 41.5% 이상 46.0% 이하, 바람직하게는 43.0% 이상 46.0% 이하, 보다 바람직하게는 44.5% 이상 46.0% 이하이다. 편광자의 편광도는 바람직하게는 97.0% 이상, 보다 바람직하게는 99.0% 이상, 더욱 바람직하게는 99.9% 이상이다.The polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength from 380 nm to 780 nm. The single transmittance of the polarizer is, for example, 41.5% or more and 46.0% or less, preferably 43.0% or more and 46.0% or less, and more preferably 44.5% or more and 46.0% or less. The polarization degree of the polarizer is preferably 97.0% or more, more preferably 99.0% or more, and even more preferably 99.9% or more.

B-2. 보호층B-2. protective layer

편광판(10)은 보호층을 더 구비하여도 된다. 보호층은 편광자의 적어도 한쪽 면에 마련되어 있다. 도시예에서는, 편광판(10)은 편광자(11)의 시인 측의 면에 마련되는 보호층(12)을 구비하고 있다.The polarizing plate 10 may further include a protective layer. A protective layer is provided on at least one side of the polarizer. In the illustrated example, the polarizing plate 10 is provided with a protective layer 12 provided on the surface of the polarizer 11 on the viewing side.

보호층은 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르설폰계, 폴리설폰계, 폴리스티렌계, 폴리노보넨계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지를 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 밖에도, 예컨대 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 공개특허공보 제2001-343529호(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다.The protective layer is formed from any suitable film that can be used as a protective layer for a polarizer. Specific examples of materials that become the main component of the film include cellulose-based resins such as triacetylcellulose (TAC), polyester-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, Transparent resins such as polysulfone-based, polystyrene-based, polynorbornene-based, polyolefin-based, (meth)acrylic-based, and acetate-based resins can be mentioned. In addition, thermosetting resins or ultraviolet curing resins such as (meth)acrylic, urethane, (meth)acrylic urethane, epoxy, silicone, etc. may also be included. In addition, for example, glassy polymers such as siloxane polymers can also be mentioned. Additionally, the polymer film described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-343529 (WO01/37007) can also be used.

편광판(10)이 후술하는 화상 표시 장치의 최표면에 위치하는 보호층을 구비하는 경우, 당해 보호층에는 필요에 따라 하드 코트 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티글레어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.When the polarizing plate 10 is provided with a protective layer located on the outermost surface of the image display device described later, the protective layer may be subjected to surface treatment such as hard coat treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, and anti-glare treatment as necessary. may be implemented.

보호층의 두께는 대표적으로는 5㎜ 이하, 바람직하게는 1㎜ 이하, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 500㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5㎛ 이상 150㎛ 이하이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호층의 두께는 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다.The thickness of the protective layer is typically 5 mm or less, preferably 1 mm or less, more preferably 1 μm or more and 500 μm or less, and further preferably 5 μm or more and 150 μm or less. In addition, when surface treatment is performed, the thickness of the protective layer is a thickness including the thickness of the surface treatment layer.

C. 위상차층C. Phase contrast layer

위상차층(20)은 대표적으로는 nx>ny≥nz의 굴절률 특성을 나타낸다. 'ny=nz'란 ny와 nz가 완전히 동일한 경우뿐만 아니라 ny와 nz가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다. 굴절률 특성이 nx>ny=nz인 위상차층(20)은, '포지티브 A 플레이트' 등으로 칭하여지는 경우가 있다. 굴절률 특성이 nx>ny>nz인 위상차층(20)은, '네거티브 B 플레이트' 등으로 칭하여지는 경우가 있다.The phase contrast layer 20 typically exhibits refractive index characteristics of nx>ny≥nz. 'ny=nz' includes not only the case where ny and nz are completely the same, but also the case where ny and nz are substantially the same. The retardation layer 20 with refractive index characteristics of nx>ny=nz may be referred to as a 'positive A plate' or the like. The retardation layer 20 having a refractive index characteristic of nx>ny>nz may be referred to as a “negative B plate” or the like.

위상차층(20)의 두께는, 예컨대 10㎛ 이상, 바람직하게는 20㎛ 이상이고, 예컨대 80㎛ 이하, 바람직하게는 60㎛ 이하이다. 위상차층(20)의 두께는, 위상차층 부착 편광판의 용도에 따라 임의로 적절히 조정할 수 있고, 상기 범위로 한정되지 않는다. 위상차층(20)의 두께는, 예컨대 50㎛ 이하, 바람직하게는 40㎛ 이하, 보다 바람직하게는 30㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 20㎛ 이하이어도 된다. 위상차층의 두께가 상기 상한 이하이면, 위상차층 부착 편광판의 굴곡성의 가일층의 향상을 도모할 수 있고, 위상차층 부착 편광판의 MIT 횟수의 향상을 도모할 수 있다. 이 경우, 위상차층의 두께의 하한은, 대표적으로는 5㎛ 이상이다.The thickness of the retardation layer 20 is, for example, 10 μm or more, preferably 20 μm or more, for example, 80 μm or less, preferably 60 μm or less. The thickness of the retardation layer 20 can be appropriately adjusted arbitrarily depending on the use of the polarizing plate with a retardation layer, and is not limited to the above range. The thickness of the retardation layer 20 may be, for example, 50 μm or less, preferably 40 μm or less, more preferably 30 μm or less, and even more preferably 20 μm or less. If the thickness of the retardation layer is below the above upper limit, the flexibility of the polarizing plate with a retardation layer can be further improved, and the number of MITs of the polarizing plate with a retardation layer can be improved. In this case, the lower limit of the thickness of the retardation layer is typically 5 μm or more.

위상차층(20)은 상기한 바와 같이 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 포함하고 있다. 셀룰로오스계 수지는 양(正)의 복굴절을 나타낸다. 에스테르계 수지는 음(負)의 복굴절을 나타낸다. 여기에서, '양의 복굴절을 나타낸다'란, 폴리머를 연신 등에 의해 배향시킨 경우에, 그의 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률이 상대적으로 작아지는 것을 말한다. 환언하면, 연신 방향의 굴절률이 커지는 것을 말한다. '음의 복굴절을 나타낸다'란, 폴리머를 연신 등에 의해 배향시킨 경우에, 그의 연신 방향의 굴절률이 상대적으로 작아지는 것을 말한다. 환언하면, 연신 방향과 직교하는 방향의 굴절률이 커지는 것을 말한다.The retardation layer 20 contains cellulose-based resin and ester-based resin as described above. Cellulose resin exhibits positive birefringence. Ester-based resins exhibit negative birefringence. Here, 'exhibiting positive birefringence' means that when a polymer is oriented by stretching or the like, the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction becomes relatively small. In other words, it means that the refractive index in the stretching direction increases. 'Exhibiting negative birefringence' means that when a polymer is oriented by stretching, etc., the refractive index in the stretching direction becomes relatively small. In other words, it means that the refractive index in the direction orthogonal to the stretching direction increases.

C-1. 셀룰로오스계 수지C-1. Cellulose-based resin

셀룰로오스계 수지는, 대표적으로는, β-글루코오스 단위가 직쇄상으로 중합한 고분자로서, 하기 식 (1)에 나타내는 구성 단위를 갖고 있다.Cellulose resin is typically a polymer in which β-glucose units are polymerized in a linear form, and has structural units shown in the following formula (1).

(식 (1) 중, R1~R3 각각은 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 치환기를 나타낸다). (In formula (1), R 1 to R 3 each represent a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms . )

상기 식 (1)에서 R1~R3으로 나타내는 탄소수 1∼12의 치환기로서, 예컨대, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 데카닐기, 도데카닐기, 이소부틸기, t-부틸기 등의 알킬기; 시클로헥실기 등의 시클로알킬기; 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기; 벤질기 등의 아르알킬기; 아세틸기, 프로피오닐기 등 아실기; 시아노에틸기 등의 시아노알킬기; 아미노에틸기 등의 아미노알킬기; 2-히드록시에틸기, 3-히드록시프로필기 등의 히드록시알킬기를 들 수 있다.Substituents having 1 to 12 carbon atoms represented by R 1 to R 3 in the formula (1), for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decanyl group, dodeca. Alkyl groups such as nyl group, isobutyl group, and t-butyl group; Cycloalkyl groups such as cyclohexyl groups; Aryl groups such as phenyl group and naphthyl group; Aralkyl groups such as benzyl group; Acyl groups such as acetyl group and propionyl group; Cyanoalkyl groups such as cyanoethyl group; Aminoalkyl groups such as aminoethyl group; Hydroxyalkyl groups such as 2-hydroxyethyl group and 3-hydroxypropyl group can be mentioned.

상기 식 (1)에서, R1~R3 서로 동일하여도 되고, 서로 상이하여도 된다.In formula (1), R 1 ~R 3 are They may be the same or different from each other.

상기 식 (1)의 R1~R3의 각각으로서, 바람직하게는 수소 원자 및 탄소수 1~12의 알킬기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 수소 원자 및 탄소수 1~4의 알킬기를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 수소 원자 및 에틸기를 들 수 있다.As each of R 1 to R 3 in the formula (1), preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, More preferably, a hydrogen atom and an ethyl group are mentioned.

셀룰로오스계 수지의 치환도(이하, DS라고 함)는, 대표적으로는 1.5 이상 2.95 이하, 바람직하게는 1.8 이상 2.8 이하이다. DS란, 셀룰로오스계 수지에서 수산기가 치환되어 있는 비율이고, 100% 치환하고 있는 경우 DS는 3이다. DS는, 제17개정 일본 약국방에 기재된 바와 같이, 가스 크로마토그래피의 피크 면적으로부터 산출할 수 있다.The degree of substitution (hereinafter referred to as DS) of the cellulose resin is typically 1.5 or more and 2.95 or less, and preferably 1.8 or more and 2.8 or less. DS is the ratio at which hydroxyl groups are substituted in the cellulose resin, and in the case of 100% substitution, DS is 3. DS can be calculated from the peak area of gas chromatography, as described in the Japanese Pharmacopoeia, 17th edition.

셀룰로오스계 수지의 표준 폴리스티렌 환산의 수평균 분자량(Mn)은, 예컨대 1×103 이상 1×106 이하, 바람직하게는 5×103 이상 2×105 이하이다. 셀룰로오스계 수지의 Mn은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 용출 곡선으로부터 산출할 수 있다. 셀룰로오스계 수지의 Mn이 상기의 범위이면, 위상차층의 기계 특성 및/또는 성형 가공성의 향상을 도모할 수 있다.The number average molecular weight (Mn) of the cellulose resin in terms of standard polystyrene is, for example, 1 × 10 3 or more and 1 × 10 6 or less, preferably 5 × 10 3 or more and 2 × 10 5 or less. Mn of the cellulose resin can be calculated from the elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). If the Mn of the cellulose resin is in the above range, the mechanical properties and/or molding processability of the phase difference layer can be improved.

셀룰로오스계 수지의 유리전이온도(Tg)는, 예컨대 140℃ 이하, 바람직하게는 135℃ 이하이고, 예컨대 120℃ 이상, 바람직하게는 125℃ 이상이다. 셀룰로오스계 수지의 유리전이온도(Tg)는, DSC(Differential Scanning Calorimetry) 등의 열 분석 장치에 의해 측정할 수 있다.The glass transition temperature (Tg) of the cellulose resin is, for example, 140°C or lower, preferably 135°C or lower, for example, 120°C or higher, preferably 125°C or higher. The glass transition temperature (Tg) of a cellulose resin can be measured using a thermal analysis device such as DSC (Differential Scanning Calorimetry).

셀룰로오스계 수지의 구체예로서는 메틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 프로필셀룰로오스 등의 알킬셀룰로오스; 히드록시에틸셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스 등의 히드록시알킬셀룰로오스; 벤질셀룰로오스 등의 아르알킬셀룰로오스; 시아노에틸셀룰로오스 등의 시아노알킬셀룰로오스; 카복시메틸셀룰로오스, 카복시에틸셀룰로오스 등의 카복시알킬셀룰로오스; 카복시메틸메틸셀룰로오스, 카복시메틸에틸셀룰로오스 등의 카복시알킬알킬셀룰로오스; 아미노에틸셀룰로오스 등의 아미노알킬셀룰로오스를 들 수 있다. 셀룰로오스계 수지는 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of cellulose resin include alkyl cellulose such as methyl cellulose, ethyl cellulose, and propyl cellulose; Hydroxyalkyl cellulose such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose; Aralkyl cellulose such as benzyl cellulose; Cyanoalkyl cellulose such as cyanoethyl cellulose; carboxyalkyl cellulose such as carboxymethyl cellulose and carboxyethyl cellulose; Carboxyalkyl alkyl cellulose such as carboxymethyl methyl cellulose and carboxymethyl ethyl cellulose; Aminoalkyl cellulose such as aminoethylcellulose can be mentioned. Cellulose-based resins can be used individually or in combination.

셀룰로오스계 수지 중에서는, 바람직하게는 알킬셀룰로오스를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 에틸셀룰로오스를 들 수 있다.Among cellulose resins, alkyl cellulose is preferred, and ethyl cellulose is more preferred.

C-2. 에스테르계 수지C-2. Ester-based resin

에스테르계 수지는, 대표적으로는, 하기 식 (2)에 나타내는 구성 단위와, 하기 식 (3)에 나타내는 구성 단위를 갖고 있다.Ester resin typically has a structural unit shown in the following formula (2) and a structural unit shown in the following formula (3).

(식 (2) 중, R4 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고; R5a는 탄소수 1~12의 알킬기, 니트로기, 브로모기, 요오드기, 시아노기, 클로로기, 설폰산기, 카복실산기, 플루오로기, 또는 티올기로부터 선택되는 1종을 나타내며; R5b는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고; R6은 수소 원자, 니트로기, 브로모기, 요오드기, 시아노기, 클로로기, 설폰산기, 카복실산기, 플루오로기, 페닐기, 티올기, 아미드기, 아미노기, 히드록시기, 탄소수 1~12의 알콕시기, 또는 탄소수 1~12의 알킬기로부터 선택되는 종을 나타낸다.)(In equation (2), R 4 is Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5a is the carbon number 1 to 12 alkyl group, nitro group, bromo group, iodine group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, Represents one type selected from a fluoro group or a thiol group; R 5b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 6 is a hydrogen atom, nitro group, bromo group, iodine group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group, phenyl group, thiol group, amide group, amino group, hydroxy group, or alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. , or a species selected from an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.)

(식 (3) 중, R7은 헤테로원자로서 질소 원자 또는 산소 원자를 1개 이상 포함하는 5원환 복소환 잔기 또는 6원환 복소환 잔기(상기 5원환 복소환 잔기 및 상기 6원환 복소환 잔기는 다른 환상 구조와 축합환 구조를 형성하여도 됨)를 나타낸다.)(In formula (3), R 7 is a 5-membered ring heterocyclic residue or a 6-membered ring heterocyclic residue containing at least one nitrogen atom or oxygen atom as a heteroatom (the 5-membered ring heterocyclic residue and the 6-membered ring heterocyclic residue are It may form other cyclic structures and condensed ring structures.)

상기 식 (2)에 나타내는 구성 단위는 신남산에스테르 잔기 단위이다. 상기 식 (2)에서 R4로 나타내는 탄소수 1~12의 알킬기로서는, 예컨대, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, n-프로필기, n-부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 이소부틸기, 에틸헥실기를 들 수 있다. 상기 식 (2)의 R4 중에서는, 바람직하게는 탄소수 1~4의 알킬기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 에틸기, 이소부틸기를 들 수 있다.The structural unit shown in the above formula (2) is a cinnamic acid ester residue unit. In equation (2) above, Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 4 include methyl, ethyl, isopropyl, n-propyl, n-butyl, s-butyl, t-butyl, isobutyl, and ethylhexyl. I can hear it. In equation (2) above, Among R 4 , alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms are preferred, and ethyl groups and isobutyl groups are more preferred.

상기 식 (2)의 R5a 중에서는, 바람직하게는 탄소수 1~12의 알킬기, 시아노기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 탄소수 1~4의 알킬기, 시아노기를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 시아노기를 들 수 있다.Among R 5a in the formula (2), alkyl groups and cyano groups having 1 to 12 carbon atoms are preferred, and alkyl groups and cyano groups having 1 to 4 carbon atoms are more preferred. Cyano group can be mentioned.

상기 식 (2)의 R5b 중에서는, 바람직하게는 수소 원자, 탄소수 1~4의 알킬기를 들 수 있다.Among R 5b in the formula (2), a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms are preferred.

상기 식 (2)의 R6 벤젠환에 1개만 결합하여도 되고, 벤젠환에 2개 이상 결합하여도 된다. 상기 식 (2)의 R6 중에서는, 바람직하게는 카복실산기, 히드록시기를 들 수 있다.R 6 in formula (2) is Only one may be bonded to the benzene ring, or two or more may be bonded to the benzene ring. Among R 6 in the above formula (2), a carboxylic acid group and a hydroxy group are preferred.

상기 식 (2)에 나타내는 구성 단위(신남산에스테르 잔기 단위)의 구체예로서는, α-시아노-4-히드록시신남산메틸 잔기 단위, α-시아노-2-히드록시신남산에틸 잔기 단위, α-시아노-3-히드록시신남산에틸 잔기 단위, α-시아노-4-히드록시신남산에틸 잔기 단위, α-시아노-4-히드록시신남산n-프로필 잔기 단위, α-시아노-4-히드록시신남산이소프로필 잔기 단위, α-시아노-4-히드록시신남산n-부틸 잔기 단위, α-시아노-4-히드록시신남산이소부틸 잔기 단위, α-시아노-4-히드록시신남산s-부틸 잔기 단위, α-시아노-2,4-디히드록시신남산메틸 잔기 단위 등의 α-시아노-히드록시신남산에스테르 잔기 단위; α-시아노-4-카복시신남산메틸 잔기 단위, α-시아노-4-카복시신남산에틸 잔기 단위, α-시아노-2,3-디카복시신남산메틸 잔기 단위, α-시아노-2,3-디카복시신남산에틸 잔기 단위 등의 α-시아노-카복시신남산에스테르 잔기 단위; α-시아노-2-카복시-3-히드록시신남산메틸 잔기 단위, α-시아노-2-카복시-3-히드록시신남산에틸 잔기 단위 등의 α-시아노-카복시-히드록시신남산에스테르 잔기 단위; 3-메틸-3-(히드록시페닐)-프로파-2-엔산메틸 잔기 단위, 3-에틸-3-(히드록시페닐)-프로파-2-엔산에틸 잔기 단위 등의 3-알킬-3-(히드록시페닐)-프로파-2-엔산에스테르 잔기 단위; 3-메틸-3-(카복시페닐)-프로파-2-엔산메틸 잔기 단위, 3-에틸-3-(카복시페닐)-프로파-2-엔산에틸 잔기 단위 등의 3-알킬-3-(카복시페닐)-프로파-2-엔산에스테르 잔기 단위; 2-시아노-3-메틸-3-(히드록시페닐)-프로파-2-엔산메틸 잔기 단위, 2-시아노-3-에틸-3-(히드록시페닐)-프로파-2-엔산에틸 잔기 단위 등의 2-시아노-3-알킬-3-(히드록시페닐)-프로파-2-엔산에스테르 잔기 단위; 2-시아노-3-메틸-3-(카복시페닐)-프로파-2-엔산메틸 잔기 단위, 2-시아노-3-에틸-3-(카복시페닐)-프로파-2-엔산에틸 잔기 단위 등의 2-시아노-3-알킬-3-(카복시페닐)-프로파-2-엔산에스테르 잔기 단위를 들 수 있다.Specific examples of the structural units (cinnamic acid ester residue units) shown in the above formula (2) include α-cyano-4-hydroxycinnamic acid methyl residue units, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ethyl residue units, α-cyano-3-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid n-propyl residue unit, α-cyano No-4-hydroxycinnamic acid isopropyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid n-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue unit, α-cyano α-cyano-hydroxycinnamic acid ester residue units such as s-butyl -4-hydroxycinnamic acid residue units and α-cyano-2,4-dihydroxycinnamic acid methyl residue units; α-cyano-4-carboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-2,3-dicarboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano- α-cyano-carboxycinnamic acid ester residue units such as 2,3-dicarboxycinnamate ethyl residue units; α-Cyano-carboxy-hydroxycinnamic acids, such as methyl α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamate residue units and ethyl α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamate residue units. ester residue unit; 3-alkyl-3, such as 3-methyl-3-(hydroxyphenyl)-propa-2-methyl enoate residue unit, 3-ethyl-3-(hydroxyphenyl)-propa-2-ethyl enoate residue unit, etc. -(hydroxyphenyl)-propa-2-enoic acid ester residue unit; 3-alkyl-3-(, such as 3-methyl-3-(carboxyphenyl)-propa-2-methyl enoate residue unit, 3-ethyl-3-(carboxyphenyl)-propa-2-ethyl enoate residue unit, etc. carboxyphenyl)-propa-2-enoic acid ester residue unit; 2-Cyano-3-methyl-3-(hydroxyphenyl)-propa-2-enoic acid Methyl residue unit, 2-cyano-3-ethyl-3-(hydroxyphenyl)-propa-2-enoic acid 2-cyano-3-alkyl-3-(hydroxyphenyl)-propa-2-enoic acid ester residue units such as ethyl residue units; 2-cyano-3-methyl-3-(carboxyphenyl)-propa-2-enoate methyl residue unit, 2-cyano-3-ethyl-3-(carboxyphenyl)-propa-2-enoate ethyl residue 2-cyano-3-alkyl-3-(carboxyphenyl)-propa-2-enoic acid ester residue units such as the unit.

에스테르계 수지는, 상기 식 (2)에 나타내는 구성 단위를, 1종만 포함하고 있어도 되고, 2종 이상 포함하고 있어도 된다. 상기 식 (2)에 나타내는 구성 단위 중에서는, 바람직하게는, α-시아노-히드록시신남산에스테르 잔기 단위, α-시아노-카복시신남산에스테르 잔기 단위, 3-알킬-3-(히드록시페닐)-프로파-2-엔산에스테르 잔기 단위, 3-알킬-3-(카복시페닐)-프로파-2-엔산에스테르 잔기 단위를 들 수 있다.The ester resin may contain only one type or two or more types of structural units shown in the above formula (2). Among the structural units shown in the above formula (2), preferably α-cyano-hydroxycinnamic acid ester residue unit, α-cyano-carboxycinnamic acid ester residue unit, 3-alkyl-3-(hydroxy Phenyl)-propa-2-enoic acid ester residue unit and 3-alkyl-3-(carboxyphenyl)-propa-2-enoic acid ester residue unit.

에스테르계 수지에서의 상기 식 (2)의 구성 단위의 함유 비율은, 예컨대 21몰% 이상이고, 예컨대 70몰% 이하, 바람직하게는 60몰% 이하, 보다 바람직하게는 49몰% 이하이다. 에스테르계 수지에서의 각 구성 단위의 함유 비율은, 예컨대, 1H-NMR에 의해 측정할 수 있다.The content ratio of the structural unit of the formula (2) in the ester resin is, for example, 21 mol% or more, for example, 70 mol% or less, preferably 60 mol% or less, and more preferably 49 mol% or less. The content ratio of each structural unit in the ester resin can be measured by, for example, 1 H-NMR.

상기 식 (3)에서 R7로 나타내는 환 구조의 구체예로서는, 1-비닐피롤 잔기 단위, 2-비닐피롤 잔기 단위, 1-비닐인돌 잔기 단위, 9-비닐카르바졸 잔기 단위, 2-비닐퀴놀린 잔기 단위, 4-비닐퀴놀린 잔기 단위, N-비닐프탈이미드 잔기 단위, N-비닐숙신이미드 잔기 단위, 2-비닐퓨란 잔기 단위, 2-비닐벤조퓨란 잔기 단위를 들 수 있고, 바람직하게는 9-비닐카르바졸 잔기 단위, N-비닐프탈이미드 잔기 단위를 들 수 있다.Specific examples of the ring structure represented by R 7 in the above formula (3) include 1-vinylpyrrole residue unit, 2-vinylpyrrole residue unit, 1-vinylindole residue unit, 9-vinylcarbazole residue unit, and 2-vinylquinoline residue. units, 4-vinylquinoline residue units, N-vinylphthalimide residue units, N-vinylsuccinimide residue units, 2-vinylfuran residue units, and 2-vinylbenzofuran residue units, preferably 9. -Vinylcarbazole residue units and N-vinylphthalimide residue units can be mentioned.

에스테르계 수지는, 상기 식 (3)에 나타내는 구성 단위를 1종만 포함하고 있어도 되고, 2종 이상 포함하고 있어도 된다.The ester resin may contain only one type or two or more types of structural units shown in the above formula (3).

에스테르계 수지에서의 상기 식(3)의 구성 단위의 함유 비율은, 예컨대 21몰% 이상, 바람직하게는 35몰% 이상이고, 예컨대 70몰% 이하, 바람직하게는 60몰% 이하이다.The content ratio of the structural unit of the formula (3) in the ester resin is, for example, 21 mol% or more, preferably 35 mol% or more, for example, 70 mol% or less, preferably 60 mol% or less.

에스테르계 수지는, 바람직하게는 상기 (2) 및 (3)에 나타내는 구성 단위에 더하여, 하기 식 (4)에 나타내는 구성 단위를 더 갖는다.The ester resin preferably has, in addition to the structural units shown in the above (2) and (3), a structural unit shown in the following formula (4).

(식 (4) 중, R8 및 R9 각각은 수소 원자, 탄소수 1~12의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~12의 분기상 알킬기, 또는 탄소수 3~6의 환상 알킬기로부터 선택되는 1종을 나타낸다).(In formula (4), R 8 and R 9 each represent one type selected from a hydrogen atom, a straight-chain alkyl group with 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group with 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group with 3 to 6 carbon atoms. ).

상기 식 (4)에서, R8 및 R9로 나타내는 탄소수 1~12의 직쇄상 알킬기로서, 예컨대, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다.In the above formula (4), linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R 8 and R 9 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, etc. can be mentioned.

상기 식 (4)에서, R8 및 R9로 나타내는 탄소수 3~12의 분기상 알킬기로서, 예컨대, 이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있다.In the formula (4), examples of the branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms represented by R 8 and R 9 include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group.

상기 식 (4)에서, R8 및 R9로 나타내는 탄소수 3~6의 환상 알킬기로서, 예컨대, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.In the above formula (4), examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms represented by R 8 and R 9 include cyclopropyl group, cyclobutyl group, and cyclohexyl group.

상기 식 (4)에서, R8 및 R9는, 서로 동일하여도 되고, 서로 상이하여도 된다.In the above formula (4), R 8 and R 9 may be the same as each other or may be different from each other.

상기 식 (4)에서의 R8 중에서는, 바람직하게는 수소 원자, 탄소수 1~12의 직쇄상 알킬기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기를 들 수 있다.Among R 8 in the above formula (4), hydrogen atoms and linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms are preferred, and hydrogen atoms and methyl groups are more preferred.

상기 식 (4)에서의 R9 중에서는, 바람직하게는, 탄소수 3~12의 분기상 알킬기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는, 탄소수 3~8의 분기상 알킬기를 들 수 있다.Among R 9 in the above formula (4), a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms is preferred, and a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms is more preferred.

상기 식 (4)에 나타내는 구성 단위는, 대표적으로는 아크릴 수지 잔기 단위이다. 상기 식 (4)에 나타내는 구성 단위의 구체예로서, 아크릴산 잔기 단위, 메타크릴산 잔기 단위, 2-에틸아크릴산 잔기 단위, 2-프로필아크릴산 잔기 단위, 2-이소프로필아크릴산 잔기 단위, 2-펜틸아크릴산 잔기 단위, 2-헥실아크릴산 잔기 단위, 아크릴산메틸 잔기 단위, 아크릴산에틸 잔기 단위, 아크릴산n-프로필 잔기 단위, 아크릴산이소프로필 잔기 단위, 아크릴산n-부틸 잔기 단위, 아크릴산이소부틸 잔기 단위, 아크릴산sec-부틸 잔기 단위, 아크릴산n-펜틸 잔기 단위, 아크릴산이소펜틸 잔기 단위, 아크릴산sec-펜틸 잔기 단위, 아크릴산3-펜틸 잔기 단위, 아크릴산네오펜틸 잔기 단위, 아크릴산n-헥실 잔기 단위, 아크릴산이소헥실 잔기 단위, 아크릴산네오헥실 잔기 단위, 메타크릴산메틸 잔기 단위, 메타크릴산에틸 잔기 단위, 메타크릴산n-프로필 잔기 단위, 메타크릴산이소프로필 잔기 단위, 메타크릴산n-부틸 잔기 단위, 메타크릴산이소부틸 잔기 단위, 메타크릴산sec-부틸 잔기 단위, 메타크릴산n-펜틸 잔기 단위, 메타크릴산이소펜틸 잔기 단위, 메타크릴산sec-펜틸 잔기 단위, 메타크릴산3-펜틸 잔기 단위, 메타크릴산네오펜틸 잔기 단위, 메타크릴산n-헥실 잔기 단위, 메타크릴산이소헥실 잔기 단위, 메타크릴산네오헥실 잔기 단위, 2-에틸아크릴산메틸 잔기 단위, 2-에틸아크릴산에틸 잔기 단위, 2-에틸아크릴산n-프로필 잔기 단위, 2-에틸아크릴산이소프로필 잔기 단위, 2-에틸아크릴산n-부틸 잔기 단위, 2-에틸아크릴산이소부틸 잔기 단위, 2-에틸아크릴산sec-부틸 잔기 단위 등을 들 수 있고, 바람직하게는 아크릴산이소부틸 잔기 단위를 들 수 있다.The structural unit shown in the above formula (4) is typically an acrylic resin residue unit. Specific examples of the structural units shown in the formula (4) include acrylic acid residue unit, methacrylic acid residue unit, 2-ethylacrylic acid residue unit, 2-propylacrylic acid residue unit, 2-isopropylacrylic acid residue unit, and 2-pentylacrylic acid. residue unit, 2-hexyl acrylic acid residue unit, methyl acrylate residue unit, ethyl acrylate residue unit, n-propyl acrylate residue unit, isopropyl acrylate residue unit, n-butyl acrylate residue unit, isobutyl acrylate residue unit, sec-butyl acrylate residue unit, n-pentyl acrylate residue unit, isopentyl acrylate residue unit, sec-pentyl acrylate residue unit, 3-pentyl acrylate residue unit, neopentyl acrylate residue unit, n-hexyl acrylate residue unit, isohexyl acrylate residue unit, acrylic acid Neohexyl residue unit, methyl methacrylate residue unit, ethyl methacrylate residue unit, n-propyl methacrylate residue unit, isopropyl methacrylate residue unit, n-butyl methacrylate residue unit, isobutyl methacrylate residue unit, sec-butyl methacrylate residue unit, n-pentyl methacrylate residue unit, isopentyl methacrylate residue unit, sec-pentyl methacrylate residue unit, 3-pentyl methacrylate residue unit, methacrylic acid Neopentyl residue unit, n-hexyl methacrylate residue unit, isohexyl methacrylate residue unit, neohexyl methacrylate residue unit, 2-ethyl methyl acrylate residue unit, 2-ethyl acrylate ethyl residue unit, 2-ethyl acrylic acid n-propyl residue units, 2-ethylacrylate isopropyl residue units, 2-ethylacrylate n-butyl residue units, 2-ethylacrylate isobutyl residue units, 2-ethylacrylate sec-butyl residue units, etc. are preferred. Examples include isobutyl acrylate residue units.

에스테르계 수지는, 상기 식 (4)에 나타내는 구성 단위를, 1종만 포함하고 있어도 되고, 2종 이상 포함하고 있어도 된다.The ester resin may contain only one type or two or more types of structural units shown in the formula (4).

에스테르계 수지에서의 상기 식 (4)의 구성 단위의 함유 비율은, 예컨대 0몰% 이상, 바람직하게는 1몰% 이상이고, 예컨대 30몰% 이하이다.The content ratio of the structural unit of the formula (4) in the ester resin is, for example, 0 mol% or more, preferably 1 mol% or more, for example, 30 mol% or less.

에스테르계 수지는, 상기 식 (2) 내지 (4) 이외의 단량체 잔기 단위를 함유하여도 된다. 그와 같은 단량체 잔기 단위로서는, 예컨대, 스티렌 잔기, α-메틸스티렌 잔기 등의 스티렌류 잔기; 비닐나프탈렌 잔기; 초산비닐 잔기, 프로피온산비닐 잔기 등의 비닐에스테르류 잔기; 메틸비닐에테르 잔기, 에틸비닐에테르 잔기, 부틸비닐에테르 잔기 등의 비닐에테르 잔기; N-메틸말레이미드 잔기; N-시클로헥실말레이미드 잔기, N-페닐말레이미드 잔기 등의 N-치환 말레이미드 잔기; 아크릴로니트릴 잔기; 메타크릴로니트릴 잔기; 푸마르산에스테르 잔기; 푸마르산 잔기; 에틸렌 잔기, 프로필렌 잔기 등의 올레핀류 잔기를 들 수 있다.The ester resin may contain monomer residue units other than those of formulas (2) to (4). Examples of such monomer residue units include styrene residues such as styrene residues and α-methylstyrene residues; Vinylnaphthalene moiety; Vinyl ester residues such as vinyl acetate residues and vinyl propionate residues; Vinyl ether residues such as methyl vinyl ether residue, ethyl vinyl ether residue, and butyl vinyl ether residue; N-methylmaleimide residue; N-substituted maleimide residues such as N-cyclohexylmaleimide residues and N-phenylmaleimide residues; an acrylonitrile moiety; a methacrylonitrile moiety; fumaric acid ester residue; fumaric acid residues; and olefin residues such as ethylene residues and propylene residues.

에스테르계 수지의 표준 폴리스티렌 환산의 수평균 분자량(Mn)은, 예컨대 1×103 이상 5×106 이하, 바람직하게 5×103 이상 3×105 이하이다. 에스테르계 수지의 Mn은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 용출 곡선으로부터 산출할 수 있다. 에스테르계 수지의 Mn이 상기의 범위이면, 위상차층의 기계 특성 및/또는 성형 가공성의 향상을 도모할 수 있다.The number average molecular weight (Mn) of the ester resin in terms of standard polystyrene is, for example, 1 × 10 3 or more and 5 × 10 6 or less, preferably 5 × 10 3 or more and 3 × 10 5 or less. Mn of the ester resin can be calculated from the elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). If the Mn of the ester resin is within the above range, the mechanical properties and/or molding processability of the phase difference layer can be improved.

에스테르계 수지의 유리전이온도(Tg)는, 예컨대 220℃ 이하, 바람직하게는 210℃ 이하이고, 예컨대 180℃ 이상, 바람직하게는 190℃ 이상이다. 에스테르계 수지의 유리전이온도(Tg)는 DSC (Differential Scanning Calorimetry) 등의 열 분석 장치에 의해 측정할 수 있다.The glass transition temperature (Tg) of the ester resin is, for example, 220°C or lower, preferably 210°C or lower, for example, 180°C or higher, preferably 190°C or higher. The glass transition temperature (Tg) of an ester resin can be measured using a thermal analysis device such as DSC (Differential Scanning Calorimetry).

이와 같은 에스테르계 수지의 구체예로서는, α-시아노-2-히드록시신남산에스테르-스티렌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-2-히드록시신남산에스테르-2-비닐나프탈렌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-2-히드록시신남산에스테르-1-비닐인돌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-2-히드록시신남산에스테르-9-비닐카르바졸-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-3-히드록시신남산에스테르-스티렌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-3-히드록시신남산에스테르-2-비닐나프탈렌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-3-히드록시신남산에스테르-1-비닐인돌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-3-히드록시신남산에스테르-9-비닐카르바졸-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-4-히드록시신남산에스테르-스티렌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-4-히드록시신남산에스테르-2-비닐나프탈렌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-4-히드록시신남산에스테르-1-비닐인돌-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-4-히드록시신남산에스테르-9-비닐카르바졸-아크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-2-히드록시신남산에스테르-스티렌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-2-히드록시신남산에스테르-2-비닐나프탈렌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-2-히드록시신남산에스테르-1-비닐인돌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-2-히드록시신남산에스테르-9-비닐카르바졸-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-3-히드록시신남산에스테르-스티렌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-3-히드록시신남산에스테르-2-비닐나프탈렌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-3-히드록시신남산에스테르-1-비닐인돌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-3-히드록시신남산에스테르-9-비닐카르바졸-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-4-히드록시신남산에스테르-스티렌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-4-히드록시신남산에스테르-2-비닐나프탈렌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-4-히드록시신남산에스테르-1-비닐인돌-메타크릴산에스테르 공중합체, α-시아노-4-히드록시신남산에스테르-9-비닐카르바졸-메타크릴산에스테르 공중합체를 들 수 있다.Specific examples of such ester resins include α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer. Polymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, α -Cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydride Roxycinnamic acid ester-1-vinylindole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid Ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole- Acrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer , α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer , α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer, α -Cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer, α -Cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano No-4-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-1-vinylindole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano and no-4-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer.

C-3. 기타 첨가제C-3. Other additives

위상차층(20)은, 상기한 수지 성분에 더하여, 첨가제를 임의의 적절한 비율로 함유하여도 된다. 첨가제로서, 예컨대, 힌더드페놀계 산화방지제, 인계 산화방지제, 황계 산화방지제, 락톤계 산화방지제, 아민계 산화방지제, 히드록실아민계 산화방지제, 비타민 E계 산화방지제, 기타 산화방지제 등의 산화방지제; 힌더드아민계 광안정제; 벤조트리아졸, 벤조페논, 트리아진, 벤조에이트 등의 자외선 흡수제; 계면활성제; 고분자 전해질; 도전성 착체; 안료; 염료; 대전 방지제; 안티블로킹제; 활제를 들 수 있다.The retardation layer 20 may contain additives in any appropriate ratio in addition to the resin components described above. As additives, for example, antioxidants such as hindered phenol-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, lactone-based antioxidants, amine-based antioxidants, hydroxylamine-based antioxidants, vitamin E-based antioxidants, and other antioxidants. ; Hindered amine-based light stabilizer; UV absorbers such as benzotriazole, benzophenone, triazine, and benzoate; Surfactants; Polyelectrolyte; conductive complex; pigment; dyes; antistatic agent; anti-blocking agent; Examples include lubricants.

C-4. 위상차층의 제조 방법C-4. Method for manufacturing phase contrast layer

다음으로, 위상차층의 제조 방법의 하나의 실시형태에 대하여 설명한다.Next, one embodiment of a method for manufacturing a retardation layer will be described.

하나의 실시형태에서, 위상차층의 제조 방법은, 상기 셀룰로오스계 수지 및 상기 에스테르계 수지를 용매에 용해하여, 수지 용액을 조제하는 공정과; 해당 수지 용액을 기재 위에 도공하는 공정과; 기재 위의 도막을 가열하여 수지 필름을 조제하는 공정과; 수지 필름을 연신하는 공정과; 수지 필름을 연신 방향으로 열수축시키는 공정을 포함하고 있다.In one embodiment, a method for producing a retardation layer includes dissolving the cellulose resin and the ester resin in a solvent to prepare a resin solution; A step of coating the resin solution on a substrate; A step of preparing a resin film by heating the coating film on the substrate; A process of stretching the resin film; It includes a process of heat shrinking the resin film in the stretching direction.

우선, 상기 셀룰로오스계 수지 및 상기 에스테르계 수지를, A항에서 설명한 셀룰로오스계 수지의 함유 비율이 되도록, 용매에 용해한다.First, the cellulose-based resin and the ester-based resin are dissolved in a solvent so that the content ratio of the cellulose-based resin described in section A is obtained.

용매로서는, 예컨대 클로로포름, 디클로로메탄, 4염화탄소, 디클로로에탄, 테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 페놀, 클로로페놀 등의 페놀류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메톡시벤젠, 메시틸렌, 디메톡시벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤(MIBK), 시클로헥사논, 시클로펜타논(CPN), 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈 등의 케톤계 용매; 초산에틸, 초산부틸 등의 에스테르계 용매; 부탄올, t-부틸알코올, 글리세린, 에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 2-메틸-2,4-펜탄디올 등의 알코올계 용매; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 아미드계 용매; 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴계 용매; 1,3-디옥솔란, 시클로펜틸메틸에테르(CPME), 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트(PGMEA), 디에틸에테르, 디부틸에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르계 용매; 이황화탄소, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 및 이들의 혼합 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene; Phenols such as phenol and chlorophenol; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, methoxybenzene, mesitylene, and dimethoxybenzene; Ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone, cyclopentanone (CPN), 2-pyrrolidone, and N-methyl-2-pyrrolidone; Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; Alcohol-based solvents such as butanol, t-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol, dipropylene glycol, and 2-methyl-2,4-pentanediol. ; Amide-based solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide; Nitrile-based solvents such as acetonitrile and butyronitrile; Ether-based solvents such as 1,3-dioxolane, cyclopentyl methyl ether (CPME), propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA), diethyl ether, dibutyl ether, and tetrahydrofuran; Carbon disulfide, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and mixed solvents thereof may be included.

용매 중에서는, 바람직하게는 혼합 용매를 들 수 있다. 혼합 용매의 조합으로서는, 에스테르계 용매/방향족 탄화수소류, 에테르계 용매/방향족 탄화수소류, 에스테르계 용매/에테르계 용매, 에스테르계 용매/알코올계 용매, 에스테르계 용매/케톤계 용매, 2종의 에테르계 용매, 2종의 에스테르계 용매를 들 수 있다.Among solvents, mixed solvents are preferred. Combinations of mixed solvents include ester-based solvent/aromatic hydrocarbons, ether-based solvent/aromatic hydrocarbons, ester-based solvent/ether-based solvent, ester-based solvent/alcohol-based solvent, ester-based solvent/ketone-based solvent, and two types of ethers. A solvent-based solvent and two types of ester-based solvents can be mentioned.

셀룰로오스계 수지와 용매의 한센 용해도 파라미터 거리(이하, HSP 거리*셀룰로오스계라고 칭하는 경우가 있다.)는, 예컨대 12.00 이하, 바람직하게는 11.30 이하, 보다 바람직하게는 11.20 이하이다. HSP 거리*셀룰로오스계 상기 상한 이하이면, 위상차층에서의 연신 배향성의 향상을 도모할 수 있다. HSP 거리*셀룰로오스계는, 예컨대, 하기 식 (I)에 의해 산출할 수 있다. 또한, HSP 거리*셀룰로오스계의 하한은 대표적으로는 6.0 이상이다.The Hansen solubility parameter distance (hereinafter sometimes referred to as HSP distance *cellulose system ) between the cellulose resin and the solvent is, for example, 12.00 or less, preferably 11.30 or less, and more preferably 11.20 or less. HSP distance *Cellulose type A If it is below the above upper limit, the stretching orientation in the retardation layer can be improved. The HSP distance *cellulose system can be calculated, for example, using the following formula (I). Additionally, the lower limit of the HSP distance *cellulose type is typically 6.0 or more.

식 (I):Equation (I):

HSP 거리*셀룰로오스계=[4(δd2 d1)2+(δp2p1)2+(δh2h1)2]0.5 HSP distance *Cellulose system =[4(δ d2d1 ) 2 +(δ p2p1 ) 2 +(δ h2h1 ) 2 ] 0.5

(식 (I) 중, δd1은 용매의 분자간의 분산력 에너지를 나타내고; δd2 셀룰로오스계 수지의 분자간의 분산력 에너지를 나타내며; δp1 용매의 분자간의 쌍극자 상호 작용 에너지를 나타내고; δp2 셀룰로오스계 수지의 분자간의 쌍극자 상호 작용 에너지를 나타내며; δh1은 용매의 분자간의 수소 결합 에너지를 나타내고, δh2는 셀룰로오스계 수지의 분자간의 수소 결합 에너지를 나타낸다.)(In formula (I), δ d1 represents the dispersion force energy between molecules of the solvent; δ d2 is It represents the dispersion force energy between molecules of cellulose resin; δp1 is represents the energy of dipole interaction between molecules of the solvent; δp2 is It represents the dipole interaction energy between molecules of cellulose resin; δ h1 represents the hydrogen bond energy between molecules of the solvent, and δ h2 represents the hydrogen bond energy between molecules of the cellulose resin.)

에스테르계 수지와 용매의 HSP 거리(이하, HSP 거리*에스테르계라고 칭하는 경우가 있다.)는, 예컨대 6.5 이하, 바람직하게는 6.0 이하이고, 예컨대 2.0 이상이다. HSP 거리*에스테르계는, 예컨대 하기 식 (II)에 의해 산출할 수 있다.The HSP distance (hereinafter sometimes referred to as HSP distance * ester system ) between the ester resin and the solvent is, for example, 6.5 or less, preferably 6.0 or less, for example, 2.0 or more. The HSP distance * ester system can be calculated, for example, using the following formula (II).

식 (II):Equation (II):

HSP 거리*에스테르계=[4(δd3d1)2+(δp3p1)2+(δh3h1)2]0.5 HSP distance *ester system =[4(δ d3d1 ) 2 +(δ p3p1 ) 2 +(δ h3h1 ) 2 ] 0.5

(식 (II) 중, δd3 에스테르계 수지의 분자간의 분산력 에너지를 나타내고, δp3은 에스테르계 수지의 분자간의 쌍극자 상호작용 에너지를 나타내며; δh3 에스테르계 수지의 분자간의 수소 결합 에너지를 나타내고; δd1, δp1 δh1의 각각은, 상기 식 (I)과 마찬가지의 용매의 분자간의 에너지를 나타낸다.)(In formula (II), δ d3 is It represents the dispersion force energy between the molecules of the ester resin, and δ p3 is the dipole between the molecules of the ester resin. represents the interaction energy; δ h3 is Hydrogen bond energy between molecules of ester resin represents; δd1 , δp1 and Each of δ h1 represents the intermolecular energy of the solvent similar to the above formula (I).)

(HSP 거리*셀룰로오스계-HSP 거리*에스테르계)2는, 예컨대 60 이하, 바람직하게는 55 이하, 보다 바람직하게는 50 이하, 더욱 바람직하게는 45 이하, 특히 바람직하게는 30 이하이다. (HSP 거리*셀룰로오스계-HSP 거리*에스테르계)2가 상기 상한 이하이면, 위상차층의 역분산성을 안정적으로 확보할 수 있다. (HSP 거리*셀룰로오스계-HSP 거리*에스테르계)2의 하한은, 예컨대 10 이상이다.(HSP distance * cellulose system - HSP distance * ester system ) 2 is, for example, 60 or less, preferably 55 or less, more preferably 50 or less, further preferably 45 or less, especially preferably 30 or less. (HSP distance * cellulose system - HSP distance * ester system ) If 2 is less than or equal to the above upper limit, the inverse dispersion of the phase difference layer can be stably secured. (HSP distance *cellulose system -HSP distance *ester system ) The lower limit of 2 is, for example, 10 or more.

혼합 용매로서, 보다 바람직하게는 에스테르계 용매/방향족 탄화수소류를 들 수 있고, 더욱 바람직하게는 초산에틸/톨루엔을 들 수 있으며, 특히 바람직하게는 초산에틸 60질량%/톨루엔 40질량%를 들 수 있다. 용매가 이와 같은 혼합 용매이면, 위상차층에서, 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지가 보다 안정적으로 나노상 분리 구조를 형성할 수 있다.The mixed solvent is more preferably ester solvent/aromatic hydrocarbons, still more preferably ethyl acetate/toluene, and particularly preferably 60% by mass of ethyl acetate/40% by mass of toluene. there is. If the solvent is such a mixed solvent, the cellulose resin and the ester resin can more stably form a nanophase separation structure in the phase difference layer.

수지 용액에서의 고형분 농도는, 예컨대 1질량% 이상, 바람직하게는 5질량% 이상이고, 예컨대 30질량% 이하, 바람직하게는 20질량% 이하이다.The solid content concentration in the resin solution is, for example, 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, and for example, 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less.

수지 용액은 바람직하게는 소정 시간 교반된 후에, 정치(靜置)되어 탈포된다.The resin solution is preferably stirred for a predetermined period of time, then allowed to stand and defoamed.

교반 시간으로서는, 예컨대 5분 이상, 바람직하게는 10분 이상이고, 예컨대 3시간 이하, 바람직하게는 1시간 이하이다. 탈포 시간(정치 시간)으로서는, 예컨대 30분 이상, 바람직하게는 1시간 이상이고, 예컨대 5시간 이하, 바람직하게는 3시간 이하이다.The stirring time is, for example, 5 minutes or more, preferably 10 minutes or more, for example, 3 hours or less, preferably 1 hour or less. The defoaming time (standing time) is, for example, 30 minutes or more, preferably 1 hour or more, and for example, 5 hours or less, preferably 3 hours or less.

이어서, 수지 용액을 기재(대표적으로는 수지 필름) 위에 도공한다. 도공 방법으로서는, 임의의 적절한 수단이 채용될 수 있다. 도공 방법으로서, 예컨대 어플리케이터를 들 수 있다. 이에 의해, 기재 위에 수지 용액의 도막이 형성된다.Next, the resin solution is applied onto a base material (typically a resin film). As the coating method, any suitable means may be employed. Examples of the coating method include an applicator. As a result, a coating film of the resin solution is formed on the substrate.

이어서, 기재 위의 도막을 가열하여 수지 필름을 조제한다. 가열 온도는, 예컨대 35℃ 이상 165℃ 이하이고, 가열 시간은 1분 이상 30분 이하이다. 보다 자세하게는, 이와 같은 가열 공정은, 165℃ 이하에서 가열하는 1차 가열 공정(건조 공정)과, 110℃ 이상에서 가열하는 2차 가열 공정(어닐링 공정)을 포함한다.Next, the coating film on the substrate is heated to prepare a resin film. The heating temperature is, for example, 35°C or more and 165°C or less, and the heating time is 1 minute or more and 30 minutes or less. More specifically, this heating process includes a primary heating process (drying process) of heating at 165°C or lower and a secondary heating process (annealing process) of heating at 110°C or higher.

건조 공정은 1단계로 실시되어도 되고, 다단계로 실시되어도 된다. 건조 공정은 바람직하게는 다단계로 실시된다. 건조 공정이 다단계로 실시되는 경우, 1단째의 건조 공정의 가열 온도를, 예컨대 35℃ 이상 65℃ 이하, 바람직하게는 45℃ 이상 65℃ 이하로 설정하고, 1단째의 건조 공정의 가열 시간을, 예컨대 1분 이상 30분 이하, 바람직하게는 1분 이상 8분 이하로 설정한다. 그 후, 건조 공정의 단수가 늘어날 때마다, 가열 온도를, 예컨대 10℃∼130℃, 바람직하게는 10℃∼40℃ 상승시킨다. 2단째 이후의 각 단의 가열 시간은, 대표적으로는 1단째의 건조 공정의 가열 시간보다도 짧고, 바람직하게는 20초 이상 20분 이하, 보다 바람직하게는 30초 이상 5분 이하이다. 건조 공정의 단수는 바람직하게는 2단 이상 4단 이하이고, 보다 바람직하게는 3단 이하이다. 건조 공정에서의 최고 온도는, 예컨대 165℃ 이하, 바람직하게는 130℃ 미만, 보다 바람직하게는 120℃ 미만, 더욱 바람직하게는 115℃ 이하이다.The drying process may be performed in one step or may be performed in multiple steps. The drying process is preferably carried out in multiple stages. When the drying process is carried out in multiple stages, the heating temperature of the first stage drying process is set to, for example, 35°C or more and 65°C or less, preferably 45°C or more and 65°C or less, and the heating time of the first stage drying process is set to: For example, set to 1 minute to 30 minutes, preferably 1 minute to 8 minutes. Thereafter, whenever the number of stages in the drying process increases, the heating temperature is raised, for example, to 10°C to 130°C, and preferably to 10°C to 40°C. The heating time of each stage after the second stage is typically shorter than the heating time of the first stage drying process, and is preferably 20 seconds or more and 20 minutes or less, and more preferably 30 seconds or more and 5 minutes or less. The number of stages in the drying process is preferably 2 or more stages and 4 or less stages, and more preferably 3 stages or less. The maximum temperature in the drying process is, for example, 165°C or lower, preferably 130°C or lower, more preferably 120°C or lower, and even more preferably 115°C or lower.

그 후, 필요에 따라, 건조 공정에서 가열된 도막을, 예컨대 30℃ 이하, 바람직하게는 실온(23℃)으로 냉각한다. 건조 후의 도막을 일단 냉각하면, 상기의 건조 공정에 의해 형성된 나노상 분리 구조를 고정화할 수 있고, 다음의 어닐링 공정에서 나노상 분리 구조를 바꾸지 않고 유지할 수 있다. 이어서, 어닐링 공정에서 도막을 가열한다. 어닐링 공정의 가열 온도는 대표적으로는 건조 공정의 최고 온도보다도 높다. 어닐링 공정의 가열 온도는, 예컨대 110℃ 이상, 바람직하게는 120℃ 이상, 보다 바람직하게는 130℃ 이상이고, 예컨대 180℃ 이하, 바람직하게는 165℃ 이하, 보다 바람직하게는 150℃ 이하, 더욱 바람직하게는 140℃ 이하이다. 어닐링 공정의 가열 시간은, 예컨대 1분 이상, 바람직하게는 5분 이상, 더욱 바람직하게는 15분 이상이고, 예컨대 60분 이하, 바람직하게는 45분 이하이다.Thereafter, if necessary, the coating film heated in the drying process is cooled to, for example, 30°C or lower, preferably to room temperature (23°C). Once the dried coating film is cooled, the nanophase-separated structure formed by the drying process can be fixed, and the nanophase-separated structure can be maintained without changing in the next annealing process. Next, the coating film is heated in an annealing process. The heating temperature of the annealing process is typically higher than the maximum temperature of the drying process. The heating temperature of the annealing process is, for example, 110°C or higher, preferably 120°C or higher, more preferably 130°C or higher, for example, 180°C or lower, preferably 165°C or lower, more preferably 150°C or lower, even more preferably Typically, it is below 140℃. The heating time of the annealing process is, for example, 1 minute or more, preferably 5 minutes or more, more preferably 15 minutes or more, and for example, 60 minutes or less, preferably 45 minutes or less.

이에 의해, 기재 위에 수지 필름이 형성된다. 수지 필름의 두께는, 예컨대 70㎛ 이상 200㎛ 이하이다. 이어서, 수지 필름을 기재로부터 박리한다.Thereby, a resin film is formed on the substrate. The thickness of the resin film is, for example, 70 μm or more and 200 μm or less. Next, the resin film is peeled from the substrate.

이어서, 수지 필름을 연신한다. 하나의 실시형태에서, 수지 필름을, 긴 방향으로 반송하면서, 반송 방향과 직교하는 폭 방향으로 연신(고정단 횡연신)한다. 수지 필름은 1단계 또는 2단계 이상으로 연신되어도 되고, 특히 2단계로 연신되는 것이 바람직하다. 2단계 연신에 의한 위상차층의 제조 방법은, 수지 필름을 폭 방향으로 연신하는 제1 연신 공정과; 제1 연신 공정 후의 수지 필름을, 제1 연신 공정과 동일한 방향으로 연신하는 제2 연신 공정을 포함하는 제조 방법을 들 수 있다.Next, the resin film is stretched. In one embodiment, the resin film is stretched in the width direction perpendicular to the conveyance direction (fixed end transverse stretching) while being conveyed in the longitudinal direction. The resin film may be stretched in one or two steps or more, and stretching in two steps is particularly preferable. The method of manufacturing a retardation layer by two-step stretching includes a first stretching step of stretching the resin film in the width direction; A manufacturing method including a second stretching process in which the resin film after the first stretching process is stretched in the same direction as the first stretching process can be cited.

수지 필름은 바람직하게는 연신 전에 예열된다. 예열 온도는 수지 필름에 포함되는 재료의 Tg와 관련하여 변동하고, 가장 낮은 Tg를 갖는 재료의 Tg: (Tg1)에 착안하여 설정된다. (Tg1)은, 예컨대 셀룰로오스계 수지의 Tg이다. 예열 온도는, 예컨대 (Tg1)-20℃ 이상, 바람직하게는 (Tg1)-10℃ 이상이고, 예컨대 (Tg1)+50℃ 이하, 바람직하게는 (Tg1)+40℃ 이하이다.The resin film is preferably preheated before stretching. The preheating temperature varies in relation to the Tg of the material included in the resin film, and is set with an eye on the Tg of the material with the lowest Tg: (Tg1). (Tg1) is, for example, Tg of cellulose resin. The preheating temperature is, for example, (Tg1) -20°C or higher, preferably (Tg1) -10°C or higher, for example, (Tg1) +50°C or lower, preferably (Tg1) +40°C or lower.

연신 온도도 예열 온도와 마찬가지이고, 예컨대, (Tg1)-20℃ 이상, 바람직하게는 (Tg1)-10℃ 이상이며, 예컨대 (Tg1)+50℃ 이하, 바람직하게는 (Tg1)+40℃ 이하이다.The stretching temperature is the same as the preheating temperature, for example, (Tg1) -20°C or higher, preferably (Tg1) -10°C or higher, such as (Tg1)+50°C or lower, preferably (Tg1)+40°C or lower. am.

연신 속도는, 예컨대, 1㎜/초 이상, 바람직하게는 2㎜/초 이상이고, 예컨대 200㎜/초 이하, 바람직하게는 100㎜/초 이하이다. 연신 배율(수지 필름이 2단계로 연신되는 경우, 제1 연신 공정의 연신 배율과 제2 연신 공정의 연신 배율의 곱)은, 예컨대 2.0배 이상, 바람직하게는 2.5배 이상이고, 예컨대 8.0배 이하, 바람직하게는 7.5배 이하이다.The stretching speed is, for example, 1 mm/sec or more, preferably 2 mm/sec or more, for example, 200 mm/sec or less, preferably 100 mm/sec or less. The stretch ratio (when the resin film is stretched in two steps, the product of the stretch ratio of the first stretching process and the stretching ratio of the second stretching process) is, for example, 2.0 times or more, preferably 2.5 times or more, for example, 8.0 times or less. , preferably 7.5 times or less.

이어서, 연신된 수지 필름을 연신 방향으로 열수축시킨다. 열수축 온도도 예열, 연신 온도와 마찬가지로 (Tg1)에 관해서 설정되고, 예컨대 (Tg1)-20℃ 이상, 바람직하게는 (Tg1)-15℃ 이상이며, 예컨대 (Tg1)+45℃ 이하, 바람직하게는 (Tg1)+35℃ 이하이다. 열수축 온도는 보다 바람직하게는 연신 온도 이하이다. 수축률은 대표적으로는 1% 이상 5% 이하이다.Next, the stretched resin film is heat-shrinked in the stretching direction. The heat shrinkage temperature is also set in relation to (Tg1) like the preheating and stretching temperatures, for example, (Tg1) -20°C or higher, preferably (Tg1) -15°C or higher, for example (Tg1) +45°C or lower, preferably (Tg1)+35℃ or less. The heat shrinkage temperature is more preferably equal to or lower than the stretching temperature. The shrinkage rate is typically between 1% and 5%.

이상에 의해 위상차층(20)이 제조된다.As described above, the phase difference layer 20 is manufactured.

D. 화상 표시 장치D. Image display device

상기 A항~C항에 기재된 위상차층 부착 편광판은 화상 표시 장치에 적용될 수 있다. 따라서, 본 발명의 하나의 실시형태는 그와 같은 위상차층 부착 편광판을 이용한 화상 표시 장치도 포함한다. 화상 표시 장치의 대표예로서는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치를 들 수 있다. 본 발명의 실시형태에 따른 화상 표시 장치는 화상 표시 셀과, 상기 A항~C항에 기재된 위상차층 부착 편광판을 구비한다. 대표적으로는, 화상 표시 장치는 화상 표시 셀을 포함하는 화상 표시 패널과, 그의 시인 측에 배치되는 상기 위상차층 부착 편광판을 구비한다. 또한, 화상 표시 장치를 광학 표시 장치라고 칭하는 경우가 있고, 화상 표시 패널을 광학 표시 패널이라고 칭하는 경우가 있으며, 화상 표시 셀을 광학 표시 셀이라고 칭하는 경우가 있다.The polarizing plate with a retardation layer described in items A to C above can be applied to an image display device. Accordingly, one embodiment of the present invention also includes an image display device using such a polarizing plate with a retardation layer. Representative examples of image display devices include liquid crystal display devices and organic EL display devices. An image display device according to an embodiment of the present invention includes an image display cell and the polarizing plate with a retardation layer described in the above items A to C. Typically, an image display device includes an image display panel including image display cells, and the polarizing plate with a retardation layer disposed on a viewer side of the image display panel. Additionally, an image display device may be referred to as an optical display device, an image display panel may be referred to as an optical display panel, and an image display cell may be referred to as an optical display cell.

[실시예][Example]

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다.Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples. The measurement method for each characteristic is as follows.

(1) 위상차값의 측정(1) Measurement of phase difference value

실시예 및 비교예에 이용한 위상차층의 위상차값에 대해서, Axoscan(악소메트릭스(Axometrics)사 제조)을 이용하여 자동 계측하였다. 측정 파장은 450nm 또는 550nm이고, 측정 온도는 23℃이었다.The phase difference value of the phase difference layer used in the examples and comparative examples was automatically measured using Axoscan (manufactured by Axometrics). The measurement wavelength was 450 nm or 550 nm, and the measurement temperature was 23°C.

(2) 나노상 분리 구조의 관찰(2) Observation of nanophase separation structure

실시예 및 비교예에 이용한 위상차 필름의 두께 방향의 중앙 부근(구체적으로는, 위상차 필름의 두께를 100%로 하였을 때에, 위상차 필름의 두께 방향의 중앙으로부터 ±20%의 영역)을 샘플링하고, 중금속 염색을 포함하는 초박절편법에 의해, 위상차 필름의 단면을 TEM(HT7820, 히타치사 제조)에 의해 관찰하였다(단면 TEM 관찰).The vicinity of the center of the thickness direction of the retardation film used in the examples and comparative examples (specifically, an area ±20% from the center of the thickness direction of the retardation film when the thickness of the retardation film is set to 100%) was sampled, and heavy metals were sampled. Using an ultra-thin sectioning method including dyeing, the cross-section of the retardation film was observed by TEM (HT7820, manufactured by Hitachi Corporation) (cross-sectional TEM observation).

분석된 사진으로부터 육안으로, 하기의 기준으로 평가하였다.It was evaluated visually from the analyzed photos and based on the following criteria.

○: 모든 도메인의 사이즈(최대 길이)가 100nm 미만.○: The size (maximum length) of all domains is less than 100 nm.

△: 100nm 미만의 도메인과, 100nm를 초과하는 도메인이 혼재.△: Domains less than 100 nm and domains longer than 100 nm are mixed.

×: 모든 도메인의 사이즈(최대 길이)가 100nm 이상.×: The size (maximum length) of all domains is 100 nm or more.

(3) HAST(High Accelerated Stress Test) 시험(3) HAST (High Accelerated Stress Test) test

실시예 및 비교예에서 얻어진 위상차층 부착 편광판을, 점착제층에 의해 유리판에 첩부하여, 샘플을 준비하였다. 이어서, 샘플을 가압식 가습 오븐에 투입하고, 110℃/85% RH의 조건 하에서 36시간 유지한 후, 외관을 육안으로 하기 기준으로 평가하였다.The polarizing plate with a retardation layer obtained in the examples and comparative examples was affixed to a glass plate with an adhesive layer to prepare a sample. Next, the sample was put into a pressurized humidifying oven and kept for 36 hours under conditions of 110°C/85% RH, and then the appearance was visually evaluated based on the following criteria.

○: 크랙 및/또는 박리 없음.○: No cracking and/or peeling.

×: 크랙 및/또는 박리 있음.×: Cracks and/or peeling are present.

(4) MIT 시험(4) MIT exam

실시예 및 비교예에 이용한 위상차 필름, 그리고 실시예 및 비교예에서 얻어진 위상차층 부착 편광판의 각각에 대하여, MIT 시험을 실시하였다. MIT 시험은 JIS P 8115에 준거하여 행하였다. 구체적으로는, 위상차 필름 및 위상차층 부착 편광판의 각각을, 연신 방향이 폭 방향(TD 방향), 연신 방향과 직교하는 방향이 긴 방향(MD 방향)이 되도록, 길이 15cm 및 폭 1.5cm로 절취하여 측정 시료로 하였다. 측정 시료를 MIT 내절 피로 시험기 BE-202형(테스터 산업사 제조)에 장착하고(하중 1.0kgf, 클램프의 R:0.38mm), 폭 방향(TD 방향) 및 긴 방향(MD 방향)의 각각에 대하여, 시험 속도 90cpm 및 절곡 각도 90°로 반복 절곡을 행하여, 측정 시료가 파단하였을 때의 절곡 횟수를 시험값으로 하였다. 시험값을 하기 기준으로 평가하였다.The MIT test was performed on each of the retardation films used in the examples and comparative examples, and the polarizing plate with a retardation layer obtained in the examples and comparative examples. The MIT test was conducted in accordance with JIS P 8115. Specifically, each of the retardation film and the polarizing plate with a retardation layer was cut to 15 cm in length and 1.5 cm in width so that the stretching direction was the width direction (TD direction) and the direction perpendicular to the stretching direction was the longitudinal direction (MD direction). It was used as a measurement sample. The measurement sample was mounted on an MIT fold fatigue tester BE-202 type (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.) (load 1.0 kgf, clamp R: 0.38 mm), and in each of the width direction (TD direction) and longitudinal direction (MD direction), Repeated bending was performed at a test speed of 90 cpm and a bending angle of 90°, and the number of bendings when the measurement sample broke was taken as the test value. The test values were evaluated based on the following criteria.

○: 위상차층 부착 편광판에서, TD 방향의 시험값이 500회 이상, MD 방향의 시험값이 300회 이상.○: In the polarizing plate with a retardation layer, the test value in the TD direction is 500 or more, and the test value in the MD direction is 300 or more.

×: 위상차층 부착 편광판에서, TD 방향의 시험값이 500회 미만, 및/또는, MD 방향의 시험값이 300회 미만.×: In the polarizing plate with a retardation layer, the test value in the TD direction is less than 500 times and/or the test value in the MD direction is less than 300 times.

<<제조예 1; 음의 복굴절성을 나타내는 에스테르계 수지 A(9-비닐카르바졸/α-시아노-4-히드록시신남산이소부틸/아크릴산이소부틸)의 합성>><<Manufacturing Example 1; Synthesis of ester resin A (9-vinylcarbazole/α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl/isobutyl acrylate) showing negative birefringence>>

용량 50mL의 유리 앰플에 9-비닐카르바졸 12.20g, α-시아노-4-히드록시신남산이소부틸 7.74g, 아크릴산이소부틸 4.05g, 중합 개시제인 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산 0.453g 및 메틸에틸케톤 36.00g을 넣고, 질소 치환과 발압(拔壓)을 반복한 후 감압 상태로 용봉(熔封)하였다. 이 앰플을 54℃의 항온조에 넣고, 24시간 유지함으로써 라디칼 중합을 행하였다. 중합 반응 종료 후, 앰플로부터 중합물을 취출하고, 테트라히드로퓨란 100g을 더하여, 이 폴리머 용액을 800g의 메탄올/물 혼합 용제(질량비 80/20) 중에 적하하여 석출시키고, 여과한 후, 여과물을 110g의 메탄올/물 혼합 용제(질량비 90/10)로 5회 세정, 여과하였다. 얻어진 수지를 80℃에서 10시간 진공 건조함으로써, 음의 복굴절성을 나타내는 신남산에스테르 공중합체 22.3g을 얻었다. 얻어진 중합체의 수평균 분자량은 50,000이고, 잔기 단위의 비율은 9-비닐카르바졸 잔기 단위 50몰%, α-시아노-4-히드록시신남산이소부틸 잔기 단위 25몰%, 아크릴산 이소부틸 잔기 단위 25몰%이었다.In a 50 mL glass ampoule, 12.20 g of 9-vinylcarbazole, 7.74 g of isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 4.05 g of isobutyl acrylate, and 2,5-dimethyl-2,5-di as a polymerization initiator. 0.453 g of (2-ethylhexanoyl peroxy)hexane and 36.00 g of methyl ethyl ketone were added, nitrogen substitution and decompression were repeated, and then sealing was performed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 54°C and maintaining it for 24 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule, 100 g of tetrahydrofuran was added, and this polymer solution was added dropwise to 800 g of methanol/water mixed solvent (mass ratio 80/20) to precipitate. After filtration, 110 g of the filtrate was added. It was washed five times with a methanol/water mixed solvent (mass ratio 90/10) and filtered. By vacuum drying the obtained resin at 80°C for 10 hours, 22.3 g of cinnamic acid ester copolymer showing negative birefringence was obtained. The number average molecular weight of the obtained polymer is 50,000, and the ratio of residue units is 50 mol% of 9-vinylcarbazole residue units, 25 mol% of α-cyano-4-hydroxycinnamic acid isobutyl residue units, and isobutyl acrylate residue units. It was 25 mol%.

<<제조예 2; 에스테르계 수지 B(α-시아노-4-히드록시신남산에틸/9-비닐카르바졸 공중합체)의 합성>><<Manufacturing Example 2; Synthesis of ester resin B (α-cyano-4-hydroxycinnamate ethyl/9-vinylcarbazole copolymer)>>

용량 50mL의 유리 앰플에, α-시아노-4-히드록시신남산에틸 5.0g과, 9-비닐카르바졸 4.4g과, 중합 개시제인 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산 0.17g과, 테트라히드로퓨란 8.5g을 넣고, 질소 치환과 발압을 반복한 후 감압 상태로 용봉하였다. 이 앰플을 62℃의 항온조에 넣고, 48시간 유지함으로써 라디칼 중합을 행하였다. 중합 반응 종료 후, 앰플로부터 중합물을 취출하고, 테트라히드로퓨란 25g으로 용해시켰다. 이 폴리머 용액을 500mL의 메탄올 중에 적하하여 석출시킨 후, 60℃에서 10시간 진공 건조함으로써, 음의 복굴절성을 나타내는 신남산에스테르 공중합체(에스테르계 수지 B) 7.7g을 얻었다(수율: 82%). 얻어진 신남산에스테르 공중합체의 수평균 분자량은 22,000이고, 구성 단위의 비율은 9-비닐카르바졸 잔기 단위 58몰%, α-시아노-4-히드록시신남산에틸 잔기 단위 42몰%이었다.In a 50 mL glass ampoule, 5.0 g of ethyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 4.4 g of 9-vinylcarbazole, and 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethyl) as a polymerization initiator. 0.17 g of hexanoylperoxy)hexane and 8.5 g of tetrahydrofuran were added, nitrogen substitution and decompression were repeated, and then sealed under reduced pressure. Radical polymerization was performed by placing this ampoule in a constant temperature bath at 62°C and maintaining it for 48 hours. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampoule and dissolved in 25 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was added dropwise into 500 mL of methanol to precipitate, and then vacuum-dried at 60°C for 10 hours to obtain 7.7 g of cinnamic acid ester copolymer (ester resin B) showing negative birefringence (yield: 82%). . The number average molecular weight of the obtained cinnamic acid ester copolymer was 22,000, and the ratio of structural units was 58 mol% of 9-vinylcarbazole residue units and 42 mol% of α-cyano-4-hydroxycinnamate ethyl residue units.

<<제조예 3; 편광판의 제작>><<Preparation Example 3; Production of polarizer>>

열가소성 수지 기재로서, 장척상이고 Tg 약 75℃인, 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 이용하고, 수지 기재의 편면에 코로나 처리를 실시하였다.As a thermoplastic resin substrate, an amorphous isophthalic copolymerization polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) with a long shape and a Tg of about 75°C was used, and corona treatment was performed on one side of the resin substrate.

폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰%) 및 아세토아세틸 변성 PVA(일본합성화학공업사 제조, 상품명 '고세파이머')를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100질량부에, 요오드화칼륨 13질량부를 첨가한 것을 물에 녹여 PVA 수용액(도포액)을 조제하였다.100 parts by mass of PVA-based resin, which is a 9:1 mixture of polyvinyl alcohol (degree of polymerization 4200, degree of saponification 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Japan Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., brand name “Gosephimer”), contains potassium iodide 13. The added mass was dissolved in water to prepare a PVA aqueous solution (coating solution).

수지 기재의 코로나 처리면에, 상기 PVA 수용액을 도포하여 60℃에서 건조함으로써, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하여 적층체를 제작하였다.The PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of the resin substrate and dried at 60°C to form a PVA-based resin layer with a thickness of 13 μm, thereby producing a laminate.

얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 종방향(긴 방향)으로 2.4배로 1축 연신하였다(공중 보조 연신 처리).The obtained laminate was uniaxially stretched 2.4 times in the machine direction (longitudinal direction) in an oven at 130°C (air auxiliary stretching treatment).

이어서, 적층체를, 액체 온도 40℃의 불용화욕(물 100질량부에 대하여, 붕산을 4질량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).Next, the laminate was immersed in an insolubilization bath (boric acid aqueous solution obtained by mixing 4 parts by mass of boric acid with 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (insolubilization treatment).

이어서, 액체 온도 30℃의 염색욕(물 100질량부에 대하여, 요오드와 요오드화칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광자의 단체 투과율(Ts)이 소망하는 값이 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색 처리).Next, in a dyeing bath (iodine aqueous solution obtained by mixing iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 30°C, the single transmittance (Ts) of the polarizer finally obtained is the desired value. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration to achieve this (dyeing treatment).

이어서, 액체 온도 40℃의 가교욕(물 100질량부에 대하여, 요오드화칼륨을 3질량부 배합하고, 붕산을 5질량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).Next, it was immersed in a crosslinking bath (a boric acid aqueous solution obtained by mixing 3 parts by mass of potassium iodide and 5 parts by mass of boric acid with respect to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 40°C for 30 seconds (crosslinking treatment).

그 후, 적층체를, 액체 온도 70℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4중량%, 요오드화칼륨 농도 5중량%)에 침지시키면서, 원주 속도가 상이한 롤 사이에서 종방향(긴 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 1축 연신을 행하였다(수중 연신 처리).Thereafter, the laminate was immersed in an aqueous solution of boric acid (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 70°C, while the total stretch ratio was stretched in the longitudinal direction (longitudinal direction) between rolls with different circumferential speeds. Uniaxial stretching was performed to increase the size by 5.5 times (underwater stretching treatment).

그 후, 적층체를 액체 온도 20℃의 세정욕(물 100질량부에 대하여, 요오드화칼륨을 4질량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).Thereafter, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by mixing 4 parts by mass of potassium iodide with respect to 100 parts by mass of water) at a liquid temperature of 20°C (washing treatment).

그 후, 약 90℃로 유지된 오븐 안에서 건조하면서, 표면 온도가 약 75℃로 유지된 SUS제 가열 롤에 접촉시켰다(건조 수축 처리).Afterwards, it was dried in an oven maintained at about 90°C and brought into contact with a heating roll made of SUS whose surface temperature was maintained at about 75°C (dry shrink treatment).

이와 같이 하여, 수지 기재 위에 두께 약 5㎛의 편광자를 형성하여, 수지 기재/편광자의 구성을 갖는 적층체를 얻었다.In this way, a polarizer with a thickness of about 5 μm was formed on the resin substrate, and a laminate having a resin substrate/polarizer configuration was obtained.

얻어진 적층체의 편광자 표면(수지 기재와는 반대 측의 면)에, 보호층으로서 HC-TAC 필름(두께 20㎛)을 첩합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하여 보호층/편광자의 구성을 갖는 편광판을 얻었다.An HC-TAC film (thickness 20 μm) was bonded to the polarizer surface (surface opposite to the resin substrate) of the obtained laminate as a protective layer. Next, the resin substrate was peeled to obtain a polarizing plate having a protective layer/polarizer configuration.

[실시예 1 및 2][Example 1 and 2]

<<위상차 필름의 제작>><<Production of phase contrast film>>

에틸셀룰로오스(다우·케미컬사 제조, 에토셀 스탠다드(ETHOCEL standard) 100, 수평균 분자량(Mn)=58,000, 중량평균 분자량(Mw)=180,000, Mw/Mn=3.2, 전체 치환도(DS)=2.51)와, 제조예 1에서 얻어진 에스테르계 수지 A를, 표 1에 나타내는 질량 비율이 되도록, 초산에틸/톨루엔=60/40(질량비)의 혼합 용매에 용해하여, 고형분 농도 16질량%의 수지 용액을 얻었다.Ethylcellulose (manufactured by Dow Chemical Company, ETHOCEL standard 100, number average molecular weight (Mn) = 58,000, weight average molecular weight (Mw) = 180,000, Mw/Mn = 3.2, total degree of substitution (DS) = 2.51 ) and the ester resin A obtained in Production Example 1 were dissolved in a mixed solvent of ethyl acetate/toluene = 60/40 (mass ratio) so that the mass ratio shown in Table 1 was dissolved to obtain a resin solution with a solid content concentration of 16% by mass. got it

이어서, 수지 용액을 디스퍼 믹서에 의해 30분간 교반한 후, 2시간 정치하여 탈포하였다. 탈포 후의 수지 용액을, 어플리케이터에 의해, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도요보사 제조, 코스모샤인 A4610) 위에, 웨트 두께가 약 810㎛가 되도록 도공하였다.Next, the resin solution was stirred with a disper mixer for 30 minutes and left to stand for 2 hours to degas. The degassed resin solution was applied using an applicator onto a polyethylene terephthalate (PET) film (Cosmoshine A4610, manufactured by Toyobo Corporation) so that the wet thickness was approximately 810 μm.

이어서, 도막을 오븐에서 65℃/6분간, 85℃/1분간, 110℃/2분간의 조건으로 3단 건조한 후, 실온(23℃)에서 60분간 정치하였다. 그 후, 건조 후의 도막을, 다시 오븐에서, 130℃/60분간 어닐링하였다. 이것에 의해, PET 필름 위에 수지 필름이 형성되었다.Next, the coating film was dried in an oven in three stages at 65°C/6 minutes, 85°C/1 minute, and 110°C/2 minutes, and then left to stand at room temperature (23°C) for 60 minutes. Afterwards, the dried coating film was again annealed in an oven at 130°C for 60 minutes. As a result, a resin film was formed on the PET film.

이어서, PET 필름으로부터 수지 필름을 박리하였다. 박리 후의 수지 필름을, 165℃/1분간의 조건으로 예열한 후, 연신 온도 155℃, 연신 속도 2mm/초의 조건으로, 2.4배로 고정단 횡연신하였다. 그 후, 연신한 수지 필름을, 수축 온도 155℃에서, 폭 방향으로 2% 수축시켜, 두께 46㎛의 위상차 필름을 얻었다. 위상차 필름의 굴절률 특성은 nx>ny>nz를 나타내고 있었다.Next, the resin film was peeled from the PET film. After preheating the peeled resin film at 165°C/1 minute, it was fixed-end transversely stretched 2.4 times under the conditions of a stretching temperature of 155°C and a stretching speed of 2 mm/sec. Thereafter, the stretched resin film was shrunk by 2% in the width direction at a shrinkage temperature of 155°C to obtain a retardation film with a thickness of 46 μm. The refractive index characteristics of the retardation film showed nx>ny>nz.

위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정 및 나노상 분리 구조의 관찰에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.The retardation film was used for measurement of the above-described retardation value and observation of the nanophase separation structure. The results are shown in Table 1.

<<위상차층 부착 편광판의 제작>><<Production of polarizer with phase contrast layer>>

이어서, 제조예 3에서 얻어진 편광판의 편광자에, 위상차 필름을, (메트)아크릴계의 점착제에 의해 첩부하였다. 점착제층의 두께는 5㎛이었다. 첩합은 편광자의 흡수축 방향과, 위상차 필름의 지상축 방향이 이루는 각도가, 표 1의 값이 되도록 하여 행하였다.Next, the retardation film was affixed to the polarizer of the polarizing plate obtained in Production Example 3 using a (meth)acrylic adhesive. The thickness of the adhesive layer was 5 μm. Bonding was performed so that the angle between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the retardation film was the value shown in Table 1.

그 후, 위상차 필름에 (메트)아크릴계 점착제를 도포하여 점착제층을 형성하였다. 점착제층의 두께는 15㎛이었다.Afterwards, a (meth)acrylic adhesive was applied to the retardation film to form an adhesive layer. The thickness of the adhesive layer was 15 μm.

이상에 의해, 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.As a result of the above, a polarizing plate with a retardation layer was obtained. A polarizing plate with a retardation layer was subjected to the HAST test described above. The results are shown in Table 1.

[실시예 3][Example 3]

제조예 1의 에스테르계 수지 A를, 제조예 2의 에스테르계 수지 B로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 또한, 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정 및 나노상 분리 구조의 관찰에 제공하고, 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ester resin A of Production Example 1 was changed to the ester resin B of Production Example 2. Additionally, the retardation film was used for the measurement of the above-mentioned retardation value and observation of the nanophase separation structure, and the polarizing plate with a retardation layer was used for the above-described HAST test. The results are shown in Table 1.

[실시예 4][Example 4]

예열 온도를 162℃로 변경하고, 연신 온도를 162℃로 변경하고, 연신 배율을 3.0배로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 또한, 위상차 필름의 두께는 36㎛이었다. 또한, 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정, 나노상 분리 구조의 관찰 및 MIT 시험에 제공하고, 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험 및 MIT 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that the preheating temperature was changed to 162°C, the stretching temperature was changed to 162°C, and the stretching ratio was changed to 3.0 times. Additionally, the thickness of the retardation film was 36 μm. Additionally, the retardation film was subjected to the above-mentioned retardation value measurement, observation of nanophase separation structure, and MIT test, and the polarizing plate with a retardation layer was subjected to the above-mentioned HAST test and MIT test. The results are shown in Table 2.

[실시예 5][Example 5]

수지 용액의 웨트 막 두께를 1050㎛로 변경한 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지로 하여 수지 필름(연신 전)을 조제하였다. 이어서, 수지 필름을, 162℃/1분간의 조건으로 예열한 후, 연신 온도 162℃, 연신 속도 2mm/초의 조건으로, 3.4배로 고정단 횡연신하고, 그 후, 167℃/1분간의 조건으로 예열하고, 연신 온도 167℃, 연신 속도 2mm/초의 조건으로, 2.1배로 고정단 횡연신하였다.A resin film (before stretching) was prepared in the same manner as in Example 3, except that the wet film thickness of the resin solution was changed to 1050 μm. Next, the resin film was preheated at 162°C/1 minute, then fixed-end transversely stretched 3.4 times at a stretching temperature of 162°C and a stretching speed of 2 mm/sec, and then at 167°C/1 minute. It was preheated and fixed-end transversely stretched 2.1 times under the conditions of a stretching temperature of 167°C and a stretching speed of 2 mm/sec.

그 후, 연신한 수지 필름을, 수축 온도 155℃에서, 폭 방향으로 2% 수축시켜, 두께 20㎛의 위상차 필름을 얻었다. 얻어진 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정, 나노상 분리 구조의 관찰 및 MIT 시험에 제공하였다.Thereafter, the stretched resin film was shrunk by 2% in the width direction at a shrinkage temperature of 155°C to obtain a retardation film with a thickness of 20 μm. The obtained retardation film was subjected to the above-described retardation value measurement, observation of nanophase separation structure, and MIT test.

그 후, 실시예 3과 마찬가지로 하여, 위상차층 부착 편광판을 조제하였다. 얻어진 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험 및 MIT 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.Thereafter, in the same manner as in Example 3, a polarizing plate with a retardation layer was prepared. The obtained polarizing plate with a retardation layer was subjected to the above-mentioned HAST test and MIT test. The results are shown in Table 2.

[비교예 1][Comparative Example 1]

위상차 필름을, 하기와 같이 제작한 위상차 필름으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 또한, 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정, 나노상 분리 구조의 관찰 및 MIT 시험에 제공하고, 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험 및 MIT 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that the retardation film was changed to a retardation film produced as follows. Additionally, the retardation film was subjected to the above-mentioned retardation value measurement, observation of nanophase separation structure, and MIT test, and the polarizing plate with a retardation layer was subjected to the above-mentioned HAST test and MIT test. The results are shown in Table 1 and Table 2.

<<위상차 필름의 제작>><<Production of phase contrast film>>

교반 날개 및 100℃로 제어된 환류 냉각기를 구비한 종형 반응기 2기를 포함하는 배치 중합 장치에 비스[9-(2-페녹시카보닐에틸)플루오렌-9-일]메탄 29.60질량부(0.046mol)와, 이소소르비드(ISB) 29.21질량부(0.200mol)와, 스피로글리콜(SPG) 42.28질량부(0.139mol)와, 디페닐카보네이트(DPC) 63.77질량부(0.298mol)와, 촉매로서 초산칼슘 1수화물 1.19×10-2질량부(6.78×10-5mol)를 넣었다. 반응기 내를 감압 질소 치환한 후, 열매(熱媒)로 가온을 행하고, 내부온도가 100℃가 된 시점에서 교반을 개시하였다. 승온 개시 40분 후에 내부온도를 220℃에 도달시키고, 이 온도를 유지하도록 제어함과 동시에 감압을 개시하고, 220℃에 도달하고 나서 90분에서 13.3kPa로 하였다. 중합 반응과 함께 부생(副生)하는 페놀 증기를 100℃의 환류 냉각기로 유도하여, 페놀 증기 중에 약간량 포함되는 모노머 성분을 반응기로 되돌리고, 응축되지 않은 페놀 증기는 45℃의 응축기로 유도하여 회수하였다. 제1 반응기에 질소를 도입하여 일단 대기압까지 복압시킨 후, 제1 반응기 내의 올리고머화된 반응액을 제2 반응기로 옮겼다. 이어서, 제2 반응기 내의 승온 및 감압을 개시하여, 50분에서 내부온도 240℃, 압력 0.2kPa로 하였다. 그 후, 소정의 교반 동력이 될 때까지 중합을 진행시켰다. 소정 동력에 도달한 시점에서 반응기에 질소를 도입하여 복압하고, 생성된 폴리에스테르카보네이트계 수지를 수중에 압출하고, 스트랜드를 컷팅하여 펠릿을 얻었다.29.60 parts by mass (0.046 mol) of bis[9-(2-phenoxycarbonylethyl)fluoren-9-yl]methane was added to a batch polymerization apparatus comprising two vertical reactors equipped with stirring blades and a reflux condenser controlled at 100°C. ), 29.21 parts by mass (0.200 mol) of isosorbide (ISB), 42.28 parts by mass (0.139 mol) of spiroglycol (SPG), 63.77 parts by mass (0.298 mol) of diphenyl carbonate (DPC), and acetic acid as a catalyst. 1.19×10 -2 mass parts (6.78×10 -5 mol) of calcium monohydrate were added. After purging the inside of the reactor with reduced pressure nitrogen, heating was performed using a heat exchanger, and stirring was started when the internal temperature reached 100°C. 40 minutes after the start of the temperature increase, the internal temperature reached 220°C, and while controlling to maintain this temperature, pressure reduction was started, and 90 minutes after reaching 220°C, the temperature was adjusted to 13.3 kPa. The phenol vapor produced as a by-product along with the polymerization reaction is guided to a reflux cooler at 100°C, the monomer component contained in a small amount in the phenol vapor is returned to the reactor, and the uncondensed phenol vapor is directed to a condenser at 45°C for recovery. did. After nitrogen was introduced into the first reactor and the pressure was restored to atmospheric pressure, the oligomerized reaction solution in the first reactor was transferred to the second reactor. Next, the temperature increase and pressure reduction in the second reactor were started, and the internal temperature was 240°C and the pressure was 0.2 kPa in 50 minutes. Thereafter, polymerization was allowed to proceed until the predetermined stirring power was reached. When the predetermined power was reached, nitrogen was introduced into the reactor to restore pressure, the resulting polyester carbonate-based resin was extruded into water, and the strands were cut to obtain pellets.

얻어진 폴리에스테르카보네이트계 수지(펠릿)를 80℃에서 5시간 진공 건조를 한 후, 단축 압출기(도시바기계사 제조, 실린더 설정 온도: 250℃), T다이(폭 200mm, 설정 온도: 250℃), 칠드 롤(설정 온도: 120~130℃) 및 권취기를 구비한 필름 제막 장치를 이용하여, 두께 130㎛의 장척상의 수지 필름을 제작하였다. 얻어진 장척상의 수지 필름을, 140℃에서 1.4배로 자유단 종연신하여, 두께 110㎛의 위상차 필름을 얻었다.After vacuum drying the obtained polyester carbonate resin (pellet) at 80°C for 5 hours, it was extruded into a single screw extruder (manufactured by Toshiba Machinery Co., Ltd., cylinder set temperature: 250°C), T die (width 200 mm, set temperature: 250°C), A long resin film with a thickness of 130 μm was produced using a film forming apparatus equipped with a chilled roll (set temperature: 120 to 130°C) and a winder. The obtained long resin film was stretched longitudinally at the free end 1.4 times at 140°C to obtain a retardation film with a thickness of 110 μm.

[비교예 2][Comparative Example 2]

수지 재료로서, 제조예 1의 에스테르계 수지 A를 이용하지 않고, 에틸셀룰로오스만을 이용하여, 위상차 필름을 제작한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 또한, 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정 및 나노상 분리 구조의 관찰에 제공하고, 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 1, except that a retardation film was produced using only ethyl cellulose without using the ester resin A of Production Example 1 as a resin material. Additionally, the retardation film was used for the measurement of the above-mentioned retardation value and observation of the nanophase separation structure, and the polarizing plate with a retardation layer was used for the above-described HAST test. The results are shown in Table 1.

[비교예 3][Comparative Example 3]

수지 재료로서, 에틸셀룰로오스를 이용하지 않고, 제조예 2의 에스테르계 수지 B만을 이용하여, 위상차 필름을 제작한 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 또한, 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정 및 나노상 분리 구조의 관찰에 제공하고, 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Example 3, except that a retardation film was produced using only the ester resin B of Production Example 2 without using ethylcellulose as a resin material. Additionally, the retardation film was used for the measurement of the above-mentioned retardation value and observation of the nanophase separation structure, and the polarizing plate with a retardation layer was used for the above-described HAST test. The results are shown in Table 1.

[비교예 4][Comparative Example 4]

초산에틸/톨루엔을 6:4로 배합한 혼합 용매에, 에틸셀룰로오스와 제조예 1에서 얻어진 에스테르계 수지 A를, 80:20의 질량 비율이 되도록 용해하여, 고형분 농도 16질량%의 수지 용액을 얻었다.In a mixed solvent containing ethyl acetate/toluene in a ratio of 6:4, ethylcellulose and the ester resin A obtained in Production Example 1 were dissolved in a mass ratio of 80:20 to obtain a resin solution with a solid content concentration of 16% by mass. .

이어서, 수지 용액을 디스퍼 믹서에 의해 30분간 교반한 후, 2시간 정치하여 탈포하였다. 탈포 후의 수지 용액을, 어플리케이터에 의해, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도요보사 제조, 코스모샤인 A4610) 위에, 웨트 두께가 약 810㎛가 되도록 도공하였다.Next, the resin solution was stirred with a disper mixer for 30 minutes and left to stand for 2 hours to degas. The degassed resin solution was applied using an applicator onto a polyethylene terephthalate (PET) film (Cosmoshine A4610, manufactured by Toyobo Corporation) so that the wet thickness was approximately 810 μm.

이어서, 도막을 오븐에서, 40℃/4분간, 85℃/4분간, 135℃/4분간, 155℃/6분간의 조건으로 4단 건조하여, PET 필름 위에, 두께 110㎛의 수지 필름을 형성하였다.Next, the coating film was dried in an oven in four stages under the following conditions: 40°C/4 minutes, 85°C/4 minutes, 135°C/4 minutes, and 155°C/6 minutes to form a resin film with a thickness of 110 μm on the PET film. did.

이어서, PET 필름으로부터 수지 필름을 박리하였다. 박리 후의 수지 필름을, 165℃/1분간의 조건으로 예열한 후, 연신 온도 155℃, 연신 속도 2mm/초의 조건으로, 2.4배로 고정단 횡연신하였다. 그 후, 연신한 수지 필름을, 연신 온도와 동일 온도(수축 온도 155℃)에서, 폭 방향으로 2% 수축시켜, 두께 46㎛의 위상차 필름을 얻었다. 이 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정 및 나노상 분리 구조의 관찰에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 비교예 4에서는, 상기 나노상 분리 구조의 관찰에서 얻어지는 TEM 단면상에서는, 상분리의 각 도메인은 100nm 이상의 큰 것이고, 충분한 상분리 상태가 얻어지지 않은 것을 알 수 있었다.Next, the resin film was peeled from the PET film. After preheating the peeled resin film at 165°C/1 minute, it was fixed-end transversely stretched 2.4 times under the conditions of a stretching temperature of 155°C and a stretching speed of 2 mm/sec. Thereafter, the stretched resin film was contracted by 2% in the width direction at the same temperature as the stretching temperature (shrinkage temperature of 155°C) to obtain a retardation film with a thickness of 46 μm. This retardation film was used for measurement of the above-mentioned retardation value and observation of the nanophase separation structure. The results are shown in Table 1. In Comparative Example 4, the TEM cross-sectional image obtained from observation of the nanophase-separated structure showed that each phase-separated domain was larger than 100 nm, and that a sufficient phase-separated state was not obtained.

<<위상차층 부착 편광판의 제작>><<Production of polarizer with phase contrast layer>>

이어서, 제조예 3에서 얻어진 편광판의 편광자에, 위상차 필름을 (메트)아크릴계의 점착제에 의해 첩부하였다. 점착제층의 두께는 5㎛이었다. 첩합은, 편광자의 흡수축 방향과, 위상차 필름의 지상축 방향이 이루는 각도가, 표 1의 값이 되도록 하여 행하였다.Next, the retardation film was affixed to the polarizer of the polarizing plate obtained in Production Example 3 using a (meth)acrylic adhesive. The thickness of the adhesive layer was 5 μm. Bonding was performed so that the angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the retardation film was the value shown in Table 1.

그 후, 위상차 필름에 (메트)아크릴계 점착제를 도포하여 점착제층을 형성하였다. 점착제층의 두께는 15㎛이었다.Afterwards, a (meth)acrylic adhesive was applied to the retardation film to form an adhesive layer. The thickness of the adhesive layer was 15 μm.

이상에 의해, 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 비교예 4의 위상차층 부착 편광판은, HAST 시험 후에 크랙이 생겨 있었다.As a result of the above, a polarizing plate with a retardation layer was obtained. A polarizing plate with a retardation layer was subjected to the HAST test described above. The results are shown in Table 1. The polarizing plate with a retardation layer of Comparative Example 4 had cracks after the HAST test.

[비교예 5][Comparative Example 5]

초산에틸/톨루엔을 6:4로 배합한 혼합 용매에, 에틸셀룰로오스와 제조예 1에서 얻어진 에스테르계 수지 A를, 80:20의 질량 비율이 되도록 용해하여, 고형분 농도 16질량%의 수지 용액을 얻었다.In a mixed solvent containing ethyl acetate/toluene in a ratio of 6:4, ethylcellulose and the ester resin A obtained in Production Example 1 were dissolved in a mass ratio of 80:20 to obtain a resin solution with a solid content concentration of 16% by mass. .

이어서, 수지 용액을 디스퍼 믹서에 의해 30분간 교반한 후, 2시간 정치하여 탈포하였다. 탈포 후의 수지 용액을, 어플리케이터에 의해, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도요보사 제조, 코스모샤인 A4610) 위에, 웨트 두께가 약 810㎛가 되도록 도공하였다.Next, the resin solution was stirred with a disper mixer for 30 minutes and left to stand for 2 hours to degas. The degassed resin solution was applied using an applicator onto a polyethylene terephthalate (PET) film (Cosmoshine A4610, manufactured by Toyobo Corporation) so that the wet thickness was approximately 810 μm.

이어서, 도막을 오븐에서, 40℃/10분간, 85℃/4분간, 135℃/4분간, 155℃/10분간의 조건으로 4단 건조하여, PET 필름 위에, 두께 110㎛의 수지 필름을 형성하였다.Next, the coating film was dried in an oven in four stages under the conditions of 40°C/10 minutes, 85°C/4 minutes, 135°C/4 minutes, and 155°C/10 minutes to form a resin film with a thickness of 110 μm on the PET film. did.

이어서, PET 필름으로부터 수지 필름을 박리하였다. 박리 후의 수지 필름을, 165℃/1분간의 조건으로 예열한 후, 연신 온도 155℃, 연신 속도 2mm/초의 조건으로, 2.4배로 고정단 횡연신하였다. 그 후, 연신한 수지 필름을, 연신 온도와 동일 온도(수축 온도 155℃)에서, 폭 방향으로 2% 수축시켜, 두께 46㎛의 위상차 필름을 얻었다. 이 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정 및 나노상 분리 구조의 관찰에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 비교예 5에서는, λ/4판으로서 충분한 특성을 확보할 수 없었다. 상기 나노상 분리 구조의 관찰에서 얻어지는 TEM 단면상에서는, 상분리의 각 도메인은 100nm 전후이고, 100nm 미만의 도메인과 100nm를 초과하는 도메인이 혼재하고 있었다. 따라서, 적합한 나노상 분리 구조가 형성되어 있지 않은 것을 알 수 있었다.Next, the resin film was peeled from the PET film. After preheating the peeled resin film at 165°C/1 minute, it was fixed-end transversely stretched 2.4 times under the conditions of a stretching temperature of 155°C and a stretching speed of 2 mm/sec. Thereafter, the stretched resin film was contracted by 2% in the width direction at the same temperature as the stretching temperature (shrinkage temperature of 155°C) to obtain a retardation film with a thickness of 46 μm. This retardation film was used for measurement of the above-mentioned retardation value and observation of the nanophase separation structure. The results are shown in Table 1. In Comparative Example 5, sufficient characteristics could not be secured as a λ/4 plate. In the TEM cross-sectional image obtained from observation of the nanophase-separated structure, each phase-separated domain was around 100 nm, and domains less than 100 nm and domains exceeding 100 nm were mixed. Therefore, it was found that an appropriate nanophase separation structure was not formed.

<<위상차층 부착 편광판의 제작>><<Production of polarizer with phase contrast layer>>

이어서, 제조예 3에서 얻어진 편광판의 편광자에, 위상차 필름을 (메트)아크릴계의 점착제에 의해 첩부하였다. 점착제층의 두께는 5㎛이었다. 첩합은 편광자의 흡수축 방향과, 위상차 필름의 지상축 방향이 이루는 각도가 표 1의 값이 되도록 하여 행하였다.Next, the retardation film was affixed to the polarizer of the polarizing plate obtained in Production Example 3 using a (meth)acrylic adhesive. The thickness of the adhesive layer was 5 μm. Bonding was performed so that the angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the retardation film was the value shown in Table 1.

그 후, 위상차 필름에 (메트)아크릴계 점착제를 도포하여 점착제층을 형성하였다. 점착제층의 두께는 15㎛이었다.Afterwards, a (meth)acrylic adhesive was applied to the retardation film to form an adhesive layer. The thickness of the adhesive layer was 15 μm.

이상에 의해, 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 비교예 5의 위상차층 부착 편광판은, 원편광판으로서 충분한 특성이 얻어지지 않았기 때문에, 통상적으로는 HAST 시험을 실시하지 않지만, 만약을 위해 상기한 HAST 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 비교예 5의 위상차층 부착 편광판은, HAST 시험 후의 외관에 문제는 없었다.As a result of the above, a polarizing plate with a retardation layer was obtained. The polarizing plate with a retardation layer of Comparative Example 5 was not normally subjected to the HAST test because sufficient characteristics as a circularly polarizing plate were not obtained, but was subjected to the above-described HAST test just in case. The results are shown in Table 1. The polarizing plate with a retardation layer of Comparative Example 5 had no problems with the appearance after the HAST test.

[비교예 6][Comparative Example 6]

연신 후의 필름 막 두께가 상이한 것 이외에는, 비교예 1과 마찬가지로 하여 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 또한, 위상차 필름의 두께는 37㎛이었다. 또한, 위상차 필름을 상기한 위상차값의 측정, 나노상 분리 구조의 관찰 및 MIT 시험에 제공하고, 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험 및 MIT 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.A polarizing plate with a retardation layer was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the film thickness after stretching was different. Additionally, the thickness of the retardation film was 37 μm. Additionally, the retardation film was subjected to the above-mentioned retardation value measurement, observation of nanophase separation structure, and MIT test, and the polarizing plate with a retardation layer was subjected to the above-mentioned HAST test and MIT test. The results are shown in Table 2.

[비교예 7][Comparative Example 7]

<<위상차 필름의 제작>><<Production of phase contrast film>>

네마틱 액정상을 나타내는 중합성 액정(바스프(BASF)사 제조: 상품명 'Paliocolor LC242', 하기 식으로 나타냄) 10g과, 당해 중합성 액정 화합물에 대한 광중합 개시제(바스프사 제조: 상품명 '이르가큐어 907') 3g을 톨루엔 40g에 용해하여 액정 조성물(도공액)을 조제하였다.10 g of a polymerizable liquid crystal exhibiting a nematic liquid crystalline phase (manufactured by BASF, brand name 'Paliocolor LC242', expressed in the formula below), and a photopolymerization initiator for the polymerizable liquid crystal compound (manufactured by BASF, brand name 'Irgacure') 907') was dissolved in 40 g of toluene to prepare a liquid crystal composition (coating solution).

폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(두께 38㎛) 표면을, 러빙포(rubbing cloth)를 이용하여 러빙하여, 배향 처리를 실시하였다. 배향 처리의 방향은, 편광판에 첩합할 때에 편광자의 흡수축의 방향에 대하여 시인 측에서 보아 15° 방향이 되도록 하였다. 이 배향 처리 표면에, 상기 액정 도공액을 바 코터에 의해 도공하고, 90℃에서 2분간 가열 건조함으로써 액정 화합물을 배향시켰다. 이와 같이 하여 형성된 액정층에, 메탈할라이드 램프를 이용하여 1mJ/㎠의 광을 조사하여, 당해 액정층을 경화시킴으로써, PET 필름 위에 액정 배향 고화층을 형성하였다. 액정 배향 고화층은 nx>ny=nz의 굴절률 특성을 갖고 있었다. 액정 배향 고화층의 두께는 1㎛, 면내 위상차 Re(550)는 140nm이었다. 액정 배향 고화층을 위상차 필름으로 하고, 그 위상차 필름을 위상차값의 측정, 나노상 분리 구조의 관찰 및 MIT 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.The surface of a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness 38 μm) was rubbed using a rubbing cloth to perform orientation treatment. The direction of the orientation treatment was set to be 15° when viewed from the viewer's side with respect to the direction of the absorption axis of the polarizer when bonding to the polarizing plate. The liquid crystal coating liquid was applied to this alignment treated surface using a bar coater, and the liquid crystal compound was aligned by heating and drying at 90°C for 2 minutes. By irradiating light of 1 mJ/cm2 using a metal halide lamp to the liquid crystal layer formed in this way and curing the liquid crystal layer, PET A liquid crystal alignment solidification layer was formed on the film. The liquid crystal alignment solidification layer had a refractive index characteristic of nx>ny=nz. The thickness of the liquid crystal alignment solidification layer was 1 μm, and the in-plane retardation Re (550) was 140 nm. The liquid crystal alignment solidification layer was used as a retardation film, and the retardation film was subjected to measurement of the retardation value, observation of the nanophase separation structure, and MIT testing. The results are shown in Table 2.

<<위상차층 부착 편광판의 제작>><<Production of polarizer with phase contrast layer>>

이어서, 제조예 3에서 얻어진 편광판의 편광자에, 위상차 필름을 (메트)아크릴계의 점착제에 의해 첩부하였다. 점착제층의 두께는 5㎛이었다. 첩합은 편광자의 흡수축 방향과, 위상차 필름의 지상축 방향이 이루는 각도가 45°가 되도록 하여 행하였다.Next, the retardation film was affixed to the polarizer of the polarizing plate obtained in Production Example 3 using a (meth)acrylic adhesive. The thickness of the adhesive layer was 5 μm. Bonding was performed so that the angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the retardation film was 45°.

그 후, 위상차 필름에 (메트)아크릴계 점착제를 도포하여 점착제층을 형성하였다. 점착제층의 두께는 15㎛이었다.Afterwards, a (meth)acrylic adhesive was applied to the retardation film to form an adhesive layer. The thickness of the adhesive layer was 15 μm.

이상에 의해, 위상차층 부착 편광판을 얻었다. 위상차층 부착 편광판을 상기한 HAST 시험 및 MIT 시험에 제공하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.As a result of the above, a polarizing plate with a retardation layer was obtained. A polarizing plate with a retardation layer was subjected to the above-mentioned HAST test and MIT test. The results are shown in Table 2.

[표 1][Table 1]

[표 2][Table 2]

[평가][evaluation]

표 1 및 표 2로부터 분명한 바와 같이, 위상차층이 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 포함하고, 그들이 적합한 나노상 분리 구조를 구성하고 있으면, 위상차층의 역분산 특성을 유지할 수 있으면서, 고온 고습 환경 하에서의 외관 불량의 발생이 억제된 위상차층 부착 편광판을 실현할 수 있는 것을 알 수 있다. 또한, 위상차층(위상차 필름)에 나노상 분리 구조가 형성되어 있으면, 위상차 필름 및 위상차층 부착 편광판에서, 연신 방향(MD 방향), 및 연신 방향과 직교하는 방향(TD 방향)에서의 굴곡성을 향상할 수 있는 것을 알 수 있다.As is clear from Tables 1 and 2, if the retardation layer contains cellulose resin and ester resin and they constitute a suitable nanophase separation structure, the inverse dispersion characteristics of the retardation layer can be maintained and It can be seen that a polarizing plate with a retardation layer in which appearance defects are suppressed can be realized. In addition, when a nanophase separation structure is formed in the retardation layer (retardation film), the flexibility in the stretching direction (MD direction) and the direction perpendicular to the stretching direction (TD direction) is improved in the retardation film and the polarizing plate with a retardation layer. Know what you can do.

본 발명의 실시형태에 따른 위상차층 부착 편광판은 화상 표시 장치(대표적으로는 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치)에 적합하게 적용될 수 있다.The polarizing plate with a retardation layer according to an embodiment of the present invention can be suitably applied to an image display device (typically a liquid crystal display device or an organic EL display device).

10: 편광판
11: 편광자
20: 위상차층
30: 접착층
40: 점착제층
50: 박리 라이너
100: 위상차층 부착 편광판
10: Polarizer
11: Polarizer
20: Phase contrast layer
30: Adhesive layer
40: Adhesive layer
50: Release liner
100: Polarizer with phase contrast layer

Claims (6)

편광자와,
셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 함유하는 위상차층을 이 순서대로 구비하고,
상기 위상차층의 Re(450)/Re(550)는 0~1이며,
상기 위상차층의 Re(550)는 100nm~200nm이고,
상기 편광자의 흡수축 방향과 상기 위상차층의 지상축 방향이 이루는 각도는 40°~50° 또는 130°~140°이며,
상기 위상차층에서, 나노상 분리 구조가 형성되어 있는, 위상차층 부착 편광판.
With polarizer,
A retardation layer containing a cellulose resin and an ester resin is provided in this order,
Re(450)/Re(550) of the phase difference layer is 0 to 1,
Re(550) of the phase difference layer is 100nm~200nm,
The angle formed between the absorption axis direction of the polarizer and the slow axis direction of the retardation layer is 40° to 50° or 130° to 140°,
A polarizing plate with a retardation layer in which a nanophase separation structure is formed in the retardation layer.
제1항에 있어서,
상기 셀룰로오스계 수지는 하기 식 (1)에 나타내는 구성 단위를 갖는, 위상차층 부착 편광판:

(식 (1) 중, R1~R3의 각각은 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 치환기를 나타낸다).
According to paragraph 1,
The cellulose-based resin has a structural unit shown in the following formula (1): A polarizing plate with a retardation layer:

(In formula (1), each of R 1 to R 3 represents a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms . )
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 에스테르계 수지는 하기 식 (2)에 나타내는 구성 단위와, 하기 식 (3)에 나타내는 구성 단위를 갖는, 위상차층 부착 편광판:

(식 (2) 중, R4 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고; R5a는 탄소수 1~12의 알킬기, 니트로기, 브로모기, 요오드기, 시아노기, 클로로기, 설폰산기, 카복실산기, 플루오로기, 또는 티올기로부터 선택되는 1종을 나타내고; R5b는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내며; R6은 수소 원자, 니트로기, 브로모기, 요오드기, 시아노기, 클로로기, 설폰산기, 카복실산기, 플루오로기, 페닐기, 티올기, 아미드기, 아미노기, 히드록시기, 탄소수 1~12의 알콕시기, 또는 탄소수 1~12의 알킬기로부터 선택되는 종을 나타낸다)

(식 (3) 중, R7은 헤테로원자로서 질소 원자 또는 산소 원자를 1개 이상 포함하는 5원환 복소환 잔기 또는 6원환 복소환 잔기(상기 5원환 복소환 잔기 및 상기 6원환 복소환 잔기는 다른 환상 구조와 축합환 구조를 형성하여도 됨)를 나타낸다).
According to claim 1 or 2,
The ester-based resin has a structural unit represented by the following formula (2) and a structural unit represented by the following formula (3): A polarizing plate with a retardation layer:

(In equation (2), R 4 is Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5a is the carbon number Represents one type selected from 1 to 12 alkyl groups, nitro groups, bromo groups, iodine groups, cyano groups, chloro groups, sulfonic acid groups, carboxylic acid groups , fluoro groups, or thiol groups; R 5b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 6 is a hydrogen atom, nitro group, bromo group, iodine group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group, phenyl group, thiol group, amide group, amino group, hydroxy group, or alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. , or represents a species selected from alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms)

(In formula (3), R 7 is a 5-membered ring heterocyclic residue or a 6-membered ring heterocyclic residue containing at least one nitrogen atom or oxygen atom as a heteroatom (the 5-membered ring heterocyclic residue and the 6-membered ring heterocyclic residue are It may form a condensed ring structure with another cyclic structure).
제3항에 있어서,
상기 에스테르계 수지는 하기 식 (4)에 나타내는 구성 단위를 추가로 갖는, 위상차층 부착 편광판:

(식 (4) 중, R8 및 R9 각각은 수소 원자, 탄소수 1~12의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~12의 분기상 알킬기, 또는 탄소수 3~6의 환상 알킬기로부터 선택되는 1종을 나타낸다).
According to paragraph 3,
The ester-based resin further has a structural unit represented by the following formula (4): A polarizing plate with a retardation layer:

(In formula (4), R 8 and R 9 each represent one type selected from a hydrogen atom, a straight-chain alkyl group with 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group with 3 to 12 carbon atoms, or a cyclic alkyl group with 3 to 6 carbon atoms. ).
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 셀룰로오스계 수지의 함유 비율은, 상기 셀룰로오스계 수지 및 상기 에스테르계 수지의 총합을 100질량%로 하였을 때에, 50질량%를 초과하는, 위상차층 부착 편광판.
According to claim 1 or 2,
A polarizing plate with a phase contrast layer, wherein the content ratio of the cellulose resin exceeds 50% by mass when the total of the cellulose resin and the ester resin is 100% by mass.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 위상차층은 셀룰로오스계 수지 및 에스테르계 수지를 함유하는 수지 필름을 연신한 연신 필름이고,
상기 연신 필름의 연신 방향과 직교하는 방향에서의 MIT 횟수가 300회 이상인, 위상차층 부착 편광판.

According to claim 1 or 2,
The retardation layer is a stretched film obtained by stretching a resin film containing a cellulose resin and an ester resin,
A polarizing plate with a retardation layer, wherein the number of MITs in a direction perpendicular to the stretching direction of the stretched film is 300 or more.

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